本發(fā)明屬于微波遙感
技術(shù)領(lǐng)域：
，更具體地，涉及一種基于天線陣列增廣協(xié)方差矩陣的射頻干擾源定位方法。
背景技術(shù)：
：綜合孔徑技術(shù)已廣泛應(yīng)用于射電天文和地球遙感領(lǐng)域。該技術(shù)利用稀疏分布的小口徑天線陣列，通過(guò)每對(duì)天線的相關(guān)平均方式，獲取輻射場(chǎng)亮溫圖像的空間頻率信息，然后根據(jù)空間頻率信息重建輻射場(chǎng)的亮溫圖像。然而，當(dāng)輻射場(chǎng)中某一點(diǎn)的亮溫遠(yuǎn)高于它附近點(diǎn)的亮溫時(shí)，由于天線陣列所采樣的空間頻率區(qū)域有限，利用傅里葉變換算法重建的亮溫圖像將存在明顯的吉布斯現(xiàn)象(高亮溫點(diǎn)附近區(qū)域的亮溫被該高亮溫點(diǎn)影響，呈現(xiàn)出與真實(shí)亮溫不相符的值)。在地球遙感領(lǐng)域里，由于地表存在著射頻干擾源(radiofrequencyinterference，rfi)——高亮溫點(diǎn)，rfi附近的、通過(guò)傅里葉變換算法得出的亮溫?cái)?shù)據(jù)將變得毫無(wú)意義。例如第一顆基于綜合孔徑技術(shù)的星載輻射計(jì)miras(microwaveimagingradiometerbyaperturesynthesis)在探測(cè)具有rfi的輻射場(chǎng)時(shí)，rfi附近的亮溫?cái)?shù)據(jù)受到rfi影響呈現(xiàn)出錯(cuò)誤數(shù)值，從而制約了后續(xù)土壤濕度與海洋鹽度(soilmoistureandoceansalinity，smos)等地球物理參數(shù)的高精度反演。當(dāng)前消除或緩解rfi影響主要有兩大途徑：一是實(shí)現(xiàn)精確的rfi定位，并根據(jù)國(guó)際電信聯(lián)盟(internationaltelecommunicationunion，itu)《無(wú)線電規(guī)則》，由各國(guó)無(wú)線電頻譜管理部門強(qiáng)制關(guān)閉這些rfi；二是根據(jù)rfi的精確位置研究有效緩解rfi影響的成像方法。上述兩大途徑都需要rfi的精準(zhǔn)定位。在smos計(jì)劃的資助下，a.camps等人直接利用天線陣列獲取的空間頻率信息構(gòu)造直接協(xié)方差矩陣，然后利用基于協(xié)方差矩陣的空間譜估計(jì)方法實(shí)現(xiàn)rfi的定位。實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)表明，該方法比傅里葉變換算法具有更好的rfi定位性能。然而，受到陣列稀疏排布的制約，將空間譜估計(jì)方法直接應(yīng)用于綜合孔徑輻射計(jì)，其rfi定位性能依然較差。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的以上缺陷或改進(jìn)需求，本發(fā)明提供了一種基于天線陣列增廣協(xié)方差矩陣的射頻干擾源定位方法，其目的在于提高射頻干擾源定位性能。為實(shí)現(xiàn)上述目的，提供了一種基于天線陣列增廣協(xié)方差矩陣的射頻干擾源定位方法，包括如下步驟：(1)根據(jù)天線陣列a的uv分布來(lái)構(gòu)造虛擬填充天線陣列b；其中，天線陣列a的uv分布ua是指由天線陣列a所有的uv點(diǎn)形成的一個(gè)序列；uv點(diǎn)是指將天線陣列里的天線i與天線j的坐標(biāo)相減并作歸一化處理所得到的數(shù)值；(2)根據(jù)天線陣列a的可見(jiàn)度函數(shù)對(duì)虛擬填充天線陣列b進(jìn)行可見(jiàn)度賦值，獲取虛擬填充天線陣列b各天線對(duì)的uv點(diǎn)對(duì)應(yīng)的可見(jiàn)度；(3)根據(jù)虛擬填充天線陣列b的各天線對(duì)的uv點(diǎn)對(duì)應(yīng)的可見(jiàn)度構(gòu)造增廣協(xié)方差矩陣；(4)基于所構(gòu)建的增廣協(xié)方差矩陣，采用空間譜估計(jì)方法進(jìn)行射頻干擾源定位；其中，空間譜估計(jì)方法是指利用天線陣列各單元在空間不同位置點(diǎn)之間的關(guān)系去估計(jì)空間信號(hào)參數(shù)的方法。