專利名稱：提高分光器性能的方法及分光器、x射線測(cè)量分析設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及光學(xué)測(cè)量技術(shù)領(lǐng)域，尤具是涉及一種提高分光器性能的方法及分光 器、X射線測(cè)量分析設(shè)備。
背景技術(shù)：
波長(zhǎng)色散型的X射線測(cè)量分析設(shè)備采用分光器對(duì)特征X射線進(jìn)行分光，然后用探 測(cè)器對(duì)經(jīng)過(guò)分光器分光的特征X射線進(jìn)行采集和后續(xù)處理。目前公知的分光器采用平面或曲面分光晶體，分光晶體安裝于分光器殼內(nèi)。整個(gè) 分光器一般由入射狹縫組件、分光器殼、分光晶體、出射狹縫組件等組成。由于X射線經(jīng)過(guò) 入謝狹縫組件進(jìn)入分光器殼內(nèi)后，并不是全部照射到分光晶體上，有一部分X射線可能照 射到殼壁上，這部分照射到殼壁上的X射線經(jīng)過(guò)一次或多次反射或激發(fā)后，也會(huì)通過(guò)出射 狹縫組件射出被探測(cè)器接收到，但這一部分X射線并不是經(jīng)過(guò)分光的特征X射線。因此，導(dǎo) 致波長(zhǎng)色散型的X射線測(cè)量分析設(shè)備的測(cè)量結(jié)果不準(zhǔn)確。

發(fā)明內(nèi)容
鑒于上述現(xiàn)有技術(shù)所存在的問(wèn)題，本發(fā)明實(shí)施例的目的是提供一種分光器及X射 線測(cè)量分析設(shè)備，可以提高分光器的性能，從而使得X射線測(cè)量分析設(shè)備的測(cè)量結(jié)果更準(zhǔn) 確。本發(fā)明的目的是通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的本發(fā)明實(shí)施例提供一種提高分光器性能的方法，該分光器包括殼體、入射狹縫組 件、分光晶體和出射狹縫組件；其中，所述入射狹縫組件和出射狹縫組件均設(shè)置在殼體上， 所述分光晶體設(shè)置在殼體內(nèi)作為入射狹縫組件與出射狹縫組件之間的反射體；包括在分光器殼體內(nèi)設(shè)置射線擋塊，使所述射線擋塊設(shè)置在殼體內(nèi)分光晶體周圍，通 過(guò)射線擋塊吸收或阻擋從入射狹縫組件進(jìn)入的能照射到殼體內(nèi)壁上的部分X射線，及吸收 或阻擋通過(guò)分光晶體反射后能照射到殼體內(nèi)壁上的部分X射線。所述射線擋塊設(shè)置多個(gè)，多個(gè)射線擋塊分布設(shè)置在殼體內(nèi)的分光晶體周圍。本發(fā)明實(shí)施例還提供一種分光器，包括殼體、入射狹縫組件、分光晶體和出射狹 縫組件；其中，所述入射狹縫組件和出射狹縫組件均設(shè)置在殼體上，所述分光晶體設(shè)置在殼 體內(nèi)作為入射狹縫組件與出射狹縫組件之間的反射體；還包括射線擋塊，設(shè)置在殼體內(nèi)的分光晶體周圍，使射線擋塊吸收或阻擋從入射狹縫組 件進(jìn)入的能照射到殼體內(nèi)壁上的部分X射線，及吸收或阻擋通過(guò)分光晶體反射后能照射到 殼體內(nèi)壁上的部分X射線。所述射線擋塊為多個(gè)，分布設(shè)置在殼體內(nèi)的分光晶體周圍的各個(gè)光路上。所述射線擋塊為五個(gè)。所述射線擋塊采用能吸收或阻擋X射線的材質(zhì)制成。所述制成射線擋塊所用的材質(zhì)包括
不銹鋼、銅、鐵、鉛中的任一種或任意幾種。所述射線擋塊的形狀為規(guī)則形狀或不規(guī)則形狀。
