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      一種復(fù)合型地層形變測量裝置制造方法

      文檔序號:6057073閱讀:414來源:國知局
      一種復(fù)合型地層形變測量裝置制造方法
      【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種復(fù)合型地層形變測量裝置,包括測量標(biāo)桿以及靜力水準(zhǔn)自動化監(jiān)測系統(tǒng),所述測量標(biāo)桿外部設(shè)有套管,所述測量標(biāo)桿及套管上均設(shè)有水準(zhǔn)點(diǎn)標(biāo)志,且所述測量標(biāo)桿及套管分別與所述靜力水準(zhǔn)自動化監(jiān)測系統(tǒng)連接,所述測量標(biāo)桿包括基巖標(biāo)和分層標(biāo)兩種。本實(shí)用新型能夠?qū)崿F(xiàn)水準(zhǔn)測量與基巖標(biāo)—分層標(biāo)監(jiān)測的同步,用長周期的水準(zhǔn)測量獲取地層形變絕對值,以校正基巖標(biāo)形變值,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)對分層標(biāo)監(jiān)測值的校正;利用基巖標(biāo)—分層標(biāo)靜力水準(zhǔn)的自動化監(jiān)測手段,實(shí)現(xiàn)高頻率的地層形變絕對值監(jiān)測,實(shí)現(xiàn)高頻監(jiān)測和絕對值獲取的融合,從而獲取更合理的地層形變監(jiān)測數(shù)據(jù)。
      【專利說明】一種復(fù)合型地層形變測量裝置

      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001] 本實(shí)用新型涉及一種復(fù)合型地層形變測量裝置。

      【背景技術(shù)】
      [0002] 傳統(tǒng)的地層形變測量裝置相對單一,普通的水準(zhǔn)測量一般只對地表形變實(shí)施監(jiān) 測,而且單純的水準(zhǔn)測量雖然能夠獲得地層形變絕對值,但監(jiān)測費(fèi)時(shí)費(fèi)力,監(jiān)測頻率一般較 小。
      [0003] 基巖標(biāo)一分層標(biāo)監(jiān)測技術(shù)的引入,讓不同埋深地層形變的測量工作變得相對容 易,同時(shí),靜力水準(zhǔn)自動化監(jiān)測系統(tǒng)的廣泛采用,使分層標(biāo)監(jiān)測變得簡便可行又精確可靠。 然而單純的基巖標(biāo)一分層標(biāo)監(jiān)測一般只能獲得地層形變的相對值。
      [0004] 因此,如何能創(chuàng)設(shè)一種地層形變測量裝置,使其能夠更準(zhǔn)確、合理的獲取地層形 變監(jiān)測數(shù)據(jù),實(shí)屬當(dāng)前業(yè)界具有重要意義的改進(jìn)目標(biāo)。 實(shí)用新型內(nèi)容
      [0005] 本實(shí)用新型的目的是提供一種復(fù)合型地層形變測量裝置,能夠獲取更準(zhǔn)確、合理 的地層形變監(jiān)測數(shù)據(jù),使用簡便、有效,從而克服現(xiàn)有技術(shù)中獲取監(jiān)測數(shù)據(jù)單一,監(jiān)測費(fèi)時(shí) 費(fèi)力、監(jiān)測頻率低等不足。
      [0006] 為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案:
      [0007] -種復(fù)合型地層形變測量裝置,包括測量標(biāo)桿以及靜力水準(zhǔn)自動化監(jiān)測系統(tǒng),所 述測量標(biāo)桿外部設(shè)有套管,所述測量標(biāo)桿及套管上均固定有水準(zhǔn)點(diǎn)標(biāo)志,且所述測量標(biāo)桿 及套管分別與所述靜力水準(zhǔn)自動化監(jiān)測系統(tǒng)連接,所述測量標(biāo)桿包括基巖標(biāo)和分層標(biāo)兩 種。
      [0008] 進(jìn)一步地,所述測量標(biāo)桿的頂端設(shè)置所述水準(zhǔn)點(diǎn)標(biāo)志。
      [0009] 進(jìn)一步地,所述水準(zhǔn)點(diǎn)標(biāo)志焊接在所述測量標(biāo)桿頂端。
      [0010] 進(jìn)一步地,所述套管上固定連接有一堅(jiān)直管,所述堅(jiān)直管的頂端設(shè)置所述水準(zhǔn)點(diǎn) 物^志。
      [0011] 進(jìn)一步地,所述堅(jiān)直管為焊接在套管上的銅管,所述水準(zhǔn)點(diǎn)標(biāo)志焊接在銅管的頂 端。
      [0012] 進(jìn)一步地,所述靜力水準(zhǔn)自動化監(jiān)測系統(tǒng)包括兩個靜力水準(zhǔn)儀缽體,所述測量標(biāo) 桿及所述套管各自與一個靜力水準(zhǔn)儀缽體連接。
      [0013] 進(jìn)一步地,所述測量標(biāo)桿上固定連接有第一放置平臺,所述套管上固定連接有第 二放置平臺,所述兩個靜力水準(zhǔn)儀缽體分別安裝在所述第一、二放置平臺上。
      [0014] 進(jìn)一步地,所述第一放置平臺通過可拆卸的夾緊機(jī)構(gòu)固定在所述測量標(biāo)桿上。
      [0015] 進(jìn)一步地,所述夾緊機(jī)構(gòu)包括用于夾緊所述測量標(biāo)桿的套箍。
      [0016] 進(jìn)一步地,所述套管外壁上固定有支架,所述第二放置平臺通過所述支架與所述 套管固定連接。
      [0017] 由于采用上述技術(shù)方案,本實(shí)用新型至少具有以下優(yōu)點(diǎn):
      [0018] 本實(shí)用新型能夠?qū)崿F(xiàn)水準(zhǔn)測量與基巖標(biāo)一分層標(biāo)監(jiān)測的同步,用長周期的水準(zhǔn)測 量獲取地層形變絕對值,以校正基巖標(biāo)形變值,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)對分層標(biāo)監(jiān)測值的校正。并且,利 用基巖標(biāo)一分層標(biāo)靜力水準(zhǔn)的自動化監(jiān)測手段,實(shí)現(xiàn)高頻率的地層形變絕對值監(jiān)測,實(shí)現(xiàn) 高頻監(jiān)測和絕對值獲取的融合,獲取更合理的地層形變監(jiān)測數(shù)據(jù)。

