專利名稱：基板支撐臺(tái)和具有基板支撐臺(tái)的基板檢查設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種基板支撐臺(tái)和一種具有所述基板支撐臺(tái)的基板檢查設(shè)備。更明確地說(shuō)，本發(fā)明涉及一種基板支撐臺(tái)和一種具有所述基板支撐臺(tái)的基板檢查設(shè)備，其可通過(guò)改進(jìn)檢查效率和減少生產(chǎn)時(shí)間(tact time)的量來(lái)改進(jìn)生產(chǎn)率，且通過(guò)防止需要不必要的外圍裝置，并通過(guò)使用單個(gè)檢查設(shè)備共同地執(zhí)行凹痕檢查(dent inspection)和裂縫檢查(crackinspection)來(lái)減小工作空間和各種損失。
背景技術(shù)：
基板是圖像顯示裝置的組件?；灏雽?dǎo)體基板和平板顯示器(FlatPanel Display，F(xiàn)PD)基板。FPD基板包含液晶顯示器(Liquid CrystalDisplay，LCD)基板、等離子顯示面板(Plasma Display Panel，PDP)基板、有機(jī)發(fā)光二極管(Organic Light Emitting Diode，OLED)基板和類似物。
LCD基板將被描述為FPD基板的實(shí)例。LCD的一般制造工藝分成TFT工藝、單元工藝和模塊工藝。在所述工藝中，模塊工藝是將各種電子組件附接到LCD基板以組裝產(chǎn)品且將用于驅(qū)動(dòng)LCD基板的驅(qū)動(dòng)器IC附接到所述LCD基板的工藝。
為了執(zhí)行此工藝，已在相關(guān)技術(shù)中使用了直接將驅(qū)動(dòng)器IC的引線安裝到LCD基板的技術(shù)。
然而，因?yàn)樽罱阎圃炝司哂懈叻直媛实腖CD產(chǎn)品，所以難以將具有大量引線的驅(qū)動(dòng)器IC安裝到LCD基板，且因此通常使用TAB(Tape AutomatedBonding，卷帶式自動(dòng)接合)作為一種安裝技術(shù)。
具體地說(shuō)，作為一種類型的帶載封裝(tape carrier package，TCP)的TAB是通過(guò)中間形成有圖案的帶而不是引線框來(lái)將驅(qū)動(dòng)器IC接合(下文用作“壓縮”和“附接”)到LCD基板的封裝技術(shù)。然而，TAB還表示壓縮地附接到LCD基板的對(duì)應(yīng)位置以便在LCD基板中形成信號(hào)線的帶或所述帶的整個(gè)區(qū)域。在下文的描述中，后者被稱為“TAB”。
在將TAB附接到LCD基板之前，通常首先在LCD基板中使用各向異性導(dǎo)電膜(anisotropic conductive film，ACF)。各向異性導(dǎo)電膜具有類似于雙面帶(two-sided tape)的結(jié)構(gòu)，其中將通過(guò)熱量而硬化的粘合劑與微小的導(dǎo)電球彼此混合。此各向異性導(dǎo)電膜是通常在安裝工藝中使用的材料。
如果各向異性導(dǎo)電膜在對(duì)應(yīng)位置處接合到LCD基板，那么TAB會(huì)附接到各向異性導(dǎo)電膜的表面。此時(shí)，TAB的電極圖案和LCD基板的電極圖案需要準(zhǔn)確地彼此附接。用于使LCD基板和TAB具有導(dǎo)電性的導(dǎo)電球也需要準(zhǔn)確地定位。
如果將各向異性導(dǎo)電膜和TAB附接到LCD基板，那么在高溫狀態(tài)下將足夠的壓力施加到LCD基板和TAB，使得LCD基板和TAB的電路圖案的襯墊彼此接觸。此時(shí)，當(dāng)各向異性導(dǎo)電膜中接觸部分處的導(dǎo)電球被毀壞時(shí)，電流在兩個(gè)襯墊之間流動(dòng)，且剩余的粘合劑填充在不平坦的表面而不是兩個(gè)襯墊中，并在其中硬化。以此方式，TAB附接工藝完成。
在TAB附接工藝完成之后，對(duì)LCD基板執(zhí)行各種檢查。舉例來(lái)說(shuō)，執(zhí)行凹痕檢查以檢查T(mén)AB的電極圖案是否準(zhǔn)確地附接到LCD基板的電極圖案，且導(dǎo)電球的形狀和位置是否為優(yōu)選，且執(zhí)行裂縫檢查以檢查在壓縮TAB時(shí)，LCD基板中是否出現(xiàn)裂縫。
按照慣例，凹痕檢查和裂縫檢查分別由凹痕檢查設(shè)備和裂縫檢查設(shè)備執(zhí)行。凹痕檢查和裂縫檢查具有類似的結(jié)構(gòu)，在于凹痕和裂縫均在TAB區(qū)域中被檢查。
首先，將描述常規(guī)的凹痕檢查設(shè)備。
圖1是說(shuō)明根據(jù)相關(guān)技術(shù)的凹痕檢查設(shè)備的示意性透視圖。
參看圖1，根據(jù)相關(guān)技術(shù)的凹痕檢查設(shè)備1包含面陣相機(jī)(areacamera)10，其對(duì)凹痕檢查區(qū)域進(jìn)行照相；和臺(tái)20，上面安裝有FPD基板5。在FPD基板5中，TAB 7a和7b附接到短邊7a和長(zhǎng)邊7b。
面陣相機(jī)10固定到凹痕檢查設(shè)備1中的相機(jī)固定件(camera fixingdie)50，并對(duì)附接有TAB 7a和7b的FPD基板5的凹痕檢查區(qū)域進(jìn)行照相。面陣相機(jī)10具有自動(dòng)對(duì)焦功能，且每當(dāng)臺(tái)20在TAB 7a與7b的間隔處移動(dòng)時(shí)，可通過(guò)自動(dòng)對(duì)焦對(duì)凹痕檢查區(qū)域的凹痕圖像進(jìn)行精密的照相和檢查。出于此目的，面陣相機(jī)19相對(duì)于FPD基板5的板表面方向(如由箭頭Z所示)而垂直上升和下降。
在面陣相機(jī)10上方提供臺(tái)20，且成為凹痕檢查目標(biāo)的FPD基板5穩(wěn)定地安裝在臺(tái)20的頂面上。穩(wěn)定地安裝有FPD基板5的臺(tái)20借助單獨(dú)的驅(qū)動(dòng)單元(未圖示)而在如箭頭所示的二維方向(X和Y方向)上移動(dòng)，且將FPD基板5定位在固定面陣相機(jī)10上方。
具有上文所述的結(jié)構(gòu)的凹痕檢查設(shè)備1對(duì)成為凹痕檢查目標(biāo)的FPD基板5執(zhí)行凹痕檢查。一般來(lái)說(shuō)，凹痕檢查設(shè)備1針對(duì)附接到FPD基板5的短邊的TAB 7a的區(qū)域執(zhí)行凹痕檢查，且接著針對(duì)附接到長(zhǎng)邊的TAB 7b的區(qū)域執(zhí)行凹痕檢查。
首先，為了檢查附接到短邊的TAB 7a的區(qū)域，臺(tái)20在由箭頭X所示的方向上線性地移動(dòng)，使得面陣相機(jī)10循序地對(duì)凹痕檢查區(qū)域進(jìn)行照相和檢查。在檢查附接到短邊的TAB 7a的區(qū)域之后，凹痕檢查設(shè)備1檢查附接到長(zhǎng)邊的TAB 7b的區(qū)域的檢查表面。在此情況下，臺(tái)20在由箭頭θ所示的方向上旋轉(zhuǎn)，使得面陣相機(jī)10可對(duì)凹痕檢查區(qū)域進(jìn)行照相。
同時(shí)，當(dāng)面陣相機(jī)10對(duì)成為凹痕檢查目標(biāo)的FPD基板5的TAB 7a和7b的區(qū)域進(jìn)行照相時(shí)，臺(tái)20重復(fù)移動(dòng)和停止。在此過(guò)程中，為了獲得凹痕檢查區(qū)域的圖像，面陣相機(jī)10還重復(fù)自動(dòng)對(duì)焦，其連同F(xiàn)PD基板5一起調(diào)節(jié)焦點(diǎn)。
如上文所述，根據(jù)相關(guān)技術(shù)的凹痕檢查設(shè)備1具有下述結(jié)構(gòu)其中臺(tái)20相對(duì)于固定面陣相機(jī)10而移動(dòng)FPD基板5，且執(zhí)行凹痕檢查。臺(tái)20不得不移動(dòng)的原因在于，盡管固定面陣相機(jī)10的自動(dòng)對(duì)焦跟蹤范圍在約0.2mm到0.8mm的范圍內(nèi)，但由于處理和組裝過(guò)程中的誤差的緣故而不可能維持自動(dòng)對(duì)焦跟蹤范圍。
將描述根據(jù)相關(guān)技術(shù)的裂縫檢查設(shè)備。
盡管圖中未繪示，但與上文所述的凹痕檢查設(shè)備1相反，根據(jù)相關(guān)技術(shù)的裂縫檢查設(shè)備具有下述結(jié)構(gòu)其中當(dāng)相機(jī)(未圖示)在臺(tái)(未圖示)固定的狀態(tài)下移動(dòng)時(shí)，裂縫檢查設(shè)備檢查FPD基板5的對(duì)應(yīng)于TAB區(qū)域的部分中是否出現(xiàn)裂縫。
然而，在相關(guān)技術(shù)中，盡管以類似的方式執(zhí)行凹痕檢查和裂縫檢查，但臺(tái)和相機(jī)以不同類型進(jìn)行移動(dòng)。出于此原因，不可能將凹痕檢查設(shè)備和裂縫檢查設(shè)備集成為單個(gè)檢查設(shè)備，檢查效率降低，且生產(chǎn)時(shí)間的量增加，這降低了生產(chǎn)率。另外，由于有必要通過(guò)使用兩個(gè)檢查設(shè)備來(lái)移動(dòng)基板，所以需要額外提供不必要的外圍裝置以增加工作空間，從而導(dǎo)致各種損失。
在已參考圖1描述的根據(jù)相關(guān)技術(shù)的凹痕檢查設(shè)備1中，由于臺(tái)20移動(dòng)，所以設(shè)備比例和設(shè)備安裝空間增加。在TAB 7a與7b的間隔處移動(dòng)和停止臺(tái)20之后，再次執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦，并執(zhí)行檢查，這增加了生產(chǎn)時(shí)間的量。當(dāng)FPD基板5的平面度由于FPD基板5的下陷(由于尺寸增加的緣故)而不規(guī)則時(shí)，由于FPD基板5的下陷量超過(guò)自動(dòng)對(duì)焦跟蹤范圍，所以需要使用搜索功能，這降低了檢查效率。
在已參考圖1描述的根據(jù)相關(guān)技術(shù)的凹痕檢查設(shè)備1中，由于面陣相機(jī)10固定到相機(jī)固定件50，且較大尺寸的臺(tái)20移動(dòng)，所以設(shè)備比例和設(shè)備安裝空間增加。另外，由于需要將面陣相機(jī)10提供成適合臺(tái)20的移動(dòng)，所以同時(shí)僅能安裝兩個(gè)面陣相機(jī)10。因此，難以減小生產(chǎn)時(shí)間的量。
同時(shí)，在FPD基板5由對(duì)應(yīng)檢查設(shè)備的基板支撐臺(tái)支撐之后執(zhí)行檢查。將參考圖2和3描述根據(jù)相關(guān)技術(shù)的基板支撐臺(tái)。除上文所述的檢查設(shè)備之外，當(dāng)執(zhí)行上文所述的各種工藝時(shí)，可使用圖2和3中所示的基板支撐臺(tái)。
圖2和3是說(shuō)明根據(jù)相關(guān)技術(shù)的基板支撐臺(tái)的結(jié)構(gòu)的示意圖。
如圖2中所示，在根據(jù)相關(guān)技術(shù)的實(shí)例的基板支撐臺(tái)中，固定地提供支撐基板G1和G2的多個(gè)襯墊30和30a。當(dāng)然，所述多個(gè)襯墊30和30a設(shè)置成以相同間隔H1彼此遠(yuǎn)離。在圖2中所示的基板支撐臺(tái)中，具有(例如)30英寸的尺寸的小尺寸基板G1和具有(例如)46英寸的尺寸的大尺寸基板G2共同使用所述臺(tái)。
然而，當(dāng)將小尺寸基板G1安裝在圖2中所示的基板支撐臺(tái)上，且由基板支撐臺(tái)支撐時(shí)，基板G1的邊可能與定位在兩邊處的襯墊30a碰撞，且基板G1可能損壞。具體來(lái)說(shuō)，由于襯墊30和30a固定在圖2中所示的基板支撐臺(tái)上，所以基板支撐臺(tái)難以穩(wěn)定地支撐具有除上文所述的30英寸和46英寸之外的不同尺寸的基板(未圖示)。為了使用具有除30英寸和46英寸之外的不同尺寸的基板(未圖示)，需要單獨(dú)地提供對(duì)應(yīng)于不同尺寸的基板支撐臺(tái)，這導(dǎo)致工藝中的損失。
同時(shí)，如圖3中所示，在根據(jù)相關(guān)技術(shù)的另一實(shí)例的基板支撐臺(tái)中，提供支撐基板G3的多個(gè)襯墊40和40a。在襯墊40和40a中，中心襯墊40固定，而定位在兩邊處的襯墊40a在由箭頭所示的方向上移動(dòng)。在圖3的情況下，由于定位在兩邊處的襯墊40a可移動(dòng)，所以除圖2中所示的基板G1和G2之外，可有效地支撐比圖2中所示的基板G2大的基板G3。
然而，當(dāng)定位在兩邊處的襯墊40a從由虛線所示的位置移動(dòng)到由實(shí)線所示的位置并支撐基板G3時(shí)，襯墊40與40a之間的間隔H1和H2中產(chǎn)生差異。具體來(lái)說(shuō)，由于在定位到兩邊且移動(dòng)其位置的襯墊40a的附近產(chǎn)生較大間隔H2，所以基板G3可能在對(duì)應(yīng)區(qū)域中嚴(yán)重下陷。如果基板G3嚴(yán)重下陷，那么在檢查FPD基板5(參看圖1)的檢查設(shè)備(參看圖1)中所使用的臺(tái)的情況下，可能出現(xiàn)檢查誤差。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種基板支撐臺(tái)和一種具有所述基板支撐臺(tái)的基板檢查設(shè)備，其可通過(guò)改進(jìn)檢查效率和減小生產(chǎn)時(shí)間的量來(lái)改進(jìn)生產(chǎn)率，并通過(guò)防止需要不必要的外圍裝置，且通過(guò)使用單個(gè)檢查設(shè)備共同地執(zhí)行凹痕檢查和裂縫檢查來(lái)減小工作空間和各種損失。
根據(jù)本發(fā)明的另一目的，提供一種基板支撐臺(tái)和一種具有所述基板支撐臺(tái)的基板檢查設(shè)備，其可減小執(zhí)行凹痕檢查所需的生產(chǎn)時(shí)間的總量，并增加自動(dòng)對(duì)焦跟蹤范圍，甚至在基板的平面度由于基板的下陷(由于尺寸增加的緣故)而不規(guī)則時(shí)也可執(zhí)行有效檢查，且減小設(shè)備比例和設(shè)備安裝空間。
根據(jù)本發(fā)明的又一目標(biāo)，提供一種基板支撐臺(tái)和一種具有所述基板支撐臺(tái)的基板檢查設(shè)備，其可減小設(shè)備比例和設(shè)備安裝空間，且相對(duì)于基板的個(gè)別表面安裝相機(jī)，從而減小了執(zhí)行凹痕檢查所需的生產(chǎn)時(shí)間的總量。
根據(jù)本發(fā)明的又一目標(biāo)，提供一種基板支撐臺(tái)和一種具有所述基板支撐臺(tái)的基板檢查設(shè)備，其可穩(wěn)定地支撐具有各種尺寸的基板，同時(shí)防止基板損壞和被支撐的基板下陷。
