分光傳感器的制造方法
【專利摘要】分光傳感器(1A)包括干涉濾光部(20A)、光檢測(cè)基板(30A)和隔板(15)。干涉濾光部(20A)具有腔層(21)以及隔著腔層(21)相對(duì)的第1和第2鏡層(22、23)，根據(jù)入射位置選擇性地使規(guī)定的波長(zhǎng)范圍的光從第1鏡層(22)側(cè)透過(guò)至第2鏡層(23)側(cè)。光檢測(cè)基板(30A)具有透過(guò)了干涉濾光部(20A)的光進(jìn)行入射的受光面(32a)，對(duì)入射到受光面(32a)的光進(jìn)行檢測(cè)。隔板(15)從腔層(21)到達(dá)第1和第2鏡層(22、23)的至少一方，在從與受光面(32a)交叉的規(guī)定的方向觀察的情況下將干涉濾光部(20A)光學(xué)性地分離。
【專利說(shuō)明】分光傳感器

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種分光傳感器。

【背景技術(shù)】
[0002]作為現(xiàn)有的分光傳感器，已知有具有根據(jù)入射位置使規(guī)定的波長(zhǎng)范圍的光選擇性地透過(guò)的光學(xué)濾光部和對(duì)透過(guò)了光學(xué)濾光部的光進(jìn)行檢測(cè)的光檢測(cè)基板的分光傳感器。例如，在專利文獻(xiàn)I所記載的分光傳感器中，在光學(xué)濾光部和光檢測(cè)基板之間、或者相對(duì)于光學(xué)濾光部的光的入射側(cè)配置FOP (Fiber Optic Plate (光纖板))。另外,在專利文獻(xiàn)2所記載的分光傳感器中，在光學(xué)濾光部和光檢測(cè)基板之間設(shè)置有限制光的入射角的角度限制濾光器。
[0003]現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0004]專利文獻(xiàn)
[0005]專利文獻(xiàn)1:日本特開(kāi)平6-129908號(hào)公報(bào)
[0006]專利文獻(xiàn)2:日本特開(kāi)2011-203247號(hào)公報(bào)


【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題
[0008]在專利文獻(xiàn)I所記載的分光傳感器中，在光學(xué)濾光部和光檢測(cè)基板之間配置有FOP的分光傳感器或?qū)＠墨I(xiàn)2所記載的分光傳感器中，能夠謀求光學(xué)濾光部和光檢測(cè)基板之間的區(qū)域中的光的串?dāng)_的抑制。另外，在專利文獻(xiàn)I所記載的分光傳感器中，在相對(duì)于光學(xué)濾光部的光的入射側(cè)配置有FOP的分光傳感器中，通過(guò)限制入射到光學(xué)濾光部的光的入射角，從而能夠謀求光學(xué)濾光部中的光的串?dāng)_的抑制。但是，對(duì)于這些分光傳感器而言，光學(xué)濾光部中的光的串?dāng)_的抑制不充分，其結(jié)果，存在在光檢測(cè)基板的受光面的規(guī)定的位置上所檢測(cè)的光的波長(zhǎng)范圍變寬或雜散光成分變多等、濾光特性劣化的問(wèn)題。
[0009]因此，本發(fā)明的目的在于提供一種能夠謀求濾光特性的提高的分光傳感器。
[0010]解決問(wèn)題的技術(shù)手段
[0011]本發(fā)明的分光傳感器包括:干涉濾光部，其具有腔層以及隔著腔層相對(duì)的第I和第2鏡層，根據(jù)入射位置選擇性地使規(guī)定的波長(zhǎng)范圍的光從第I鏡層側(cè)透過(guò)至第2鏡層側(cè)；光檢測(cè)基板，其具有透過(guò)了干涉濾光部的光進(jìn)行入射的受光面，對(duì)入射到受光面的光進(jìn)行檢測(cè)；以及隔板，其從腔層到達(dá)第I和第2鏡層的至少一方，在從與受光面交叉的規(guī)定的方向觀察的情況下，將干涉濾光部光學(xué)性地分離。
[0012]在該分光傳感器中，在從與受光面交叉的規(guī)定的方向觀察的情況下，干涉濾光部被隔板光學(xué)性地分離，該隔板從腔層到達(dá)第I和第2鏡層的至少一方。由此，例如，即使不與隔板分開(kāi)地采用用于限制入射到干涉濾光部的光的入射角的結(jié)構(gòu)，在腔層中，也抑制了光向與受光面平行的方向的傳播，所以能夠充分地謀求干涉濾光部中的光的串?dāng)_的抑制。而且，通過(guò)隔板限制了入射到光檢測(cè)基板的受光面的光的入射角，所以，能夠使光精度良好地入射到與干涉濾光部的入射位置對(duì)應(yīng)的受光面的規(guī)定的位置。因此，根據(jù)該分光傳感器，能夠謀求濾光特性的提高。
[0013]在此，隔板也可以從腔層至少到達(dá)第2鏡層。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，能夠抑制第2鏡層和光檢測(cè)基板的受光面之間的光的多重反射和干渉所引起的雜散光的產(chǎn)生，能夠謀求濾光特性的進(jìn)一步的提聞。
[0014]再有，隔板也可以從腔層到達(dá)第I和第2鏡層的雙方。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，能夠抑制第2鏡層和光檢測(cè)基板的受光面之間的光的多重反射和干渉所引起的雜散光的產(chǎn)生，除此之外，由于腔層通過(guò)隔板而被可靠地分離，所以，能夠更加充分地謀求干渉濾光部中的光的串?dāng)_的抑制。
[0015]另外，分光傳感器也可以還具備:第I耦合層，其配置在干涉濾光部和光檢測(cè)基板之間，使從干涉濾光部行進(jìn)至光檢測(cè)基板的光透過(guò)，隔板經(jīng)由第2鏡層而到達(dá)第I耦合層。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，能夠抑制第2鏡層和光檢測(cè)基板的受光面之間的光的多重反射和干渉所引起的雜散光的產(chǎn)生，除此之外，入射到光檢測(cè)基板的受光面的光的入射角通過(guò)隔板而被更進(jìn)一步限制，所以，能夠使光更加精度良好地入射到與干涉濾光部的入射位置對(duì)應(yīng)的受光面的規(guī)定的位置。
