專利名稱：鍍膜附著力測量方法及測量裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于鍍膜測量領(lǐng)域，特別涉及一種鍍膜附著力測量方法及測量裝置。
背景技術(shù)：
涂裝或鍍膜是在金屬或非金屬表面涂鍍一層金屬或非金屬材料，以改變物體表面 性質(zhì)或其他性質(zhì)來滿足特定的要求。通常對此類工藝，鍍層或膜層附著力都是反應(yīng)膜層質(zhì) 量的一個(gè)重要指標(biāo)。對于不同種類的膜層，有一些國家或國際標(biāo)準(zhǔn)推薦的膜層附著力的測 量方法，常見的有拉開法，扭開法，十字切割法，劃圈法，耐沖擊法等。但是，這些膜層附著力測量方法大多都存在測量不準(zhǔn)確的問題。例如拉開法，扭開 法等，雖理論上可以直接顯示附著力，但由于需要粘合，所以測量時(shí)間較長。另外，在拉開或 扭開時(shí)由于難以保證整個(gè)面受力均勻，所以測量結(jié)果準(zhǔn)確性也不是很理想。對于劃圈法來 說，其與十字切割法類似，都是評定表面剝落程度，但最終是依靠檢測人員目測，給出大致 級別，準(zhǔn)確程度較低。并且，在上述的方法中，測量人員需要采用目視比較切割面和標(biāo)準(zhǔn)參 考圖片，判斷其附著力屬于某一級別，例如，零脫離為最好級別0級，脫離面積在切割面積 的5%以內(nèi)為1級，但肉眼是不可能準(zhǔn)確判斷出來。有鑒于上述現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷，本發(fā)明人提出一種鍍膜附著力測量方法及測量 裝置，能夠避免現(xiàn)有測量方法的測量結(jié)果準(zhǔn)確性不高、測量時(shí)間較長的缺點(diǎn)，使其更具有實(shí) 用性。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種能提高檢測精準(zhǔn)度及檢測效率的鍍膜附著 力測量方法及測量裝置，非常適于實(shí)用。本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問題是采用以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)的。依據(jù)本發(fā)明提出 的一種鍍膜附著力測量方法，用于區(qū)分由標(biāo)準(zhǔn)測試板得到的測試樣板上的基體和膜層，包 括以下步驟步驟Si.對所述測試樣板進(jìn)行取樣，得到靜態(tài)圖像；步驟S2.對所述靜態(tài)圖像 進(jìn)行二值化處理，得到二值化圖像，用以區(qū)分所述基體和所述膜層；以及步驟S3.計(jì)算所述 基體的面積與所述測試樣板的面積的比值。本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問題還可采用以下技術(shù)措施進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)。前述的鍍膜附著力測量方法，所述由標(biāo)準(zhǔn)測試板得到測試樣板的步驟包括步驟 S0-1.切割所述標(biāo)準(zhǔn)測試板，形成網(wǎng)格圖形；以及步驟S0-2.通過膠帶粘貼所述網(wǎng)格圖形的 膜層并剝離，得到所述測試樣板。前述的鍍膜附著力測量方法，步驟S2之后包括步驟SA-1.設(shè)置一尺寸閾值；以 及步驟SA-2.找到所述二值化圖像中基體的面積小于該尺寸閾值的點(diǎn)并去除。前述的鍍膜附著力測量方法，步驟S3之后還包括步驟S4.計(jì)算切割所述標(biāo)準(zhǔn)測 試板時(shí)刀刃劃痕造成的膜層脫離的面積與所述測試樣板的面積的比值；以及步驟S5.將步 驟S3中得到的比值減去步驟S4中得到的比值。