本發(fā)明的額外優(yōu)勢(shì)、目的和特征將部分地在以下的描述內(nèi)容中陳述，且部分地將對(duì)研究過(guò)下文后的所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員來(lái)說(shuō)變得明顯，且可通過(guò)實(shí)踐本發(fā)明而學(xué)習(xí)到。
根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供一種基板檢查設(shè)備，其包括上面穩(wěn)定地安裝有基板的臺(tái)，所述基板成為檢查目標(biāo)，其中對(duì)附接到所述基板一邊的TAB的區(qū)域執(zhí)行凹痕檢查和裂縫檢查；至少一個(gè)凹痕檢查相機(jī)，其對(duì)TAB區(qū)域進(jìn)行照相，以便檢查所述TAB中是否出現(xiàn)凹痕；至少一個(gè)裂縫檢查相機(jī)，其對(duì)TAB區(qū)域進(jìn)行照相，以便檢查基板的TAB區(qū)域中是否出現(xiàn)裂縫；和光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元，其支撐所述凹痕檢查相機(jī)和所述裂縫檢查相機(jī)，以便相對(duì)于所述臺(tái)而相對(duì)地移動(dòng)。
根據(jù)本發(fā)明的第二方面，提供一種基板檢查設(shè)備，其包括上面穩(wěn)定地安裝有基板的臺(tái)，所述基板成為檢查目標(biāo)，其中對(duì)附接到所述基板一邊的TAB的區(qū)域執(zhí)行凹痕檢查和裂縫檢查；至少一個(gè)相機(jī)，其對(duì)基板的凹痕檢查區(qū)域進(jìn)行照相；光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元，其耦合到所述相機(jī)并相對(duì)于所述臺(tái)而相對(duì)地移動(dòng)所述相機(jī)；至少一個(gè)位移傳感器，其測(cè)量基板的位移；和控制單元，其在由位移傳感器獲得的信息的基礎(chǔ)上控制相機(jī)的移動(dòng)。
根據(jù)本發(fā)明的第三方面，提供一種基板檢查設(shè)備，其包括上面穩(wěn)定地安裝有基板的固定臺(tái)，所述基板成為凹痕檢查目標(biāo)，其中對(duì)附接到所述基板一邊的TAB的區(qū)域執(zhí)行凹痕檢查，所述固定臺(tái)固定地安裝在預(yù)定位置；至少一個(gè)相機(jī)，其對(duì)基板的凹痕檢查區(qū)域進(jìn)行照相；和光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元，其耦合到所述相機(jī)，并相對(duì)于固定臺(tái)而相對(duì)地移動(dòng)所述相機(jī)，使得相機(jī)對(duì)固定臺(tái)上的基板的凹痕檢查區(qū)域進(jìn)行照相。
根據(jù)本發(fā)明的第四方面，提供一種基板支撐臺(tái)，其包括多個(gè)襯墊，其支撐基板；和移動(dòng)支撐部分，其可移動(dòng)地支撐所述多個(gè)襯墊，使得所述多個(gè)襯墊彼此接近并以規(guī)則間隔彼此遠(yuǎn)離。


通過(guò)結(jié)合附圖閱讀以下詳細(xì)描述內(nèi)容，本發(fā)明的上述和其它目的、特征和優(yōu)勢(shì)將更明顯，其中
圖1是說(shuō)明根據(jù)相關(guān)技術(shù)的實(shí)例的凹痕檢查設(shè)備的示意性透視圖。
圖2和3是說(shuō)明根據(jù)相關(guān)技術(shù)的基板支撐臺(tái)的結(jié)構(gòu)的示意圖。
圖4是說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明第一示范性實(shí)施例的基板檢查設(shè)備的透視圖。
圖5是說(shuō)明基板穩(wěn)定地安裝在圖4中所示的基板檢查設(shè)備的臺(tái)上的狀態(tài)的透視圖。
圖6是圖5的平面圖。
圖7是圖6的部分放大圖。
圖8是圖7的示意性側(cè)面圖。
圖9是圖4中所示的支撐檢查設(shè)備的控制方框圖。
圖10是說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明第二示范性實(shí)施例的基板檢查設(shè)備的示意性方框圖。
圖11是說(shuō)明圖10所示的基板檢查設(shè)備的示意性透視圖。
圖12是說(shuō)明圖11中所示的基板檢查設(shè)備的主要元件的放大透視圖。
圖13是說(shuō)明圖10中所示的基板檢查設(shè)備的操作的圖。
圖14是說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明第三示范性實(shí)施例的基板檢查設(shè)備的示意性透視圖。
圖15和16是說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明第四示范性實(shí)施例的基板檢查設(shè)備的透視圖。
圖17和18是圖15和16中所示的基板檢查設(shè)備的平面圖。
圖19是說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明第五示范性實(shí)施例的基板檢查臺(tái)的透視圖。
圖20和21是說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明第六示范性實(shí)施例的基板支撐臺(tái)的透視圖。
圖22和23是根據(jù)本發(fā)明第七示范性實(shí)施例的基板支撐臺(tái)的平面圖。
具體實(shí)施例方式
在下文中，將參考附圖詳細(xì)描述本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例。通過(guò)參照待參看附圖詳細(xì)描述的實(shí)施例，本發(fā)明的方面和特征以及用于實(shí)現(xiàn)所述方面和特征的方法將變得明顯。然而，本發(fā)明并非限于下文所揭示的實(shí)施例，而是可以不同形式來(lái)實(shí)施。描述內(nèi)容中所界定的內(nèi)容(例如詳細(xì)構(gòu)造和元件)只是被提供以輔助所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員全面理解本發(fā)明的特定細(xì)節(jié)，且本發(fā)明僅界定在所附權(quán)利要求書(shū)的范圍內(nèi)。在本發(fā)明的整個(gè)描述內(nèi)容中，在各個(gè)圖中，相同的附圖參考標(biāo)號(hào)始終用于相同的元件。
為參考起見(jiàn)，下文將描述的基板意味著LCD(液晶顯示器)基板、PDP(等離子顯示面板)基板和OLED(有機(jī)發(fā)光二極管)基板。然而，為了便于闡釋，上文所述的基板被稱為FPD(平板顯示器)基板。
另外，為了便于闡釋，TAB和光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元的每一者在每一位置處由不同的參考標(biāo)號(hào)表示，且相機(jī)由同一參考標(biāo)號(hào)表示。
圖4是說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明第一示范性實(shí)施例的基板檢查設(shè)備的透視圖，圖5是說(shuō)明基板穩(wěn)定地安裝在圖4中所示的基板檢查設(shè)備的臺(tái)上的狀態(tài)的透視圖，圖6是圖5的平面圖，圖7是圖5的部分放大圖，圖8是圖7的示意性側(cè)面圖，且圖9是圖4中所示的基板檢查設(shè)備的控制方框圖。
如圖中所示，根據(jù)本發(fā)明第一示范性實(shí)施例的基板檢查設(shè)備101包含檢查設(shè)備主體110；臺(tái)120，其提供在檢查設(shè)備主體110中且上面穩(wěn)定地安裝有FDP基板105(待檢查)；光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元130，其耦合到檢查設(shè)備主體110的上部，并支撐下文將描述的凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150，使得凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150在水平方向上移動(dòng)，且上升和下降；凹痕檢查相機(jī)140，其在沿光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元130移動(dòng)時(shí)，檢查提供在FPD基板105中的TAB 107a到107c是否有凹痕；裂縫檢查相機(jī)105，其檢查FPD基板105的對(duì)應(yīng)于TAB 107a到107c的區(qū)域的部分中是否出現(xiàn)裂縫；位移傳感器160，其測(cè)量凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150與FDP基板105之間的位移；和控制單元170，其在位移傳感器160獲得的信息的基礎(chǔ)上控制凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150的移動(dòng)。
檢查設(shè)備主體110是形成根據(jù)本發(fā)明第一示范性實(shí)施例的基板檢查設(shè)備101的外部的一部分。在一些情況下，檢查設(shè)備主體110可稱為檢查工作臺(tái)。參看附圖，僅為了便于闡釋而將檢查設(shè)備主體110繪示成盒狀形狀。
因此，可在檢查設(shè)備主體110下方提供輪子(未圖示)以移動(dòng)檢查設(shè)備主體110，且可在檢查設(shè)備主體110中提供用于操作光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元130的一連串機(jī)械裝置。然而，將省略對(duì)以上裝置的詳細(xì)描述。另外，可在檢查設(shè)備主體110一邊上提供用于顯示一連串檢查過(guò)程的監(jiān)視器(未圖示)。
臺(tái)120耦合到檢查設(shè)備主體110的上部，并支撐FPD基板105，使得待檢查的FPD基板105穩(wěn)定地安裝在臺(tái)120的頂面上。如圖中所示，臺(tái)120可形成為具有預(yù)定厚度的矩形板的形狀，且通常被制造成具有比FPD基板105小的面積。
因此，如果FPD基板105穩(wěn)定地安裝在臺(tái)120的頂面上，那么待檢查的TAB 107a到107c的區(qū)域可能會(huì)暴露在臺(tái)120外部。因此，可通過(guò)設(shè)置在臺(tái)120下方的凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150的照相來(lái)執(zhí)行對(duì)TAB107a到107c的區(qū)域的凹痕和裂縫檢查。
為參考起見(jiàn)，在附圖中，F(xiàn)PD基板105直接安裝在臺(tái)120上，但通常在臺(tái)的頂面上提供多個(gè)頂升銷(未圖示)。因此，當(dāng)FPD基板105由單獨(dú)傳送機(jī)械臂裝載在臺(tái)120上時(shí)，頂升銷上升并支撐FPD基板105的底面。接著，如果頂升銷下降，那么FPD基板105可裝載在臺(tái)120的頂面上。在抽取FPD基板105時(shí)，在頂升銷上升的狀態(tài)下抽取FPD基板105。
如果將臺(tái)120制造成具有比FPD基板105大的面積，且FPD基板105裝載在臺(tái)120的頂面上，那么臺(tái)120需要由透明材料形成，以便對(duì)臺(tái)120的底面上的FPD基板105的TAB 107a到107c的區(qū)域進(jìn)行照相。然而，當(dāng)臺(tái)120由透明材料形成時(shí)，可在某種程度上執(zhí)行裂縫檢查，且可能難以準(zhǔn)確地執(zhí)行凹痕檢查。因此，如上文所述，優(yōu)選將臺(tái)120制造成具有比FPD基板105小的面積。
然而，當(dāng)將臺(tái)120制造成具有比FPD基板105大的面積時(shí)，F(xiàn)PD基板105穩(wěn)定地安裝在臺(tái)1 20的頂面上，使得TAB 107a到107c的區(qū)域暴露在臺(tái)120外部。以此方式，凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150可安全地對(duì)FPD基板105進(jìn)行照相。
當(dāng)然，臺(tái)120可具有柱形形狀、矩形塊形狀和多邊形塊形狀。然而，在此情況下，在昂貴的FPD基板105穩(wěn)定地安裝在臺(tái)120的頂面上之后，F(xiàn)PD基板105不應(yīng)在檢查過(guò)程期間與臺(tái)120分離或從臺(tái)120上落下。因此，優(yōu)選臺(tái)120以真空吸附方法或類似方法支撐FPD基板105。
在此實(shí)施例中，基板檢查設(shè)備101具有下述結(jié)構(gòu)其中當(dāng)凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150相對(duì)于固定臺(tái)120而移動(dòng)時(shí)，對(duì)穩(wěn)定地安裝在臺(tái)120上的FPD基板105的TAB 107a到107c的區(qū)域執(zhí)行凹痕和裂縫檢查。因此，臺(tái)120耦合并固定到檢查設(shè)備主體110的上部。
然而，在此情況下，單獨(dú)的基板傳送機(jī)械臂(未圖示)需要將待檢查的FPD基板105穩(wěn)定地安裝在臺(tái)120的頂面的預(yù)定位置處，否則，沿光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元130移動(dòng)的凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150不能準(zhǔn)確地對(duì)TAB 107a到107c的區(qū)域進(jìn)行照相。也就是說(shuō)，如果FPD基板105不是安裝在臺(tái)120的頂面的預(yù)定位置處，那么凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150不能準(zhǔn)確地對(duì)TAB 107a到107c的區(qū)域進(jìn)行照相。