[0016]另外，分光傳感器也可以還包括使入射到干涉濾光部的光透過(guò)的光透過(guò)基板、以及配置在光透過(guò)基板和干涉濾光部之間并使從光透過(guò)基板行進(jìn)至干涉濾光部的光透過(guò)的第2耦合層，隔板經(jīng)由第I鏡層而到達(dá)第2耦合層。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，通過(guò)隔板限制入射到干涉濾光部的光的入射角，所以能夠更加充分地謀求干涉濾光部中的光的串?dāng)_的抑制。
[0017]此時(shí)，腔層和第2耦合層也可以由相同材料構(gòu)成。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，能夠容易地實(shí)現(xiàn)腔層和第2耦合層的層疊工序。另外，在例如通過(guò)干式蝕刻設(shè)置隔板的情況下，能夠使蝕刻氣體等的條件相同，因此，能夠?qū)崿F(xiàn)形狀精度高的隔板。另外，折射率相同，所以也能夠獲得穩(wěn)定的濾光特性。再有，能夠謀求用于限制光的入射角的隔板的準(zhǔn)直特性的均勻化。此外，所謂相同，是指不僅包括完全相同的情況而且包括在制造誤差等的范圍內(nèi)大致相同的情況。
[0018]另外，第I鏡層和第2鏡層之間的規(guī)定的方向上的距離也可以進(jìn)行變化，隔板的受光面?zhèn)鹊亩瞬亢褪芄饷嬷g的規(guī)定的方向上的距離固定，隔板的與受光面相反側(cè)的端部和受光面之間的規(guī)定的方向上的距離固定。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，能夠謀求用于限制光的入射角的隔板的準(zhǔn)直特性的均勻化。此外，所謂固定，是指不僅包括完全固定的情況而且包括在制造誤差等的范圍內(nèi)大致固定的情況。
[0019]另外，在從規(guī)定的方向觀察的情況下，隔板也可以以橫穿過(guò)受光面的方式延伸。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，能夠在受光面的整個(gè)區(qū)域中檢測(cè)被適當(dāng)?shù)胤止饬说墓?即，波長(zhǎng)范圍狹窄且雜散光成分少的光)。
[0020]另外，分光傳感器也可以還具備:反射防止膜，其配置在干涉濾光部和光檢測(cè)基板之間，防止入射到受光面的光的反射。或者，在光檢測(cè)基板的干涉濾光部側(cè)的表面上也可以實(shí)施防止入射到受光面的光的反射的反射防止處理。根據(jù)這些結(jié)構(gòu)，能夠抑制第2鏡層和光檢測(cè)基板的受光面之間的光的多重反射和干渉所引起的雜散光的產(chǎn)生，能夠謀求濾光特性的進(jìn)一步的提聞。
[0021]另外，規(guī)定的方向也可以為與受光面垂直的方向。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，能夠使分光傳感器的構(gòu)造簡(jiǎn)化。
[0022]發(fā)明的效果
[0023]根據(jù)本發(fā)明，能夠提供一種能夠謀求濾光特性的提高的分光傳感器。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0024]圖1是本發(fā)明的第I實(shí)施方式的分光傳感器的縱截面圖。
[0025]圖2是沿圖1的II 一 II線的部分截面圖。
[0026]圖3是圖1的分光傳感器的墊片部的周邊部分的放大縱截面圖。
[0027]圖4是圖1的分光傳感器的干涉濾光部的中央部分的放大縱截面圖。
[0028]圖5是表示圖1的分光傳感器中的受光部的像素和隔板的關(guān)系的圖。
[0029]圖6是用于說(shuō)明圖1的分光傳感器的制造方法的縱截面圖。
[0030]圖7是用于說(shuō)明圖1的分光傳感器的制造方法的縱截面圖。
[0031]圖8是用于說(shuō)明圖1的分光傳感器的制造方法的縱截面圖。
[0032]圖9是用于說(shuō)明圖1的分光傳感器的制造方法的縱截面圖。
[0033]圖10是用于說(shuō)明圖1的分光傳感器的制造方法的縱截面圖。
[0034]圖11是用于說(shuō)明圖1的分光傳感器的制造方法的縱截面圖。
[0035]圖12是圖1的分光傳感器的變形例的縱截面圖。
[0036]圖13是圖1的分光傳感器的變形例的縱截面圖。
[0037]圖14是本發(fā)明的第2實(shí)施方式的分光傳感器的縱截面圖。
[0038]圖15是圖14的分光傳感器的變形例的縱截面圖。
[0039]圖16是表示對(duì)分光傳感器照射820nm、860nm、900nm、940nm、980nm的亮線時(shí)的光的波長(zhǎng)和從分光傳感器輸出的信號(hào)強(qiáng)度的關(guān)系的圖表。

【具體實(shí)施方式】
[0040]以下，參照附圖，對(duì)本發(fā)明的優(yōu)選的實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)的說(shuō)明。還有，在各圖中，對(duì)相同或相當(dāng)部分標(biāo)注相同符號(hào)，省略重復(fù)的說(shuō)明。
[0041][第I實(shí)施方式]
[0042]如圖1所示，第I實(shí)施方式的分光傳感器IA包括干涉濾光部20A、光檢測(cè)基板30A和收納干涉濾光部20A以及光檢測(cè)基板30A的封裝體(package) 2。封裝體2由樹(shù)脂等形成為長(zhǎng)方體箱狀，在高度方向上的一側(cè)(相對(duì)于干涉濾光部20A以及光檢測(cè)基板30A的光的入射側(cè))開(kāi)口。此外，在以下的說(shuō)明中，將封裝體2的長(zhǎng)度方向設(shè)為X軸方向，將封裝體2的寬度方向設(shè)為Y軸方向，將封裝體2的高度方向設(shè)為Z軸方向。
