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      一種液晶空間光調(diào)制器多參數(shù)的干涉式雙成像測量裝置的制作方法

      文檔序號:5851095閱讀:220來源:國知局
      專利名稱:一種液晶空間光調(diào)制器多參數(shù)的干涉式雙成像測量裝置的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本實用新型涉及光電測試技術(shù)領(lǐng)域。
      背景技術(shù)
      液晶空間光調(diào)制器可在電驅(qū)動信號控制下改變空間上光分布的相位、偏振 態(tài)、振幅(或強度)乃至波長,或是非相干光到相干光的轉(zhuǎn)換等。相位和振幅的 調(diào)制在光學(xué)信息處理中具有非常重要的作用,因此液晶空間光調(diào)制器在波前校 正、大氣成像、光學(xué)濾波和光束整形等方面具有重要的應(yīng)用價值。液晶空間光 調(diào)制器特性參數(shù)的測試(特性參數(shù)主要包括相位調(diào)制特性、振幅調(diào)制特性、 相位不均勻性和時間響應(yīng)特性等)是掌握該器件性能的關(guān)鍵,目前的測量方法 主要采用傳統(tǒng)干涉方法。葛愛明、隋展、徐克壽等在2003年物理學(xué)報上公開
      的《反射型LCOS器件純相位調(diào)制特性的研究》提出了用邁克爾遜干涉儀測量 反射型LCOS液晶顯示器的相位調(diào)制特性,該方法為雙光路干涉。激光源ll 經(jīng)由擴束鏡12和起偏器13,被分光棱鏡15分為兩路光, 一路光經(jīng)由液晶顯 示器14調(diào)制并反射回來后,與經(jīng)過補償板16被反射鏡17反射回來的另一路 光在分光棱鏡15處會合,經(jīng)過檢偏器18后發(fā)生干涉,由CCD探測器19接收 干涉條紋。通過對干涉條紋的分析,得到相位調(diào)制特性。該裝置雖然能一次獲 得整個工作面上平均的相位調(diào)制特性,但是該裝置只能滿足單參數(shù)測量,無法 獲得其它的特性參數(shù)(如振幅調(diào)制特性和時間響應(yīng)特性),并且測量的分辨率 較低。由于環(huán)境振動和空氣流擾動會導(dǎo)致干涉條紋抖動,因此對測量環(huán)境的穩(wěn) 定性要求很高,穩(wěn)定性較差。
      美國空軍研究實驗室的Scott Harris于2001年發(fā)表的《一種液晶光束偏轉(zhuǎn) 器的特性研究和應(yīng)用》(Characterization and Application of a Liquid Crystal Beam Steering Device. Proceedings of SP正.2001, 4291: 109-119)利用共路干涉 方法測量了液晶光學(xué)相陣列的相位調(diào)制特性。激光源21經(jīng)過起偏器22被分光棱鏡23分為兩路光,其中透射光經(jīng)過透鏡24被液晶光學(xué)相陣列25反射回來 經(jīng)由分光棱鏡23和檢偏器26,進(jìn)入光電二極管27。光電二極管27探測光強 度變化,通過計算得到相位調(diào)制特性。該裝置利用點對點接收光強,雖然能夠 獲得不同點的振幅和相位調(diào)制特性,測量的分辨率較高。但是該方法無法辨別 相位調(diào)制的方向,并且無法一次獲得整個工作面上平均的振幅和相位調(diào)制特 性。

      實用新型內(nèi)容
      本實用新型為了解決現(xiàn)有的液晶空間光調(diào)制器特性參數(shù)測量裝置無法滿 足多參數(shù)測量的要求,從而提出一種液晶空間光調(diào)制器多參數(shù)的干涉式雙成像 測量裝置。