因此，將臺(tái)120制造成實(shí)質(zhì)上固定，且臺(tái)120需要在預(yù)定角范圍內(nèi)被可旋轉(zhuǎn)地驅(qū)動(dòng)，使得穩(wěn)定地安裝在臺(tái)120的頂面上的FPD基板105在預(yù)定位置處對(duì)準(zhǔn)，這由提供在臺(tái)120下方的臺(tái)旋轉(zhuǎn)單元122來(lái)執(zhí)行。當(dāng)然，在設(shè)計(jì)時(shí)可省略臺(tái)旋轉(zhuǎn)單元122。
由此，由于臺(tái)120實(shí)質(zhì)上固定，所以有可能減小在根據(jù)相關(guān)技術(shù)的凹痕檢查設(shè)備中移動(dòng)所述臺(tái)(未圖示)所需的較大設(shè)備比例和較大設(shè)備安裝空間。另外，當(dāng)相對(duì)較大的臺(tái)移動(dòng)時(shí)發(fā)生的微粒污染或施加到FPD基板105的物理沖擊可預(yù)先防止，這促進(jìn)了產(chǎn)率的改進(jìn)。然而，本發(fā)明并非局限于此，且臺(tái)120可移動(dòng)。當(dāng)使用可移動(dòng)臺(tái)120時(shí)，可應(yīng)用稍后將描述的根據(jù)本發(fā)明第四到第七示范性實(shí)施例的基板支撐臺(tái)(未圖示)。
光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元130是凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150以及位移傳感器160借以支撐和移動(dòng)的部分。光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元130支撐凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150，使得凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150可相對(duì)于臺(tái)120而相對(duì)地移動(dòng)。
如上文所述，在根據(jù)此實(shí)施例的基板檢查設(shè)備101中，隨著凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150移動(dòng)而進(jìn)行凹痕和裂縫檢查。光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元130負(fù)責(zé)移動(dòng)凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150。
光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元130包含多個(gè)水平部分131a到131c；第一垂直部分132a到132c，其耦合到所述水平部分131a到131c，且可移動(dòng)地支撐凹痕檢查相機(jī)140和位移傳感器160；和第二垂直部分133a到133c，其可移動(dòng)地支撐裂縫檢查相機(jī)150，同時(shí)獨(dú)立于第一垂直部分132a到132c而移動(dòng)。
為參考起見(jiàn)，由于由根據(jù)此實(shí)施例的基板檢查設(shè)備101檢查的FPD基板105的尺寸較大，所以TAB 107a和107b附接(壓縮并接合)到FPD基板105的兩個(gè)短邊，且一連串TAB 107c附接到FPD基板105的一長(zhǎng)邊。也就是說(shuō)，TAB 107a到107c附接到FPD基板105的除另一長(zhǎng)邊之外的三個(gè)邊。因此，提供光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元130、位移傳感器160以及凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150以對(duì)應(yīng)于TAB 107a到107c。
水平部分131a到131c耦合到檢查設(shè)備主體110的上部，且提供在三個(gè)部分中，以便對(duì)應(yīng)于形成于FPD基板105中的TAB 107a到107c。也就是說(shuō)，提供兩個(gè)水平部分131a和131b以對(duì)應(yīng)于FPD基板105的兩個(gè)短邊，且提供一個(gè)水平部分131c以對(duì)應(yīng)于FPD基板105的一個(gè)長(zhǎng)邊。如圖中所示，水平部分131a到131c可彼此分離，且可彼此集成為“U”形狀。
第一和第二垂直部分132a到132c和133a到133c分別耦合到水平部分131a到131c。第一和第二垂直部分132a到132c和133a到133c的一邊可沿水平部分131a到131c移動(dòng)，且其另邊支撐對(duì)應(yīng)的凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150以及對(duì)應(yīng)的位移傳感器160。
在第一垂直部分132a到132c與第二垂直部分133a到133c之間，支撐凹痕檢查相機(jī)140和位移傳感器160的第一垂直部分132a到132c可在對(duì)應(yīng)位置處上升和下降。即，第一垂直部分132a到132c上升和下降，使得凹痕檢查相機(jī)140可接近和遠(yuǎn)離FPD基板105。當(dāng)然，上升和下降操作由控制單元170控制。參看圖4和5，由參考標(biāo)號(hào)132a表示的第一垂直部分處于上升狀態(tài)，且由參考標(biāo)號(hào)132b和132c表示的第一垂直部分處于下降狀態(tài)。第一垂直部分132a到132c可以共同線性運(yùn)動(dòng)或伸縮套管結(jié)構(gòu)上升和下降。
與第一垂直部分132a到132c不同，第二垂直部分133a到133c并不上升和下降。如下文所述，由于凹痕檢查相機(jī)140僅需要對(duì)TAB 107a到107c的局部區(qū)域進(jìn)行照相，以便精密地檢查是否存在凹痕，所以由于自動(dòng)對(duì)焦或類似情況的緣故，凹痕檢查相機(jī)140需要相對(duì)于FPD基板105而上升和下降。然而，由于裂縫檢查相機(jī)150需要對(duì)TAB 107a到107c的較大區(qū)域進(jìn)行照相，以便檢查是否存在裂縫，所以裂縫檢查相機(jī)150不需要相對(duì)于FPD基板105而上升和下降。
另外，在水平部分131a到131c上，上面安裝有裂縫檢查相機(jī)150的第二垂直部分133a到133c的移動(dòng)速度V1(見(jiàn)圖7)相對(duì)快于上面安裝有凹痕檢查相機(jī)140和位移傳感器160的第一垂直部分132a到132c的移動(dòng)速度V2(見(jiàn)圖7)。因此，第二垂直部分133a到133c設(shè)置在第一垂直部分132a到132c的前面，并比第一垂直部分132a到132c更快地移動(dòng)。
因此，在一個(gè)FPD基板105中，在TAB 107a到107c所有區(qū)域中執(zhí)行裂縫檢查。也就是說(shuō)，借助安裝于設(shè)置在第一垂直部分132a到132c前面并比第一垂直部分132a到132c更快地移動(dòng)的第二垂直部分133a到133c上的裂縫檢查相機(jī)150，在TAB 107a到107c的所有區(qū)域中執(zhí)行裂縫檢查。
然而，與裂縫檢查不同，需精密且緩慢地執(zhí)行凹痕檢查。出于此原因，考慮到執(zhí)行凹痕檢查所需的時(shí)間的量，不在TAB 107a到107c的所有區(qū)域中執(zhí)行凹痕檢查。也就是說(shuō)，借助安裝于設(shè)置在第二垂直部分133a到133c后面且比第二垂直部分133a到133c相對(duì)較慢地移動(dòng)的第一垂直部分132a到132c上的凹痕檢查相機(jī)140，在從TAB 107a到107c的區(qū)域中選擇的部分區(qū)域中執(zhí)行凹痕檢查。
在第一和第二垂直部分132a到132c和133a到133c不是彼此分離而是彼此集成之后，凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150以及位移傳感器160可一起移動(dòng)。然而，在此情況下，檢查時(shí)間的量增加，這減小了產(chǎn)率。
凹痕檢查相機(jī)140耦合到第一垂直部分132a到132c的上部的一邊。凹痕檢查相機(jī)140對(duì)FPD基板105的TAB 107a到107c的區(qū)域進(jìn)行照相，以便執(zhí)行凹痕檢查，所述凹痕檢查檢查T(mén)AB 107a到107c的電極圖案是否準(zhǔn)確地附接到FPD基板105的電極圖案，以及導(dǎo)電球的形狀和位置是否準(zhǔn)確。如上文所述，凹痕檢查相機(jī)140僅對(duì)TAB 107a到107c的局部區(qū)域進(jìn)行照相，以便精密地檢查是否出現(xiàn)凹痕。參看圖7，由凹痕檢查相機(jī)140進(jìn)行照相的照相范圍較窄。
裂縫檢查相機(jī)150耦合到第二垂直部分133a到133c的上部的一邊，且當(dāng)沿對(duì)應(yīng)的水平部分131a到133c移動(dòng)時(shí)，檢查FPD基板105的對(duì)應(yīng)于TAB107a到107c的區(qū)域的部分中是否出現(xiàn)裂縫。
此時(shí)，與根據(jù)相關(guān)技術(shù)的相機(jī)不同，凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150可用作線掃描相機(jī)。
如上文所述，在根據(jù)相關(guān)技術(shù)的凹痕和裂縫檢查設(shè)備中，當(dāng)臺(tái)(未圖示)重復(fù)地移動(dòng)和停止時(shí)，出于自動(dòng)對(duì)焦的目的而需要使用面陣相機(jī)。然而，在此實(shí)施例中，凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150可由光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元130移動(dòng)，且凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150的移動(dòng)速度可由控制單元170個(gè)別地控制。在凹痕檢查相機(jī)140的情況下，由于可執(zhí)行用于自動(dòng)對(duì)焦的上升和下降操作，所以可使用線掃描相機(jī)。
由此，在使用線掃描相機(jī)的根據(jù)此實(shí)施例的基板檢查設(shè)備101中，由于凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150在移動(dòng)時(shí)可獲得移動(dòng)區(qū)域中存在的圖像，所以可執(zhí)行連續(xù)和實(shí)時(shí)檢查。也就是說(shuō)，如果使用線掃描相機(jī)，那么可獲得相對(duì)較高分辨率的圖像。因此，與使用根據(jù)相關(guān)技術(shù)的面陣相機(jī)的凹痕和裂縫檢查設(shè)備相比，檢查精度可改進(jìn)且檢查面積可增加，其執(zhí)行連續(xù)和實(shí)時(shí)的檢查。
為參考起見(jiàn)，為了使凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150執(zhí)行各自的功能，凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150需要具備一種結(jié)構(gòu)，例如照明或反射板。然而，由于此結(jié)構(gòu)是一般的相機(jī)結(jié)構(gòu)，所以將省略對(duì)其的詳細(xì)描述。
同時(shí)，由臺(tái)120支撐的FPD基板105的幾乎整個(gè)區(qū)域是平面的，但FPD基板105的平面度可能是不規(guī)則的，如由圖8中的實(shí)線所示。
如圖8中所示，在FPD基板105的平面度不是規(guī)則的而是不規(guī)則的情況下，如果凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150對(duì)TAB 107a到107c的區(qū)域進(jìn)行照相，那么難以獲得清楚的圖像。在裂縫檢查相機(jī)150的情況下，即使在FPD基板的平面度不規(guī)則時(shí)，獲得清楚的圖像并執(zhí)行裂縫檢查也不是很難。然而，在凹痕檢查相機(jī)140的情況下，需要執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦，以便獲得對(duì)應(yīng)區(qū)域上的清楚圖像。此時(shí)，當(dāng)FPD基板105的平面度不是規(guī)則的而是不規(guī)則的時(shí)，需花費(fèi)較大量的時(shí)間來(lái)執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦，且因此難以減少生產(chǎn)時(shí)間。
因此，在此實(shí)施例中，在凹痕檢查相機(jī)140的前面提供位移傳感器160，以便預(yù)先測(cè)量凹痕檢查相機(jī)140與FPD基板105之間的位移。接著，位移傳感器160將關(guān)于測(cè)量到的位移的信息傳輸?shù)娇刂茊卧?70，且控制單元170在關(guān)于測(cè)量到的位移的信息的基礎(chǔ)上，驅(qū)動(dòng)沿光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元130移動(dòng)的凹痕檢查相機(jī)140上升和下降(圖8中的距離H)，使得凹痕檢查相機(jī)140可接近和遠(yuǎn)離FPD基板105，這會(huì)顯著減少執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦所需的時(shí)間的量。
對(duì)生產(chǎn)類型給出詳細(xì)描述。在凹痕檢查相機(jī)140移動(dòng)之前或當(dāng)凹痕檢查相機(jī)140移動(dòng)時(shí)，位移傳感器160將通過(guò)預(yù)先測(cè)量對(duì)應(yīng)的TAB 107a到107c與凹痕檢查相機(jī)140之間的間隔而獲得的信息傳輸?shù)娇刂茊卧?70。在達(dá)到實(shí)質(zhì)檢查點(diǎn)之前，凹痕檢查相機(jī)140可根據(jù)控制單元170的控制操作而預(yù)先上升和下降。因此，執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦所需的時(shí)間的量減少，這減少了生產(chǎn)時(shí)間的總量。另外，有可能增加自動(dòng)對(duì)焦跟蹤范圍，且即使在FPD基板105的平面度由于FPD基板105的下陷(由于尺寸增加的緣故)而不規(guī)則時(shí)，也有可能有效地執(zhí)行凹痕檢查。