      【專利附圖】

      【附圖說明】
      [0019] 上述僅是本實(shí)用新型技術(shù)方案的概述,為了能夠更清楚了解本實(shí)用新型的技術(shù)手 段,以下結(jié)合附圖與【具體實(shí)施方式】對本實(shí)用新型作進(jìn)一步的詳細(xì)說明。
      [0020] 圖1是本實(shí)用新型的復(fù)合型地層形變測量裝置結(jié)構(gòu)示意圖。

      【具體實(shí)施方式】
      [0021] 請參閱圖1所示,本實(shí)用新型提供了一種復(fù)合型地層形變測量裝置,結(jié)合了基巖 標(biāo)一分層標(biāo)測量與靜力水準(zhǔn)測量,包括測量標(biāo)桿1以及靜力水準(zhǔn)自動化監(jiān)測系統(tǒng),所述測 量標(biāo)桿1外部設(shè)有套管2,所述測量標(biāo)桿1及套管2上均固定有水準(zhǔn)點(diǎn)標(biāo)志,且所述測量標(biāo) 桿1及套管2分別與所述靜力水準(zhǔn)自動化監(jiān)測系統(tǒng)連接,所述測量標(biāo)桿1包括基巖標(biāo)和分 層標(biāo)兩種。由于基巖標(biāo)和分層標(biāo)兩種標(biāo)孔樣式都一樣,所以圖1中所示的測量標(biāo)桿1可以 說是基巖標(biāo)-分層標(biāo)。在本實(shí)用新型的裝置中,基巖標(biāo)和分層標(biāo)兩種的標(biāo)桿外部各自設(shè)有 套管,形式相同,各自與上述水準(zhǔn)點(diǎn)標(biāo)志及靜力水準(zhǔn)自動化監(jiān)測系統(tǒng)的連接方式也相同。因 此,以下描述統(tǒng)稱為測量標(biāo)桿1,不做特別區(qū)分。
      [0022] 其中,所述測量標(biāo)桿1的標(biāo)桿頂端設(shè)置水準(zhǔn)點(diǎn)標(biāo)志11。所述套管2上固定連接一 堅(jiān)直管22,堅(jiān)直管22可選擇銅管,焊接固定在套管2上,堅(jiān)直管22的頂端設(shè)置水準(zhǔn)點(diǎn)標(biāo)志 21。兩個水準(zhǔn)點(diǎn)標(biāo)志11、21均可焊接設(shè)置。
      [0023] 所述靜力水準(zhǔn)自動化監(jiān)測系統(tǒng)包括兩個靜力水準(zhǔn)儀缽體5,所述測量標(biāo)桿1及所 述套管2各自與一個靜力水準(zhǔn)儀缽體連接。
      [0024] 靜力水準(zhǔn)自動化監(jiān)測系統(tǒng)為高精密液位測量系統(tǒng),靜力水準(zhǔn)儀缽體5內(nèi)設(shè)有浮動 缽子51,儲有液體52,并連接有氣管53和液管54。靜力水準(zhǔn)自動化監(jiān)測系統(tǒng)通過檢測液體 52的液位變化,監(jiān)測各個測點(diǎn)的垂直位移變化。
      [0025] 如圖1中所示,所述測量標(biāo)桿1上和所述套管2上分別連接有放置平臺4,其中所 述測量標(biāo)桿1上固定連接第一放置平臺,所述套管2上固定連接第二放置平臺,兩個靜力水 準(zhǔn)儀缽體5分別安裝在第一、二放置平臺上。
      [0026] 所述放置平臺4的連接方式可以采用但不限于以下方式:如圖1中左側(cè)所示,所述 第一放置平臺通過可拆卸的夾緊機(jī)構(gòu)6固定在所述測量標(biāo)桿1上。夾緊機(jī)構(gòu)6包括用于夾 緊所述測量標(biāo)桿1的套箍(圖中未完全顯示),套箍開合處通過螺栓固定。又如圖1中右側(cè) 所示,所述第二放置平臺通過焊接在所述套管2外壁上的支架與所述套管2連接。
      [0027] 本實(shí)用新型將傳統(tǒng)的水準(zhǔn)測量儀器與相對先進(jìn)的基巖標(biāo)一分層標(biāo)監(jiān)測裝置固化 為一體,可實(shí)現(xiàn)對地層形變聯(lián)合監(jiān)測。在實(shí)際使用前,可首先在基巖標(biāo)及分層標(biāo)的標(biāo)桿與套 管上焊接水準(zhǔn)點(diǎn)標(biāo)志,然后安裝靜力水準(zhǔn)自動化監(jiān)測系統(tǒng)。