      一種液晶空間光調(diào)制器多參數(shù)的干涉式雙成像測量裝置,它包括擴束鏡、 起偏器、第一分光棱鏡、反射鏡、液晶空間光調(diào)制器、檢偏器、光電二極管和 CCD探測器, 一種液晶空間光調(diào)制器多參數(shù)的干涉式雙成像測量裝置還包括 可開關(guān)快門、第二分光棱鏡、第一成像透鏡、針孔、二維微動臺、第二成像透 鏡、光闌和計算機;系統(tǒng)輸入的激光光束入射至擴束鏡,經(jīng)擴束鏡擴束整形后 入射至起偏器,經(jīng)起偏器偏振后入射至第一分光棱鏡,所述第一分光棱鏡將偏 振后的光束分成第一透射光和第一反射光,所述第一透射光入射至液晶空間光 調(diào)制器的光輸入端,經(jīng)所述液晶空間光調(diào)制器反射后沿第一透射光的光路反向 入射至第一分光棱鏡;所述第一反射光經(jīng)可開關(guān)快門入射至反射鏡,經(jīng)所述反 射鏡反射后沿第一反射光的光路反向入射至第一分光棱鏡,反射鏡反射的反射 光經(jīng)第一分光棱鏡的透射后與液晶空間光調(diào)制器反射的反射光經(jīng)第一分光棱 鏡的反射后匯聚并入射至檢偏器,并經(jīng)檢偏器偏振后入射至第二分光棱鏡,第 二分光棱鏡將所述偏振后的光分為第二透射光和第二反射光,所述第二透射光 經(jīng)第一成像透鏡聚焦至針孔,經(jīng)針孔入射至光電二極管的光輸入端;所述第二 反射光經(jīng)第二成像透鏡聚焦至光闌,經(jīng)所述光闌入射到CCD探測器的光輸入 端,所述CCD探測器信號輸出端與計算機的第二信號輸入端連接;光電二極
      5管的電信號輸出端與計算機的第一信號輸入端連接,光電二極管固定在二維微
      動臺上,計算機的第二控制信號輸出端與二維微動臺的控制信號輸入端連接; 所述液晶空間光調(diào)制器的控制信號輸入端與計算機的第一控制信號輸出端連 接,所述起偏器的透光軸和檢偏器的透光軸均可調(diào)。
      有益效果本實用新型突破了傳統(tǒng)干涉法單參數(shù)測量的局限性,能夠滿足
      多參數(shù)測量的要求;且將雙光路干涉與共路干涉融合到一個裝置中,優(yōu)勢互補, 規(guī)避不足,實現(xiàn)了在同一個實驗裝置、同一測試條件下評價器件的多個特性參 數(shù),避免不同測試條件與多次搭建實驗裝置帶來的額外誤差;本實用新型還能 夠利用兩種方法對同一參數(shù)進(jìn)行測量,通過對測量結(jié)果的分析與比較,更加準(zhǔn) 確地獲得液晶器件的特性參數(shù);本實用新型既能保證較高的測量精度,又提高 了測量效率。

      圖1是背景技術(shù)《反射型LCOS器件純相位調(diào)制特性的研究》中的裝置結(jié) 構(gòu)示意圖;圖2是背景技術(shù)《一種液晶光束偏轉(zhuǎn)器的特性研究和應(yīng)用》中裝置 結(jié)構(gòu)示意圖;圖3為本實用新型系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖;圖4是具體實施方式
      二的 起偏器、檢偏器和液晶空間光調(diào)制器和透光軸平行的結(jié)構(gòu)示意圖;圖5是具體 實施方式三的起偏器的、檢偏器和液晶空間光調(diào)制器的透光軸成45。角的結(jié)構(gòu) 示意圖。
      具體實施方式
      具體實施方式
      一結(jié)合圖3說明本具體實施方式
      , 一種液晶空間光調(diào)制器 多參數(shù)的干涉式雙成像測量裝置,它包括擴束鏡2、起偏器3、第一分光棱鏡
      4、 反射鏡6、液晶空間光調(diào)制器7、檢偏器8、光電二極管12和CCD探測器 16,一種液晶空間光調(diào)制器多參數(shù)的干涉式雙成像測量裝置還包括可開關(guān)快門