另外，在基板下陷的量超過(guò)使用面陣相機(jī)的相關(guān)技術(shù)中的自動(dòng)對(duì)焦跟蹤范圍的情況下，需要使用搜索功能，這增加了生產(chǎn)時(shí)間的量。然而，在此實(shí)施例中，如果在由位移傳感器160獲得的信息的基礎(chǔ)上預(yù)先控制凹痕檢查相機(jī)140的移動(dòng)，那么與相關(guān)技術(shù)相比，有可能增加自動(dòng)對(duì)焦跟蹤范圍。因此，即使在FPD基板105的下陷由于FPD基板105的尺寸增加的緣故而較嚴(yán)重時(shí)，也可在執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦的同時(shí)實(shí)時(shí)地執(zhí)行檢查，而在預(yù)定范圍內(nèi)無(wú)需單獨(dú)的搜索功能，這減少了生產(chǎn)時(shí)間的量。
當(dāng)然，不可能僅通過(guò)使用光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元130來(lái)相對(duì)于凹痕檢查相機(jī)140安全地實(shí)現(xiàn)自動(dòng)對(duì)焦。然而，在可進(jìn)行自動(dòng)對(duì)焦的自動(dòng)對(duì)焦跟蹤范圍內(nèi)預(yù)先上升和下降凹痕檢查相機(jī)140之后，凹痕檢查相機(jī)140對(duì)對(duì)應(yīng)區(qū)域進(jìn)行照相。以此方式，有可能獲得清楚的圖像，且顯著減少生產(chǎn)時(shí)間的量。為參考起見(jiàn)，當(dāng)在根據(jù)此實(shí)施例的結(jié)構(gòu)中操作時(shí)，已從實(shí)驗(yàn)證實(shí)，即使自動(dòng)對(duì)焦跟蹤范圍可能變成4mm或更大，也不會(huì)存在任何問(wèn)題。
如上文重復(fù)描述的，位移傳感器160測(cè)量凹痕檢查相機(jī)140與FPD基板105之間的位移，并將測(cè)量到的結(jié)果傳輸?shù)娇刂茊卧?70。因此，位移傳感器160優(yōu)選定位在凹痕檢查相機(jī)140前面。因此，在此實(shí)施例中，在位移傳感器160和凹痕檢查相機(jī)140安裝在第一垂直部分132a到132c中的每一者上的狀態(tài)下，位移傳感器160和凹痕檢查相機(jī)140一起移動(dòng)。然而，位移傳感器160不一定與凹痕檢查相機(jī)140一起移動(dòng)，且可個(gè)別地移動(dòng)和操作。激光傳感器可用作位移傳感器160。
在凹痕檢查相機(jī)140到達(dá)待照相的TAB 107a到107c的區(qū)域之前，控制單元170事先從位移傳感器160獲得關(guān)于FPD基板1 05的平面度的信息，且通過(guò)水平部分131a到131c和第一垂直部分132a到132c來(lái)控制凹痕檢查相機(jī)140的移動(dòng)。
具體地說(shuō)，為了使凹痕檢查相機(jī)140可對(duì)TAB 107a到107c的區(qū)域?qū)崟r(shí)執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦，控制單元170控制凹痕檢查相機(jī)140，使得凹痕檢查相機(jī)140可在光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元130上接近和遠(yuǎn)離FPD基板105。另外，為了在凹痕檢查相機(jī)140的照相操作期間，獲得來(lái)自凹痕檢查相機(jī)140的移動(dòng)路徑的整個(gè)區(qū)域的圖像，控制單元170控制凹痕檢查相機(jī)140連續(xù)移動(dòng)。當(dāng)然，控制單元170獨(dú)立地移動(dòng)裂縫檢查相機(jī)150。
下文將描述具有上述結(jié)構(gòu)的基板檢查設(shè)備101的操作和功能。
首先，待檢查的FPD基板105由單獨(dú)機(jī)械臂穩(wěn)定地安裝在臺(tái)上。也就是說(shuō)，當(dāng)單獨(dú)的機(jī)械臂將FPD基板105裝載在臺(tái)120上時(shí)，頂升銷上升并支撐FPD基板105的底面。接著，當(dāng)頂升銷下降時(shí)，F(xiàn)PD基板105可裝載并穩(wěn)定地安裝在臺(tái)120的頂面上。接著，F(xiàn)PD基板105可由臺(tái)旋轉(zhuǎn)單元122對(duì)準(zhǔn)。
接著，控制單元170控制光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元130，使得凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150以及位移傳感器160可移動(dòng)。也就是說(shuō)，耦合到第一和第二垂直部分132a到132c和133a到133c的凹痕檢查相機(jī)140和位移傳感器160以及裂縫檢查相機(jī)150分別沿對(duì)應(yīng)的水平部分131a到131c在由圖4中的箭頭A、B和C所示的方向上移動(dòng)。如上文所述，在上面安裝有裂縫檢查相機(jī)150的第二垂直部分133a到133c首先以較高速度移動(dòng)之后，上面安裝有凹痕檢查相機(jī)140和位移傳感器160的第一垂直部分132a到132c移動(dòng)。
由于裂縫檢查相機(jī)150不需要執(zhí)行單獨(dú)的自動(dòng)對(duì)焦操作，所以裂縫檢查相機(jī)150可在以較高速度移動(dòng)時(shí)對(duì)TAB 107a到107c的整個(gè)區(qū)域執(zhí)行裂縫檢查。然而，在凹痕檢查相機(jī)140的情況下，首先，定位在凹痕檢查相機(jī)140前面的位移傳感器160測(cè)量凹痕檢查相機(jī)140與FPD基板105之間的位移，并將測(cè)量結(jié)果傳輸?shù)娇刂茊卧?70。在所傳輸?shù)奈灰菩畔⒌幕A(chǔ)上，控制單元170控制第一垂直部分132a到132c上升和下降。因此，在凹痕檢查相機(jī)140可執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦的情況下，凹痕檢查相機(jī)140在光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元130上對(duì)FPD基板105的TAB 107a到107c的區(qū)域進(jìn)行照相，以便執(zhí)行凹痕檢查。
具體來(lái)說(shuō)，根據(jù)控制單元170的控制操作，凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150在連續(xù)地執(zhí)行水平移動(dòng)以及上升和下降運(yùn)動(dòng)的同時(shí)，對(duì)FPD基板105的TAB 107a到107c的區(qū)域進(jìn)行照相，而無(wú)需停止其移動(dòng)，這樣便可實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)的凹痕和裂縫檢查。
另外，由于凹痕檢查相機(jī)140和裂縫檢查相機(jī)150僅對(duì)FPD基板105的每一側(cè)的對(duì)應(yīng)位置進(jìn)行照相，所以有可能顯著減少執(zhí)行凹痕檢查和裂縫檢查所需的時(shí)間的量。為參考起見(jiàn)，由于需花費(fèi)約5秒鐘來(lái)對(duì)32英寸的FPD基板105執(zhí)行凹痕和裂縫檢查，所以與相關(guān)技術(shù)相比，檢查時(shí)間顯著減少。因此，可減少生產(chǎn)時(shí)間的量，且可對(duì)所有產(chǎn)品執(zhí)行凹痕和裂縫檢查。另外，有可能對(duì)下陷嚴(yán)重且平面度不規(guī)則的FPD基板執(zhí)行檢查。
由此，根據(jù)本發(fā)明，由于可通過(guò)使用單個(gè)檢查設(shè)備共同地執(zhí)行凹痕檢查和裂縫檢查兩者，所以可改進(jìn)檢查效率。另外，可減少生產(chǎn)時(shí)間的量，這增加了生產(chǎn)率。
另外，由于可防止需要不必要的外圍裝置，所以可減小工作空間。因此，與相關(guān)技術(shù)相比，可減少各種損失。
為參考起見(jiàn)，在此實(shí)施例中，由于單個(gè)基板檢查設(shè)備共同地執(zhí)行凹痕檢查和裂縫檢查，所以有可能達(dá)到將基板檢查設(shè)備的體積減小50％或更多的效果。以此方式，不僅可減小基板檢查設(shè)備的體積，而且可減小安裝基板檢查設(shè)備的空間或工作空間。因此，還可顯著減小清洗制造成本。
圖10是說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明第二示范性實(shí)施例的基板檢查設(shè)備的示意性方框圖，圖11是說(shuō)明圖10中所示的基板檢查設(shè)備的示意性透視圖，圖12是說(shuō)明圖11中所示的基板檢查設(shè)備的主要元件的放大透視圖，且圖13是說(shuō)明圖10中所示的基板檢查設(shè)備的操作的圖。參看圖1和圖10到13來(lái)作出描述。
如圖中所示，根據(jù)本發(fā)明第二示范性實(shí)施例的基板檢查設(shè)備201包含臺(tái)220，F(xiàn)PD基板205穩(wěn)定地安裝且支撐在臺(tái)220上；線掃描相機(jī)210，其對(duì)TAB 207a附接到的FPD基板205的凹痕檢查區(qū)域進(jìn)行照相；位移傳感器230，其提供在線掃描相機(jī)210的前面；光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元250，其將線掃描相機(jī)210移動(dòng)到臺(tái)220一側(cè)；和控制單元260，其控制線掃描相機(jī)210的移動(dòng)，以便實(shí)時(shí)執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦。
如圖10中所示，在根據(jù)本發(fā)明第二示范性實(shí)施例的基板檢查設(shè)備201中，位移傳感器230事先獲得關(guān)于穩(wěn)定地安裝在固定在預(yù)定區(qū)域中的臺(tái)220上的FPD基板205(待檢查)的平面度的信息。在由位移傳感器230獲得的信息的基礎(chǔ)上，控制單元260控制線掃描相機(jī)210的移動(dòng)，使得線掃描相機(jī)210可實(shí)時(shí)執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦。
具有上述結(jié)構(gòu)且安裝在光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元250上的線掃描相機(jī)210可在在凹痕檢查區(qū)域中連續(xù)移動(dòng)的同時(shí)執(zhí)行凹痕檢查。因此，根據(jù)此實(shí)施例，與根據(jù)相關(guān)技術(shù)的臺(tái)20移動(dòng)的基板檢查設(shè)備1(參看圖1)相比，可減少生產(chǎn)時(shí)間的量。另外，可減少設(shè)備比例和設(shè)備安裝空間。
對(duì)生產(chǎn)類型進(jìn)行詳細(xì)描述。提供在線掃描相機(jī)210的前表面部分前面的位移傳感器230傳輸通過(guò)預(yù)先測(cè)量TAB 207a與線掃描相機(jī)210之間的間隔而獲得的信息，并在線掃描相機(jī)210移動(dòng)之前或在線掃描相機(jī)210移動(dòng)時(shí)，將所述信息傳輸?shù)娇刂茊卧?60。線掃描相機(jī)210可在到達(dá)檢查點(diǎn)之前上升和下降。因此，減少了執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦所需的時(shí)間的量，這減少了生產(chǎn)時(shí)間的總量。
另外，由于線掃描相機(jī)210在到達(dá)檢查點(diǎn)之前可預(yù)先上升和下降，所以有可能增加自動(dòng)對(duì)焦跟蹤范圍。即使在FPD基板235的平面度由于FPD基板235的下陷(由于FPD基板235的尺寸增加的緣故)而不規(guī)則時(shí)，也可執(zhí)行有效檢查。
同時(shí)，F(xiàn)PD基板205的TAB 207a可以各種類型附接到FPD基板205的各邊。然而，在此實(shí)施例中，首先，對(duì)TAB 207a僅附接到一邊(短邊)的FPD基板205進(jìn)行描述。
在將TAB 207a附接到FPD基板205的過(guò)程中，基板檢查設(shè)備201檢查各向異性導(dǎo)電膜(未圖示)中出現(xiàn)的凹痕。因此，基板檢查設(shè)備201提取TAB 207a附接到的凹痕檢查區(qū)域上的圖像，并檢查所提取的凹痕圖像?；鍣z查設(shè)備201重復(fù)這些過(guò)程。
基板檢查設(shè)備201的臺(tái)220穩(wěn)定地安裝FPD基板205，其中TAB 207a附接到FPD基板205的一邊且成為凹痕檢查目標(biāo)。在此實(shí)施例中，如圖中所示，將臺(tái)220形成為具有比FPD基板205小的尺寸，且FPD基板的底面穩(wěn)定地安裝在臺(tái)220的頂面上。此時(shí)，F(xiàn)PD基板205在TAB 207a的區(qū)域暴露在臺(tái)220外部的狀態(tài)下，穩(wěn)定地安裝在臺(tái)220的頂面上。具體地說(shuō)，在提供在臺(tái)220中的頂升銷(未圖示)上升的狀態(tài)下，傳送機(jī)械臂(未圖示)將FPD基板205從外部引導(dǎo)到臺(tái)220。此時(shí)，如果支撐所引導(dǎo)的FPD基板205的頂升銷下降，那么FPD基板205便在TAB 207a的區(qū)域暴露在臺(tái)220外部的狀態(tài)下，穩(wěn)定地安裝在臺(tái)220上。
因此，穩(wěn)定地安裝在臺(tái)220上使得TAB 207a的區(qū)域暴露在臺(tái)220外部的FPD基板205設(shè)置在線掃描相機(jī)210可容易地執(zhí)行檢查的位置處。
