確定工件的臟污的制作方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及一種用于確定工件的臟污的裝置，具有用于在過濾膜上捕獲在通過使工件經受液體作用而引入液體中的特征液體體積中吸收的污垢顆粒的設備，以及用于分析來自已經被過濾膜捕獲的液體的污垢顆粒負載的系統(tǒng)。
[0002]本發(fā)明另外還涉及用于清潔工件的清潔設施，其包括用于確定工件的臟污的裝置，且本發(fā)明還涉及在清潔設施中清潔工件的方法。
【背景技術】
[0003]污垢顆粒，特別是碎片材料、灰塵、鑄造用砂、鹽殘余物或別的液體液滴，能夠損害工業(yè)生產的產品(諸如，例如，用于內燃發(fā)動機的注射噴嘴或者在內燃發(fā)動機的曲軸箱中的油管道)的功能。工業(yè)生產過程中工件的清潔因此極其重要。因而，在工業(yè)生產設施中，必須定期系統(tǒng)地檢查工件的清潔、干凈或臟污。檢查清潔或臟污在涉及對污垢敏感的工件的中間組裝操作和最終組裝操作之前特別重要。
[0004]WO 2012/045582 Al公開了一種用于確定工件的臟污的裝置，其中工件能夠利用流體進行沖洗以便從在該流體中的污垢顆粒負載推斷工件的臟污程度。

【發(fā)明內容】

[0005]本發(fā)明的目的是提供一種用于確定工件的臟污的裝置，其能夠集成在用于工件的清潔設施中并提供允許清潔設施的監(jiān)測和開環(huán)和/或閉環(huán)控制的測量變量。
[0006]該目的通過在開始提到的類型的用于確定工件的臟污的裝置來實現(xiàn)，其中用于分析的系統(tǒng)具有連接到計算機單元的分析裝置，其中平坦的過濾膜采取可位移的帶的形式，該可位移的帶可以借助于傳輸設備至少分段地相對于分析裝置移動，并且其中連接到分析裝置的計算機單元用于確定積聚在過濾膜的區(qū)段上的污垢顆粒的類型和/或數(shù)量和/或尺寸和/或尺寸分布的形式的污垢顆粒測量變量(M)。
[0007]為了分析在過濾膜上捕獲的污垢顆粒，分析裝置可包括掃描儀，該掃描儀優(yōu)選地通過利用激光束掃描來記錄帶有沉積在過濾膜上的污垢顆粒的過濾膜的表面的輪廓。然后，連接到掃描儀的計算機單元可以用于從掃描儀的掃描信號推斷積聚在過濾膜上的污垢顆粒的數(shù)量和/或尺寸和/或尺寸分布。
[0008]分析裝置優(yōu)選地具有用于光學記錄帶有布置在過濾膜上的污垢顆粒的過濾膜的區(qū)段的相機，計算機單元借助于圖像處理來確定污垢顆粒測量變量(M)。
[0009]在該情形中，計算機單元被設計成用于將確定的污垢顆粒測量變量(M)與可預定的閾值(S)進行比較并且連接到可視化設備。如果積聚在過濾膜的區(qū)段上的污垢顆粒的確定的污垢顆粒測量變量(M)超出可預定的閾值(S)，這允許例如利用入射光照明和/或暗場照明記錄的過濾膜的區(qū)段的圖像在可視化設備上被顯示給清潔設施的操作者。
[0010]該裝置包括用于提供能夠利用相機記錄的過濾膜的區(qū)段的透射光照明的第一照明裝置并且具有用于提供能夠利用相機記錄的過濾膜的區(qū)段的入射光照明和/或暗場照明的第二照明裝置。然后，計算機單元可以例如從在入射光照明下利用相機記錄的帶形式的過濾膜的區(qū)段的至少一個圖像計算積分亮度值(I)，以便然后將該值顯示為積聚在區(qū)段上的污垢顆粒負載的輻射度。
[0011]相機優(yōu)選地具有透鏡，該透鏡以合適的放大倍數(shù)記錄過濾膜的區(qū)段。在該裝置中的照明裝置此處可以取決于分析的目的而配備有各種光源。
[0012]本發(fā)明的另一概念是計算機單元將確定的污垢顆粒測量變量(M)(諸如，例如污垢顆粒的數(shù)量和/或污垢顆粒的確定的尺寸和/或確定的尺寸分布)與參考(例如，閾值
(S)或參考分布)進行比較。如果在帶形式的過濾膜的區(qū)段上的污垢顆粒的確定的數(shù)量、污垢顆粒的確定的尺寸、污垢顆粒的確定的尺寸超出參考，例如閾值，或者確定的尺寸分布偏離參考分布，則計算機單元可以例如也在可視化設備上顯示利用入射光照明和/或暗場照明記錄的過濾膜的對應的區(qū)段的圖像。
[0013]過濾膜的帶可以是連續(xù)的過濾帶。此處，如果裝置包括用于在系統(tǒng)中分析之后移除積聚在連續(xù)的過濾帶上的污垢顆粒負載的設備則是有利的。
[0014]為了連續(xù)地移動帶形式的過濾膜，在裝置中設置了傳輸設備。
[0015]例如，過濾膜可以由聚對苯二甲酸乙二酯(PET)的紡織織物制造。在該情形中，過濾膜盡可能地具有適合于期望的分析的過濾器精度，且優(yōu)選地涂覆有另外的輔助物質，例如，石蕊，和/或利用一個或多個輔助物質處理。