[0043]光檢測(cè)基板30A在封裝體2內(nèi)被固定在底壁2a上。干涉濾光部20A經(jīng)由第I耦合層3而被接合于光檢測(cè)基板30A上。第I耦合層3在干涉濾光部20A和光檢測(cè)基板30A之間，使從干涉濾光部20A向光檢測(cè)基板30A行進(jìn)的光透過(guò)。在干涉濾光部20A上形成有保護(hù)膜5。作為一個(gè)例子，第I耦合層3為通過(guò)作為原料氣體使用了 TEOS(TetraethylOrthosilicate (原娃酸四乙酯)，Tetraethoxysilane (正娃酸乙脂))的成膜處理形成的硅氧化膜，其厚度為數(shù)十nm?數(shù)十μπι左右。另外，保護(hù)膜5由S12等構(gòu)成，其厚度為數(shù)十nm?數(shù)十μ m左右。
[0044]光檢測(cè)基板30A為具有以X軸方向?yàn)殚L(zhǎng)邊方向且以Z軸方向?yàn)楹穸确较虻木匦伟鍫畹陌雽?dǎo)體基板31的半導(dǎo)體受光元件。在半導(dǎo)體基板31中在包含一側(cè)的表面31a的部分形成有受光部32。受光部32為在Y軸方向上延伸的線狀的光電二極管沿X軸方向一維排列而成的光電二極管陣列。受光部32具有透過(guò)了干涉濾光部20A的光進(jìn)行入射的受光面32a，光檢測(cè)基板30A被構(gòu)成為對(duì)入射到受光面32a的光進(jìn)行檢測(cè)。作為一個(gè)例子，半導(dǎo)體基板31的厚度為數(shù)十μ m?數(shù)百μπι左右。另外，受光部32的X軸方向的長(zhǎng)度為百μπι?數(shù)十mm左右,受光部32的Y軸方向的寬度為數(shù)μπι?數(shù)十mm左右。此外,光檢測(cè)基板30A也可以為其它的半導(dǎo)體受光元件(C-MOS圖像傳感器、CCD圖像傳感器、紅外線圖像傳感器坐^
寸/ ο
[0045]在半導(dǎo)體基板31的表面3Ia形成有用于對(duì)受光部32輸入輸出電信號(hào)的配線33的墊片(pad)部33a。再有，在半導(dǎo)體基板31的表面31a以覆蓋受光部32和配線33的方式形成有反射防止膜34，在反射防止膜34上形成有干涉濾光部20A側(cè)的表面通過(guò)CMP (ChemicalMechanical Polishing(化學(xué)機(jī)械拋光))而被平坦化了的平坦化層35。反射防止膜34在干渉濾光部20A和光檢測(cè)基板30A之間防止入射到受光面32a的光的反射。作為一個(gè)例子，反射防止膜34為由Al203、Ti02、Ta205、Si02、SiN、MgF2等構(gòu)成的單層膜或者層疊膜，其厚度為數(shù)十nm?數(shù)十μπι左右。另外，平坦化層35由S12等構(gòu)成，其厚度為數(shù)十nm?數(shù)十U m左右ο
[0046]干涉濾光部20A具有腔(cavity)層21以及隔著腔層21相對(duì)的第I以及第2鏡層22、23。干涉濾光部20A是根據(jù)入射位置選擇性地使規(guī)定的波長(zhǎng)范圍的光從第I鏡層22側(cè)透過(guò)至第2鏡層23側(cè)的LVF(Linear Variable Filter (線性可變?yōu)V光器))。作為一個(gè)例子，腔層21為通過(guò)硅的熱氧化處理而形成的硅氧化膜(S12膜)，其厚度為數(shù)十nm?數(shù)十 μπι 左右。另外，各鏡層 22,23 為由 S1、Ge、SiN、Si02、Ti02、Ta205、Nb2O5'Al2O3'MgF2 等的電介質(zhì)多層膜構(gòu)成的DBR(Distributed Bragg Reflector (分布布拉格反射))層,其厚度為數(shù)十nm?數(shù)十μ m左右。
[0047]如圖1和圖2所示，干涉濾光部20A包括第I濾光區(qū)域24以及第2濾光區(qū)域25。第I濾光區(qū)域24在從Z軸方向(與受光面32a垂直的方向)觀察的情況下，與光檢測(cè)基板30的受光面32a對(duì)應(yīng)。S卩，第I濾光區(qū)域24和受光面32a形成為在從Z軸方向觀察的情況下它們的一方包含另一方(包括X軸方向的長(zhǎng)度和Y軸方向的寬度的至少一方相互相等的情況)。在從Z軸方向觀察的情況下，第2濾光區(qū)域25以環(huán)狀(在此，矩形環(huán)狀)包圍第I濾光區(qū)域24。
[0048]如圖1所示，第I濾光區(qū)域24中的腔層21的表面21a與XY平面平行。另一方面，第I濾光區(qū)域24中的腔層21的背面21b以X軸方向上的背面21b的一端21c與X軸方向上的背面21b的另一端21d相比更接近包含受光面32a的平面(例如，半導(dǎo)體基板31的表面31a)的方式相對(duì)于XY平面傾斜。作為一個(gè)例子，第I濾光區(qū)域24中的腔層21的厚度朝向X軸方向上的一側(cè)在數(shù)十nm?數(shù)μπι左右的范圍內(nèi)逐漸增加。
[0049]第2濾光區(qū)域25中的腔層21的表面21a和背面21b與XY平面平行。從包含受光面32a的平面至第2濾光區(qū)域25中的腔層21的表面21a為止的Z軸方向上的距離(以下，在單單稱為“距離”的情況下是指“Z軸方向上的距離”)，與從包含受光面32a的平面至第I濾光區(qū)域24中的腔層21的表面21a為止的距離相等。另一方面，從包含受光面32a的平面至第2濾光區(qū)域25中的腔層21的背面21b為止的距離，與從包含受光面32a的平面至第I濾光區(qū)域24中的腔層21的背面21b的另一端21d為止的距離相等。
[0050]如以上所述，腔層21遍及第I濾光區(qū)域24和第2濾光區(qū)域25，連續(xù)地形成。再有，第I濾光區(qū)域24和第2濾光區(qū)域25中的腔層21的表面21a成為同一面。另一方面，在第I濾光區(qū)域24中的腔層21的背面21b與第2濾光區(qū)域25中的腔層21的背面21b之間形成有具有在一端21c成為最大且在另一端21d成為最小(在此為O)的高度的臺(tái)階差。此外，在另一端21d的腔層21的厚度為500nm左右。
[0051]另外，第I鏡層22遍及第I濾光區(qū)域24和第2濾光區(qū)域25連續(xù)地形成在腔層21的表面21a。另一方面，第2鏡層23遍及第I濾光區(qū)域24和第2濾光區(qū)域25連續(xù)地形成在腔層21的背面21b和臺(tái)階差的縱面(立起面)。再有，在第I濾光區(qū)域24中，第I鏡層22和第2鏡層23之間的距離進(jìn)行變化。另外，在第2濾光區(qū)域25中，第I鏡層22和第2鏡層23之間的距離固定。