優(yōu)選地，上述基于天線陣列增廣協(xié)方差矩陣的射頻干擾源定位方法，其步驟(1)包括如下子步驟：(1.1)將天線陣列a中的天線i與天線j的坐標(biāo)相減并作歸一化處理，得到uv點(diǎn)其中，(xi,yi)是天線i在直角坐標(biāo)系中的坐標(biāo)，(xj,yj)是天線j在直角坐標(biāo)系中的坐標(biāo)；λ表示天線陣列a接收的電磁波的波長(zhǎng)；(1.2)將由天線陣列a所有的uv點(diǎn)形成的序列作為天線陣列a的uv分布，用ua表示；1.3)根據(jù)以下準(zhǔn)則構(gòu)建虛擬填充天線陣列b；(a)虛擬填充天線陣列b的陣元數(shù)m’范圍為[m，m(m-1)/2]；(b)虛擬填充天線陣列b的uv分布中的所有元素或大部分元素可從天線陣列a的uv分布ua中找到。優(yōu)選地，上述基于天線陣列增廣協(xié)方差矩陣的射頻干擾源定位方法，其步驟(2)包括如下子步驟：(2.1)對(duì)上述天線陣列a中天線i與天線j接收的電磁波信號(hào)做相關(guān)平均，得到可見(jiàn)度其中，*表示取共軛，e[·]表示對(duì)時(shí)間取平均；bi(t)表示天線i接收的電磁波信號(hào)，bj(t)表示天線j接收的電磁波信號(hào)；(2.2)將天線陣列a中的天線i與天線j組成一個(gè)天線對(duì)；該天線對(duì)對(duì)應(yīng)一個(gè)uv點(diǎn)(uij,vij)和一個(gè)可見(jiàn)度vij，它們是一一對(duì)應(yīng)的關(guān)系；因此天線陣列a的uv分布對(duì)應(yīng)著一組可見(jiàn)度序列，從而形成天線陣列a的可見(jiàn)度函數(shù)v(uij,vij)＝vij；(2.3)在天線陣列a的uv分布ua中存在將與這些uv點(diǎn)對(duì)應(yīng)的可見(jiàn)度取平均，獲得天線對(duì)的平均可見(jiàn)度用該平均可見(jiàn)度替代其中，i1、i2、…、in、j1、j2、…、jn表示天線陣列a第i1、i2、…、in、j1、j2、…、jn根天線，n≤m(m-1)/2；m是指天線陣列a的單元天線個(gè)數(shù)；(2.4)根據(jù)下式對(duì)虛擬填充天線陣列b的可見(jiàn)度賦值：其中，i'、j'表示虛擬填充天線陣列b的第i'、j'根天線，i、j表示天線陣列a的第i、j根天線，為天線對(duì)的平均可見(jiàn)度當(dāng)虛擬填充天線陣列b的uv分布中的所有元素能從天線陣列a的uv分布中找到時(shí)，從天線陣列a的uv分布中找到與虛擬填充天線陣列b的uv點(diǎn)(ui'j',vi'j')相同的uv點(diǎn)(uij,vij)，將與(uij,vij)對(duì)應(yīng)的平均可見(jiàn)度賦值給虛擬填充天線陣列b的uv點(diǎn)(ui'j',vi'j')對(duì)應(yīng)的可見(jiàn)度當(dāng)虛擬填充天線陣列b的uv分布中的大部分元素能從天線陣列a的uv分布中找到時(shí)，將虛擬填充天線陣列b的uv分布分成兩部分，第一部分的uv點(diǎn)數(shù)據(jù)能從天線陣列a的uv分布ua中找到，用ub-ⅰ表示該部分的uv分布，對(duì)該部分的可見(jiàn)度進(jìn)行如下賦值：從天線陣列a的uv分布中找到與虛擬填充天線陣列b的uv點(diǎn)(ui'j',vi'j')相同的uv點(diǎn)(uij,vij)，將與(uij,vij)對(duì)應(yīng)的平均可見(jiàn)度賦值給虛擬填充天線陣列b的uv點(diǎn)(ui'j',vi'j')對(duì)應(yīng)的可見(jiàn)度第二部分的uv點(diǎn)數(shù)據(jù)不能從天線陣列a的uv分布ua中找到，用ub-ⅱ表示該部分的uv分布，將虛擬填充天線陣列b中與ub-ⅱ對(duì)應(yīng)的可見(jiàn)度賦值為零。