[0016]用于分析由過濾膜捕獲的污垢顆粒負載的系統(tǒng)還可以包括用于通過產生磁場來對齊布置在過濾膜上的可磁化的污垢顆粒的設備。
[0017]過濾膜至少分段地涂覆有一種物質，所述物質在其接觸工件經受的液體時改變物理屬性和/或化學屬性，該屬性取決于液體的化學組成，特別是液體的pH，這一事實意味著可以監(jiān)測在裝置中工件經受的液體的稠度。
[0018]用于在根據本發(fā)明的裝置中捕獲在流體體積中吸收的污垢顆粒負載的設備可以包括過濾站，帶形式的過濾膜穿過該過濾站用于吸收污垢顆粒。在該情形中，過濾站具有帶有用于供應充滿污垢顆粒的流體的饋送管道的主體并具有可以抵靠主體放置相對體，并且當相對體抵靠主體放置時，該相對體通過形成在主體和/或形成在相對體中的凹陷限定過濾腔，該過濾腔被平坦的過濾膜分成在主體側上的區(qū)段和在相對體側上的區(qū)段。在該情形中，過濾腔可以通過使相對體和主體相對于彼此移動而可選地被打開和關閉。相對體然后具有連接到抽吸管線的用于通過過濾膜將流體從過濾腔抽吸移除的排放管道。在此情形中，該設備優(yōu)選地包括用于記錄在抽吸管線中的抽吸壓力(P)的壓力傳感器，所述抽吸壓力(P)取決于沉積在過濾膜上的污垢顆粒負載的量。
[0019]為了實現(xiàn)穿過過濾站的流體體積能夠經受靜態(tài)壓力的效果，如果形成在主體和/或相對體中的凹陷被密封且例如被密封裝置包圍則是有利的，當相對體抵靠主體放置時，該密封裝置密封過濾腔。密封效果可以例如通過形狀配合的密封底座或通過密封裝置例如O形環(huán)來實現(xiàn)。
[0020]根據本發(fā)明，當過濾腔打開時，平坦的過濾膜(優(yōu)選地帶形式)抵靠相對體放置且然后從主體分開空氣間隙。該措施確保當帶形式的過濾膜位移時，在過濾站中已經積聚在面對主體的側面上的污垢顆粒沒有被剝離。
[0021]根據本發(fā)明，用于確定工件的臟污的裝置可以形成為靜止系統(tǒng)和可以在生產裝置中位移例如以便借助于隨機樣品調查工業(yè)生產過程中工件的臟污的可移動系統(tǒng)兩者。
[0022]用于捕獲在流體體積中吸收的污垢顆粒負載的設備可以集成在具有至少一個清潔站的清潔設施中，該清潔設施包括用于確定被供應到清潔站的特定數(shù)量的工件、單個工件或者工件的區(qū)段的初始臟污的裝置和/或用于確定已經在清潔站中被清潔的特定數(shù)量的工件、單個工件或者工件的區(qū)段的殘余臟污的裝置。
[0023]根據本發(fā)明的清潔設施具有至少一個清潔站并包括用于確定供應到清潔站的工件的臟污的裝置。在這方面，本發(fā)明的一個概念特別是在清潔設施中提供計算機單元的概念，該計算機單元包括用于自動地確定在液體的積聚流體體積的特征流體體積中吸收的污垢顆粒的盲值(B)的計算機程序。
[0024]本發(fā)明還延伸到用于設定在清潔設施中的清潔站的操作參數(shù)(At)的方法。此處，提出一方面取決于用于確定工件的臟污的裝置的確定的盲值(B)且另一方面取決于由該裝置記錄的清潔的工件的殘余臟污(R)來設定清潔參數(shù)。
[0025]因此，根據本發(fā)明的裝置使得特別是產生在清潔設施中在長的時間段內工件的清潔值或殘余臟污值的趨勢分析成為可能。例如，這允許做出關于清潔設施的操作狀態(tài)和在清潔設施中使用的清潔液體的過濾器的狀態(tài)的聲明。
[0026]對于在清潔設施中的工件的清潔來說，本發(fā)明特別提出在清潔之后連續(xù)地記錄工件的殘余臟污(R)和增加在清潔設施的一個或多個清潔站中供應到清潔設施中的工件的清潔時間和/或如果對清潔的工件記錄的殘余臟污(R)超出閾值(S)則發(fā)出警告信號。
【附圖說明】
[0027]本發(fā)明在下面基于在附圖中示意性地提出的示例性實施例來更詳細地解釋，在附圖中:
[0028]圖1示出了具有多個清潔站和控制計算機的清潔設施，該清潔設施具有用于分析工件的臟污的裝置；
[0029]圖2示出了用于利用過濾站分析工件的臟污的裝置的一部分；
[0030]圖3示出了過濾站的透視圖；以及
[0031]圖4示出了過濾站的部分截面。
【具體實施方式】
[0032]圖1中示出的清潔設施100集成在用于物品的生產線(未示出)中，例如用于在機動車輛中使用的內燃發(fā)動機的生產線。為了清潔工件102、104、106、108、110，設施100具有清潔站或清潔區(qū)段112、114、116。在清潔站或清潔區(qū)段112、114、116中，可以利用液體清潔流體，諸如例如設有清潔添加物的水，來清潔工件。在設施100中，存在輸送設備107，能夠利用該輸送設備107在箭頭115的方向上將工件102、104、106、108、110自動地移動通過清潔站112、114、116。在清潔站112中，形成有噴射噴嘴118。