所述射線擋塊的形狀為圓形、方形、橢圓形或多邊形中的任一種形狀。本發(fā)明實(shí)施例進(jìn)一步提供一種X射線測(cè)量分析設(shè)備，由X光管、高壓電源、探測(cè)器 和分光器組成，所述分光器采用上述的分光器。從上述本發(fā)明實(shí)施例的技術(shù)方案中可以看出，本發(fā)明實(shí)施例中通過(guò)在分光器的殼 體內(nèi)設(shè)置射線擋板，通過(guò)射線擋板吸收或阻擋從入射狹縫組件進(jìn)入的能照射到殼體內(nèi)壁上 的部分X射線，及吸收或阻擋通過(guò)分光晶體反射后能照射到殼體內(nèi)壁上的部分X射線。從 而避免了部分X射線照射到分光器殼體的內(nèi)壁上，再?gòu)臍んw上的出射狹縫組件射出，使探 測(cè)器接收到，而影響X射線測(cè)量分析設(shè)備檢測(cè)準(zhǔn)確度的問(wèn)題。本發(fā)明以較簡(jiǎn)單的方式，可以 對(duì)射線在分光器內(nèi)的傳播路徑進(jìn)行校正，避免漫反射的X射線的影響，顯著提高分光器的 性能，進(jìn)而也提高使用該分光器的X射線測(cè)量分析設(shè)備的檢測(cè)準(zhǔn)確度。


圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的分光器結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說(shuō)明。實(shí)施例一本實(shí)施例一提供一種提高分光器性能的方法，適用的分光器是用在X射線測(cè)量分 析設(shè)備中的分光器，如礦漿品位分析儀等，該分光器包括殼體1、入射狹縫組件2、分光晶 體4和出射狹縫組件3 ；其中，所述入射狹縫組件2和出射狹縫組件3均設(shè)置在殼體1上， 所述分光晶體4設(shè)置在殼體1內(nèi)作為入射狹縫組件2與出射狹縫組件3之間的反射體；該 方法包括在分光器殼體1內(nèi)設(shè)置射線擋塊5、6、7、8、9，使所述射線擋塊設(shè)置在殼體內(nèi)分光 晶體周圍的各個(gè)光路上，通過(guò)射線擋塊5、6、7、8、9吸收或阻擋從入射狹縫組件進(jìn)入的能照 射到殼體1內(nèi)壁上的部分X射線，及吸收或阻擋通過(guò)分光晶體4反射后能照射到殼體1內(nèi)壁 上的部分X射線，從而避免從出射狹縫組件3的出射窗口射出不需要的X射線。具體設(shè)置 射線擋塊后，使該分光器的出射窗口射出的X射線滿足對(duì)特征X射線計(jì)數(shù)率最佳即可。若 未達(dá)到最佳，則可以調(diào)整射線擋塊的位置，使出射窗口射出的X射線滿足對(duì)特征X射線計(jì)數(shù) 率最佳。上述方法中，在分光器的殼體內(nèi)可以設(shè)置多個(gè)射線擋塊，多個(gè)射線擋塊分布設(shè)置 在殼體內(nèi)的分光晶體周圍的各個(gè)光路上。如圖1所示，一般設(shè)置5個(gè)射線擋塊，分布設(shè)置在 殼體內(nèi)的分光晶體周圍的各個(gè)光路上即可。射線擋塊可采用能吸收或阻擋X射線的任何材 質(zhì)制成，如不銹鋼、銅、鐵、鉛等材料中的任一種或任意幾種。射線擋塊可制成規(guī)則或不規(guī)則 的各種形狀，只要能吸收或阻擋反射到殼體內(nèi)壁上的X射線即可。如圖1所示，本實(shí)施例的方法是在分光器內(nèi)安裝能夠吸收或阻擋X射線的射線擋 塊5、6、7、8、9，射線擋塊5、6、7、8、9被固定于分光器內(nèi)的光路上，吸收或阻擋X射線照射到 分光器殼體的殼壁上，通過(guò)射線擋塊的吸收或阻擋，如圖1中所示，從入射狹縫組件2的入射窗口入射的X射線E被射線擋塊8吸收或阻擋，入射的X射線C被射線擋塊8阻擋吸收， 入射的X射線D經(jīng)分光晶體4反射后形成的出射X射線F被射線擋塊6吸收或阻擋，保證 了入射的X射線A經(jīng)過(guò)入射狹縫組件2的入射窗口后，全部照射到分光晶體4上，同時(shí)保證 只有經(jīng)過(guò)分光晶體4分光的特征X射線B才能從出射狹縫組件3的出射窗口射出。