優(yōu)選地，上述基于天線陣列增廣協(xié)方差矩陣的射頻干擾源定位方法，所構(gòu)建的增廣協(xié)方差矩陣如下：其中，是指虛擬填充天線陣列b的天線對(duì)(1，1)所對(duì)應(yīng)的可見(jiàn)度；是指虛擬填充天線陣列b的天線對(duì)(1，2)所對(duì)應(yīng)的可見(jiàn)度，是指虛擬填充天線陣列b的天線對(duì)(1，m’)所對(duì)應(yīng)的可見(jiàn)度，是指虛擬填充天線陣列b的天線對(duì)(2，1)所對(duì)應(yīng)的可見(jiàn)度；是指虛擬填充天線陣列b的天線對(duì)(2，2)所對(duì)應(yīng)的可見(jiàn)度，是指虛擬填充天線陣列b的天線對(duì)(2，m’)所對(duì)應(yīng)的可見(jiàn)度，是指虛擬填充天線陣列b的天線對(duì)(m’，1)所對(duì)應(yīng)的可見(jiàn)度；是指虛擬填充天線陣列b的天線對(duì)(m’，2)所對(duì)應(yīng)的可見(jiàn)度，……，是指虛擬填充天線陣列b天線對(duì)(m’，m’)所對(duì)應(yīng)的可見(jiàn)度?？傮w而言，通過(guò)本發(fā)明所構(gòu)思的以上技術(shù)方案與現(xiàn)有技術(shù)相比，能夠取得下列有益效果：(1)本發(fā)明提供的基于天線陣列增廣協(xié)方差矩陣的射頻干擾源定位方法，由于其所構(gòu)建的增廣協(xié)方差矩陣的階數(shù)遠(yuǎn)高于a.camps等人提出的直接協(xié)方差矩陣，極大的提高了rfi定位性能；(2)本發(fā)明提供的基于天線陣列增廣協(xié)方差矩陣的射頻干擾源定位方法，其所構(gòu)建的增廣協(xié)方差矩陣由于其階數(shù)非常高，還能應(yīng)用于輻射場(chǎng)亮溫圖像重建。附圖說(shuō)明圖1是實(shí)施例提供的基于天線陣列增廣協(xié)方差矩陣的射頻干擾源定位方法的流程示意圖；圖2是實(shí)施例中的u型陣及對(duì)應(yīng)的虛擬填充天線陣列；圖3是實(shí)施例中的u型陣的uv分布及對(duì)應(yīng)的虛擬填充天線陣列的uv分布；圖4是實(shí)施例中的y型陣及對(duì)應(yīng)的虛擬填充天線陣列；圖5是實(shí)施例中的y型陣的uv分布及對(duì)應(yīng)的虛擬填充天線陣列的uv分布；圖6是實(shí)施例中的miras的天線陣列及對(duì)應(yīng)的虛擬填充天線陣列；圖7是利用傅里葉變換算法得到的rfi定位圖像；圖8是基于直接協(xié)方差矩陣的rfi定位圖像；圖9是基于增廣協(xié)方差矩陣的rfi定位圖像；圖10是實(shí)施例中的原始輻射場(chǎng)景圖像；圖11是對(duì)實(shí)施例中的原始輻射場(chǎng)景圖像基于直接協(xié)方差矩陣的亮溫重建圖像；圖12是對(duì)實(shí)施例中的原始輻射場(chǎng)景圖像基于增廣協(xié)方差矩陣的亮溫重建圖像。具體實(shí)施方式為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。此外，下面所描述的本發(fā)明各個(gè)實(shí)施方式中所涉及到的技術(shù)特征只要彼此之間未構(gòu)成沖突就可以相互組合。