本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問題另外還采用以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)。依據(jù)本發(fā)明提 出的一種鍍膜附著力測量裝置，用于區(qū)分由標(biāo)準(zhǔn)測試板得到的測試樣板上的基體和膜層， 該裝置包括圖像采集單元，用于對所述測試樣板進(jìn)行取樣，得到靜態(tài)圖像；二值化處理單 元，接收所述靜態(tài)圖像，并將其進(jìn)行二值化處理，得到二值化圖像，以區(qū)分所述基體和所述 膜層；以及計(jì)算單元，用于根據(jù)所述二值化圖像計(jì)算所述基體的面積與所述測試樣板的面 積的比值。本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問題還可采用以下技術(shù)措施進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)。前述的鍍膜附著力測量裝置，還包括過濾單元，其設(shè)置有一尺寸閾值，用于找到 所述二值化圖像中基體面積小于該尺寸閾值的點(diǎn)。前述的鍍膜附著力測量裝置，還包括放大鏡，設(shè)置于所述測試樣板和所述圖像采 集單元之間，使得所述圖像采集單元取樣經(jīng)該放大鏡放大的測試樣板。由上述技術(shù)方案可知，本發(fā)明的實(shí)施例通過圖像采集單元對測試樣板進(jìn)行取樣， 并對得到的靜態(tài)圖像進(jìn)行二值化處理和圖像過濾，并且，只需根據(jù)像素點(diǎn)計(jì)算出基體部分 的面積和測量樣板的面積，通過百分比表示前者與后者的商即得到最終計(jì)算結(jié)果，之后對 計(jì)算結(jié)果進(jìn)行簡單處理就可對比現(xiàn)有的國家標(biāo)準(zhǔn)。而且，上述的對比、處理均可以通過軟件 完成。因此具有以下有益效果縮短了檢測時(shí)間、降低了檢測人員的檢測難度。再者，整個(gè) 判斷過程無需檢測人員進(jìn)行人工干預(yù)，也無需進(jìn)行肉眼憑借經(jīng)驗(yàn)觀測，提高了檢測精準(zhǔn)度。通過以下參照附圖對優(yōu)選實(shí)施例的說明，本發(fā)明的上述以及其它目的、特征和優(yōu) 點(diǎn)將更加明顯。


圖1為本發(fā)明鍍膜附著力測量方法一實(shí)施例的流程圖；圖2為本發(fā)明鍍膜附著力測量方法一較佳實(shí)施例的流程圖；圖3為本發(fā)明鍍膜附著力測量裝置一實(shí)施例的方塊圖；圖4為本發(fā)明切割后的標(biāo)準(zhǔn)測試板取樣位置的構(gòu)造示意圖；圖5為本發(fā)明鍍膜附著力測量裝置一較佳實(shí)施例的示意圖。
具體實(shí)施例方式下面將詳細(xì)描述本發(fā)明的具體實(shí)施例。應(yīng)當(dāng)注意，這里描述的實(shí)施例只用于舉例 說明，并不用于限制本發(fā)明。請參閱圖1所示，本發(fā)明的鍍膜附著力測量方法，是用于區(qū)分由標(biāo)準(zhǔn)測試板得到 的測試樣板上的基體和膜層，該方法包括以下步驟步驟Si.對該測試樣板進(jìn)行取樣，得到靜態(tài)圖像；請同時(shí)參閱圖3，由圖像采集單元31對測試樣板進(jìn)行取樣，以得到靜態(tài)圖像，其中 該圖像采集單元31可為數(shù)碼相機(jī)或數(shù)字?jǐn)z像頭等。步驟S2.對該靜態(tài)圖像進(jìn)行二值化處理，得到二值化圖像，用以區(qū)分基體和膜層； 通常來說，一幅圖像包括目標(biāo)物體、背景還有噪聲，要想從多灰度值的數(shù)字圖像中 直接提取出目標(biāo)物體，最常用的方法就是圖像的二值化，即設(shè)定一個(gè)閾值T，用T將圖像中 像素的灰度數(shù)據(jù)分成兩部分灰度大于T的像素群和灰度小于T的像素群，其中灰度大于等于T的像素群的灰度被置為一值，灰度小于T的像素群的灰度被置為另一值。在本發(fā)明中，可以將步驟Sl中得到的靜態(tài)圖像通過二值化處理單元32進(jìn)行二值 化處理，這樣，便可明顯區(qū)分出基體和膜層，其中，閾值T可由本領(lǐng)域技術(shù)人員根據(jù)實(shí)際情 況設(shè)定。例如，將該靜態(tài)圖像分為256個(gè)亮度等級，且設(shè)定閾值T為127，則該靜態(tài)圖像中灰 度大于等于127的像素的灰度值被置為255，而該靜態(tài)圖像中灰度小于127的像素的灰度值 被置為0，這樣，整個(gè)靜態(tài)圖像呈現(xiàn)出明顯的黑白效果，從而清楚的凸顯出基體和膜層。步驟S3.計(jì)算基體的面積與測試樣板的面積的比值。該比值可由計(jì)算單元34通過二值化圖像中的像素點(diǎn)計(jì)算得出，該比值可以百分 比的形式表示，即用百分比的形式表示出膜層的剝落程度，來表征鍍膜附著力。請參閱圖2所示，其為本發(fā)明鍍膜附著力測量方法一較佳實(shí)施例的流程圖。
