本實用新型涉及一種晶體測試裝備，特別是涉及一種半導體泵浦連續(xù)激光測試系統(tǒng)。

背景技術：

激光晶體的激光性能反映了產(chǎn)品的綜合性能優(yōu)劣。摻Cr⁴⁺晶體材料在0.9-1.2μm具有較寬的吸收帶和良好的飽和吸收性質(zhì)，可作為Nd激光器的被動Q開關材料。與傳統(tǒng)的有機染料和色心晶體相比，摻Cr⁴⁺晶體具有吸收截面大、光化學性能穩(wěn)定和使用方便方便等有點。因此，激光晶體激光性能的測試系統(tǒng)在指導生產(chǎn)工藝的改進與產(chǎn)品品質(zhì)提升方面不可或缺，可以反映出產(chǎn)品的激光性能。

然而，現(xiàn)有的激光晶體測試系統(tǒng)造價昂貴，每個待測晶體的形狀、大小不一，特別是針對于圓柱形晶體，在測試過程中容易出現(xiàn)晃動，嚴重影響到了測試的精度，測試結果往往不準確，在更換其他形狀的晶體時，所需的工藝及設備較多，每次測試的運行成本較高，同時，現(xiàn)有測試系統(tǒng)轉換效率較低，影響了測試工作的進度，另外，測試系統(tǒng)的使用壽命較差且不便于維護。

技術實現(xiàn)要素：

本實用新型的目的在于提供一種半導體泵浦連續(xù)激光測試系統(tǒng)，能夠克服現(xiàn)有技術的不足，能夠提高測試系統(tǒng)的精確度同時提高測試的效率。

本實用新型的目的是通過以下技術方案來實現(xiàn)的：半導體泵浦連續(xù)激光測試系統(tǒng)，它包括基座、支架I、支架II、支架III、固定座、激光腔、半導體泵浦激光電源、反射透射鏡I、反射透射鏡II、光路預調(diào)鏡以及功率測試儀，其中，基座上端設置有滑軌，支架I、固定座、支架II以及支架III的底部均設置有與滑軌對應的滑塊，支架I、固定座、支架II以及支架III依次安裝在滑軌上，反射透射鏡I安裝在支架I上，反射透射鏡II安裝在支架II上，光路預調(diào)鏡安裝在支架III上，激光腔安裝在固定座上，激光腔的兩端設置有凸臺，半導體泵浦激光電源的兩極分別安裝在激光腔兩端的凸臺上，激光腔的中央設置有晶體固定孔，待測試晶體安裝在晶體固定孔中，功率測試儀的測試探頭位于支架I的外側，晶體固定孔的直徑為5-7mm，晶體固定孔的兩端設置有內(nèi)螺紋段， 晶體固定孔的兩端設置有用于固定待測試晶體的固定螺栓。

所述的反射透射鏡I、反射透射鏡II以及晶體固定孔的中心位于一條直線上。

所述的滑軌的數(shù)量至少為兩根。

所述的滑軌兩側設置有限位塊。

所述的晶體固定孔的長度為250-350mm。

所述的反射透射鏡I和反射透射鏡II上設置有介質(zhì)膜。

半導體泵浦激光電源可分為端面泵浦方式和側面泵浦（Side Pump）方式，其中，端面泵浦方式最大的優(yōu)點就是容易獲得好的光束質(zhì)量，可以實現(xiàn)高亮度的激光腔。端面泵浦的效率較高。這是因為，在泵浦激光模式不太差的情況下，泵浦光都能由會聚光學系統(tǒng)耦合到工作物質(zhì)中，耦合損失較少；另一方面，泵浦光也有一定的模式，而產(chǎn)生的振蕩光的模式與泵浦光模式有密切關系，匹配的效果好，因此，工作物質(zhì)對泵浦光的利用率也相對高一些。正是由于端面泵浦方式效率高、模式匹配好、波長匹配的優(yōu)點在國際上發(fā)展極為迅速，已成為激光學科的重點發(fā)展方向之一。它在激光打標、激光微加工、激光印刷、激光顯示技術、激光醫(yī)學和科研等領域都有廣泛的用途，具有很大的市場潛力。