本發(fā)明實(shí)施例提供的基于天線陣列增廣協(xié)方差矩陣的射頻干擾源定位方法中，構(gòu)建增廣協(xié)方差矩陣的構(gòu)造方法的流程如圖1所示，包括如下步驟：(1)基于miras天線陣列a構(gòu)造虛擬填充天線陣列b；(2)根據(jù)miras天線陣列a的可見(jiàn)度函數(shù)，填充虛擬填充天線陣列b的可見(jiàn)度函數(shù)；(3)根據(jù)虛擬填充天線陣列b的可見(jiàn)度函數(shù)構(gòu)造增廣協(xié)方差矩陣。以下結(jié)合具體實(shí)施例來(lái)進(jìn)一步說(shuō)明；s1：將miras天線陣列a置于直角坐標(biāo)系中；則含有m根天線的天線陣列a中每根單元天線都具有坐標(biāo)，每根天線都接收輻射場(chǎng)發(fā)射的電磁波信號(hào)(隨時(shí)間變化的復(fù)函數(shù))，各天線的坐標(biāo)和它接收的信號(hào)如表1所示；表1miras天線陣列a的單元天線坐標(biāo)及其接收的電磁波信號(hào)天線12…m坐標(biāo)(x1,y1)(x2,y2)…(xm,ym)接收的電磁波信號(hào)b1(t)b2(t)…bm(t)s2：將miras天線陣列a中的天線i和天線j的坐標(biāo)相減并作歸一化處理，得到uv點(diǎn)，用(uij,vij)表示：其中，(xi,yi)是天線i的坐標(biāo)，(xj,yj)是天線j的坐標(biāo)；λ表示miras天線陣列a接收的電磁波的波長(zhǎng)；并對(duì)天線i和j接收的電磁波信號(hào)做相關(guān)平均，得到可見(jiàn)度vij；其中，*表示取共軛，e[·]表示對(duì)時(shí)間取平均；bi(t)表示天線i接收的電磁波信號(hào)，bj(t)表示天線j接收的電磁波信號(hào)；將miras天線陣列a中的單元天線兩兩組合，形成多個(gè)uv點(diǎn)及與uv點(diǎn)對(duì)應(yīng)的可見(jiàn)度；天線陣列a的所有uv點(diǎn)及對(duì)應(yīng)的可見(jiàn)度如下表2.1～2.m所示；表2.1miras天線陣列a的uv點(diǎn)及對(duì)應(yīng)的可見(jiàn)度列表一表2.2miras天線陣列a的uv點(diǎn)及對(duì)應(yīng)的可見(jiàn)度列表二表2.mmiras天線陣列a的uv點(diǎn)及對(duì)應(yīng)的可見(jiàn)度列表muv點(diǎn)(uij,vij)與可見(jiàn)度vij一一對(duì)應(yīng)，由miras天線陣列a所有可見(jiàn)度形成可見(jiàn)度函數(shù)v(uij,vij)＝vij；其自變量為(uij,vij)；由miras天線陣列a所有的uv點(diǎn)形成miras天線陣列a的uv分布umiras；在ua中存在其中，i1、i2、…、in、j1、j2、…、jn表示miras天線陣列a第i1、i2、…、in、j1、j2、…、jn根天線，n≤m(m-1)/2；而與這些uv點(diǎn)對(duì)應(yīng)的各不相同。s3：對(duì)作平均處理獲得平均可見(jiàn)度如下：用替代從而形成miras天線陣列a的uv分布及與uv點(diǎn)對(duì)應(yīng)的平均可見(jiàn)度函數(shù)miras天線陣列a的uv分布及對(duì)應(yīng)的平均可見(jiàn)度函數(shù)如下表3.1～3.m表所示；表3.1miras天線陣列a的uv分布及對(duì)應(yīng)的平均可見(jiàn)度函數(shù)列表之一表3.2miras天線陣列a的uv分布及對(duì)應(yīng)的平均可見(jiàn)度函數(shù)列表之二表3.mmiras天線陣列a的uv分布及對(duì)應(yīng)的平均可見(jiàn)度函數(shù)列表之ms4：