由于臺(tái)220是支撐待檢查的FPD基板205的部分，所以臺(tái)220不一定具有上述類型。因此，將臺(tái)220制造成具有柱形形狀、正方柱形形狀或矩形板形狀，且在FPD基板205的TAB 207a的區(qū)域暴露在臺(tái)220外部的狀態(tài)下穩(wěn)定地安裝FPD基板205。這樣，臺(tái)220可具有各種結(jié)構(gòu)，只要線掃描相機(jī)210可檢查FPD基板205即可。
另外，臺(tái)220可經(jīng)構(gòu)造以移動(dòng)，但在此實(shí)施例中，將臺(tái)220提供為固定到基板檢查設(shè)備201的預(yù)定位置。
由此，固定臺(tái)220可解決根據(jù)相關(guān)技術(shù)的基板檢查設(shè)備1(參看圖1)包含可在二維方向(X和Y方向)上移動(dòng)并旋轉(zhuǎn)(θ)的臺(tái)20時(shí)發(fā)生的各種問(wèn)題。
也就是說(shuō)，由于根據(jù)相關(guān)技術(shù)的臺(tái)20在基板檢查設(shè)備1中在二維方向(X和Y方向)上移動(dòng)并旋轉(zhuǎn)(θ)，所以由于臺(tái)20的移動(dòng)的緣故，設(shè)備比例和設(shè)備安裝空間增加。同時(shí)，在此實(shí)施例中，由于臺(tái)220相對(duì)地固定，所以有可能減小相關(guān)技術(shù)中由于臺(tái)20移動(dòng)而導(dǎo)致的較大設(shè)備比例和較大設(shè)備安裝空間。
另外，由于FPD基板205穩(wěn)定地安裝在臺(tái)220上并以此種方式固定，所以有可能減少相關(guān)技術(shù)中移動(dòng)臺(tái)20所需的輔助設(shè)施和功率消耗。另外，有可能事先防止相對(duì)較大的FPD基板205移動(dòng)時(shí)發(fā)生的微粒污染或施加到FPD基板205的物理沖擊，這促進(jìn)產(chǎn)率的改進(jìn)。
同時(shí)，根據(jù)本發(fā)明，線掃描相機(jī)210和面陣相機(jī)(未圖示)兩者均可用作相機(jī)。在此實(shí)施例中，將線掃描相機(jī)210用作相機(jī)。
一般來(lái)說(shuō)，線掃描相機(jī)210主要用于對(duì)局部區(qū)域進(jìn)行照相和掃描。在此實(shí)施例中，將線掃描相機(jī)210提供為定位在上面穩(wěn)定地安裝有FPD基板205(TAB 207a附接到FPD基板205)的臺(tái)220下方，且線掃描相機(jī)210對(duì)凹痕檢查區(qū)域進(jìn)行照相。
如上文所述，根據(jù)相關(guān)技術(shù)的基板檢查設(shè)備1不得不使用面陣相機(jī)10來(lái)在臺(tái)20重復(fù)移動(dòng)和停止時(shí)執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦操作。然而，在此實(shí)施例中，線掃描相機(jī)210可由稍后將描述的光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元250移動(dòng)，且可由位移傳感器230實(shí)時(shí)執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦操作。因此，有可能使用線掃描相機(jī)210。
因此，在根據(jù)此實(shí)施例的使用線掃描相機(jī)210的基板檢查設(shè)備201中，由于線掃描相機(jī)210可在移動(dòng)時(shí)獲得整個(gè)凹痕檢查區(qū)域上的圖像，所以有可能選擇性地對(duì)所獲得圖像的所需區(qū)域執(zhí)行檢查過(guò)程。
由此，如果使用線掃描相機(jī)210，那么可獲得相對(duì)較高分辨率的照相圖像，這與根據(jù)相關(guān)技術(shù)的使用面陣相機(jī)10的基板檢查設(shè)備1相比，改進(jìn)了檢查精度且增加了檢查區(qū)域的寬度。
如上文所述，位移傳感器230耦合到線掃描相機(jī)210的前表面的一側(cè)。
位移傳感器230測(cè)量FPD基板205的位移或線掃描相機(jī)210與成為凹痕檢查目標(biāo)的FPD基板205之間的位移。在此實(shí)施例中，盡管未詳細(xì)繪示位移傳感器230，但位移傳感器230耦合到線掃描相機(jī)210的前表面部分的一側(cè)，使得位移傳感器230實(shí)質(zhì)上在線掃描相機(jī)210的移動(dòng)方向上與線掃描相機(jī)210集成。
如圖12和13中所示，位移傳感器230事先測(cè)量FPD基板205與線掃描相機(jī)210之間的距離或FPD基板205的位移，使得線掃描相機(jī)210在前進(jìn)了Δt的位置處連續(xù)移動(dòng)的同時(shí)，實(shí)時(shí)執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦。
根據(jù)相關(guān)技術(shù)的面陣相機(jī)10在臺(tái)20到達(dá)凹痕檢查區(qū)域之后執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦，而根據(jù)此實(shí)施例的線掃描相機(jī)210可在連續(xù)移動(dòng)時(shí)實(shí)時(shí)執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦。
此原因如下。由于位移傳感器230耦合到線掃描相機(jī)210的前表面部分的一側(cè)，所以位移傳感器230預(yù)先測(cè)量FPD基板205的平面度，并將關(guān)于平面度的信息傳輸?shù)娇刂茊卧?60，且控制單元260控制線掃描相機(jī)210的移動(dòng)，使得線掃描相機(jī)210可實(shí)時(shí)執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦。
另外，在根據(jù)相關(guān)技術(shù)的FPD基板5(參看圖1)的下陷量超過(guò)面陣相機(jī)10的自動(dòng)對(duì)焦跟蹤范圍的情況下，需要使用搜索功能，且因此增加生產(chǎn)時(shí)間的量。然而，在此實(shí)施例中，控制單元260在由位移傳感器230獲得的信息的基礎(chǔ)上，預(yù)先控制線掃描相機(jī)10的移動(dòng)，這與相關(guān)技術(shù)相比，增加了自動(dòng)對(duì)焦跟蹤范圍。
因此，即使在下陷由于FPD基板205的尺寸增加的緣故而嚴(yán)重時(shí)，也可在實(shí)時(shí)執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦時(shí)執(zhí)行檢查，而在預(yù)定范圍內(nèi)無(wú)需單獨(dú)的搜索功能，這減少了生產(chǎn)時(shí)間的量。
也就是說(shuō)，由于線掃描相機(jī)210可通過(guò)使用位移傳感器230實(shí)時(shí)執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦，所以與根據(jù)相關(guān)技術(shù)的重復(fù)執(zhí)行移動(dòng)和停止且在自動(dòng)對(duì)焦之后執(zhí)行檢查的基板檢查設(shè)備1相比，有可能以較高速度連續(xù)執(zhí)行凹痕檢查。因此，與相關(guān)技術(shù)相比，可減少生產(chǎn)時(shí)間的量，可防止產(chǎn)品中由于產(chǎn)品尺寸增加而出現(xiàn)下陷，且可改進(jìn)凹痕檢查效率。
位移傳感器230耦合到的線掃描相機(jī)210安裝在光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元250上，以便實(shí)質(zhì)上移動(dòng)。
盡管未詳細(xì)繪示，但在此實(shí)施例中，光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元250提供在臺(tái)220下方且與TAB 207a附接到的FPD基板205的凹痕檢查區(qū)域平行設(shè)置，以便允許線性運(yùn)動(dòng)。因此，使用光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元250，線掃描相機(jī)210可在連續(xù)移動(dòng)時(shí)對(duì)TAB 207a附接到FPD基板205的凹痕檢查區(qū)域執(zhí)行凹痕檢查。
另外，光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元250允許線掃描相機(jī)210根據(jù)圖11到13中的箭頭Z所示的方向垂直地上升和下降。因此，在由位移傳感器230獲得的信息的基礎(chǔ)上，線掃描相機(jī)210可移動(dòng)到一位置，所述位置可事先在垂直上升和下降時(shí)預(yù)先執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦。
提供控制單元260，其控制線掃描相機(jī)210的移動(dòng)，使得線掃描相機(jī)210可通過(guò)光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元250而移動(dòng)。
控制單元260在由位移傳感器230獲得的信息的基礎(chǔ)上控制線掃描相機(jī)210的移動(dòng)。也就是說(shuō)，在線掃描相機(jī)210到達(dá)FPD基板205的凹痕檢查區(qū)域之前，控制單元260事先從位移傳感器230獲得關(guān)于FPD基板205的凹痕檢查區(qū)域的平面度的信息，并控制線掃描相機(jī)210的移動(dòng)。
因此，控制單元260可控制線掃描相機(jī)210的移動(dòng)，使得線掃描相機(jī)210可實(shí)時(shí)對(duì)FPD基板205的凹痕檢查區(qū)域執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦。另外，控制單元260連續(xù)地移動(dòng)線掃描相機(jī)210，以便在由線掃描相機(jī)210進(jìn)行照相時(shí)，獲得線掃描相機(jī)210的移動(dòng)路徑的整個(gè)區(qū)域上的圖像。
由此，根據(jù)控制單元260的控制操作，線掃描相機(jī)210在圖11和12中的箭頭X所示的方向上線性地移動(dòng)，且連續(xù)地移動(dòng)到成為凹痕檢查目標(biāo)的TAB 207a的區(qū)域。此時(shí)，根據(jù)控制單元260的控制操作，線掃描相機(jī)210在由位移傳感器230獲得的信息的基礎(chǔ)上，在由箭頭Z所示的方向上上升和下降，并預(yù)先移動(dòng)到檢查位置，從而實(shí)時(shí)執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦。
因此，線掃描相機(jī)210在連續(xù)移動(dòng)時(shí)實(shí)時(shí)執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦，并執(zhí)行凹痕檢查。因此，與根據(jù)相關(guān)技術(shù)的重復(fù)停止和移動(dòng)且執(zhí)行檢查的方法相比，可減少生產(chǎn)時(shí)間的量，且可改進(jìn)檢查效率。
現(xiàn)將描述具有上述結(jié)構(gòu)的基板檢查設(shè)備的操作。
在下文中，將參看圖10到13，尤其是圖13，來(lái)描述基板檢查設(shè)備的操作。
首先，成為凹痕檢查目標(biāo)的FPD基板205穩(wěn)定地安裝在基板檢查設(shè)備201的臺(tái)220上。此時(shí)，附接有TAB 207a的FPD基板的區(qū)域向上設(shè)置。因此，當(dāng)線掃描相機(jī)210定位在臺(tái)220下方時(shí)，有可能對(duì)具有凹痕的TAB 207a進(jìn)行照相并提取其凹痕圖像。
在本發(fā)明中，如果FPD基板205穩(wěn)定地安裝在臺(tái)220上并以此種方式固定在其上，那么與根據(jù)相關(guān)技術(shù)的包含移動(dòng)臺(tái)20(參看圖1)的基板檢查設(shè)備1(參看圖1)相比，可減小設(shè)備比例和設(shè)備安裝空間。另外，如上文所述，有可能預(yù)先防止微粒污染或施加到FPD基板205的物理沖擊，這改進(jìn)了產(chǎn)率。
由此，如果FPD基板205穩(wěn)定地安裝在臺(tái)220上，那么線掃描相機(jī)210移動(dòng)，以便對(duì)成為凹痕檢查目標(biāo)的FPD基板205的TAB 207a的區(qū)域進(jìn)行照相。也就是說(shuō)，線掃描相機(jī)210通過(guò)光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元250而移動(dòng)，使得線掃描相機(jī)210定位在臺(tái)220下方，其中臺(tái)220安裝FPD基板205，且凹痕檢查區(qū)域的TAB 207a附接到FPD基板205。
設(shè)置在待首先檢查的TAB 207a的區(qū)域中的線掃描相機(jī)210在預(yù)先由位移傳感器230獲得的信息的基礎(chǔ)上移動(dòng)到凹痕檢查區(qū)域，且在實(shí)時(shí)執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦時(shí)對(duì)第一凹痕圖像進(jìn)行照相和掃描。此時(shí)，位移傳感器230耦合到線掃描相機(jī)210的前表面部分的一側(cè)，以在前進(jìn)了Δt的位置處測(cè)量線掃描相機(jī)210與待檢查的FPD基板205之間的位移。也就是說(shuō)，位移傳感器230事先測(cè)量成為凹痕檢查目標(biāo)的FPD基板205的平面度，使得在線掃描相機(jī)210到達(dá)凹痕檢查區(qū)域之前，線掃描相機(jī)210可準(zhǔn)確地執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦。
一般來(lái)說(shuō)，尺寸較小的FPD基板205是平面的，如由圖13中的虛線所示。然而，在尺寸較大的FPD基板205的情況下，即使在FPD基板205穩(wěn)定地安裝在臺(tái)220上時(shí)，F(xiàn)PD基板205的一部分還是會(huì)下陷，如在由實(shí)線所示的FPD基板205S中。
