專利名稱：靜態(tài)法比表面及孔徑分析儀的凈化預(yù)處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及凈化預(yù)處理技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種靜態(tài)法比表面及孔徑分析儀的凈化預(yù)處理裝置。
背景技術(shù)：
目前，在靜態(tài)容量法比表面及孔徑分析儀的測(cè)試過程中，在樣品裝入樣品管之后且測(cè)試之前，需要對(duì)樣品進(jìn)行凈化預(yù)處理，除去樣品表面吸附的水、二氧化碳等氣體雜質(zhì)。目前國(guó)內(nèi)外同類儀器的預(yù)處理方式有兩種真空脫氣和流動(dòng)脫氣。真空脫氣是通過真空脫氣設(shè)備對(duì)樣品管內(nèi)進(jìn)行加熱抽真空，使吸附在樣品表面的氣體雜質(zhì)擴(kuò)散出來而被抽走，該方式的優(yōu)點(diǎn)是對(duì)于微孔中的雜質(zhì)氣體，在高真空下較容易擴(kuò)散出來，處理效果比較好；缺點(diǎn)是對(duì)表面水分含量較大的材料，處理需要較長(zhǎng)的時(shí)間。流動(dòng)脫氣是通過流動(dòng)脫氣設(shè)備給樣品管內(nèi)連續(xù)通入流動(dòng)的高純氣體并可伴隨加熱，使樣品表面吸附的氣體雜質(zhì)被流動(dòng)的高純氣體置換并帶走，該方式的優(yōu)點(diǎn)是對(duì)于表面水分含量較大的材料，處理效率高，缺點(diǎn)是對(duì)于微孔中的的氣體雜質(zhì)，難以處理的很徹底。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是提供一種靜態(tài)法比表面及孔徑分析儀的凈化預(yù)處理裝置，結(jié)合了真空脫氣和流動(dòng)脫氣設(shè)備的兩種功能，兩種方式通過互補(bǔ)，提高了水和氣體雜質(zhì)的處
理效率。本實(shí)用新型的目的是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的—種靜態(tài)法比表面及孔徑分析儀的凈化預(yù)處理裝置，所述預(yù)處理裝置包括真空泵、氣瓶、抽氣閥門、進(jìn)氣閥門、真空表、樣品管和加熱包，其中所述真空泵和抽氣閥門相連，所述氣瓶和進(jìn)氣閥門相連；所述抽氣閥門和進(jìn)氣閥門并聯(lián)連接到所述樣品管，且所述樣品管上還連接有真空表，所述樣品管放置在加熱包中。所述真空泵和抽氣閥門組成真空脫氣設(shè)備，所述氣瓶和進(jìn)氣閥門組成流動(dòng)脫氣設(shè)備。 所述預(yù)處理裝置還包括終端控制設(shè)備，所述終端控制設(shè)備與所述真空脫氣設(shè)備和流動(dòng)脫氣設(shè)備電連接。由上述本實(shí)用新型提供的技術(shù)方案可以看出，所述預(yù)處理裝置包括真空泵、氣瓶、 抽氣閥門、進(jìn)氣閥門、真空表、樣品管和加熱包，其中所述真空泵和抽氣閥門相連，所述氣瓶和進(jìn)氣閥門相連；所述抽氣閥門和進(jìn)氣閥門并聯(lián)連接到所述樣品管，且所述樣品管上還連接有真空表，所述樣品管放置在加熱包中。該裝置結(jié)合了真空脫氣和流動(dòng)脫氣設(shè)備的兩種功能，兩種方式通過互補(bǔ)，提高了水和氣體雜質(zhì)的處理效率。

[0014]為了更清楚地說明本實(shí)用新型實(shí)施例的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他附圖。圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的靜態(tài)法比表面及孔徑分析儀的凈化預(yù)處理裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。下面將結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例作進(jìn)一步地詳細(xì)描述，如圖1所示為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的靜態(tài)法比表面及孔徑分析儀的凈化預(yù)處理裝置的結(jié)構(gòu)示意圖，所述裝置包括真空泵1、氣瓶2、抽氣閥門3、進(jìn)氣閥門4、真空表5、樣品管6和加熱包7，其中所述真空泵1和抽氣閥門3相連，所述氣瓶2和進(jìn)氣閥門4相連，所述抽氣閥門3 和進(jìn)氣閥門4并聯(lián)連接到所述樣品管6，且所述樣品管6上還連接有真空表5，所述樣品管 6放置在加熱包7中。