雙閥雙盤可調(diào)水質(zhì)波動發(fā)生器及使用方法
【專利摘要】本發(fā)明公開一種雙閥雙盤可調(diào)水質(zhì)波動發(fā)生器及使用方法，屬于水處理【技術領域】。該發(fā)生器由低濃度水基流量Q供水系統(tǒng)、低濃度水減流量q1供水系統(tǒng)、高濃度水基質(zhì)流量q供水系統(tǒng)、高濃度水變質(zhì)流量q2供水系統(tǒng)和水質(zhì)混合器組成；低濃度水基流量Q供水系統(tǒng)保持恒位水箱液面恒定，高濃度水基質(zhì)流量q供水系統(tǒng)保持高位水箱液面恒定，高濃度水變質(zhì)流量q2供水系統(tǒng)經(jīng)真空破壞器接入懸掛水箱，再經(jīng)出水管接入水質(zhì)混合器，低濃度水減量流量q1供水系統(tǒng)由溢流式配水箱經(jīng)出水軟管出口端懸掛在多孔圓盤上。本發(fā)明可分別產(chǎn)生所需周期、振幅、基流量和基質(zhì)濃度的矩形和類正弦水質(zhì)連續(xù)波動水流，為調(diào)質(zhì)池的量化性能測試和結(jié)構(gòu)優(yōu)化設計提供試驗設備。
【專利說明】雙閥雙盤可調(diào)水質(zhì)波動發(fā)生器及使用方法

【技術領域】：
[0001] 本發(fā)明屬于水處理【技術領域】，具體涉及一種能產(chǎn)生呈矩形和類正弦水質(zhì)波動水流 雙閥雙盤可調(diào)水質(zhì)波動發(fā)生器及使用方法。

【背景技術】：
[0002] 在城鎮(zhèn)污水和工業(yè)廢水處理中，水質(zhì)大幅度波動破壞了污水處理設施中絮凝劑投 加量與污染物濃度之間的最佳投加關系，打破了活性污泥和生物膜中微生物代謝能力與污 染物濃度之間的平衡，從而降低了污水處理廠處理設施的綜合效能，導致出水超標，波動越 大導致處理效果也越不穩(wěn)定。對于毒性強難降解的焦化廢水常導致生化系統(tǒng)數(shù)月癱瘓，嚴 重污染水體環(huán)境。重慶大學王曉丹等以重慶某城鎮(zhèn)污水處理廠進水水質(zhì)為研究對象，發(fā)現(xiàn) 原水C0D、SS質(zhì)量濃度范圍大，分別為103?1074mg/L、101?700mg/L ;焦化廢水氨氮通常 會在200?2200mg/l之間波動。這種大范圍水質(zhì)波動，產(chǎn)生的大沖擊負荷，對污水處理廠 的穩(wěn)定運行和管理帶來一定難度。
[0003] 調(diào)質(zhì)池是使某時段濃度發(fā)生變化的廢水與其它時段廢水混合，緩解水質(zhì)波動幅 度，從而減小對后續(xù)處理設施的壓力，提高處理效果的關鍵性預處理構(gòu)筑物。調(diào)質(zhì)池作為 調(diào)節(jié)水質(zhì)的構(gòu)筑物，其調(diào)節(jié)性能優(yōu)劣將直接影響后續(xù)處理設施的處理效果。為了提高調(diào)節(jié) 效果，人們憑借各自工程經(jīng)驗和理論理解，設計了多種池型結(jié)構(gòu)的調(diào)質(zhì)池。然而，對各類調(diào) 質(zhì)池的調(diào)節(jié)效果的評價至今仍然停留在定性階段，缺乏統(tǒng)一科學的量化評價方法和檢測設 備，尤其缺乏能夠模擬現(xiàn)場一般水質(zhì)波動變化規(guī)律的水質(zhì)波動發(fā)生器，作為調(diào)質(zhì)池功能檢 測所必備的儀器，從而嚴重影響到調(diào)質(zhì)池調(diào)節(jié)效果的量化評價和結(jié)構(gòu)優(yōu)化。