在本實(shí)施例中，由標(biāo)準(zhǔn)測試板得到測試樣板的步驟包括步驟S0-1.切割標(biāo)準(zhǔn)測試板，形成網(wǎng)格圖形；較佳地，對于常見的小于120 μ m的非厚涂層/膜層或是非堅(jiān)硬涂層/膜層，采用 20-30度刀刃的單刃切割刀具，切割標(biāo)準(zhǔn)測試板，如圖4所示。在此期間，用均勻的切割速率 在涂層41上形成規(guī)定的切割數(shù)，所有切割都應(yīng)劃透至底材表面，形成網(wǎng)格圖形，然后用軟 毛刷沿網(wǎng)格圖形每一條對角線，輕輕地向后掃幾次，再向前掃幾次，進(jìn)行清理。步驟S0-2.通過膠帶粘貼網(wǎng)格圖形的膜層并剝離，得到測試樣板。較佳地，對于硬底材來說，把膠粘帶的中心點(diǎn)放在網(wǎng)格上方，方向與一組切割線 平行，然后用手指把膠粘帶在網(wǎng)格區(qū)上方的部位壓平，膠粘帶長度至少超過網(wǎng)格20mm(毫 米)。為了確保膠粘帶與涂層41接觸良好，用手指尖或是工具用力蹭膠粘帶。隨后在貼上 膠粘帶5min(分鐘)內(nèi)，拿住膠粘帶懸空的一端，并在盡可能接近60°的角度，在0.5 1. Os (秒)內(nèi)平穩(wěn)地撕離膠粘帶，至此測試樣板制作完成。接下來執(zhí)行步驟Si.對該測試樣板進(jìn)行取樣，得到靜態(tài)圖像；和步驟S2.對該靜態(tài) 圖像進(jìn)行二值化處理，得到二值化圖像，用以區(qū)分基體和膜層。步驟Sl和S2如前所述，在 此不再贅述。由于在實(shí)際應(yīng)用中，漆膜表面通常并不完美，可能會(huì)造成對光的反射不同，因此， 在二值化處理后可能會(huì)有部分有漆膜的區(qū)域被誤識別為無漆膜，即基體。具體地說，誤識別 的區(qū)域通常是漆膜表面的不平整造成的反光，是一些尺寸較小的點(diǎn)。因此，在本實(shí)施例中，步驟S2之后進(jìn)一步執(zhí)行步驟SA-1.設(shè)置一尺寸閾值；以及步 驟SA-2.找到二值化圖像中基體的面積小于該尺寸閾值的點(diǎn)并去除。這里，尺寸閾值可在 過濾單元33中設(shè)定，并由過濾單元33找到二值化圖像中基體的面積小于該尺寸閾值的點(diǎn)， 之后通過手動(dòng)將這些點(diǎn)去除，以完成圖像過濾。接下來執(zhí)行步驟S3.計(jì)算基體的面積與測試樣板的面積的比值。在本實(shí)施例中，由于采用切割刀具來切割標(biāo)準(zhǔn)測試板，因此步驟S3得到的比值結(jié) 果中包含刀刃切過的區(qū)域，為得到更準(zhǔn)確的測量結(jié)果，步驟S3之后還包括步驟S4.計(jì)算切 割標(biāo)準(zhǔn)測試板時(shí)刀刃劃痕造成的膜層脫離的面積與測試樣板的面積的比值；步驟S5.將步 驟S3中得到的比值減去步驟S4中得到的比值。其中，刀刃劃痕造成的膜層脫離的面積與測試樣板的面積的比值對于同一種測量 樣板和測量設(shè)置是固定的，因此可使用一些樣板來確定該比值。
在執(zhí)行完步驟S5之后，便可與國家標(biāo)準(zhǔn)中的數(shù)值進(jìn)行最直觀的對比，避免了人工 通過肉眼進(jìn)行簡單的判別帶來的誤差和不確定性。請參閱圖3所示，其為本發(fā)明鍍膜附著力測量裝置一實(shí)施例的方塊圖。該鍍膜附 著力測量裝置，用于區(qū)分由標(biāo)準(zhǔn)測試板得到的測試樣板上的基體和膜層，其包括圖像采集 單元31、二值化處理單元32和計(jì)算單元34。其中，圖像采集單元31，用于對測試樣板進(jìn)行 取樣，得到靜態(tài)圖像，該圖像采集單元31可為數(shù)碼相機(jī)或數(shù)字?jǐn)z像頭等；二值化處理單元 32，接收所述靜態(tài)圖像，并將其進(jìn)行二值化處理，得到二值化圖像，以區(qū)分基體和膜層。計(jì)算 單元34用于通過二值化圖像中的像素點(diǎn)計(jì)算基體的面積與所述測試樣板的面積的比值， 該比值可表示出膜層的剝落程度，進(jìn)而表征鍍膜附著力。