[0052]如圖1和圖2所示，光檢測(cè)基板30A所具有的配線33的墊片部33a以從Z軸方向觀察時(shí)包含于第2濾光區(qū)域25的方式在半導(dǎo)體基板31的表面31a上被形成多個(gè)。更具體來(lái)說(shuō)，墊片部33a在X軸方向上的表面31a的兩端區(qū)域的各個(gè)沿Y軸方向被并列設(shè)置有多個(gè)。如圖1和圖3所示,在第2濾光區(qū)域25，針對(duì)各墊片部33a形成有多個(gè)用于使墊片部33a露出至外部的貫通孔6。各貫通孔6沿Z軸方向貫通反射防止膜34、平坦化層35、第I耦合層3、第2濾光區(qū)域25 (即，腔層21以及第I和第2鏡層22、23)、以及保護(hù)膜5，使墊片部33a的一部分(也可以為全部)露出至外部。此外，在圖1和圖3中，縱橫比不同，但這是為了在圖1中強(qiáng)調(diào)各層的厚度，與圖1相比圖3更接近實(shí)際的縱橫比。此外，在圖1?圖3的結(jié)構(gòu)中，反射防止膜34的開(kāi)口邊緣與其它的層(平坦化層35、第I耦合層3、第2濾光區(qū)域25以及保護(hù)膜5)的開(kāi)口邊緣相比更位于外側(cè)，但在從Z軸方向觀察的情況下，反射防止膜34的開(kāi)口邊緣也可以處于與其它的層的開(kāi)口邊緣相同的位置。
[0053]在各墊片部33a，經(jīng)由貫通孔6而連接有電線(wire) 7。作為一個(gè)例子，電線7由Au構(gòu)成,其一端的珠(ball)部7a —邊被賦予超聲波振動(dòng)一邊被熱壓接到墊片部33a的表面。為了防止由于珠部7a的接觸而對(duì)第2濾光區(qū)域25等造成損傷，在貫通孔6的內(nèi)面和珠部7a之間設(shè)置有間隙。電線7的另一端經(jīng)由封裝體2的底壁2a而與設(shè)置在底壁2a的外面的安裝用的墊片部8連接。
[0054]如圖1和圖4所示，在干涉濾光部20A，在Y軸方向上延伸的隔板15沿著X軸方向一維地排列。隔板15具有光吸收性、光反射性或者遮光性，在從Z軸方向觀察的情況下，將干涉濾光部20A的第I濾光區(qū)域24光學(xué)性地分離。作為一個(gè)例子，隔板15由W、Al、Cu、S1、光吸收性樹(shù)脂等構(gòu)成。另外，各隔板15的X軸方向上的寬度為數(shù)μπι?數(shù)十μπι左右，各隔板15的Z軸方向上的高度為Iym?數(shù)百μ m左右，各隔板15的截面(與ZX平面平行的截面)的縱橫(aspect)比為I?數(shù)百左右。
[0055]在從Z軸方向觀察的情況下，各隔板15以橫穿過(guò)光檢測(cè)基板30A的受光面32a的方式延伸。如果如上所述以橫穿過(guò)受光面32a的方式延伸，則各隔板15可以到達(dá)分光傳感器IA的側(cè)面，也可以不到達(dá)分光傳感器IA的側(cè)面。各隔板15從腔層21經(jīng)由第I鏡層22而到達(dá)保護(hù)膜5的表面5a。另一方面，各隔板15從腔層21經(jīng)由第2鏡層23和第I耦合層3而到達(dá)平坦化層35的中途。再有，各隔板15的與受光面32a相反側(cè)的端部15a和受光面32a之間的距離固定。同樣，各隔板15的受光面32a側(cè)的端部15b和受光面32a之間的距離固定。此外，各隔板15的端部15b也可以位于反射防止膜34的背面34b和受光面32a的界面。
[0056]在如以上所述構(gòu)成的分光傳感器IA中，如果光經(jīng)由封裝體2的開(kāi)口而入射到封裝體2內(nèi)，則該光透過(guò)保護(hù)膜5并入射到干涉濾光部20A的第I濾光區(qū)域24，根據(jù)入射位置使規(guī)定的波長(zhǎng)范圍的光選擇性地透過(guò)。然后，透過(guò)了第I濾光區(qū)域24的光透過(guò)第I耦合層3、平坦化層35和反射防止膜34，入射到光檢測(cè)基板30A的受光面32a。此時(shí)，入射到光檢測(cè)基板30A的受光部32的各通道的光的波長(zhǎng)，根據(jù)入射位置上的腔層21的厚度以及第I和第2鏡層22、23的材料和厚度，被唯一決定。由此，光檢測(cè)基板30A中，在受光部32的每個(gè)通道檢測(cè)不同的波長(zhǎng)的光。
[0057]如以上說(shuō)明的那樣，在分光傳感器IA中，在從Z軸方向觀察的情況下，干涉濾光部20A的第I濾光區(qū)域24由隔板15而被光學(xué)性地分離，隔板15從腔層21到達(dá)第I和第2鏡層22、23的雙方。由此，例如，即使不與隔板15分開(kāi)地采用用于限制入射到干涉濾光部20A的光的入射角的結(jié)構(gòu)，也能夠抑制在腔層21中光向X軸方向的傳播，所以，能夠充分地謀求干渉濾光部20A中的光的串?dāng)_的抑制。再有，隔板15到達(dá)第2鏡層23，所以，能夠抑制第2鏡層23和光檢測(cè)基板30A的受光面32a之間的光的多重反射和干渉所引起的雜散光的產(chǎn)生。而且，通過(guò)隔板15限制入射到光檢測(cè)基板30A的受光面32a的光的入射角，所以，能夠使光精度良好地入射到與干涉濾光部20A的入射位置對(duì)應(yīng)的受光面32a的規(guī)定的位置。因此，根據(jù)分光傳感器1A，能夠謀求濾光特性的提高。另外，通過(guò)限制入射角，入射到干涉濾光部20A的光接近準(zhǔn)直光，因此,能夠使干涉濾光部20A的透過(guò)特性進(jìn)一步敏銳(sharp)。
[0058]另外，在分光傳感器IA中，例如，在與隔板15分開(kāi)地采用用于限制入射到干涉濾光部20A的光的入射角的結(jié)構(gòu)的情況下，能夠抑制在腔層21中光向X軸方向的傳播。所以，不需要與隔板15分開(kāi)地采用用于限制入射到干涉濾光部20A的光的入射角的結(jié)構(gòu)，能夠謀求分光傳感器IA的薄型化和低成本化。
[0059]另外，隔板15經(jīng)由第2鏡層23而到達(dá)第I耦合層3 (在分光傳感器IA中，到達(dá)光檢測(cè)基板30A的受光面32a上)。由此，能夠抑制第2鏡層23和受光面32a之間的光的多重反射和干渉所引起的雜散光的產(chǎn)生，除此之外，通過(guò)隔板15更進(jìn)一步限制入射到受光面32a的光的入射角，所以，能夠使光更加精度良好地入射到與干涉濾光部20A的入射位置對(duì)應(yīng)的受光面32a的規(guī)定的位置。