[0004] 一般說來，生活污水和工業(yè)廢水的排放流量和水質(zhì)濃度波動是隨時間而不斷變化 的。根據(jù)一部分污水處理廠進水水質(zhì)連續(xù)檢測數(shù)據(jù)分析發(fā)現(xiàn)，水質(zhì)突變引起水質(zhì)變化曲線 特征接近矩形波，水質(zhì)緩變引起水質(zhì)變化曲線特征接近正弦函數(shù)變化。進一步分析發(fā)現(xiàn)，水 質(zhì)變化的原因可分為突變和緩變，突變是由于工業(yè)生產(chǎn)工藝條件突變引起的，緩變是由于 生產(chǎn)裝置自身的控制特性引起的。其中，廢水流量不變，水質(zhì)變化特征呈矩形和正弦波的情 況有較強的代表性。故本發(fā)明以水質(zhì)矩形波動和水質(zhì)正弦波動為研究對象，模擬具有現(xiàn)實 水質(zhì)變化特征的矩形波動和正弦函數(shù)波動。但是，經(jīng)過論文和專利檢索，未查找到相關水質(zhì) 波動發(fā)生器的研制報告，市場調(diào)研也沒有相關產(chǎn)品，故本發(fā)明設計一種水質(zhì)波動發(fā)生器。


【發(fā)明內(nèi)容】
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[0005] 本發(fā)明的目的在于提供一種雙閥雙盤可調(diào)水質(zhì)波動發(fā)生器及使用方法，該發(fā)生器 能在產(chǎn)生流量一定前提下出水水質(zhì)波動為矩形波函數(shù)和類正弦波動變化，并且波動幅值、 波動平均值和波動周期可調(diào)，為調(diào)質(zhì)池的調(diào)質(zhì)效果檢測提供統(tǒng)一變化規(guī)律的入池水流。
[0006] 本發(fā)明所提供的雙閥雙盤可調(diào)水質(zhì)波動發(fā)生器由低濃度水基流量Q供水系統(tǒng)、低 濃度水減流量Q1供水系統(tǒng)、高濃度水基質(zhì)流量q供水系統(tǒng)、高濃度水變質(zhì)流量q2供水系統(tǒng) 以及水質(zhì)混合系統(tǒng)組成。所述各系統(tǒng)具體如下：
[0007] 所述低濃度水基流量Q供水系統(tǒng)包括低濃度水補水箱I、第一水泵2、恒位水箱5、 第一溢流管4、低濃度水基流出水管6、溢流式配水箱10 ;所述低濃度水補水箱1與所述第 一水泵2相連經(jīng)第一壓水管3通向所述恒位水箱5中的進水緩沖槽，所述第一溢流管4連 接所述恒位水箱5并通向所述低濃度水補水箱1，所述低濃度水基流出水管6中水平硬管部 分設有第一球閥9,所述低濃度水基流出水管6的一端連接所述恒位水箱5,所述低濃度水 基流出水管6的另一端連接所述溢流式配水箱10中的儲水室，所述低濃度水基流出水管6 的堅直管為軟管，所述軟管的中間段接有第一真空破壞器7,所述第一真空破壞器7與高差 調(diào)節(jié)器8相連，所述第一真空破壞器7上部開孔與大氣相通。
[0008] 所述低濃度水減流量qi供水系統(tǒng)包括溢流室出水管11、第一出水軟管12、第一多 孔圓盤16、水質(zhì)混合器35以及所述溢流式配水箱10 ;所述溢流式配水箱10由溢流板分隔 為儲水室和溢流室，所述第一出水軟管12的進水口接所述溢流式配水箱10的儲水室，所述 第一出水軟管12的上部安裝第一電磁閥13,所述第一電磁閥13的電路上設有時間控制器 34,所述第一出水軟管12的出水口用掛繩14懸掛于所述第一多孔圓盤16的第二旋桿40 上，所述掛繩14下方掛配重15以保持所述第一出水軟管12的出水口向下接入所述低濃度 水補水箱1 ;所述溢流室出水管11的進水口接所述溢流式配水箱10的溢流室，所述溢流室 出水管11的出水口接所述接入水質(zhì)混合器35的正上方。