較佳地，該裝置還包括過濾單元33，其設(shè)置有一尺寸閾值，用于找到二值化圖像 中基體面積小于該尺寸閾值的點(diǎn)。之后可將這些點(diǎn)手動(dòng)去除，以消除因反光等因素造成的 誤識別。前述二值化處理單元32、過濾單元33和計(jì)算單元34可通過硬件或軟件實(shí)現(xiàn)。請參閱圖5所示，其為本發(fā)明鍍膜附著力測量裝置一較佳實(shí)施例的示意圖。在本實(shí)施例中，該裝置包括數(shù)字?jǐn)z像頭51、放大鏡52、光源53、升降臂54、支撐臂 55、底板56、數(shù)據(jù)傳輸線57和計(jì)算機(jī)58。其中，數(shù)字?jǐn)z像頭51、放大鏡52和光源53依次固定連接，并固定于升降臂54上， 升降臂54可沿支撐臂55垂直升降，支撐臂55固定于底板56上。數(shù)字?jǐn)z像頭51通過數(shù)據(jù) 傳輸線57連接于計(jì)算機(jī)58，所述二值化處理單元32、過濾單元33和計(jì)算單元34均由計(jì)算 機(jī)58中的軟件實(shí)現(xiàn)。本實(shí)施例中該測量裝置的工作過程如下啟動(dòng)計(jì)算機(jī)58中本實(shí)施例所需的各軟件，并供電給光源53，該光源53的亮度可 調(diào)。將測試樣板放置于光源53下方，底板56上，開啟數(shù)字?jǐn)z像頭51，則該數(shù)字?jǐn)z像頭51將 放大鏡52放大的圖像拍照，然后通過數(shù)據(jù)傳輸線57將拍攝的靜態(tài)圖像傳送至計(jì)算機(jī)58中 的二值化處理單元、過濾單元、計(jì)算單元進(jìn)行處理，得到最后的結(jié)果。本領(lǐng)域技術(shù)人員可以根據(jù)計(jì)算機(jī)58計(jì)算出的最后結(jié)果與國家標(biāo)準(zhǔn)中的數(shù)值進(jìn)行 最直觀的對比。由上可知，通過圖像采集單元對測試樣板進(jìn)行取樣，并對得到的靜態(tài)圖像進(jìn)行二 值化處理和圖像過濾，并且，只需根據(jù)像素點(diǎn)計(jì)算出基體部分的面積和測量樣板的面積，通 過百分比表示前者與后者的商即得到最終計(jì)算結(jié)果，之后對計(jì)算結(jié)果進(jìn)行簡單處理就可對 比現(xiàn)有的國家標(biāo)準(zhǔn)。而且，上述的對比、處理均可以通過軟件完成，因此縮短了檢測時(shí)間、降 低了檢測人員的檢測難度。再者，整個(gè)判斷過程無需檢測人員進(jìn)行人工干預(yù)，也無需進(jìn)行肉 眼憑借經(jīng)驗(yàn)觀測，提高了檢測精準(zhǔn)度。雖然已參照幾個(gè)典型實(shí)施例描述了本發(fā)明，但應(yīng)當(dāng)理解，所用的術(shù)語是說明和示 例性、而非限制性的術(shù)語。由于本發(fā)明能夠以多種形式具體實(shí)施而不脫離發(fā)明的精神或?qū)?質(zhì)，所以應(yīng)當(dāng)理解，上述實(shí)施例不限于任何前述的細(xì)節(jié)，而應(yīng)在隨附權(quán)利要求所限定的精神 和范圍內(nèi)廣泛地解釋，因此落入權(quán)利要求或其等效范圍內(nèi)的全部變化和改型都應(yīng)為隨附權(quán) 利要求所涵蓋。
權(quán)利要求