      5、 第二分光棱鏡9、第一成像透鏡IO、針孔ll、 二維微動臺13、第二成像透 鏡l4、光闌15和計算機17;系統(tǒng)輸入的激光光束入射至擴束鏡2,經(jīng)擴束鏡 2擴束整形后入射至起偏器3,經(jīng)起偏器3偏振后入射至第一分光棱鏡4,所
      6述第一分光棱鏡4將偏振后的光束分成第一透射光和第一反射光,所述第一透 射光入射至液晶空間光調(diào)制器7的光輸入端,經(jīng)所述液晶空間光調(diào)制器7反射 后沿第一透射光的光路反向入射至第一分光棱鏡4;所述第一反射光經(jīng)可開關(guān) 快門5入射至反射鏡6,經(jīng)所述反射鏡6反射后沿第一反射光的光路反向入射 至第一分光棱鏡4,反射鏡6反射的反射光經(jīng)第一分光棱鏡4的透射后與液晶 空間光調(diào)制器7反射的反射光經(jīng)第一分光棱鏡4的反射后匯聚并入射至檢偏器 8,并經(jīng)檢偏器8偏振后入射至第二分光棱鏡9,第二分光棱鏡9將所述偏振 后的光分為第二透射光和第二反射光,所述第二透射光經(jīng)第一成像透鏡10聚 焦至針孔11,經(jīng)針孔11入射至光電二極管12的光輸入端;所述第二反射光 經(jīng)第二成像透鏡14聚焦至光闌15,經(jīng)所述光闌15入射到CCD探測器16的 光輸入端,所述CCD探測器16信號輸出端與計算機17的第二信號輸入端連 接;光電二極管12的電信號輸出端與計算機17的第一信號輸入端連接,光電 二極管12固定在二維微動臺13上,計算機17的第二控制信號輸出端與二維 微動臺13的控制信號輸入端連接;所述液晶空間光調(diào)制器7的控制信號輸入 端與計算機17的第一控制信號輸出端連接,所述起偏器3的透光軸和檢偏器 8的透光軸均可調(diào)。
      本實施方式的起偏器3和檢偏器8的透光軸可調(diào),通過控制二者的偏振角, 實現(xiàn)液晶空間光調(diào)制器7純相位調(diào)制或相位與強度共同調(diào)制兩種工作模式的切 換,達(dá)到利用雙成像系統(tǒng)分別獲取相位信息與強度信息的目的。
      當(dāng)起偏器3和檢偏器8的偏振方向均與液晶光軸平行時,液晶空間光調(diào)制 器7工作在純相位調(diào)制模式,調(diào)制光與參考光干涉,由CCD探測器15獲取干 涉條紋,從而得到相位信息,然而干涉光強度不隨控制信號而發(fā)生變化;
      當(dāng)起偏器3和檢偏器8的偏振方向均與液晶光軸成45°角時,液晶空間光 調(diào)制器7工作在相位與強度共同調(diào)制模式,調(diào)制光的強度變化最大,光電二極 管12能夠探測到強度信息。
      利用相位信息與強度信息就能獲得液晶空間光調(diào)制器的多個特性參數(shù)。第二分光棱鏡9是雙成像系統(tǒng)的關(guān)鍵器件,通過第二分光棱鏡9將出射光 分為兩路, 一路光進(jìn)入以CCD探測器16為探測器的雙光路干涉成像系統(tǒng),另 一路光進(jìn)入以光電二極管12為探測器的共路干涉成像系統(tǒng)。
      可開關(guān)快門5起到遮擋參考光的作用。獲取相位信息時,打開可開關(guān)快門 5,允許參考光通過,與調(diào)制光進(jìn)行干涉;獲取強度信息時,關(guān)閉可開關(guān)快門 5,遮住參考光,光路中只有調(diào)制光輸出。
      光電二極管12固定在二維微動臺13上,光電二極管前面放置針孔11。 采集強度信息時,控制二維微動臺沿著二維采樣點的點陣移動,逐次采集液晶 空間光調(diào)制器7上不同點的強度信息。
      具體實施方式
      二結(jié)合圖4說明本具體實施方式
      ,本具體實施方式
      與具體 實施方式一所述的一種液晶空間光調(diào)制器多參數(shù)的干涉式雙成像測量裝置的 區(qū)別在于起偏器3的透光軸和檢偏器8的透光軸均與液晶空間光調(diào)制器7的液 晶光軸方向平行,可開關(guān)快門5設(shè)置為開啟狀態(tài)。