[0009] 所述高濃度水基質(zhì)流量q供水系統(tǒng)包括高濃度水補水箱17、第二水泵18、第二壓 水管19、第二溢流管20、高位水箱21、基流出水管23以及所述水質(zhì)混合器35 ;所述高濃度 水補水箱17與所述第二水泵18相連經(jīng)第二壓水管19與所述高位水箱21的進水緩沖槽相 連，所述高位水箱21經(jīng)第二溢流管20接回所述高濃度水補水箱17 ;所述基流出水管23的 進水口連接所述高位水箱21的下部，所述基流出水管23的出水口接所述接入水質(zhì)混合器 35的正上方，所述基流出水管23上沿水流方向依次設有調(diào)節(jié)閥25以及轉(zhuǎn)子流量計24。 [0010] 所述高濃度水變質(zhì)流量q2供水系統(tǒng)包括第二出水軟管22、第二真空破壞器33、第 一旋桿31、懸掛水箱26、第二多孔圓盤30 ;所述第二出水軟管22的進水口接所述所述高位 水箱21的下部，所述第二出水軟管22中設有第二球閥42以控制管路的開閉，所述第二出 水軟管22通過所述第二真空破壞器33的出口與所述第一懸桿31相連，所述第二出水軟管 22的出水口插入所述懸掛水箱26的進水緩沖槽內(nèi)；所述第二真空破壞器33由軟繩38繞定 滑輪32與所述旋桿31上的套管39相連；所述懸掛水箱26的上部連接在所述旋桿31上； 所述第一懸桿31固定于第二多孔圓盤30上，所述第三出水軟管27的進水口接所述懸掛水 箱26的下部，所述第三出水軟管27的出水口接至水質(zhì)混合器35的正上方，所述第三出水 軟管27上設有第二電磁閥29,所述第二電磁閥29的電路上連接時間控制器34以周期性控 制所述第二電磁閥29的開啟與閉合；所述溢流軟管28的進水口連接所述懸掛水箱26的溢 流槽出口，所述溢流軟管28的出水口接至所述高濃度水補水箱17。
[0011] 所述水質(zhì)混合系統(tǒng)包括水質(zhì)混合器35、調(diào)質(zhì)池37以及水質(zhì)混合器出水管36 ;所述 水質(zhì)混合器出水管36的進水口接所述水質(zhì)混合器35,所述水質(zhì)混合器出水管36的出水口 接位于所述水質(zhì)混合器35下方的調(diào)質(zhì)池37。
[0012] 所述第一多孔圓盤16和第二多孔圓盤30結(jié)構(gòu)相同，所述第一多孔圓盤16和第二 多孔圓盤30前后面板中心部位均裝有方形加固鋼板，圓盤中心開有與步進電機43轉(zhuǎn)軸同 等直徑的圓孔及鍵槽固定在步進電機43的轉(zhuǎn)軸上；圓盤上均勻開有定位圓孔，呈輻射狀分 布在圓盤的不同直徑圓周上，第一多孔圓盤16與第二多孔圓盤30旁分別安裝第一轉(zhuǎn)角標 尺41a與第二轉(zhuǎn)角標尺41b，轉(zhuǎn)角標尺與多孔圓盤在同一平面內(nèi)且中心刻度線在步進電機 43轉(zhuǎn)軸的水平中心線上。
[0013] 本發(fā)明所提供的雙閥雙盤可調(diào)水質(zhì)波動發(fā)生器的使用方法之一具體步驟如下：
[0014] (1)開啟第一水泵2,將低濃度水補水箱1的水送入恒位水箱5,多余的水經(jīng)第一溢 流管4回至低濃度水補水箱1，保持恒位水箱5液面恒定，開啟第一球閥9,經(jīng)低濃度水基流 出水管6向溢流式配水箱10的儲水室供水，利用高差調(diào)節(jié)器8改變第一真空破壞器7與恒 位水箱5液面的高差，改變低濃度水基流量Q的大小，溢流式配水箱10儲水室的水經(jīng)溢流 堰流入溢流室出水管11，進水質(zhì)混合器35。
[0015] (2)開啟第二水泵18,將高濃度水補水箱17的水送入高位水箱21，多余的水經(jīng)第 二溢流管20回至高濃度水補水箱17,保持高位水箱21液面恒定，改變調(diào)節(jié)閥25的開度，根 據(jù)轉(zhuǎn)子流量計24微調(diào)高濃度水基質(zhì)流量q，經(jīng)基流出水管23流向水質(zhì)混合器35。