側面泵浦（Side Pump）方式是由三個二極管泵浦模塊圍成一圈組成泵浦源，每個泵浦模塊又由3個帶微透鏡的二極管線陣組成。每個線陣的輸出功率平均為20W輸出波長為808nm。該裝置采用玻璃管巧妙地設計了泵浦腔和制冷通道。玻璃管的表面大部分鍍有808nm的高反膜，剩余的部分呈120°鍍有三條808nm增透膜，這樣便形成了一個泵浦腔。半導體泵浦源發(fā)出的光經(jīng)過三對光束整形透鏡會聚到這三條鍍增透膜的狹長區(qū)域內(nèi)，然后透過玻璃管的管壁，被晶體吸收。由于玻璃管大部分區(qū)域鍍有高反膜，使得泵浦光進入泵浦腔以后，便在其中來回的反射，直至被晶體充分地吸收，而且在晶體的橫截面上形成了均勻的增益分布，光光轉換效率高達40%，半導體泵浦固體激光器所用的二極管發(fā)出固定的，被激光晶體吸收的808nm波長的激光，光光轉換效率可高達40%以上，大大減少了運行成本，同時由于半導體泵浦激光的高轉換效率，減少了激光工作物質(zhì)的熱透鏡效應，大大改善了激光器的輸出光束質(zhì)量。

本實用新型的有益效果是：使用半導體泵浦激光電源，提高了激光的轉換效率，減少了激光腔的熱透鏡效應，大大改善了激光腔的輸出光束質(zhì)量，針對于圓柱形的晶體，明顯地提高了測試系統(tǒng)的精確度和測試的效率，并具有結構簡單、使用方便的特點。

附圖說明

圖1為本實用新型的結構示意圖；

圖2為本實用新型的側視圖；

圖3為圖1中A-A向的剖視圖；

圖4為本實用新型激光腔的結構示意圖；

圖中，1-基座，2-支架I，3-支架II，4-支架III，5-固定座，6-半導體泵浦激光電源，7-反射透射鏡I，8-反射透射鏡II，9-光路預調(diào)鏡，10-功率測試儀，11-滑軌，12-滑塊，13-凸臺，14-晶體固定孔，15-激光腔，16-固定螺栓，17-內(nèi)螺紋段，18-限位塊，19-介質(zhì)膜。

具體實施方式

下面結合附圖進一步詳細描述本實用新型的技術方案，但本實用新型的保護范圍不局限于以下所述。

如圖1、圖2所示，半導體泵浦連續(xù)激光測試系統(tǒng)，它包括基座1、支架I2、支架II3、支架III4、固定座5、激光腔15、半導體泵浦激光電源6、反射透射鏡I7、反射透射鏡II8、光路預調(diào)鏡9以及功率測試儀10，其中，基座1上端設置有滑軌11，支架I2、固定座5、支架II3以及支架III4的底部均設置有與滑軌11對應的滑塊12，支架I2、固定座5、支架II3以及支架III4依次安裝在滑軌11上，反射透射鏡I7安裝在支架I2上，反射透射鏡II8安裝在支架II3上，光路預調(diào)鏡9安裝在支架III4上，激光腔15安裝在固定座5上，如圖3，激光腔15的兩端設置有凸臺13，半導體泵浦激光電源6的兩極分別安裝在激光腔15兩端的凸臺13上，激光腔15的中央設置有晶體固定孔14，待測試晶體安裝在晶體固定孔14中，功率測試儀10的測試探頭位于支架I2的外側，晶體固定孔14的直徑為5-7mm，如圖4，晶體固定孔14的兩端設置有內(nèi)螺紋段17， 晶體固定孔14的兩端設置有用于固定待測試晶體的固定螺栓16。

所述的反射透射鏡I7、反射透射鏡II8以及晶體固定孔14的中心位于一條直線上。

所述的滑軌11的數(shù)量至少為兩根，增加了支架I2、固定座5、支架II3以及支架III4在滑軌11上的穩(wěn)定性。

所述的滑軌11兩側設置有限位塊18，防止支架I2、支架II3以及支架III4在滑動的過程中滑出滑軌11。

所述的晶體固定孔14的長度為250-350mm。

所述的反射透射鏡I7和反射透射鏡II8上設置有介質(zhì)膜19。

半導體泵浦激光電源6激發(fā)激光腔15產(chǎn)生激光，待測晶體進行激光倍頻，反射透射鏡I7和反射透射鏡II8形成激光振蕩，激光在反射透射鏡I7和反射透射鏡II8之間來回反射，在介質(zhì)膜19的作用下從而得到激光輸出，然后功率測試儀10測試探頭的接收并得到測試結果。針對于圓柱形的晶體，直接放入晶體固定孔14中并通過固定螺栓16固定，提高了圓柱形晶體的檢測效率。在每次進行測試前，需要通過光路預調(diào)鏡9進行光路預調(diào)。

以上所述僅是本實用新型的優(yōu)選實施方式，應當理解本實用新型并非局限于本文所披露的形式，不應看作是對其他實施例的排除，而可用于各種其他組合、修改和環(huán)境，并能夠在本文所述構想范圍內(nèi)，通過上述教導或相關領域的技術或知識進行改動。而本領域人員所進行的改動和變化不脫離本實用新型的精神和范圍，則都應在本實用新型所附權利要求的保護范圍內(nèi)。