根據(jù)以下準(zhǔn)則構(gòu)造另一含更多單元天線的、與天線陣列a對(duì)應(yīng)的虛擬填充天線陣列b；a、虛擬填充天線陣列b的陣元數(shù)m’范圍為[m，m(m-1)/2]；b、虛擬填充天線陣列b的uv分布中的所有元素能夠從天線陣列a的uv分布中尋找到，或者虛擬填充天線陣列b的uv分布中“絕大部分”元素能夠從天線陣列a的uv分布中尋找到；以下結(jié)合圖2和圖3舉例說(shuō)明虛擬填充天線陣列b的uv分布中的所有元素能夠從天線陣列a的uv分布中尋找到的情況；圖2中，“*”表示u型天線陣列的單元天線，“o”表示與u型陣列對(duì)應(yīng)的虛擬填充天線陣列的單元天線；圖3所示意的u型陣的uv分布及對(duì)應(yīng)的虛擬填充天線陣列的uv分布中，“*”表示u型天線陣列的uv分布，“o”表示與u型陣列對(duì)應(yīng)的虛擬填充天線陣列的uv分布，可以看出，u型陣列的uv分布與對(duì)應(yīng)的虛擬填充天線陣列的uv分布完全重合，即虛擬填充天線陣列b的uv分布中的所有元素能夠從天線陣列a的uv分布中尋找到。以下結(jié)合圖4和圖5舉例說(shuō)明虛擬填充天線陣列b的uv分布中的“絕大部分”元素能夠從天線陣列a的uv分布中尋找到的情況；圖4中，“*”表示y型天線陣列的單元天線，“o”表示與y型天線陣列對(duì)應(yīng)的虛擬填充天線陣列的單元天線；圖5中，“*”表示y型天線陣列的uv分布，“o”表示與y型陣列對(duì)應(yīng)的虛擬填充天線陣列的uv分布，可以看出，y型陣列的uv分布與對(duì)應(yīng)的虛擬填充天線陣列的uv分布只有絕大部分是重合的，即虛擬填充天線陣列b的uv分布中的“絕大部分”元素能夠從天線陣列a的uv分布中尋找到。s5：根據(jù)以下賦值準(zhǔn)則對(duì)虛擬填充天線陣列b進(jìn)行可見(jiàn)度的賦值；1、當(dāng)虛擬填充天線陣列b的uv分布中的所有元素均夠從天線陣列a的uv分布中尋找到時(shí)，從表3.1～3.m中找到與虛擬填充天線陣列b的uv點(diǎn)(ui'j',vi'j')相同的uv點(diǎn)(uij,vij)，將與(uij,vij)對(duì)應(yīng)的可見(jiàn)度賦值給與(ui'j',vi'j')對(duì)應(yīng)的可見(jiàn)度其中，i'、j'表示虛擬填充天線陣列b的第i'、j'根天線，i、j表示天線陣列a的第i、j根天線；2、當(dāng)虛擬填充天線陣列b的uv分布中的“絕大部分”元素能夠從天線陣列a的uv分布中尋找到時(shí)，將虛擬填充天線陣列b的uv分布分成兩部分；第一部分的uv點(diǎn)能從3.1～3.m中尋找到，用uⅰ表示該部分的uv點(diǎn)，則虛擬填充天線陣列b中與uⅰ對(duì)應(yīng)的可見(jiàn)度的賦值遵循上述準(zhǔn)則1；第二部分的uv點(diǎn)數(shù)據(jù)不能從3.1～3.m中尋找到，用uⅱ表示該部分的uv點(diǎn)，則將虛擬填充天線陣列b中與uⅱ對(duì)應(yīng)的可見(jiàn)度賦值為零；步驟s5中，賦值準(zhǔn)則具體如下式所示：其中，為表3.1～3.m中的用表示i、j表示miras的第i、j根天線；則形成虛擬填充天線陣列b的uv分布以及對(duì)應(yīng)的可見(jiàn)度，如表4.1～表4.m’所示；表4.1虛擬填充天線陣列b的uv分布及對(duì)應(yīng)的可見(jiàn)度函數(shù)列表之一表4.2虛擬填充天線陣列b的uv分布及對(duì)應(yīng)的可見(jiàn)度函數(shù)列表之二表4.m’虛擬填充天線陣列b的uv分布及對(duì)應(yīng)的可見(jiàn)度函數(shù)列表之m’s6：根據(jù)4.1～表4.m’的虛擬填充天線陣列b的可見(jiàn)度數(shù)據(jù)構(gòu)造如下增廣協(xié)方差矩陣，在本實(shí)施例中，miras天線陣列a的單元天線如圖6中的“*”表示，構(gòu)造與miras天線陣列a相對(duì)應(yīng)的虛擬填充天線陣列，如圖6中的“o”表示；其中miras天線陣列a的陣元數(shù)為69，與之對(duì)應(yīng)的虛擬填充天線陣列的陣元數(shù)為931。