[0016] (3)開啟第二球閥42,高濃度水經(jīng)第二出水軟管22流向懸掛水箱26,經(jīng)溢流軟管 28保持液位恒定；依據(jù)水質(zhì)波動幅度需要，分別開啟步進電機43驅(qū)動第一多孔圓盤16帶 動第一出水軟管12和第二多孔圓盤30帶動懸掛水箱26旋轉(zhuǎn)，使第一出水軟管12和第三 出水軟管27水流量達到待定值時步進電機43停止，保持第一出水軟管12和第三出水軟管 27進出口高差不變。
[0017] (4)周期性同步控制第一電磁閥13和第二電磁閥29的開閉，開啟時第一出水軟管 12和第三出水軟管27的流量依次為qi和q2且相等，閥門閉合時為0,得到水質(zhì)混合器35 流出水流量不變，水質(zhì)按矩形波動變化。
[0018] 本發(fā)明所提供的雙閥雙盤可調(diào)水質(zhì)波動發(fā)生器的使用方法之二具體步驟如下：
[0019] (1)開啟第一水泵2,將低濃度水補水箱1的水送入恒位水箱5,多余的水經(jīng)第一溢 流管4回至低濃度水補水箱1，保持恒位水箱5液面恒定，開啟第一球閥9,經(jīng)低濃度水基流 出水管6向溢流式配水箱10的儲水室供水，利用高差調(diào)節(jié)器8改變第一真空破壞器7與恒 位水箱5液面的高差，改變低濃度水基流量Q的大小，溢流式配水箱10儲水室的水經(jīng)溢流 堰流入溢流室出水管11，進水質(zhì)混合器35。
[0020] (2)開啟第二水泵18,將高濃度水補水箱17的水送入高位水箱21，多余的水經(jīng)第 二溢流管20回至高濃度水補水箱17,保持高位水箱21液面恒定，改變調(diào)節(jié)閥25的開度，使 用轉(zhuǎn)子流量計24微調(diào)高濃度水基質(zhì)流量q，經(jīng)基流出水管23流向水質(zhì)混合器35。
[0021] (3)開啟第二球閥42,高濃度水經(jīng)第二出水軟管22流向懸掛水箱26,經(jīng)溢流軟管 28保持液位恒定；根據(jù)水質(zhì)波動幅度需要，將第一懸桿31和第二懸桿40固定于距多孔圓 盤中心相同半徑R的定位圓孔中，啟動步進電機43分別驅(qū)動第一多孔圓盤16和第二多孔 圓盤30,至第一懸桿31和第二懸桿40分別到達第一轉(zhuǎn)角標尺41a與第二轉(zhuǎn)角標尺41b中 心刻度線的位置后停止步進電機43。
[0022] (4)根據(jù)周期T設置變頻器44參數(shù)，保持第一電磁閥13和第二電磁閥29呈開啟 狀態(tài)，重新開啟步進電機43,驅(qū)動第一多孔圓盤16帶動第一出水軟管12出水口做勻速圓周 運動，驅(qū)動第二多孔圓盤30帶動懸掛水箱26做勻速圓周運動，第一出水軟管12和第三出 水軟管27的流量依次為qi和q2呈類正弦波動變化且相等，經(jīng)過水質(zhì)混合器35得到所需周 期、振幅、基流量和基質(zhì)濃度的類正弦水質(zhì)波動水流。
[0023] 本發(fā)明所設計裝置包括可調(diào)整濃度大小為C1的低濃度水基流量Q、濃度大小為C 1的低濃度水減流量Q1，濃度大小為C2的高濃度水基質(zhì)流量q和濃度大小為C 2的高濃度水變 質(zhì)流量q2，經(jīng)水質(zhì)混合器混合后得到所需的矩形或類正弦波動水質(zhì)變化水量流。
[0024] 為了實現(xiàn)混合后出水流量恒定可調(diào)，而水質(zhì)變化曲線為矩形和類正弦，故在低濃 度水基流量Q (也可采用清水）供水系統(tǒng)后增設低濃度水減流量Q1供水系統(tǒng)，以削減高濃度 水變質(zhì)流量q2配入水質(zhì)混合器對出水總流量的影響，本發(fā)明設計采用同直徑同步旋轉(zhuǎn)的多 孔圓盤的方式，在低濃度水基流量（也可采用清水）Q進入混合器前進行分流減量，保持Q1=q2，且對高濃度水中的污染物無減量作用。減量后的流量為（Ql1)的低濃度水與高濃度 水基質(zhì)流量q、高濃度水變質(zhì)流量q2在水質(zhì)混合器進行充分混合后經(jīng)出水管輸入調(diào)質(zhì)池。