      本實施方式的裝置處于雙光路干涉狀態(tài),調(diào)節(jié)起偏器3和檢偏器8,使起 偏器3的透光軸100和檢偏器8的透光軸102均平行于液晶空間光調(diào)制器7的 液晶光軸101方向,系統(tǒng)輸入光束經(jīng)過起偏器3偏振后,光束的偏振方向平行 于液晶光軸101,液晶空間光調(diào)制器7對光產(chǎn)生純相位調(diào)制,獲得調(diào)制光;開 啟可開關(guān)快門5,允許反射鏡6將參考光反射回來,調(diào)制光與參考光匯聚到第 一分光棱鏡4,經(jīng)檢偏器8偏振后發(fā)生干涉,干涉光進(jìn)入雙成像系統(tǒng),經(jīng)過第 二分光棱鏡9、成像透鏡14和光闌15,在CCD探測器16上成像,由CCD探 測器16獲取干涉條紋,從而得到相位信息,即液晶空間光調(diào)制器7的相位調(diào) 制特性;
      具體實施方式
      三結(jié)合圖5說明本具體實施方式
      ,本具體實施方式
      與具體 實施方式一所述的一種液晶空間光調(diào)制器多參數(shù)的干涉式雙成像測量裝置的
      區(qū)別在于起偏器3的透光軸與檢偏器8的透光軸均與液晶空間光調(diào)制器7的液 晶光軸方向成45角,可開關(guān)快門5設(shè)置為關(guān)閉狀態(tài)。本實施方式的裝置處于共路干涉狀態(tài),調(diào)節(jié)起偏器3和檢偏器8,使起偏
      器3的透光軸100與檢偏器8的透光軸102的偏振方向均與液晶空間光調(diào)制器 7的液晶光軸101成45°角,系統(tǒng)輸入光束經(jīng)過起偏器3偏振后,光束的偏振 方向與液晶光軸101成45°角,液晶空間光調(diào)制器7對光產(chǎn)生相位與強度共同 調(diào)制,調(diào)制光返回至第一分光棱鏡4,經(jīng)過檢偏器8偏振后,進(jìn)入雙成像系統(tǒng), 經(jīng)過第二分光棱鏡9,第一成像透鏡10和針孔11,入射至光電二極管12上, 光電二極管12探測輸出光強度的變化,通過計算最終獲得液晶空間光調(diào)制器 7的振幅調(diào)制特性和時間響應(yīng)特性。當(dāng)逐點采集不同點信號時,還可獲得二維 液晶器件的相位調(diào)制不均勻性。
      具體實施方式
      四本具體實施方式
      具體實施方式
      一、二或三所述的一種 液晶空間光調(diào)制器多參數(shù)的干涉式雙成像測量裝置的區(qū)別在于,系統(tǒng)的輸入的 激光光束由He-Ne激光器發(fā)出。
      權(quán)利要求1、一種液晶空間光調(diào)制器多參數(shù)的干涉式雙成像測量裝置,它包括擴束鏡(2)、起偏器(3)、第一分光棱鏡(4)、反射鏡(6)、液晶空間光調(diào)制器(7)、檢偏器(8)、光電二極管(12)和CCD探測器(16),其特征是一種液晶空間光調(diào)制器多參數(shù)的干涉式雙成像測量裝置還包括可開關(guān)快門(5)、第二分光棱鏡(9)、第一成像透鏡(10)、針孔(11)、二維微動臺(13)、第二成像透鏡(14)、光闌(15)和計算機(17);系統(tǒng)輸入的激光光束入射至擴束鏡(2),經(jīng)擴束鏡(2)擴束整形后入射至起偏器(3),經(jīng)起偏器(3)偏振后入射至第一分光棱鏡(4),所述第一分光棱鏡(4)將偏振后的光束分成第一透射光和第一反射光,所述第一透射光入射至液晶空間光調(diào)制器(7)的光輸入端,經(jīng)所述液晶空間光調(diào)制器(7)反射后沿第一透射光的光路反向入射至第一分光棱鏡(4);所述第一反射光經(jīng)可開關(guān)快門(5)入射至反射鏡