由此，當(dāng)FPD基板205的平面度由于FPD基板205的下陷(由于尺寸增加的緣故)而不規(guī)則時(shí)，在根據(jù)相關(guān)技術(shù)的基板檢查設(shè)備(參看圖1)中，F(xiàn)PD基板205的下陷量可能超過(guò)自動(dòng)對(duì)焦跟蹤范圍，且因此可能需要執(zhí)行搜索功能。因此，可能增加生產(chǎn)時(shí)間的量。
因此，為了解決根據(jù)相關(guān)技術(shù)的上述問(wèn)題，在本發(fā)明中，即使在FPD基板205S由于基板檢查設(shè)備201的尺寸增加的緣故而下陷時(shí)，位移傳感器230也預(yù)先測(cè)量關(guān)于FPD基板205S的平面度的信息，并將其傳輸?shù)娇刂茊卧?60。接著，控制單元260可預(yù)先移動(dòng)線掃描相機(jī)210，以便增加自動(dòng)對(duì)焦跟蹤范圍。當(dāng)線掃描相機(jī)210移動(dòng)時(shí)，線掃描相機(jī)210可在實(shí)時(shí)執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦的同時(shí)對(duì)凹痕圖像進(jìn)行照相和檢查。
具體地說(shuō)，圖13的(A)中所示的線掃描相機(jī)210接收關(guān)于從位移傳感器230前進(jìn)了Δt的位置處的FPD基板的平面度的信息，并在光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元250的參考位置處執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦。圖13的(B)中所示的線掃描相機(jī)210接收指示從位移傳感器230前進(jìn)了Δt的位置處的FPD基板205S向上彎曲的狀態(tài)的信息，并在光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元250上升之后執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦。圖13的(C)中所示的線掃描相機(jī)210接收指示從位移傳感器230前進(jìn)了Δt的位置處的FPD基板205S向下彎曲的狀態(tài)的信息，并在光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元250下降之后執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦。
由此，耦合到線掃描相機(jī)210的前表面部分的一側(cè)的位移傳感器230定位在移動(dòng)的線掃描相機(jī)210前面，并預(yù)先獲得關(guān)于FPD基板205和205S的平面度的信息，并將其傳輸?shù)娇刂茊卧?60。線掃描相機(jī)210可在移動(dòng)的同時(shí)實(shí)時(shí)執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦。
由此，使用根據(jù)本發(fā)明的基板檢查設(shè)備201，有可能在線掃描相機(jī)210移動(dòng)時(shí)，對(duì)FPD基板205的TAB 207a的區(qū)域執(zhí)行凹痕檢查，且因此臺(tái)220不需要執(zhí)行復(fù)雜的操作，例如移動(dòng)和旋轉(zhuǎn)。因此，與相關(guān)技術(shù)相比，可減少設(shè)備比例和設(shè)備安裝空間，這減少了制造成本。
另外，線掃描相機(jī)210可在連續(xù)移動(dòng)時(shí)執(zhí)行照相操作，使得線掃描相機(jī)210可通過(guò)預(yù)先從位移傳感器230獲得關(guān)于FPD基板205的平面度的信息來(lái)實(shí)時(shí)執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦。因此，有可能減少執(zhí)行凹痕檢查所需的生產(chǎn)時(shí)間的總量，并增加自動(dòng)對(duì)焦跟蹤范圍。即使在FPD基板205的平面度由于FPD基板205的下陷(由于尺寸增加的緣故)而不規(guī)則時(shí)，也可通過(guò)實(shí)時(shí)執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦來(lái)進(jìn)行檢查，而無(wú)需在預(yù)定范圍內(nèi)使用搜索功能，這總體上改進(jìn)了檢查效率。
圖14是說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明第三示范性實(shí)施例的基板檢查設(shè)備的示意性透視圖。
將在關(guān)注與第二示范性實(shí)施例的部分不同的部分的同時(shí)，描述第三示范性實(shí)施例。在第三示范性實(shí)施例中，與第二示范性實(shí)施例相同的組成元件由相同的參考標(biāo)號(hào)表示，且不同的組成元件由添加了字符“a”的參考標(biāo)號(hào)表示。
如圖14中所示，根據(jù)本發(fā)明第三示范性實(shí)施例的基板檢查設(shè)備201a包含光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元(未圖示)，其構(gòu)造成允許交叉方向上的線性運(yùn)動(dòng)；兩個(gè)線掃描相機(jī)210和210a，其沿光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元移動(dòng)，即在X和Y方向上移動(dòng)；和兩個(gè)位移傳感器230和230a。
因此，與根據(jù)第二示范性實(shí)施例的可檢查具有一個(gè)檢查表面(短邊)的FPD基板205的基板檢查設(shè)備201不同，根據(jù)第三示范性實(shí)施例的基板檢查設(shè)備201a將FPD基板205a(待檢查)穩(wěn)定地安裝在臺(tái)220上，其中TAB 207a和207b附接到FPD基板205a的待檢查的兩個(gè)邊(短邊和長(zhǎng)邊)；并檢查FPD基板205a。
在此結(jié)構(gòu)中，基板檢查設(shè)備201a可將FPD基板205a(待檢查)穩(wěn)定地安裝在臺(tái)220上，其中TAB 207a和207b附接到FPD基板205a的待檢查的兩個(gè)邊(短邊和長(zhǎng)邊)，且可檢查FPD基板205a。
另外，基板檢查設(shè)備201a包含兩個(gè)線掃描相機(jī)210和210a以及兩個(gè)位移傳感器230和230a，且可同時(shí)檢查附接到短邊的TAB 207a的區(qū)域和附接到長(zhǎng)邊的TAB 207b的區(qū)域兩者。
因此，除根據(jù)上文所述的第二示范性實(shí)施例的效果之外，可同時(shí)檢查兩個(gè)檢查表面，從而提高檢查速度。因此，與相關(guān)技術(shù)相比，可減少生產(chǎn)時(shí)間的量，且可改進(jìn)檢查效率。
圖15和16是說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明第四示范性實(shí)施例的基板支撐臺(tái)的透視圖，且圖17和18是圖15和16中所示的基板支撐臺(tái)的平面圖。
圖15到18中所示的基板支撐臺(tái)可在上述基板檢查設(shè)備中使用，或可在除所述基板檢查設(shè)備之外的各種設(shè)備中使用，以便支撐基板G。
如圖15到18中所示，根據(jù)此實(shí)施例的基板支撐臺(tái)包含設(shè)備主體301；多個(gè)襯墊310，其支撐基板G；移動(dòng)支撐單元320，其可移動(dòng)地支撐所述多個(gè)襯墊310，使得所述多個(gè)襯墊310彼此接近(參看圖16和18)或以規(guī)則間隔彼此遠(yuǎn)離(參看圖15和17)；以及第一和第二導(dǎo)軌331和332。
設(shè)備主體301是形成根據(jù)本實(shí)施例的基板支撐臺(tái)的外部的部分。在本實(shí)施例中，由于圖中僅繪示多個(gè)襯墊310、移動(dòng)支撐單元320以及第一和第二導(dǎo)軌331和332，所以設(shè)備主體301是局部繪示的。
然而，實(shí)際上，除圖中所示的組件之外，設(shè)備主體301還系統(tǒng)地耦合到外圍裝置。舉例來(lái)說(shuō)，當(dāng)根據(jù)本發(fā)明的基板支撐臺(tái)在檢查系統(tǒng)中使用時(shí)，可進(jìn)一步將上/下單元或左/右移動(dòng)單元耦合到設(shè)備主體301。
多個(gè)襯墊310通過(guò)支撐基板G的底面而支撐基板G。因此，實(shí)質(zhì)上接觸基板G的襯墊310的每一者均優(yōu)選由不會(huì)對(duì)由玻璃制成的基板G施加損壞(例如劃痕)的材料形成。舉例來(lái)說(shuō)，可通過(guò)在后處理期間對(duì)鋁材料進(jìn)行陽(yáng)極氧化來(lái)制造襯墊310。這樣，當(dāng)通過(guò)陽(yáng)極氧化工藝來(lái)制造襯墊310時(shí)，襯墊不會(huì)對(duì)由玻璃制成的基板G施加例如劃痕的損壞。
為參考起見(jiàn)，也稱為陽(yáng)極氧化涂覆工藝的陽(yáng)極氧化方法是指在金屬表面上形成氧化物膜以便通過(guò)氧化膜來(lái)防止在空氣中不斷進(jìn)行氧化的工藝。陽(yáng)極氧化方法在各種領(lǐng)域中使用，但在鋁材料中廣泛使用，因?yàn)殇X材料具有在氧化時(shí)因脆弱材料的緣故而容易破裂的特性。且在此實(shí)施例中，在襯墊310的材料中使用陽(yáng)極氧化方法。
圖中所示的襯墊310以“U”形狀或階梯狀形成，但本發(fā)明并非局限于此。也就是說(shuō)，襯墊310不一定具有圖中所示的結(jié)構(gòu)。襯墊310中并非每一者均由參考標(biāo)號(hào)來(lái)表示。當(dāng)襯墊310形成為具有圖中所示的形狀時(shí)，有可能防止襯墊310在支撐相對(duì)較重的基板G的過(guò)程中變形。
在此實(shí)施例中，襯墊310的數(shù)目為12。然而，本發(fā)明并非局限于此，且襯墊310的數(shù)目可大于或小于12。為了便于闡釋，假設(shè)如圖中所示提供12個(gè)襯墊310來(lái)進(jìn)行描述。
可將12個(gè)襯墊310分成一對(duì)固定襯墊310a(即兩個(gè)襯墊)、兩對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊310b(四個(gè)驅(qū)動(dòng)襯墊)和多對(duì)從動(dòng)襯墊310c(即，六個(gè)從動(dòng)襯墊)。在此情況下，將所述對(duì)固定襯墊310a提供成定位并固定在中心區(qū)域中，且將所述兩對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊310b兩個(gè)接兩個(gè)地提供在12個(gè)襯墊310的兩端。將所述多對(duì)從動(dòng)襯墊310c提供在所述對(duì)固定襯墊310a與所述兩對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊310b之間。
出于以下原因，可以上述方法來(lái)劃分12個(gè)襯墊310。固定襯墊310a固定在對(duì)應(yīng)位置處，且從動(dòng)襯墊310c在從動(dòng)襯墊310c與驅(qū)動(dòng)襯墊310b互鎖的狀態(tài)下移動(dòng)。
為參考起見(jiàn)，在圖中，將固定襯墊310a繪示為面積大于驅(qū)動(dòng)襯墊310b和從動(dòng)襯墊310c。另外，將固定襯墊310a中的每一者設(shè)置在從連接驅(qū)動(dòng)襯墊310b與從動(dòng)襯墊310c的虛擬線向一側(cè)偏離的位置處。然而，由于此結(jié)構(gòu)僅為一個(gè)示范性實(shí)施例，所以本發(fā)明并非局限于此。也就是說(shuō)，固定襯墊310a設(shè)置在連接驅(qū)動(dòng)襯墊310b與從動(dòng)襯墊310c的虛擬線上，且與驅(qū)動(dòng)襯墊310b和從動(dòng)襯墊310c具有相同面積。
所述對(duì)固定襯墊310a通過(guò)固定襯墊連接部分312a彼此連接，所述兩對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊310b通過(guò)對(duì)應(yīng)的驅(qū)動(dòng)襯墊連接部分312b彼此連接，且所述多對(duì)從動(dòng)襯墊310c通過(guò)對(duì)應(yīng)的從動(dòng)襯墊連接部分312c彼此連接。因此，驅(qū)動(dòng)襯墊連接部分312b和從動(dòng)襯墊連接部分312c(固定襯墊連接部分312a除外)與兩對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊310b和多對(duì)從動(dòng)襯墊310c一起移動(dòng)。
同時(shí)，12個(gè)襯墊310在彼此接近(參看圖16和18)和彼此以規(guī)則間隔遠(yuǎn)離(參看圖15和17)時(shí)支撐具有不同尺寸的基板(未圖示)。由此，提供移動(dòng)支撐部分320以及第一和第二導(dǎo)軌331和332，使得12個(gè)襯墊310彼此接近和以規(guī)則間隔彼此遠(yuǎn)離。
移動(dòng)支撐部分320與上述襯墊連接部分312a到312c部分地鏈接。移動(dòng)支撐部分320包含多個(gè)鏈接部分323a和323b，所述多個(gè)鏈接部分經(jīng)設(shè)置以彼此交叉并彼此接近和彼此遠(yuǎn)離；和多個(gè)鉸接銷部分325a和325b，其在多個(gè)鏈接部分323a和323b的相交點(diǎn)處，整體地鉸接耦合到多個(gè)鏈接部分323a和323b以及襯墊連接部分312a到312c。
在此實(shí)施例中，將形成移動(dòng)支撐部分320的多個(gè)鏈接部分323a和323b分成多個(gè)單元鏈接群組320a和320b，其以固定襯墊連接部分312a為基礎(chǔ)，在左側(cè)和右側(cè)處彼此獨(dú)立。如圖15到18中所示，兩個(gè)單元鏈接群組320a和320b具有相同結(jié)構(gòu)，且對(duì)稱設(shè)置(主要參看圖16)。
形成兩個(gè)單元鏈接群組320a和320b的鏈接部分323a和323b具有相同單元長(zhǎng)度。因此，當(dāng)兩個(gè)單元鏈接群組320a和320b操作時(shí)，多個(gè)襯墊310可彼此接近(參看圖16和18)和以相同間隔H(參看圖17)彼此遠(yuǎn)離(參看圖15和17)。