上述真空泵1和抽氣閥門3組成真空脫氣設(shè)備，氣瓶2和進(jìn)氣閥門4組成流動(dòng)脫氣設(shè)備，通過該真空脫氣設(shè)備和流動(dòng)脫氣設(shè)備的交替運(yùn)行對(duì)樣品管6內(nèi)的樣品8進(jìn)行凈化預(yù)處理裝置。另外，所述預(yù)處理裝置還包括終端控制設(shè)備，所述終端控制設(shè)備與所述真空脫氣設(shè)備和流動(dòng)脫氣設(shè)備電連接。在具體實(shí)現(xiàn)過程中，上述凈化預(yù)處理裝置的工作過程為首先通過真空脫氣設(shè)備對(duì)樣品管6進(jìn)行加熱抽真空，抽至高真空度并繼續(xù)抽一定時(shí)間，使吸附在樣品8表面及微孔中的氣體雜質(zhì)被抽走及向外擴(kuò)散；然后通過流動(dòng)脫氣設(shè)備向樣品管6內(nèi)沖入高純氣體， 使高純氣體對(duì)樣品表面吸附的氣體雜質(zhì)進(jìn)行置換并稀釋雜質(zhì)氣體，然后再重復(fù)前一步抽真空，以此往復(fù)；上述處理過程可以由終端控制設(shè)備通過軟件程序進(jìn)行全自動(dòng)控制。綜上所述，本實(shí)用新型實(shí)施例結(jié)合了真空脫氣和流動(dòng)脫氣設(shè)備的兩種功能，兩種方式通過互補(bǔ)，提高了水和氣體雜質(zhì)的處理效率。以上所述，僅為本實(shí)用新型較佳的具體實(shí)施方式
，但本實(shí)用新型的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本實(shí)用新型披露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到的變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本實(shí)用新型的保護(hù)范圍應(yīng)該以權(quán)利要求書的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。
權(quán)利要求1.一種靜態(tài)法比表面及孔徑分析儀的凈化預(yù)處理裝置，其特征在于，所述預(yù)處理裝置包括真空泵、氣瓶、抽氣閥門、進(jìn)氣閥門、真空表、樣品管和加熱包，其中所述真空泵和抽氣閥門相連，所述氣瓶和進(jìn)氣閥門相連；所述抽氣閥門和進(jìn)氣閥門并聯(lián)連接到所述樣品管，且所述樣品管上還連接有真空表， 所述樣品管放置在加熱包中。
2.如權(quán)利要求1所述的靜態(tài)法比表面及孔徑分析儀的凈化預(yù)處理裝置，其特征在于， 所述真空泵和抽氣閥門組成真空脫氣設(shè)備，所述氣瓶和進(jìn)氣閥門組成流動(dòng)脫氣設(shè)備。
3.如權(quán)利要求2所述的靜態(tài)法比表面及孔徑分析儀的凈化預(yù)處理裝置，其特征在于， 所述預(yù)處理裝置還包括終端控制設(shè)備，所述終端控制設(shè)備與所述真空脫氣設(shè)備和流動(dòng)脫氣設(shè)備電連接。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種靜態(tài)法比表面及孔徑分析儀的凈化預(yù)處理裝置。所述預(yù)處理裝置包括真空泵、氣瓶、抽氣閥門、進(jìn)氣閥門、真空表、樣品管和加熱包，其中所述真空泵和抽氣閥門相連，所述氣瓶和進(jìn)氣閥門相連；所述抽氣閥門和進(jìn)氣閥門并聯(lián)連接到所述樣品管，且所述樣品管上還連接有真空表，所述樣品管放置在加熱包中。該裝置結(jié)合了真空脫氣和流動(dòng)脫氣設(shè)備的兩種功能，兩種方式通過互補(bǔ)，提高了水和氣體雜質(zhì)的處理效率。
文檔編號(hào)G01N15/08GK202049080SQ20112013694
公開日2011年11月23日 申請(qǐng)日期2011年5月3日 優(yōu)先權(quán)日2011年5月3日
發(fā)明者柳劍峰 申請(qǐng)人:貝士德儀器科技(北京)有限公司