(6),經(jīng)所述反射鏡(6)反射后沿第一反射光的光路反向入射至第一分光棱鏡(4),反射鏡(6)反射的反射光經(jīng)第一分光棱鏡(4)的透射后與液晶空間光調(diào)制器(7)反射的反射光經(jīng)第一分光棱鏡(4)的反射后匯聚并入射至檢偏器(8),并經(jīng)檢偏器(8)偏振后入射至第二分光棱鏡(9),第二分光棱鏡(9)將所述偏振后的光分為第二透射光和第二反射光,所述第二透射光經(jīng)第一成像透鏡(10)聚焦至針孔(11),經(jīng)針孔(11)入射至光電二極管(12)的光輸入端;所述第二反射光經(jīng)第二成像透鏡(14)聚焦至光闌(15),經(jīng)所述光闌(15)入射到CCD探測器(16)的光輸入端,所述CCD探測器(16)信號輸出端與計算機(17)的第二信號輸入端連接;光電二極管(12)的電信號輸出端與計算機(17)的第一信號輸入端連接,光電二極管(12)固定在二維微動臺(13)上,計算機(17)的第二控制信號輸出端與二維微動臺(13)的控制信號輸入端連接;所述液晶空間光調(diào)制器(7)的控制信號輸入端與計算機(17)的第一控制信號輸出端連接,所述起偏器(3)的透光軸和檢偏器(8)的透光軸均可調(diào)。
      2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述一種液晶空間光調(diào)制器多參數(shù)的千涉式雙成像測量裝置,其特征在于起偏器(3)的透光軸和檢偏器(8)的透光軸均與液晶空 間光調(diào)制器(7)的液晶光軸方向平行,可開關(guān)快門(5)設(shè)置為開啟狀態(tài)。
      3、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種液晶空間光調(diào)制器多參數(shù)的干涉式雙成像 測量裝置,其特征在于起偏器(3)的透光軸與檢偏器(8)的透光軸均與液晶 空間光調(diào)制器(7)的液晶光軸方向成45。角,可開關(guān)快門(5)設(shè)置為關(guān)閉狀 態(tài)。
      4、 根據(jù)權(quán)利要求1、 2或3所述的一種液晶空間光調(diào)制器多參數(shù)的干涉式 雙成像測量裝置,其特征在于系統(tǒng)的輸入的激光光束由He-Ne激光器發(fā)出。
      專利摘要一種液晶空間光調(diào)制器多參數(shù)的干涉式雙成像測量裝置,它涉及光電測試技術(shù)領(lǐng)域。本實用新型解決現(xiàn)有液晶空間光調(diào)制器特性參數(shù)測量裝置無法滿足多參數(shù)測量要求的問題。本實用新型在泰曼—格林干涉光路中通過引入雙成像系統(tǒng)將雙光路干涉與共路干涉融合到一個裝置中,輸入光經(jīng)擴束鏡、起偏器入射至第一分光棱鏡,透射光被液晶空間光調(diào)制器調(diào)制并反射,反射光經(jīng)快門被反射鏡反射,兩路光經(jīng)第一分光棱鏡和檢偏器后經(jīng)第二分光棱鏡進(jìn)入第二成像系統(tǒng);透射光經(jīng)液晶空間光調(diào)制器反射后,也可直接經(jīng)第一分光棱鏡、檢偏器和第二分光棱鏡進(jìn)入第一成像系統(tǒng),利用雙成像系統(tǒng)分別探測相位與強度實現(xiàn)多參數(shù)測量。本實用新型適用于液晶空間光調(diào)制器多參數(shù)測量過程。
      文檔編號G01M11/02GK201417203SQ20092009985
      公開日2010年3月3日 申請日期2009年5月15日 優(yōu)先權(quán)日2009年5月15日
      發(fā)明者吳麗瑩, 健 張, 張洪鑫 申請人:哈爾濱理工大學(xué)
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