在固定到固定襯墊連接部分312a的多個(gè)鉸接銷部分325a和325b之間的鉸接銷部分325a′和325b′形成參考點(diǎn)，兩個(gè)獨(dú)立單元鏈接群組320a和320b在所述參考點(diǎn)處移動(dòng)。在此實(shí)施例中，形成兩個(gè)獨(dú)立單元鏈接群組320a和320b移動(dòng)的參考點(diǎn)的鉸接銷部分325a′和325b′在固定襯墊連接部分312a上彼此遠(yuǎn)離的位置處形成(參看圖16)。
同時(shí)，在多個(gè)襯墊310根據(jù)移動(dòng)支撐部分320的操作而彼此接近和以相同間隔H(參看圖17)彼此遠(yuǎn)離的情況下，提供第一和第二導(dǎo)軌331和332以穩(wěn)定地引導(dǎo)襯墊310的移動(dòng)。
第一導(dǎo)軌331耦合到兩對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊310b，并引導(dǎo)所述兩對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊310b的移動(dòng)，使得兩對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊310b可在多個(gè)襯墊310彼此接近和彼此遠(yuǎn)離的方向上移動(dòng)。也就是說(shuō)，如圖15和16中所示，兩對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊310b可沿第一導(dǎo)軌331的縱向方向移動(dòng)。此時(shí)，第一導(dǎo)軌331可進(jìn)一步耦合到驅(qū)動(dòng)單元(未圖示)，所述驅(qū)動(dòng)單元獨(dú)立地驅(qū)動(dòng)兩對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊310b，即驅(qū)動(dòng)兩對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊310b，使得鏈接部分323a和323b彼此接近(參看圖16和18)和彼此遠(yuǎn)離預(yù)定長(zhǎng)度(圖15和17)。
另外，第二導(dǎo)軌332耦合到多對(duì)從動(dòng)襯墊310c，并引導(dǎo)所述多對(duì)從動(dòng)襯墊310c的移動(dòng)。第一和第二導(dǎo)軌331和332可由線性運(yùn)動(dòng)或類似運(yùn)動(dòng)來(lái)實(shí)施。
為了防止第一與第二導(dǎo)軌331與332之間發(fā)生相對(duì)干擾，在此實(shí)施例中，在相對(duì)低于第二導(dǎo)軌332的位置處提供第一導(dǎo)軌331。由此，為了使第一導(dǎo)軌331提供在相對(duì)低于第二導(dǎo)軌332的位置處，可將兩對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊310b形成為長(zhǎng)度大于多對(duì)從動(dòng)襯墊310c的長(zhǎng)度，如圖中所示。
現(xiàn)將描述具有上述結(jié)構(gòu)的基板支撐臺(tái)的操作。
在鏈接部分323a和323b彼此接近且多個(gè)襯墊310彼此接近(如圖16和18中所示)的初始位置處，包含在第一導(dǎo)軌331中的驅(qū)動(dòng)單元操作，以便使鏈接部分323a和323b彼此遠(yuǎn)離，且使襯墊310以相同間隔H(參看圖17)彼此遠(yuǎn)離，如圖15和17中所示。
此時(shí)，根據(jù)單獨(dú)控制信號(hào)，驅(qū)動(dòng)單元獨(dú)立地驅(qū)動(dòng)兩對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊310b，使得鏈接部分323a和323b變成彼此遠(yuǎn)離預(yù)定長(zhǎng)度(參看圖16和18)。
由此，如果兩對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊310b沿第一導(dǎo)軌331在相反方向上移動(dòng)，那么多對(duì)從動(dòng)襯墊310c根據(jù)鏈接部分323a和323b的操作也彼此遠(yuǎn)離與兩對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊310b的移動(dòng)距離相同的距離。
因此，最終，如圖15和17中所示，襯墊310可以相同間隔H(參看圖17)彼此遠(yuǎn)離。在此狀態(tài)下，基板G穩(wěn)定地安裝在襯墊310上并以此種方式被支撐。此時(shí)，由于基板G不會(huì)損壞或由襯墊310支撐的基板中不會(huì)出現(xiàn)下陷，所以有可能執(zhí)行穩(wěn)定的過(guò)程，例如檢查工作。
為參看起見(jiàn)，如果不提供驅(qū)動(dòng)單元，那么操作者可在相反方向上拉動(dòng)兩對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊310b，以便將兩對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊310b設(shè)置在所需位置處。
如上文所述，根據(jù)此實(shí)施例，可穩(wěn)定地支撐具有不同尺寸的基板，同時(shí)可防止基板G損壞或下陷。
圖19是說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明第五示范性實(shí)施例的基板支撐臺(tái)的透視圖。
在上述示范性實(shí)施例中，基板G直接安裝在多個(gè)襯墊310的頂面上并以此種方式被支撐。然而，如圖19中所示，可進(jìn)一步在多個(gè)襯墊310的頂面上提供支撐基板G的輔助支撐襯墊340。
在此情況下，輔助支撐襯墊340中的每一者可具有寬條形狀，且可耦合到一對(duì)襯墊310，即一對(duì)固定襯墊310a、兩對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊310b中的每一對(duì)和多對(duì)從動(dòng)襯墊310c中的每一對(duì)。如圖19中所示，如果進(jìn)一步提供單獨(dú)的輔助支撐襯墊340，那么有可能在較寬面積上支撐基板G，這穩(wěn)定地支撐了基板G。
圖20和21是說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明第六示范性實(shí)施例的基板支撐臺(tái)的透視圖。
在上述第一和第二示范性實(shí)施例中，形成兩個(gè)獨(dú)立單元鏈接群組320a和320b移動(dòng)的參考點(diǎn)的鉸接銷部分325a′和325b′被提供在固定襯墊連接部分312a上彼此遠(yuǎn)離的位置處(參看圖16)。因此，在兩個(gè)單元鏈接群組320a和320b不是彼此連接而是實(shí)質(zhì)上彼此遠(yuǎn)離的狀態(tài)下，在設(shè)備主體301中提供兩個(gè)單元鏈接群組320a和320b。
然而，與第一和第二示范性實(shí)施例不同，形成兩個(gè)獨(dú)立單元鏈接群組320a和320b移動(dòng)的參考點(diǎn)的鉸接銷部分325a′和325b′可提供在固定襯墊連接部分312a上的同一位置處，如圖20和21中所示。
在此情況下，形成兩個(gè)單元鏈接群組320a和320b的鏈接部分323a和323b可繪示為仿佛其彼此連接。此結(jié)構(gòu)可達(dá)到本發(fā)明的效果。
圖22和23是根據(jù)本發(fā)明第七示范性實(shí)施例的基板支撐臺(tái)的平面圖。
在上述示范性實(shí)施例中，多個(gè)襯墊310彼此接近和以相同間隔H(參看圖17)彼此遠(yuǎn)離。然而，如圖22和23中所示，當(dāng)鏈接部分323c和323d構(gòu)造成具有不同單元長(zhǎng)度時(shí)，多個(gè)襯墊310可彼此接近且以規(guī)則間隔H3和H4(不是相同的間隔)彼此遠(yuǎn)離。在一些情況下，多個(gè)襯墊310可經(jīng)構(gòu)造以使其彼此接近和以相同的間隔彼此遠(yuǎn)離。
在上述第一示范性實(shí)施例中，省略了描述，但在FPD基板中，TAB可附接到一邊、兩個(gè)選定邊或所有的四個(gè)邊。在此情況下，光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元、位移傳感器和相機(jī)被設(shè)計(jì)成根據(jù)所提供的TAB而提供在對(duì)應(yīng)位置處。
在上述第一示范性實(shí)施例中，凹痕檢查相機(jī)和裂縫檢查相機(jī)沿對(duì)應(yīng)的光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元一起移動(dòng)。然而，凹痕檢查相機(jī)和裂縫檢查相機(jī)可獨(dú)立于對(duì)應(yīng)的光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元而移動(dòng)。這可應(yīng)用于位移傳感器。在此情況下，具有可個(gè)別地執(zhí)行在凹痕檢查與裂縫檢查之間選擇的一種檢查的優(yōu)勢(shì)。
一般來(lái)說(shuō)，在裂縫檢查的情況下，在整個(gè)間隔上以較高速度執(zhí)行裂縫檢查，但在凹痕檢查的情況下，由于凹痕檢查的特性，所以可執(zhí)行部分檢查且同時(shí)對(duì)對(duì)應(yīng)區(qū)域進(jìn)行緩慢的檢查。因此，凹痕檢查相機(jī)、裂縫檢查相機(jī)和位移傳感器中的每一者的移動(dòng)速度可被控制為不同速度。具體來(lái)說(shuō)，當(dāng)凹痕檢查相機(jī)與位移傳感器之間的組合相對(duì)較緩慢地被驅(qū)動(dòng)且裂縫檢查相機(jī)以較高速度獨(dú)立地被驅(qū)動(dòng)時(shí)，可執(zhí)行檢查。
在上述第一示范性實(shí)施例中，可將線掃描相機(jī)用作相機(jī)。然而，由于相機(jī)可如上文所述由位移傳感器和控制單元來(lái)控制，所以在一些情況下可將面陣相機(jī)用作相機(jī)。
在上述第二和第三示范性實(shí)施例中，關(guān)于線掃描相機(jī)的移動(dòng)方向，在位移傳感器耦合到線掃描相機(jī)的前表面部分的一側(cè)的狀態(tài)下，位移傳感器與線掃描相機(jī)一起移動(dòng)。然而，可實(shí)施以下結(jié)構(gòu)。位移傳感器可遠(yuǎn)離線掃描相機(jī)預(yù)定距離，而不與線掃描相機(jī)集成，且可以不同速度個(gè)別地移動(dòng)。
在上述第四到第七示范性實(shí)施例中，多個(gè)襯墊中的固定襯墊提供在中心區(qū)域中，且驅(qū)動(dòng)襯墊設(shè)置在兩側(cè)。然而，固定襯墊可設(shè)置在多個(gè)襯墊的一端上，驅(qū)動(dòng)襯墊可設(shè)置在多個(gè)襯墊的另一端上，且從動(dòng)襯墊可設(shè)置在固定襯墊與驅(qū)動(dòng)襯墊之間。即使在此情況下，也可獲得相同效果。
如上文所述，根據(jù)本發(fā)明的基板檢查設(shè)備和基板支撐臺(tái)會(huì)產(chǎn)生以下效果。
第一，由于單個(gè)檢查設(shè)備共同地執(zhí)行凹痕檢查和裂縫檢查，所以可改進(jìn)檢查效率且可減少生產(chǎn)時(shí)間的量，從而改進(jìn)生產(chǎn)率。另外，由于可防止需要不必要的外圍裝置，所以可減小工作空間，從而與相關(guān)技術(shù)相比，減少各種損失。
第二，有可能減少執(zhí)行凹痕檢查所需的生產(chǎn)時(shí)間的總量，并增加自動(dòng)對(duì)焦跟蹤范圍。即使在基板的平面度由于基板的下陷(由于尺寸增加的緣故)而不規(guī)則時(shí)，也可執(zhí)行有效檢查，且可減小設(shè)備比例和設(shè)備安裝空間。
第三，與相關(guān)技術(shù)相比，可減小設(shè)備比例和設(shè)備安裝空間，且相機(jī)可安裝在基板的每一表面上，從而減少執(zhí)行凹痕檢查所需的生產(chǎn)時(shí)間的總量。
所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)了解，可在不脫離如由所附權(quán)利要求書(shū)所界定的本發(fā)明的精神和范圍的情況下，對(duì)其作出形式和細(xì)節(jié)上的各種替換、修改和改變。因此，應(yīng)了解，上文所述的實(shí)施例僅是出于說(shuō)明的目的，且不應(yīng)被解釋為對(duì)本發(fā)明的限制。
權(quán)利要求