[0060]另外，第I鏡層22和第2鏡層23之間的距離進(jìn)行變化，相對(duì)于此，隔板15的端部15a和光檢測(cè)基板30A的受光面32a之間的距離、以及隔板15的端部15b和光檢測(cè)基板30A的受光面32a之間的距離分別固定。由此，能夠謀求用于限制光的入射角的隔板15的準(zhǔn)直特性的均勻化。
[0061]另外，在從Z軸方向觀察的情況下，隔板15以橫穿過(guò)光檢測(cè)基板30A的受光面32a的方式延伸。由此，能夠在受光面32a的整個(gè)區(qū)域中檢測(cè)被適當(dāng)?shù)胤止饬说墓?即，波長(zhǎng)范圍狹窄且雜散光成分少的光)。
[0062]另外，在干涉濾光部20A和光檢測(cè)基板30A之間，配置有防止入射到光檢測(cè)基板30A的受光面32a的光的反射的反射防止膜34。該結(jié)構(gòu)也有助于第2鏡層23和受光面32a之間的光的多重反射和干渉所弓I起的雜散光的產(chǎn)生的抑制、以及濾光特性的提高。
[0063]在此，對(duì)由隔板15得到的光的入射角的限制進(jìn)行說(shuō)明。如圖4所示，將相鄰的隔板15、15間的距離設(shè)為d，將隔板15的高度設(shè)為h時(shí)，能夠通過(guò)相鄰的隔板15、15間的光的入射角Θ (在ZX平面內(nèi)的入射角)的最大值由下述式(I)表示。由此，能夠根據(jù)能夠容許的入射角Θ的最大值，設(shè)定隔板15的縱橫比等。
[0064]Θ = 90。-tan-1 (h/d) = tarf1 (d/h) *..(1)
[0065]此外，隔板15，可以如圖5的(a)所示形成為在光檢測(cè)基板30A的受光部32中與相鄰的像素37、37間的區(qū)域?qū)?yīng)，也可以如圖5的(b)所示形成為在除了該區(qū)域之外，至少一個(gè)與各像素37對(duì)應(yīng)。在圖5的(a)的情況下，能夠抑制受光部32中的受光靈敏度降低。另一方面，在圖5的(b)的情況下，相鄰的隔板15、15間的距離變小，所以即使減小隔板15的高度，也能夠抑制能夠通過(guò)相鄰的隔板15、15間的光的入射角的最大值變大(參照上述式⑴)。
[0066]接著，對(duì)上述的分光傳感器IA的制造方法進(jìn)行說(shuō)明。此外，以下的各工序，可以使用形成有多個(gè)與分光傳感器IA對(duì)應(yīng)的部件的晶片進(jìn)行實(shí)施，在該情況下，最后，按分光傳感器IA對(duì)晶片進(jìn)行切割，并單片化成接合有干涉濾光部20A的光檢測(cè)基板30A。
[0067]首先，如圖6的(a)所不,對(duì)娃基板50的一個(gè)主面50a和另一個(gè)主面50b實(shí)施熱氧化處理，在由硅構(gòu)成的處理基板51的一個(gè)主面51a和另一個(gè)主面51b形成硅氧化膜52，將在處理基板51的一個(gè)主面51a或另一個(gè)主面51b形成的硅氧化膜52作為表面層53。在此，將在處理基板51的一個(gè)主面51a形成的硅氧化膜52作為表面層53。
[0068]接著，如圖6的(b)所示，在表面層53上涂布抗蝕劑層54，如圖7的(a)所示，為了通過(guò)蝕刻形成腔層21而對(duì)抗蝕劑層54進(jìn)行圖案化。接著，如圖7的(b)所示，以抗蝕劑層54為掩膜，通過(guò)對(duì)設(shè)置在處理基板51上的表面層53進(jìn)行蝕刻(回蝕)，從而形成腔層21。
[0069]接著，如圖8的(a)所示，在腔層21上形成第2鏡層23。在形成第2鏡層23時(shí)，通過(guò)離子鍍法、蒸鍍法、濺射法等進(jìn)行成膜。另外，根據(jù)需要，利用光刻和剝離、或者蝕刻進(jìn)行圖案化。接著，如圖8的(b)所示，以覆蓋第2鏡層23的方式形成硅氧化膜，通過(guò)CMP使其表面平坦化而形成第I耦合層3。
[0070]接著，如圖9的(a)所示，在光檢測(cè)基板30A的平坦化層35的表面上直接鍵合(表面活性化接合等)第I耦合層3的表面。接著，如圖9的(b)所示，通過(guò)實(shí)施研削、研磨、蝕刻等，將硅氧化膜52和處理基板51除去。
[0071]接著，如圖10的(a)所示，在通過(guò)將處理基板51除去而露出的腔層21上，通過(guò)與第2鏡層23同樣的方法形成第I鏡層22。由此，第I鏡層22和第2鏡層23隔著腔層21而相對(duì)，形成干涉濾光部20A。接著，如圖10的(b)所示，在第I鏡層22上形成保護(hù)膜5。
[0072]接著，如圖11的(a)所示，對(duì)光檢測(cè)基板30A的與墊片部33a對(duì)應(yīng)的部分和應(yīng)形成隔板15的部分實(shí)施蝕刻，從而形成貫通孔6和狹縫16。此時(shí)，保護(hù)膜5的表面也被蝕刻，但通過(guò)假設(shè)這些來(lái)設(shè)定保護(hù)膜5的厚度，從而能夠防止第I鏡層22等由于蝕刻而受到損傷。
[0073]接著，如圖11的(b)所示，將光吸收性、光反射性或者遮光性的材料填充到狹縫16內(nèi)來(lái)形成隔板15，根據(jù)需要通過(guò)CMP對(duì)保護(hù)膜5的表面和隔板15的端部進(jìn)行平坦化。此夕卜，也可以通過(guò)將光吸收性、光反射性或者遮光性的材料涂敷在狹縫16的內(nèi)面來(lái)形成隔板15。
[0074]接著，如圖1所示，將接合有干涉濾光部20A的光檢測(cè)基板30A固定在封裝體2的底壁2a。接著，經(jīng)由貫通孔6將電線7的一端連接于墊片部33a，并且經(jīng)由封裝體2的底壁2a將電線7的另一端連接于墊片部8，獲得分光傳感器1A。
[0075]此外，在第I實(shí)施方式的分光傳感器IA中，如圖12所示，在封裝體2的開(kāi)口也可以安裝光透過(guò)基板11。作為一個(gè)例子，光透過(guò)基板11由玻璃等構(gòu)成，其厚度為數(shù)百μπι?數(shù)mm左右。另外，在光透過(guò)基板11的表面Ila或背面Ilb的至少一方也可以形成光學(xué)濾光層4。作為一個(gè)例子，光學(xué)濾光層4是電介質(zhì)多層膜或有機(jī)彩色濾光器(彩色抗蝕劑)，其厚度為數(shù)十nm?數(shù)十μπι左右。再有,作為光透過(guò)基板11的材料,也可以使用使規(guī)定的波長(zhǎng)范圍的光透過(guò)的有色玻璃或?yàn)V波器玻璃。