因此， 通過(guò)本實(shí)施例的方法，可以保證經(jīng)過(guò)分光器射出的X射線幾平全部是需要的特征X射線，極 大的提高了分光器的性能。實(shí)施例二本實(shí)施二提供一種分光器，該分光器的結(jié)構(gòu)也如圖1所示，包括殼體1、入射狹縫組件2、分光晶體4、出射狹縫組件3和射線擋塊5、6、7、8、9 ；其中，所述入射狹縫組件2和出 射狹縫組件3均設(shè)置在殼體1上，所述分光晶體4設(shè)置在殼體1內(nèi)作為入射狹縫組件2與 出射狹縫組件3之間的反射體；射線擋塊5、6、7、8、9設(shè)置在殼體內(nèi)的分光晶體4周圍的各 個(gè)光路上，使射線擋塊5、6、7、8、9阻擋或吸收從入射狹縫組件進(jìn)入的能照射到殼體內(nèi)壁上 的部分X射線，及吸收或阻擋通過(guò)分光晶體反射后能照射到殼體內(nèi)壁上的部分X射線。上述分光器中，所述的射線擋塊可以設(shè)置多個(gè)，多個(gè)射線擋塊分布設(shè)置在殼體內(nèi) 的分光晶體周圍的各個(gè)光路上，以吸收或阻擋非正常光路上的X射線。上述分光器中的射線擋塊可采用能吸收或阻擋X射線的任何材質(zhì)制成。如不銹 鋼、銅、鐵、鉛等材質(zhì)，可以理解的是，射線擋塊也可采用其它能吸收或阻擋X射線材料，只 要避免進(jìn)入分光器殼體內(nèi)的X射線不要照射到殼體內(nèi)壁上即可。實(shí)際中，上述分光器中設(shè)置的射線擋塊的形狀可以是規(guī)則形狀，如圓形、方形、橢 圓形或多邊形等，也可以是不規(guī)則形狀，只要保證能很好的阻擋照射到殼壁上的X射線即可。實(shí)施例三本實(shí)施三提供一種X射線測(cè)量分析設(shè)備，該設(shè)備可以作為礦漿品位分析儀，該設(shè) 備由X光管、高壓電源、探測(cè)器和分光器組成，其中，所用的分光器采用上述實(shí)施例二中給 出的分光器。這種X射線測(cè)量分析設(shè)備由于其分光器中設(shè)有射線擋塊，因此，有效提高了分 光器的性能，從而提高了 X射線測(cè)量分析設(shè)備的測(cè)量精度。綜上所述，本發(fā)明實(shí)施例中通過(guò)在分光器殼體內(nèi)設(shè)置安裝不同形狀和大小的射線 擋塊，避免了部分X射線照射到殼壁上，再?gòu)某錾洫M縫組件射出，使探測(cè)器接收到，而影響X 射線測(cè)量分析設(shè)備檢測(cè)準(zhǔn)確度的問(wèn)題。通過(guò)本發(fā)明可以對(duì)射線在分光器內(nèi)的傳播路徑進(jìn)行 校正，避免漫反射的X射線的影響，顯著提高分光器的性能。進(jìn)而提高了利用該分光器的X 射線測(cè)量分析設(shè)備的分辨率和測(cè)量精度。以上所述，僅為本發(fā)明較佳的具體實(shí)施方式
，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此， 任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到的變化或替換， 都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)該以權(quán)利要求書(shū)的保護(hù)范 圍為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
一種提高分光器性能的方法，該分光器包括殼體、入射狹縫組件、分光晶體和出射狹縫組件；其中，所述入射狹縫組件和出射狹縫組件均設(shè)置在殼體上，所述分光晶體設(shè)置在殼體內(nèi)作為入射狹縫組件與出射狹縫組件之間的反射體；其特征在于，包括在分光器殼體內(nèi)設(shè)置射線擋塊，使所述射線擋塊設(shè)置在殼體內(nèi)分光晶體周圍，通過(guò)射線擋塊吸收或阻擋從入射狹縫組件進(jìn)入的能照射到殼體內(nèi)壁上的部分X射線，及吸收或阻擋通過(guò)分光晶體反射后能照射到殼體內(nèi)壁上的部分X射線。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的提高分光器性能的方法，其特征在于，所述射線擋塊設(shè)置多 個(gè)，多個(gè)射線擋塊分布設(shè)置在殼體內(nèi)的分光晶體周圍的各個(gè)光路上。