[0025] 根據(jù)物料守恒原理可知，水質(zhì)混合器進出水中污染物的量相等，則下式成立：
[0026] C ? [ (Q-qJ + (q+q2) ] = C1 ? (Q-qJ+C2 ? (q+q2) (I)
[0027] 經(jīng)整理可得水質(zhì)混合器出水濃度為：

【權(quán)利要求】
1.雙閥雙盤可調(diào)水質(zhì)波動發(fā)生器，其特征在于該發(fā)生器由低濃度水基流量Q供水系 統(tǒng)、低濃度水減流量^供水系統(tǒng)、高濃度水基質(zhì)流量q供水系統(tǒng)、高濃度水變質(zhì)流量q2供水 系統(tǒng)以及水質(zhì)混合系統(tǒng)組成；所述低濃度水基流量Q供水系統(tǒng)包括低濃度水補水箱（1)、第 一水泵（2)、恒位水箱（5)、第一溢流管（4)、低濃度水基流出水管￠)、溢流式配水箱（10); 所述低濃度水補水箱（1)與所述第一水泵（2)相連經(jīng)第一壓水管（3)通向所述恒位水箱 (5)中的進水緩沖槽，所述第一溢流管（4)連接所述恒位水箱（5)并通向所述低濃度水補 水箱（1)，所述低濃度水基流出水管（6)中水平硬管部分設有第一球閥（9)，所述低濃度水 基流出水管（6)的一端連接所述恒位水箱（5)，所述低濃度水基流出水管（6)的另一端連接 所述溢流式配水箱（10)中的儲水室，所述低濃度水基流出水管（6)的堅直管為軟管，所述 軟管的中間段接有第一真空破壞器（7)，所述第一真空破壞器（7)與高差調(diào)節(jié)器（8)相連， 所述第一真空破壞器（7)上部開孔與大氣相通；所述低濃度水減流量qi供水系統(tǒng)包括溢流 室出水管（11)、第一出水軟管（12)、第一多孔圓盤（16)、水質(zhì)混合器（35)以及所述溢流式 配水箱（10);所述溢流式配水箱（10)由溢流板分隔為儲水室和溢流室，所述第一出水軟管 (12)的進水口接所述溢流式配水箱（10)的儲水室，所述第一出水軟管（12)的上部安裝第 一電磁閥（13)，所述第一電磁閥（13)的電路上設有時間控制器（34)，所述第一出水軟管 (12)的出水口用掛繩（14)懸掛于第一多孔圓盤（16)的第二旋桿（40)上，所述掛繩（14) 下方掛配重（15)以保持所述第一出水軟管（12)的出水口向下接入所述低濃度水補水箱 (1);所述溢流室出水管（11)的進水口接所述溢流式配水箱（10)的溢流室，所述溢流室出 水管（11)的出水口接所述接入水質(zhì)混合器（35)的正上方；所述高濃度水基質(zhì)流量q供水 系統(tǒng)包括高濃度水補水箱（17)、第二水泵（18)、第二壓水管（19)、第二溢流管（20)、高位水 箱（21)、基流出水管（23)以及所述水質(zhì)混合器（35);所述高濃度水補水箱（17)與所述第 二水泵（18)相連經(jīng)第二壓水管（19)與所述高位水箱（21)的進水緩沖槽相連，所述高位水 箱（21)經(jīng)第二溢流管（20)接回所述高濃度水補水箱（17);所述基流出水管（23)的進水 口連接所述高位水箱（21)的下部，所述基流出水管（23)的出水口接所述接入水質(zhì)混合器 (35) 的正上方，所述基流出水管（23)上沿水流方向依次設有調(diào)節(jié)閥（25)以及轉(zhuǎn)子流量計 (24);所述高濃度水變質(zhì)流量％供水系統(tǒng)包括第二出水軟管（22)、第二真空破壞器（33)、 第一旋桿（31)、懸掛水箱（26)、第二多孔圓盤（30);所述第二出水軟管（22)的進水口接所 