本實(shí)施例中，根據(jù)miras天線陣列a得出的uv分布及對(duì)應(yīng)的平均可見(jiàn)度函數(shù)如表3.1～表3.m所示，其中m等于69；miras所有uv點(diǎn)數(shù)據(jù)所形成的序列用umiras表示；虛擬填充天線陣列天線坐標(biāo)b所得到的相應(yīng)的uv分布及可見(jiàn)度函數(shù)，如表4.1～表4.m’所示，其中，m’等于931。相對(duì)比而言，現(xiàn)有技術(shù)中a.camps等人所提供的構(gòu)造協(xié)方差矩陣的方法，則是利用表3.1～3.m的可見(jiàn)度函數(shù)構(gòu)造直接協(xié)方差矩陣，如下式所示；比較本實(shí)施例所構(gòu)造的增廣協(xié)方差矩陣與現(xiàn)有技術(shù)的直接協(xié)方差矩陣可知，m’是遠(yuǎn)大于m的，增廣協(xié)方差矩陣的規(guī)模遠(yuǎn)大于直接協(xié)方差矩陣的規(guī)模。為了更進(jìn)一步說(shuō)明本發(fā)明所提供的增廣協(xié)方差矩陣的rfi定位性能，以下從分辨rfi的個(gè)數(shù)、分辨rfi的清晰程度等方面進(jìn)行闡述。在微波探測(cè)與遙感領(lǐng)域，rfi的定位性能將直接影響后期亮溫圖像優(yōu)化結(jié)果。對(duì)于同一輻射場(chǎng)景，基于傅里葉變換算法的rfi定位圖像如圖7所示，該圖中只能分辨出兩個(gè)rfi；基于a.camps等人提出的直接協(xié)方差矩陣的rfi定位圖像如圖8所示；比較而言，圖8比圖7呈現(xiàn)出更多的rfi；基于本發(fā)明所提供的增廣協(xié)方差矩陣的rfi定位圖像如圖9所示，圖9呈現(xiàn)的rfi最多；比較圖7、圖8和圖9可知，增廣協(xié)方差矩陣具有更好的分辨rfi個(gè)數(shù)性能。圖8和圖9均利用了多信號(hào)分類空間譜估計(jì)方法。雖然圖8呈現(xiàn)出的rfi個(gè)數(shù)比圖7呈現(xiàn)出的rfi個(gè)數(shù)多，但是圖8中有的rfi呈現(xiàn)出“條狀”，定位精度不準(zhǔn)確，清晰度較低；而圖9所呈現(xiàn)出的rfi個(gè)數(shù)不僅比圖7所呈現(xiàn)出的rfi個(gè)數(shù)多，而且圖9的rfi均為“點(diǎn)狀”，定位精度準(zhǔn)確，清晰度較高，直接表明本發(fā)明所構(gòu)造的增廣協(xié)方差矩陣具有更好的rfi定位性能。而本發(fā)明所構(gòu)建的增廣協(xié)方差矩陣可應(yīng)用于輻射場(chǎng)亮溫圖像重建。圖10所示為原始的輻射場(chǎng)圖像，圖11是對(duì)圖10的圖像基于直接協(xié)方差矩陣的輻射場(chǎng)亮溫重建圖像，圖12是對(duì)圖10的圖像基于增廣協(xié)方差矩陣的輻射場(chǎng)亮溫重建圖像；圖11與圖12均使用相同的波束形成方法重建亮溫圖像，從圖11中幾乎無(wú)法識(shí)別場(chǎng)景中的細(xì)節(jié)信息，而圖12則有效呈現(xiàn)出高樓的門窗以及典型目標(biāo)等細(xì)節(jié)信息，也進(jìn)一步驗(yàn)證了增廣協(xié)方差矩陣具有顯著提升成像性能的效果。本領(lǐng)域的技術(shù)人員容易理解，以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。當(dāng)前第1頁(yè)12