      [0028] 以上所述,僅是本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已,并非對本實(shí)用新型作任何形式上 的限制,本領(lǐng)域技術(shù)人員利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容做出些許簡單修改、等同變化或修飾,均 落在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。
      【權(quán)利要求】
      1. 一種復(fù)合型地層形變測量裝置,其特征在于,包括測量標(biāo)桿以及靜力水準(zhǔn)自動化監(jiān) 測系統(tǒng),所述測量標(biāo)桿外部設(shè)有套管,所述測量標(biāo)桿及套管上均固定有水準(zhǔn)點(diǎn)標(biāo)志,且所述 測量標(biāo)桿及套管分別與所述靜力水準(zhǔn)自動化監(jiān)測系統(tǒng)連接,所述測量標(biāo)桿包括基巖標(biāo)和分 層標(biāo)兩種。
      2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合型地層形變測量裝置,其特征在于,所述測量標(biāo)桿的頂 端設(shè)置所述水準(zhǔn)點(diǎn)標(biāo)志。
      3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的復(fù)合型地層形變測量裝置,其特征在于,所述水準(zhǔn)點(diǎn)標(biāo)志焊 接在所述測量標(biāo)桿頂端。
      4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合型地層形變測量裝置,其特征在于,所述套管上固定連 接有一堅(jiān)直管,所述堅(jiān)直管的頂端設(shè)置所述水準(zhǔn)點(diǎn)標(biāo)志。
      5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的復(fù)合型地層形變測量裝置,其特征在于,所述堅(jiān)直管為焊接 在套管上的銅管,所述水準(zhǔn)點(diǎn)標(biāo)志焊接在銅管的頂端。
      6. 根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的復(fù)合型地層形變測量裝置,其特征在于,所述靜力 水準(zhǔn)自動化監(jiān)測系統(tǒng)包括兩個靜力水準(zhǔn)儀缽體,所述測量標(biāo)桿及所述套管各自與一個靜力 水準(zhǔn)儀缽體連接。
      7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的復(fù)合型地層形變測量裝置,其特征在于,所述測量標(biāo)桿上固 定連接有第一放置平臺,所述套管上固定連接有第二放置平臺,所述兩個靜力水準(zhǔn)儀缽體 分別安裝在所述第一、二放置平臺上。
      8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的復(fù)合型地層形變測量裝置,其特征在于,所述第一放置平臺 通過可拆卸的夾緊機(jī)構(gòu)固定在所述測量標(biāo)桿上。
      9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的復(fù)合型地層形變測量裝置,其特征在于,所述夾緊機(jī)構(gòu)包括 用于夾緊所述測量標(biāo)桿的套箍。
      10. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的復(fù)合型地層形變測量裝置,其特征在于,所述套管外壁上固 定有支架,所述第二放置平臺通過所述支架與所述套管固定連接。
      【文檔編號】G01C5/04GK203908538SQ201420268836
      【公開日】2014年10月29日 申請日期:2014年5月23日 優(yōu)先權(quán)日:2014年5月23日
      【發(fā)明者】羅勇, 雷坤超, 賈三滿, 楊艷, 周毅, 劉明坤, 王榮, 田芳, 姜媛, 陳柘舟 申請人:北京市水文地質(zhì)工程地質(zhì)大隊(duì)
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