述所述高位水箱（21)的下部，所述第二出水軟管（22)中設有第二球閥（42)以控制管路的 開閉，所述第二出水軟管（22)通過所述第二真空破壞器（33)的出口與所述第一懸桿（31) 相連，所述第二出水軟管（22)的出水口插入所述懸掛水箱（26)的進水緩沖槽內(nèi)；所述第 二真空破壞器（33)由軟繩（38)繞定滑輪（32)與所述第一旋桿（31)上的套管（39)相連； 所述懸掛水箱（26)的上部連接在所述第一旋桿（31)上；所述第一懸桿（31)固定于所述第 二多孔圓盤（30)上，所述第三出水軟管（27)的進水口接所述懸掛水箱（26)的下部，所述 第三出水軟管（27)的出水口接至水質(zhì)混合器（35)的正上方，所述第三出水軟管（27)上設 有第二電磁閥（29)，所述第二電磁閥（29)的電路上連接時間控制器（34)以周期性控制所 述第二電磁閥（29)的開啟與閉合；所述溢流軟管（28)的進水口連接所述懸掛水箱（26)的 溢流槽出口，所述溢流軟管（28)的出水口接至所述高濃度水補水箱（17);所述水質(zhì)混合系 統(tǒng)包括水質(zhì)混合器（35)、調(diào)質(zhì)池（37)以及水質(zhì)混合器出水管（36);所述水質(zhì)混合器出水管 (36) 的進水口接所述水質(zhì)混合器（35)，所述水質(zhì)混合器出水管（36)的出水口接位于所述 水質(zhì)混合器（35)下方的所述調(diào)質(zhì)池（37)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述雙閥雙盤可調(diào)水質(zhì)波動發(fā)生器，其特征在于所述第一多孔圓盤 (16)與第二多孔圓盤（30)結(jié)構(gòu)相同，所述第一多孔圓盤（16)與所述第二多孔圓盤（30)的 前后面板中心部位均裝有方形加固鋼板，圓盤中心開有與步進電機（43)轉(zhuǎn)軸同等直徑的 圓孔及鍵槽固定在步進電機（43)的轉(zhuǎn)軸上；圓盤上均勻開有定位圓孔，呈輻射狀分布在圓 盤的不同直徑圓周上，所述第一多孔圓盤（16)與所述第二多孔圓盤（30)旁設有第一轉(zhuǎn)角 標尺（41a)與第二轉(zhuǎn)角標尺（41b)，所述第一轉(zhuǎn)角標尺（41a)與第二轉(zhuǎn)角標尺（41b)與多孔 圓盤在同一平面內(nèi)且中心刻度線在步進電機（43)轉(zhuǎn)軸的水平中心線上。
3. 權(quán)利要求1所述雙閥雙盤可調(diào)水質(zhì)波動發(fā)生器的使用方法，其特征在于所述方法具 體步驟如下： (1) 開啟所述第一水泵（2)，將所述低濃度水補水箱（1)的水送入所述恒位水箱（5)，多 余的水經(jīng)所述第一溢流管（4)回至所述低濃度水補水箱（1)，保持所述恒位水箱（5)液面恒 定，開啟所述第一球閥（9)，經(jīng)所述低濃度水基流出水管（6)向所述溢流式配水箱（10)的儲 水室供水，利用所述高差調(diào)節(jié)器（8)改變所述第一真空破壞器（7)與所述恒位水箱（5)液 面的高差，改變低濃度水基流量Q的大小，所述溢流式配水箱（10)儲水室的水經(jīng)溢流堰流 入所述溢流室出水管（11)，進入所述水質(zhì)混合器（35); (2) 開啟所述第二水泵（18)，將高濃度水補水箱（17)的水送入所述高位水箱（21)，多 余的水經(jīng)所述第二溢流管（20)回至所述高濃度水補水箱（17)，保持所述高位水箱（21)液 面恒定，改變所述調(diào)節(jié)閥（25)的開度，使用所述轉(zhuǎn)子流量計（24)微調(diào)高濃度水基質(zhì)流量q， 經(jīng)所述基流出水管（23)流向所述水質(zhì)混合器（35); (3) 開啟所述第二球閥（42)，高濃度水經(jīng)所述第二出水軟管（22)流向所述懸掛水箱 (26) ，經(jīng)所述溢流軟管（28)保持液位恒定；依據(jù)水質(zhì)波動幅度需要，分別開啟所述步進電 機（43)驅(qū)動所述第一多孔圓盤（16)帶動所述第一出水軟管（12)以及驅(qū)動所述第二多孔 圓盤（30)帶動所述懸掛水箱（26)旋轉(zhuǎn)，使所述第一出水軟管（12)和所述第三出水軟管 (27) 水流量達到待定值時所述步進電機（43)停止，保持所述第一出水軟管（12)和所述第 三出水軟管（27)進出口高差不變； ⑷周期性同步控制所述第一電磁閥（13)和所述第二電磁閥（29)的開閉，開啟時所述 第一出水軟管（12)和所述第三出水軟管（27)的流量依次為(^和％且相等，閥門閉合時為 〇,所述水質(zhì)混合器（35)流出水流量不變，使水質(zhì)按矩形波動變化。
4. 權(quán)利要求1所述雙閥雙盤可調(diào)水質(zhì)波動發(fā)生器的使用方法，其特征在于所述方法具 體步驟如下： (1) 開啟所述第一水泵（2)，將所述低濃度水補水箱（1)的水送入所述恒位水箱（5)，多 余的水經(jīng)所述第一溢流管（4)回至所述低濃度水補水箱（1)，保持所述恒位水箱（5)液面恒 定，開啟所述第一球閥（9)，經(jīng)所述低濃度水基流出水管（6)向所述溢流式配水箱（10)的儲 水室供水，利用所述高差調(diào)節(jié)器（8)改變所述第一真空破壞器（7)與所述恒位水箱（5)液 面的高差，改變低濃度水基流量Q的大小，所述溢流式配水箱（10)儲水室的水經(jīng)溢流堰流 入所述溢流室出水管（11)，進入所述水質(zhì)混合器（35); (2) 開啟所述第二水泵（18)，將高濃度水補水箱（17)的水送入所述高位水箱（21)，多 余的水經(jīng)所述第二溢流管（20)回至所述高濃度水補水箱（17)，保持所述高位水箱（21)液 面恒定，改變所述調(diào)節(jié)閥（25)的開度，使用所述轉(zhuǎn)子流量計（24)微調(diào)高濃度水基質(zhì)流量q， 經(jīng)所述基流出水管（23)流向所述水質(zhì)混合器（35); (3) 開啟所述第二球閥（42)，高濃度水經(jīng)所述第二出水軟管（22)流向所述懸掛水箱 (26)，經(jīng)所述溢流軟管（28)保持液位恒定；根據(jù)水質(zhì)波動幅度需要，將所述第一懸桿（31) 和第二懸桿（40)固定于距多孔圓盤中心相同半徑R的定位圓孔中，啟動所述步進電機（43) 分別驅(qū)動所述第一多孔圓盤（16)和所述第二多孔圓盤（30)，至所述第一懸桿（31)和所述 第二懸桿（40)分別到達所述第一轉(zhuǎn)角標尺（41a)與所述第二轉(zhuǎn)角標尺（41b)中心刻度線 的位置后停止所述步進電機（43); (4) 根據(jù)周期T設置所述變頻器（44)參數(shù)，保持所述第一電磁閥（13)和所述第二電 磁閥（29)呈開啟狀態(tài)，重新開啟所述步進電機（43)，驅(qū)動所述第一多孔圓盤（16)帶動所 述第一出水軟管（12)出水口做勻速圓周運動，驅(qū)動所述第二多孔圓盤（30)帶動所述懸掛 水箱（26)做勻速圓周運動，所述第一出水軟管（12)和所述第三出水軟管（27)的流量依次 為1和q2呈類正弦波動變化且相等，經(jīng)過所述水質(zhì)混合器（35)得到所需周期、振幅、基流 量和基質(zhì)濃度的類正弦水質(zhì)波動水流。
【文檔編號】G01N33/18GK104360037SQ201410640021
【公開日】2015年2月18日 申請日期:2014年11月13日 優(yōu)先權(quán)日:2014年11月13日
【發(fā)明者】張新喜, 王保, 陳逸梅, 胡小兵, 胡章強 申請人:安徽工業(yè)大學