3.一種分光器，包括殼體、入射狹縫組件、分光晶體和出射狹縫組件；其中，所述入射 狹縫組件和出射狹縫組件均設(shè)置在殼體上，所述分光晶體設(shè)置在殼體內(nèi)作為入射狹縫組件 與出射狹縫組件之間的反射體；其特征在于，還包括射線擋塊，設(shè)置在殼體內(nèi)的分光晶體周圍，使射線擋塊吸收或阻擋從入射狹縫組件進(jìn) 入的能照射到殼體內(nèi)壁上的部分X射線，及吸收或阻擋通過(guò)分光晶體反射后能照射到殼體 內(nèi)壁上的部分X射線。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的分光器，其特征在于，所述射線擋塊為多個(gè)，分布設(shè)置在殼體 內(nèi)的分光晶體周圍的各個(gè)光路上。
5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的分光器，其特征在于，所述射線擋塊為五個(gè)。
6.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的分光器，其特征在于，所述射線擋塊采用能吸收或阻擋X 射線的材質(zhì)制成。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的分光器，其特征在于，所述制成射線擋塊所用的材質(zhì)包括不銹鋼、銅、鐵、鉛中的任一種或任意幾種。
8.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的分光器，其特征在于，所述射線擋塊的形狀為規(guī)則形狀或 不規(guī)則形狀。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的分光器，其特征在于，所述射線擋塊的形狀為圓形、方形、橢 圓形或多邊形中的任一種形狀。
10.一種X射線測(cè)量分析設(shè)備，由X光管、高壓電源、探測(cè)器和分光器組成，其特征在于， 所述分光器采用上述權(quán)利要求3 9任一項(xiàng)所述的分光器。
全文摘要
本發(fā)明提供一種提高分光器性能的方法及分光器、X射線測(cè)量分析設(shè)備，屬光學(xué)測(cè)量技術(shù)領(lǐng)域。該方法適用的分光器包括殼體、入射狹縫組件、分光晶體和出射狹縫組件；其中，所述入射狹縫組件和出射狹縫組件均設(shè)置在殼體上，所述分光晶體設(shè)置在殼體內(nèi)作為入射狹縫組件與出射狹縫組件之間的反射體；該方法包括在分光器殼體內(nèi)設(shè)置射線擋塊，使所述射線擋塊設(shè)置在殼體內(nèi)分光晶體周圍，通過(guò)射線擋塊吸收或阻擋從入射狹縫組件進(jìn)入的能照射到殼體內(nèi)壁上的部分X射線，及吸收或阻擋通過(guò)分光晶體反射后能照射到殼體內(nèi)壁上的部分X射線。采用該方法后，可以對(duì)射線在分光器內(nèi)的傳播路徑進(jìn)行校正，避免漫反射的X射線的影響，顯著提高分光器的性能。
文檔編號(hào)G01N23/20GK101806757SQ20101012650
公開(kāi)日2010年8月18日 申請(qǐng)日期2010年3月16日 優(yōu)先權(quán)日2010年3月16日
發(fā)明者卞寧, 周俊武, 徐寧, 徐曉東, 李 杰, 繆天宇, 趙建軍 申請(qǐng)人:北京礦冶研究總院