[0076]另外，如圖13所示，形成有光學(xué)濾光層4的光透過(guò)基板11也可以通過(guò)光學(xué)樹(shù)脂材料17而被接合于保護(hù)膜5上。再有，在光檢測(cè)基板30Α和干涉濾光部20Α與封裝體2的側(cè)壁的內(nèi)面之間也可以填充有光吸收性的樹(shù)脂材料12。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，能夠更加可靠地防止噪聲光進(jìn)入到第I濾光區(qū)域24內(nèi)。另外，在分光傳感器IA的所有的方式中，也可以不形成保護(hù)膜5。
[0077]此外，封裝體2也可以不具備側(cè)壁，例如也可以為在PC基板等之上安裝光檢測(cè)基板30Α,使用光透過(guò)樹(shù)脂等并通過(guò)壓鑄模密封的SMD (Surface Mount Device (表面安裝裝置))封裝體的方式。
[0078][第2實(shí)施方式]
[0079]如圖14所示，第2實(shí)施方式的分光傳感器1B，主要在構(gòu)成為CSP(Chip SizePackage (芯片尺寸封裝))的方面，與構(gòu)成為SMD的第I實(shí)施方式的分光傳感器IA不同。下面，以與第I實(shí)施方式的分光傳感器IA的不同點(diǎn)為中心，對(duì)第2實(shí)施方式的分光傳感器IB進(jìn)行說(shuō)明。
[0080]在分光傳感器IB中，光檢測(cè)基板30B的受光部32在半導(dǎo)體基板31上被形成在包含表面31A的部分。在半導(dǎo)體基板31,作為用于對(duì)受光部32輸入輸出電信號(hào)的配線33,形成有表面配線33b、貫通配線33c和背面配線33d，在背面配線33d，設(shè)置有表面安裝用的凸塊電極36。
[0081]在分光傳感器IB中，干涉濾光部20B經(jīng)由第I耦合層3而被形成在光檢測(cè)基板30B的反射防止膜34上。干涉濾光部20B具有腔層21以及隔著腔層21相對(duì)的第I和第2鏡層22、23。干涉濾光部20B是根據(jù)入射位置選擇性地使規(guī)定的波長(zhǎng)范圍的光從第I鏡層22側(cè)透過(guò)至第2鏡層23側(cè)的LVF。
[0082]干涉濾光部20B具有第I濾光區(qū)域24和第2濾光區(qū)域25。在從Z軸方向觀察的情況下，第I濾光區(qū)域24與光檢測(cè)基板30B的受光面32a對(duì)應(yīng)。在從Z軸方向觀察的情況下，第2濾光區(qū)域25以環(huán)狀包圍第I濾光區(qū)域24。
[0083]第I濾光區(qū)域24中的腔層21的表面21a以X軸方向上的表面21a的一端21e與X軸方向上的表面21a的另一端21f相比更加從包含受光面32a的平面離開(kāi)的方式相對(duì)于XY平面傾斜。另一方面，第I濾光區(qū)域24中的腔層21的背面21b與XY平面平行。
[0084]第2濾光區(qū)域25中的腔層21的表面21a和背面21b與XY平面平行。從包含受光面32a的平面至第2濾光區(qū)域25中的腔層21的表面21a為止的距離，與從包含受光面32a的平面至第I濾光區(qū)域24中的腔層21的表面21a的另一端21f為止的距離相等。另一方面，從包含受光面32a的平面至第2濾光區(qū)域25中的腔層21的背面21b為止的距離，與從包含受光面32a的平面至第I濾光區(qū)域24中的腔層21的背面21b為止的距離相等。
[0085]如以上所述，腔層21遍及第I濾光區(qū)域24和第2濾光區(qū)域25連續(xù)地形成。再有，在第I濾光區(qū)域24中的腔層21的表面21a與第2濾光區(qū)域25中的腔層21的表面21a之間，形成有具有在一端21e成為最大且在另一端21f成為最小(在此為O)的高度的臺(tái)階差。另一方面，第I濾光區(qū)域24和第2濾光區(qū)域256中的腔層21的背面21b成為同一面。
[0086]另外，第I鏡層22遍及第I濾光區(qū)域24和第2濾光區(qū)域25連續(xù)地形成在腔層21的表面21a和臺(tái)階差的縱面。另一方面，第2鏡層23遍及第I濾光區(qū)域24和第2濾光區(qū)域25連續(xù)地形成在腔層21的背面21b。再有，在第I濾光區(qū)域24中，第I鏡層22和第2鏡層23之間的距離進(jìn)行變化。另外，在第2濾光區(qū)域25中，第I鏡層22和第2鏡層23之間的距離固定。
[0087]在分光傳感器IB中，在背面Ilb形成有光學(xué)濾光層4的光透過(guò)基板11經(jīng)由第2耦合層9而被接合于干涉濾光部20B上。光透過(guò)基板11使入射到干涉濾光部20B的光透過(guò)。第2耦合層9在光透過(guò)基板11和干涉濾光部20B之間，使從光透過(guò)基板11向干涉濾光部20B行進(jìn)的光透過(guò)。第2耦合層9由與腔層21相同的材料構(gòu)成。作為一個(gè)例子，第2耦合層9為通過(guò)作為原料氣體使用了 TEOS的成膜處理形成的硅氧化膜，其厚度為數(shù)十nm?數(shù)十μ m左右。
[0088]在分光傳感器IB中，各隔板15從腔層21經(jīng)由第I鏡層22而到達(dá)第2耦合層9內(nèi)。另一方面，各隔板15從腔層21經(jīng)由第2鏡層23而到達(dá)第I耦合層3的背面(受光面32a側(cè)的表面)(即，反射防止膜34上)。再有，各隔板15的端部15a和受光面32a之間的距離固定。同樣，各隔板15的端部15b和受光面32a之間的距離固定。