一種鍍膜附著力測量方法，用于區(qū)分由標(biāo)準(zhǔn)測試板得到的測試樣板上的基體和膜層，其特征在于，包括以下步驟步驟S1.對所述測試樣板進(jìn)行取樣，得到靜態(tài)圖像；步驟S2.對所述靜態(tài)圖像進(jìn)行二值化處理，得到二值化圖像，用以區(qū)分所述基體和所述膜層；以及步驟S3.計(jì)算所述基體的面積與所述測試樣板的面積的比值。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鍍膜附著力測量方法，其特征在于，所述由標(biāo)準(zhǔn)測試板 得到測試樣板包括以下步驟步驟S0-1.切割所述標(biāo)準(zhǔn)測試板，形成網(wǎng)格圖形；以及步驟S0-2.通過膠帶粘貼所述網(wǎng)格圖形的膜層并剝離，得到所述測試樣板。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種鍍膜附著力測量方法，其特征在于，步驟S3之后還包括步驟S4.計(jì)算切割所述標(biāo)準(zhǔn)測試板時(shí)刀刃劃痕造成的膜層脫離的面積與所述測試樣 板的面積的比值；以及步驟S5.將步驟S3中得到的比值減去步驟S4中得到的比值。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鍍膜附著力測量方法，其特征在于，步驟S2之后包括 步驟SA-1.設(shè)置一尺寸閾值；以及步驟SA-2.找到所述二值化圖像中基體的面積小于該尺寸閾值的點(diǎn)并去除。
5.一種鍍膜附著力測量裝置，用于區(qū)分由標(biāo)準(zhǔn)測試板得到的測試樣板上的基體和膜 層，其特征在于，該裝置包括圖像采集單元，用于對所述測試樣板進(jìn)行取樣，得到靜態(tài)圖像； 二值化處理單元，接收所述靜態(tài)圖像，并將其進(jìn)行二值化處理，得到二值化圖像，以區(qū) 分所述基體和所述膜層；以及計(jì)算單元，用于根據(jù)所述二值化圖像計(jì)算所述基體的面積與所述測試樣板的面積的比值。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種鍍膜附著力測量裝置，其特征在于，該裝置還包括過濾單元，其設(shè)置有一尺寸閾值，用于找到所述二值化圖像中基體面積小于該尺寸閾 值的點(diǎn)。
7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的一種鍍膜附著力測量裝置，其特征在于，該裝置還包括 放大鏡，設(shè)置于所述測試樣板和所述圖像采集單元之間，使得所述圖像采集單元取樣經(jīng)該放大鏡放大的測試樣板。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種鍍膜附著力測量裝置，其特征在于，所述圖像采集單元 為數(shù)碼相機(jī)或數(shù)碼攝像頭。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種鍍膜附著力測量裝置，其特征在于，該裝置還包括 數(shù)據(jù)傳輸線，用于連接所述圖像采集單元和所述二值化處理單元。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種鍍膜附著力測量裝置，其特征在于，所述二值化處理單 元和計(jì)算單元通過軟件實(shí)現(xiàn)。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種鍍膜附著力測量方法及測量裝置，該測量方法用于區(qū)分由標(biāo)準(zhǔn)測試板得到的測試樣板上的基體和膜層，其包括以下步驟步驟S1.對所述測試樣板進(jìn)行取樣，得到靜態(tài)圖像；步驟S2.對所述靜態(tài)圖像進(jìn)行二值化處理，得到二值化圖像，用以區(qū)分所述基體和所述膜層；以及步驟S3.計(jì)算所述基體的面積與所述測試樣板的面積的比值。該測量裝置用于區(qū)分由標(biāo)準(zhǔn)測試板得到的測試樣板上的基體和膜層，其包括圖像采集單元、二值化處理單元和計(jì)算單元。本發(fā)明可以縮短檢測時(shí)間、降低檢測人員的檢測難度；再者，整個(gè)判斷過程無需檢測人員進(jìn)行人工干預(yù)，也無需進(jìn)行肉眼憑借經(jīng)驗(yàn)觀測，提高了檢測精準(zhǔn)度。
文檔編號G01N19/04GK101865858SQ200910132810
公開日2010年10月20日 申請日期2009年4月20日 優(yōu)先權(quán)日2009年4月20日
發(fā)明者宋君 申請人:格倫德福斯管理聯(lián)合股份公司