1.一種基板檢查設(shè)備，其包括臺(tái)，其上面穩(wěn)定地安裝有基板，所述基板成為檢查目標(biāo)，其中對(duì)附接到所述基板的一邊的卷帶式自動(dòng)接合(TAB)的區(qū)域執(zhí)行凹痕檢查和裂縫檢查；至少一個(gè)凹痕檢查相機(jī)，其對(duì)所述TAB區(qū)域進(jìn)行照相，以便檢查所述TAB中是否出現(xiàn)凹痕；至少一個(gè)裂縫檢查相機(jī)，其對(duì)所述TAB區(qū)域進(jìn)行照相，以便檢查所述基板的所述TAB區(qū)域中是否出現(xiàn)裂縫；以及光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元，其支撐所述凹痕檢查相機(jī)和所述裂縫檢查相機(jī)，以便相對(duì)于所述臺(tái)而相對(duì)地移動(dòng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板檢查設(shè)備，其進(jìn)一步包括至少一個(gè)位移傳感器，其在由所述光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元移動(dòng)時(shí)測(cè)量所述基板的位移；以及控制單元，其在由所述位移傳感器獲得的信息的基礎(chǔ)上，控制所述凹痕檢查相機(jī)的移動(dòng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板檢查設(shè)備，其中所述位移傳感器設(shè)置在所述凹痕檢查相機(jī)前面，且在所述凹痕檢查相機(jī)到達(dá)照相目標(biāo)的所述TAB區(qū)域之前，所述控制單元事先從所述位移傳感器獲得關(guān)于所述基板的平面度的信息，并控制所述凹痕檢查相機(jī)的移動(dòng)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板檢查設(shè)備，其中所述控制單元控制所述凹痕檢查相機(jī)接近和遠(yuǎn)離所述基板，使得所述凹痕檢查相機(jī)實(shí)時(shí)地對(duì)所述TAB區(qū)域執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板檢查設(shè)備，其中所述控制單元獨(dú)立于所述凹痕檢查相機(jī)而控制所述裂縫檢查相機(jī)的移動(dòng)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基板檢查設(shè)備，其中所述控制單元允許所述凹痕檢查相機(jī)和裂縫檢查相機(jī)連續(xù)移動(dòng)，以便在所述凹痕檢查相機(jī)和裂縫檢查相機(jī)的照相操作時(shí)，獲得所述凹痕檢查相機(jī)和裂縫檢查相機(jī)的移動(dòng)路徑上的圖像。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的基板檢查設(shè)備，其中所述凹痕檢查相機(jī)、所述裂縫檢查相機(jī)和所述位移傳感器中的至少一者獨(dú)立地移動(dòng)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基板檢查設(shè)備，其中所述凹痕檢查相機(jī)和所述位移傳感器一起移動(dòng)，所述裂縫檢查相機(jī)獨(dú)立于所述凹痕檢查相機(jī)和所述位移傳感器而移動(dòng)，且所述裂縫檢查相機(jī)在所述凹痕檢查相機(jī)和所述位移傳感器前面首先移動(dòng)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的基板檢查設(shè)備，其中所述光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元包含多個(gè)水平部分，其分別平行于穩(wěn)定地安裝在所述臺(tái)上的所述基板的兩個(gè)短邊和一個(gè)長(zhǎng)邊而設(shè)置；多個(gè)第一垂直部分，其耦合到所述水平部分，以便沿所述水平部分移動(dòng)，并支撐所述凹痕檢查相機(jī)和所述位移傳感器；以及多個(gè)第二垂直部分，其支撐所述裂縫檢查相機(jī)，并獨(dú)立于所述多個(gè)第一垂直部分而移動(dòng)。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基板檢查設(shè)備，其中所述第一垂直部分沿所述水平部分的縱向方向移動(dòng)。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基板檢查設(shè)備，其中在對(duì)應(yīng)的水平部分上，安裝有所述裂縫檢查相機(jī)的所述第二垂直部分的移動(dòng)速度相對(duì)快于安裝有所述凹痕檢查相機(jī)和所述位移傳感器的所述第一垂直部分的移動(dòng)速度。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的基板檢查設(shè)備，其中所述裂縫檢查相機(jī)對(duì)所述TAB的所有區(qū)域進(jìn)行照相，以便檢查所述基板中是否出現(xiàn)裂縫，且所述凹痕檢查相機(jī)對(duì)從所述TAB的區(qū)域中選擇的至少一部分進(jìn)行照相，以便檢查所述TAB中是否出現(xiàn)凹痕。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板檢查設(shè)備，其進(jìn)一步包括檢查設(shè)備主體，其支撐所述臺(tái)，使得所述臺(tái)固定地耦合到所述檢查設(shè)備主體的頂面。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板檢查設(shè)備，其中所述凹痕檢查相機(jī)和所述裂縫檢查相機(jī)的類型為線掃描相機(jī)或面陣相機(jī)。
15.一種基板檢查設(shè)備，其包括臺(tái)，其上面穩(wěn)定地安裝有基板，所述基板成為檢查目標(biāo)，其中對(duì)附接到所述基板的一邊的TAB的區(qū)域執(zhí)行凹痕檢查和裂縫檢查；至少一個(gè)相機(jī)，其對(duì)所述基板的凹痕檢查區(qū)域進(jìn)行照相；光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元，其耦合到所述相機(jī)，并相對(duì)于所述臺(tái)而相對(duì)地移動(dòng)所述相機(jī)；至少一個(gè)位移傳感器，其測(cè)量所述基板的位移；以及控制單元，其在由所述位移傳感器獲得的信息的基礎(chǔ)上控制所述相機(jī)的移動(dòng)。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的基板檢查設(shè)備，其中所述位移傳感器在所述相機(jī)的移動(dòng)方向上提供在所述相機(jī)前面，且在所述相機(jī)到達(dá)所述基板的凹痕檢查區(qū)域之前，所述控制單元事先從所述位移傳感器獲得關(guān)于所述基板的所述凹痕檢查區(qū)域的平面度的信息，并控制所述相機(jī)的移動(dòng)。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的基板檢查設(shè)備，其中所述控制單元控制所述相機(jī)的移動(dòng)，使得所述相機(jī)實(shí)時(shí)地對(duì)所述基板的所述凹痕檢查區(qū)域執(zhí)行自動(dòng)對(duì)焦。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的基板檢查設(shè)備，其中所述相機(jī)的類型為線掃描相機(jī)或面陣相機(jī)。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的基板檢查設(shè)備，其中所述控制單元允許所述相機(jī)連續(xù)移動(dòng)，以便在所述相機(jī)的照相操作時(shí)，獲得所述相機(jī)的移動(dòng)路徑的整個(gè)區(qū)域上的圖像。
20.根據(jù)權(quán)利要求16所述的基板檢查設(shè)備，其中所述位移傳感器在所述凹痕檢查區(qū)域上關(guān)于所述相機(jī)的移動(dòng)方向在所述相機(jī)前面耦合到所述相機(jī)，并實(shí)質(zhì)上與所述相機(jī)整體移動(dòng)。
21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的基板檢查設(shè)備，其中所述臺(tái)固定地安裝在預(yù)定位置處。
22.一種基板檢查設(shè)備，其包括固定臺(tái)，其上面穩(wěn)定地安裝有基板，所述基板成為凹痕檢查目標(biāo)，其中對(duì)附接到所述基板的一邊的TAB的區(qū)域執(zhí)行凹痕檢查，所述固定臺(tái)固定地安裝在預(yù)定位置處；至少一個(gè)相機(jī)，其對(duì)所述基板的凹痕檢查區(qū)域進(jìn)行照相；以及光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元，其耦合到所述相機(jī)，并相對(duì)于所述固定臺(tái)而相對(duì)地移動(dòng)所述相機(jī)，使得所述相機(jī)對(duì)所述固定臺(tái)上的所述基板的所述凹痕檢查區(qū)域進(jìn)行照相。
23.根據(jù)權(quán)利要求22所述的基板檢查設(shè)備，其中所述相機(jī)的類型為線掃描相機(jī)或面陣相機(jī)，且提供多個(gè)相機(jī)。
24.根據(jù)權(quán)利要求1、15和22中任一權(quán)利要求所述的基板檢查設(shè)備，其中所述基板為作為平板顯示器(FPD)的液晶顯示器(LCD)基板、等離子顯示面板(PDP)基板和有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)基板中的任一者。
25.一種基板支撐臺(tái)，其包括多個(gè)襯墊，其支撐基板；以及移動(dòng)支撐部分，其可移動(dòng)地支撐所述多個(gè)襯墊，使得所述多個(gè)襯墊彼此接近和以規(guī)則間隔彼此遠(yuǎn)離。
26.根據(jù)權(quán)利要求25所述的基板支撐臺(tái)，其中所述多個(gè)襯墊包含一對(duì)固定襯墊，其從所述多個(gè)襯墊中選出；至少一對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊，其從所述多個(gè)襯墊中選出，并遠(yuǎn)離所述對(duì)固定襯墊而定位；以及多對(duì)從動(dòng)襯墊，其設(shè)置在所述對(duì)固定襯墊與所述對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊之間。
27.根據(jù)權(quán)利要求26所述的基板支撐臺(tái)，其中所述對(duì)固定襯墊定位并固定在所述多個(gè)襯墊的中心處，且至少所述對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊設(shè)置在所述多個(gè)襯墊的兩側(cè)。
28.根據(jù)權(quán)利要求27所述的基板支撐臺(tái)，其進(jìn)一步包括固定襯墊連接部分，其使所述對(duì)固定襯墊彼此連接；驅(qū)動(dòng)襯墊連接部分，其使至少所述對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊彼此連接；以及從動(dòng)襯墊連接部分，其中的每一者均使所述多對(duì)從動(dòng)襯墊中的每一對(duì)對(duì)應(yīng)的從動(dòng)襯墊彼此連接，其中所述移動(dòng)支撐部分部分地鏈接到所述襯墊連接部分。
29.根據(jù)權(quán)利要求28所述的基板支撐臺(tái)，其中所述移動(dòng)支撐部分包含多個(gè)鏈接部分，其設(shè)置成彼此交叉，且彼此接近和彼此遠(yuǎn)離；以及多個(gè)鉸接銷部分，其在所述多個(gè)鏈接部分的相交點(diǎn)處，整體地鉸接耦合到所述多個(gè)鏈接部分和所述多個(gè)襯墊連接部分。
30.根據(jù)權(quán)利要求29所述的基板支撐臺(tái)，其中所述多個(gè)鏈接部分分成兩個(gè)獨(dú)立的單元鏈接群組，且所述兩個(gè)單元鏈接群組中的每一者均從所述固定襯墊連接部分朝向每一驅(qū)動(dòng)襯墊連接部分一側(cè)形成。
31.根據(jù)權(quán)利要求30所述的基板支撐臺(tái)，其中在所述兩個(gè)單元鏈接群組中所提供的所述多個(gè)鉸接銷部分中，將鉸接耦合到所述固定襯墊連接部分的鉸接銷部分提供為在所述固定襯墊連接部分上彼此遠(yuǎn)離。
32.根據(jù)權(quán)利要求30所述的基板支撐臺(tái)，其中在所述兩個(gè)單元鏈接群組中所提供的所述多個(gè)鉸接銷部分中，將鉸接耦合到所述固定襯墊連接部分的鉸接銷部分提供在所述固定襯墊連接部分上的同一位置處。
33.根據(jù)權(quán)利要求26所述的基板支撐臺(tái)，其進(jìn)一步包括第一導(dǎo)軌，其耦合到所述至少一對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊，并引導(dǎo)所述至少一對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊的移動(dòng)，使得所述至少一對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊在所述多個(gè)襯墊彼此接近和彼此遠(yuǎn)離的方向上移動(dòng)；以及第二導(dǎo)軌，其耦合到所述多對(duì)從動(dòng)襯墊，并引導(dǎo)所述多對(duì)從動(dòng)襯墊的移動(dòng)。
34.根據(jù)權(quán)利要求33所述的基板支撐臺(tái)，其進(jìn)一步包括設(shè)備主體，其支撐所述第一和第二導(dǎo)軌，其中，在所述設(shè)備主體中，將所述第一導(dǎo)軌提供在比所述第二導(dǎo)軌相對(duì)較低的位置處。
35.根據(jù)權(quán)利要求33所述的基板支撐臺(tái)，其中獨(dú)立地驅(qū)動(dòng)所述至少一對(duì)驅(qū)動(dòng)襯墊的驅(qū)動(dòng)單元進(jìn)一步耦合到所述第一導(dǎo)軌。
36.根據(jù)權(quán)利要求25所述的基板支撐臺(tái)，其中所述多個(gè)襯墊借助所述移動(dòng)支撐部分而彼此接近和以相等間隔彼此遠(yuǎn)離。
37.根據(jù)權(quán)利要求25所述的基板支撐臺(tái)，其進(jìn)一步包括輔助支撐襯墊，其耦合到所述多個(gè)襯墊的頂面，并支撐所述基板。
38.根據(jù)權(quán)利要求37所述的基板支撐臺(tái)，其中提供多個(gè)輔助支撐襯墊，且所述多個(gè)輔助襯墊各自耦合到所述多對(duì)襯墊中的每一對(duì)。
全文摘要
本發(fā)明揭示一種基板支撐臺(tái)和一種具有所述基板支撐臺(tái)的基板檢查設(shè)備。一種基板檢查設(shè)備包括臺(tái)，其上面穩(wěn)定地安裝有基板，所述基板成為檢查目標(biāo)，其中對(duì)附接到所述基板的一邊的TAB的區(qū)域執(zhí)行凹痕檢查和裂縫檢查；至少一個(gè)凹痕檢查相機(jī)，其對(duì)所述TAB區(qū)域進(jìn)行照相，以便檢查所述TAB中是否出現(xiàn)凹痕；至少一個(gè)裂縫檢查相機(jī)，其對(duì)所述TAB區(qū)域進(jìn)行照相，以便檢查所述基板的TAB區(qū)域中是否出現(xiàn)裂縫；以及光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)單元，其支撐所述凹痕檢查相機(jī)和所述裂縫檢查相機(jī)，以便相對(duì)于所述臺(tái)而相對(duì)地移動(dòng)。
文檔編號(hào)G01R31/308GK101089616SQ200710110868
公開(kāi)日2007年12月19日 申請(qǐng)日期2007年6月12日 優(yōu)先權(quán)日2006年6月13日
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