[0089]在如以上所述構(gòu)成的分光傳感器IB中，如果光入射到光透過(guò)基板11，則在透過(guò)了光透過(guò)基板11的光中僅應(yīng)入射到干涉濾光部20B的第I濾光區(qū)域24的規(guī)定的波長(zhǎng)范圍的光被光學(xué)濾光層4透過(guò)。透過(guò)了光學(xué)濾光層4的光透過(guò)第2耦合層9而入射到第I濾光區(qū)域24，根據(jù)入射位置選擇性地透過(guò)規(guī)定的波長(zhǎng)范圍的光。然后，透過(guò)了第I濾光區(qū)域24的光，透過(guò)第I耦合層3和反射防止膜34，入射到光檢測(cè)基板30B的受光面32a。此時(shí)，入射到光檢測(cè)基板30B的受光部32的各通道的光的波長(zhǎng)，根據(jù)入射位置上的腔層21的厚度以及第I和第2鏡層22、23的材料和厚度，被唯一決定。由此，光檢測(cè)基板30B中，在受光部32的每個(gè)通道檢測(cè)不同的波長(zhǎng)的光。
[0090]如以上說(shuō)明的那樣，在分光傳感器IB中，在從Z軸方向觀察的情況下，干涉濾光部20B的第I濾光區(qū)域24由隔板15而被光學(xué)性地分離，隔板15從腔層21到達(dá)第I和第2鏡層22、23的雙方。因此，根據(jù)分光傳感器1B，與上述的分光傳感器IA同樣能夠謀求濾光特性的提聞。
[0091]另外，在分光傳感器IB中，隔板15經(jīng)由第I鏡層22而到達(dá)配置在光透過(guò)基板11和干涉濾光部20B之間的第2耦合層9。由此，通過(guò)隔板15限制入射到干涉濾光部20B的光的入射角，所以，能夠更加充分地謀求干涉濾光部20B中的光的串?dāng)_的抑制。另外，如果入射到干涉濾光部20B的光的入射角被限制，則通過(guò)干涉濾光部20B的光接近準(zhǔn)直光，因此，能夠使干涉濾光部20B的透過(guò)特性進(jìn)一步敏銳。
[0092]另外，在分光傳感器IB中，腔層21和第2耦合層9由相同材料構(gòu)成。由此，能夠容易地實(shí)現(xiàn)腔層21和第2耦合層9的層疊工序。另外，在例如通過(guò)干式蝕刻設(shè)置隔板15的情況下，能夠使蝕刻氣體等的條件相同，因此，能夠?qū)崿F(xiàn)形狀精度高的隔板15。另外，折射率相同，所以也能夠獲得穩(wěn)定的濾光特性。再有，能夠謀求用于限制光的入射角的隔板15的準(zhǔn)直特性的均勻化。
[0093]此外，在第2實(shí)施方式的分光傳感器IB中，也可以如圖15所示使用背面入射型的光檢測(cè)基板30C。在背面入射型的光檢測(cè)基板30C中，受光部32在半導(dǎo)體基板31中被形成于包含背面31b的部分，受光部32中的與受光面32a相反側(cè)的表面被遮光。作為用于對(duì)受光部32輸入輸出電信號(hào)的配線33，形成有背面配線33e，在背面配線33e設(shè)置有表面安裝用的凸塊電極36。這樣，如果使用背面入射型的光檢測(cè)基板30C，則不需要貫通電極等，所以，能夠謀求分光傳感器IB的低成本化。
[0094]最后，參照?qǐng)D16，對(duì)第I和第2實(shí)施方式的分光傳感器1A、1B的效果進(jìn)行說(shuō)明。圖16是表示對(duì)分光傳感器照射820nm、860nm、900nm、940nm、980nm的亮線時(shí)的光的波長(zhǎng)和從分光傳感器輸出的信號(hào)強(qiáng)度的關(guān)系的圖表，(a)為第I和第2的實(shí)施方式的分光傳感器1A、IB, (b)為從第I和第2實(shí)施方式的分光傳感器1A、1B除去了隔板15后的分光傳感器(下面，稱為“無(wú)隔板的分光傳感器”)。如圖16的(a)和(b)所示，在第I和第2實(shí)施方式的分光傳感器1A、1B中，與無(wú)隔板的分光傳感器相比，被分光的光的波長(zhǎng)范圍變狹窄。這是因?yàn)椋ㄟ^(guò)隔板15抑制了干涉濾光部20A、20B中的光的串?dāng)_，實(shí)現(xiàn)了狹窄頻段的濾光透過(guò)特性。另外，在第I和第2實(shí)施方式的分光傳感器1A、1B中，與無(wú)隔板的分光傳感器相比,雜散光成分變少。這是因?yàn)?，除了通過(guò)隔板15抑制了干涉濾光部20A、20B中的光的串?dāng)_之外，還抑制了第2鏡層23和光檢測(cè)基板30A、30B的受光面32a之間的光的多重反射和干渉所引起的雜散光的產(chǎn)生。
[0095]以上，對(duì)本發(fā)明的第I和第2實(shí)施方式進(jìn)行了說(shuō)明，但本發(fā)明并不限定于上述的第I和第2實(shí)施方式。例如，分光傳感器的各構(gòu)成部件的材料和形狀不限定于上述的材料和形狀，能夠應(yīng)用各種材料和形狀。作為其一個(gè)例子，腔層的材料也可以為由Ti02、Ta2O5, SiN、S1、Ge、Al203、光透過(guò)性樹(shù)脂構(gòu)成的材料等。第I和第2鏡層的材料也可以為由Al、Au、Ag等構(gòu)成的厚度為數(shù)nm?數(shù)μ m的金屬膜。第I和第2耦合層的材料也可以為光透過(guò)性樹(shù)脂等。另外，分光傳感器的各構(gòu)成部件的尺寸也是一個(gè)例子。另外，本發(fā)明和本實(shí)施方式中，所謂“固定”，是指不僅包括完全固定的情況而且也包含在制造誤差等的范圍內(nèi)大致固定的情況。對(duì)于“相同”、“平行”、“垂直”、“相等”、“同一面”等也相同。
[0096]另外，在干涉濾光部的第I濾光區(qū)域中，腔層的厚度可以二維地變化(不僅在X軸方向上也在Y軸方向上變化)，或者也可以階段狀地變化。另外，光檢測(cè)基板不限定于一維傳感器，也可以為二維傳感器。另外，利用隔板的干渉濾光部的光學(xué)性的分離，在從Z軸方向觀察的情況下，也可以為二維的光學(xué)性的分離。例如，隔板不僅在Y軸方向上而且在X軸方向上延伸，隔板作為整體也可以成為格子狀。
[0097]另外，在從與光檢測(cè)基板的受光面交叉的規(guī)定的方向觀察的情況下，隔板可以將干涉濾光部光學(xué)性地分離。但是，在從與受光面垂直的方向觀察的情況下，如果采用將干涉濾光部光學(xué)性地分離的隔板，則能夠使分光傳感器的構(gòu)造簡(jiǎn)化。另外，隔板不限定于從腔層到達(dá)第I和第2鏡層的雙方的隔板。即，隔板可以從腔層到達(dá)第I和第2鏡層的至少一方。在該情況下，也能夠充分地謀求干涉濾光部中的光的串?dāng)_的抑制，并且能夠使光精度良好地入射到與干涉濾光部的入射位置對(duì)應(yīng)的光檢測(cè)基板的受光面的規(guī)定的位置，能夠謀求濾光特性的提高。但是，如果隔板從腔層至少到達(dá)第2鏡層，則能夠抑制第2鏡層和光檢測(cè)基板的受光面之間的光的多重反射和干渉所引起的雜散光的產(chǎn)生，能夠謀求濾光特性的進(jìn)一步的提聞。
[0098]此外，隔板可以在與受光面垂直的方向上將腔層的至少一部分分離。另外，到達(dá)第I鏡層的隔板，可以在與受光面垂直的方向上將第I鏡層的至少一部分分離。同樣，到達(dá)第2鏡層的隔板，可以在與受光面垂直的方向上將第2鏡層的至少一部分分離。
[0099]另外，替代反射防止膜，也可以在光檢測(cè)基板的干涉濾光部側(cè)的表面實(shí)施防止入射到受光面的光的反射的反射防止處理。作為反射防止處理的一個(gè)例子，存在黑硅加工等的粗面化處理或納米柱構(gòu)造。在該情況下，也能夠抑制第2鏡層和光檢測(cè)基板的受光面之間的光的多重反射和干渉所引起的雜散光的產(chǎn)生，能夠?qū)崿F(xiàn)濾光特性的進(jìn)一步的提高。
[0100]另外，干涉濾光部也可以具有多個(gè)第I濾光區(qū)域。在該情況下，第2濾光區(qū)域可以以針對(duì)一個(gè)第I濾光區(qū)域包圍該一個(gè)第I濾光區(qū)域的方式形成，或者，也可以以針對(duì)多個(gè)第I濾光區(qū)域包圍該多個(gè)第I濾光區(qū)域的方式形成。
[0101]另外，對(duì)于光檢測(cè)基板和干涉濾光部的接合而言，也可以應(yīng)用利用光學(xué)樹(shù)脂材料進(jìn)行的接合或分光傳感器的外緣部中的接合。利用光學(xué)樹(shù)脂材料進(jìn)行的接合中，作為光學(xué)樹(shù)脂材的材料，能夠使用環(huán)氧類、丙烯酸類、硅酮類的有機(jī)材料、或者由有機(jī)無(wú)機(jī)構(gòu)成的混合材料等的光學(xué)樹(shù)脂。另外，分光傳感器的外緣部中的接合中，能夠通過(guò)間隔器(spacer)保持縫隙并通過(guò)低融點(diǎn)玻璃或焊料等進(jìn)行接合。在該情況下，被接合部包圍的區(qū)域可以為空氣縫隙，或者，也可以在該區(qū)域填充光學(xué)樹(shù)脂材料。
[0102]產(chǎn)業(yè)上的可利用性
[0103]根據(jù)本發(fā)明，能夠提供一種能夠謀求濾光特性的提高的分光傳感器。
[0104]符號(hào)的說(shuō)明
[0105]1A、IB…分光傳感器，3...第I耦合層，9…第2耦合層，11…光透過(guò)基板，15…隔板，15a、1513...端部,2(^、201^..干涉濾光部,2]^..腔層,22...第I鏡層，23…第2鏡層,30A、30B,
30C...光檢測(cè)基板,32a...受光面,34...反射防止膜。
【權(quán)利要求】
1.一種分光傳感器，其特征在于， 包括: 干涉濾光部，其具有腔層以及隔著所述腔層相對(duì)的第1和第2鏡層，根據(jù)入射位置選擇性地使規(guī)定的波長(zhǎng)范圍的光從所述第1鏡層側(cè)透過(guò)至所述第2鏡層側(cè)； 光檢測(cè)基板，其具有透過(guò)了所述干涉濾光部的光進(jìn)行入射的受光面，對(duì)入射到所述受光面的光進(jìn)行檢測(cè)；以及 隔板，其從所述腔層到達(dá)所述第1和所述第2鏡層的至少一方，在從與所述受光面交叉的規(guī)定的方向觀察的情況下將所述干涉濾光部光學(xué)性地分離。
2.如權(quán)利要求1所述的分光傳感器，其特征在于， 所述隔板從所述腔層至少到達(dá)所述第2鏡層。
3.如權(quán)利要求2所述的分光傳感器，其特征在于， 所述隔板從所述腔層到達(dá)所述第1和所述第2鏡層的雙方。
4.如權(quán)利要求1?3中任一項(xiàng)所述的分光傳感器,其特征在于， 還具備: 第1耦合層，其配置在所述干涉濾光部和所述光檢測(cè)基板之間，使從所述干涉濾光部行進(jìn)至所述光檢測(cè)基板的光透過(guò)， 所述隔板經(jīng)由所述第2鏡層而到達(dá)所述第1耦合層。
5.如權(quán)利要求1?4中任一項(xiàng)所述的分光傳感器,其特征在于， 還具備: 光透過(guò)基板，使入射到所述干涉濾光部的光透過(guò)；以及 第2耦合層，配置在所述光透過(guò)基板和所述干涉濾光部之間，使從所述光透過(guò)基板行進(jìn)至所述干涉濾光部的光透過(guò)， 所述隔板經(jīng)由所述第1鏡層而到達(dá)所述第2耦合層。
6.如權(quán)利要求5所述的分光傳感器，其特征在于， 所述腔層和所述第2耦合層由相同材料構(gòu)成。
7.如權(quán)利要求1?6中任一項(xiàng)所述的分光傳感器,其特征在于， 所述第1鏡層和所述第2鏡層之間的所述規(guī)定的方向上的距離變化， 所述隔板的所述受光面?zhèn)鹊亩瞬亢退鍪芄饷嬷g的所述規(guī)定的方向上的距離固定，所述隔板的與所述受光面相反側(cè)的端部和所述受光面之間的所述規(guī)定的方向上的距尚固定。
8.如權(quán)利要求1?7中任一項(xiàng)所述的分光傳感器,其特征在于， 在從所述規(guī)定的方向觀察的情況下，所述隔板以橫穿過(guò)所述受光面的方式延伸。
9.如權(quán)利要求1?8中任一項(xiàng)所述的分光傳感器,其特征在于， 還具備: 反射防止膜，其配置在所述干涉濾光部和所述光檢測(cè)基板之間，防止入射到所述受光面的光的反射。
10.如權(quán)利要求1?8中任一項(xiàng)所述的分光傳感器,其特征在于， 在所述光檢測(cè)基板的所述干涉濾光部側(cè)的表面上實(shí)施防止入射到所述受光面的光的反射的反射防止處理。
11.如權(quán)利要求1?10中任一項(xiàng)所述的分光傳感器,其特征在于，所述規(guī)定的方向?yàn)榕c所述受光面垂直的方向。
【文檔編號(hào)】G01J3/26GK104303032SQ201380023122
【公開(kāi)日】2015年1月21日 申請(qǐng)日期:2013年5月8日 優(yōu)先權(quán)日:2012年5月18日
【發(fā)明者】柴山勝己, 笠原隆 申請(qǐng)人:浜松光子學(xué)株式會(huì)社