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      一種pcb過(guò)孔內(nèi)壁質(zhì)量的檢測(cè)方法

      文檔序號(hào):8441343閱讀:836來(lái)源:國(guó)知局
      一種pcb過(guò)孔內(nèi)壁質(zhì)量的檢測(cè)方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001] 本發(fā)明涉及印刷電路板(PrintedCircuitBoard,PCB)檢測(cè)方法領(lǐng)域,尤其是一 種PCB過(guò)孔內(nèi)壁質(zhì)量的檢測(cè)方法。
      【背景技術(shù)】
      [0002] 印刷電路板(PrintedCircuitBoard,PCB)作為一個(gè)搭載各種各樣電子元件的主 要平臺(tái),擔(dān)負(fù)了連接電子零部件,使它們真正成為一個(gè)完整的功能模塊的作用。它作為任何 電子產(chǎn)品不可或缺的基礎(chǔ)構(gòu)成部分,對(duì)當(dāng)今世界的電子產(chǎn)業(yè)產(chǎn)生了巨大的影響。隨著電子 工業(yè)的飛速發(fā)展,人們對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量、性能穩(wěn)定的要求越來(lái)越高,因此PCB的檢測(cè)手段成為急 需研宄的課題。
      [0003] 在PCB生產(chǎn)的現(xiàn)有檢測(cè)技術(shù)中,一般使用飛針或?qū)S媚>邫z測(cè)PCB的導(dǎo)通電氣特 性,用自動(dòng)光學(xué)檢測(cè)(AutomaticOpticInspection,A0I)設(shè)備檢測(cè)PCB錫膏印刷、元件貼 放以及線條過(guò)孔的表面質(zhì)量。但目前沒(méi)有針對(duì)PCB過(guò)孔(via)內(nèi)壁孔化質(zhì)量(包括孔壁毛 糙度、孔壁孔化完整度以及孔化厚度等方面)的快速有效的檢測(cè)手段。而隨著電子技術(shù)的 飛速發(fā)展,傳送和處理信號(hào)的頻率越來(lái)越高,PCB過(guò)孔內(nèi)壁質(zhì)量直接影響到其導(dǎo)通性、幅頻 相頻特性和產(chǎn)品的一致性,因而在PCB板的生產(chǎn)過(guò)程中檢測(cè)出過(guò)孔內(nèi)壁質(zhì)量的缺陷是一項(xiàng) 非常有意義的工作,在PCB生產(chǎn)企業(yè)有廣泛的應(yīng)用空間。
      [0004] 現(xiàn)有國(guó)內(nèi)外PCB生產(chǎn)企業(yè)針對(duì)PCB過(guò)孔質(zhì)量檢測(cè)主要依賴AOI檢測(cè)系統(tǒng)來(lái)進(jìn)行 [6-8]。通常米用CCD(Charge-coupledDevice)攝像機(jī)或者CIS(ContactImageSensor)攝 取檢測(cè)圖像,將其轉(zhuǎn)化為數(shù)字信號(hào),再采用計(jì)算機(jī)硬件與軟件技術(shù)對(duì)圖像數(shù)字信號(hào)進(jìn)行處 理,從而得到所需的目標(biāo)圖像特征值,并在此基礎(chǔ)上實(shí)現(xiàn)模式識(shí)別、坐標(biāo)計(jì)算、灰度分布圖 等多種功能 [9_11]。根據(jù)被測(cè)目標(biāo)的不同,輸出的檢測(cè)結(jié)果可以是被測(cè)物體的尺寸或形位誤 差,也可以是被測(cè)物體的表面完整性等。
      [0005] 但是,現(xiàn)有AOI設(shè)備實(shí)現(xiàn)PCB過(guò)孔檢測(cè)存在著明顯的缺點(diǎn),AOI設(shè)備只能檢測(cè)直射 光線所能到達(dá)的地方,因而僅能檢測(cè)孔形狀、直徑、位置等屬性,但對(duì)于孔內(nèi)壁缺陷(比如 孔內(nèi)壁有細(xì)小毛刺,孔內(nèi)壁有螺紋,以及由此帶來(lái)的孔化不完全、孔化厚度不合格等問(wèn)題) 則無(wú)法做到有效的檢測(cè),這些缺陷直接影響PCB板的后續(xù)加工質(zhì)量(如焊盤起泡、焊接不全 等),以及PCB成品的質(zhì)量(如阻抗特性、幅頻特性等)。當(dāng)前PCB生產(chǎn)檢測(cè)過(guò)程中一般采 用過(guò)程控制來(lái)保證PCB的孔化質(zhì)量,而沒(méi)有專門儀器設(shè)備能對(duì)孔內(nèi)壁進(jìn)行檢測(cè)。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0006] 為了克服已有PCB檢測(cè)方式的無(wú)法對(duì)過(guò)孔內(nèi)壁質(zhì)量實(shí)現(xiàn)檢測(cè)、無(wú)法保障PCB產(chǎn)品 質(zhì)量的不足,本發(fā)明提供一種有效實(shí)現(xiàn)對(duì)過(guò)孔內(nèi)壁質(zhì)量的檢測(cè)、保障PCB產(chǎn)品質(zhì)量的PCB過(guò) 孔內(nèi)壁質(zhì)量的檢測(cè)方法。
      [0007] 本發(fā)明解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是:
      [0008] -種PCB過(guò)孔內(nèi)壁質(zhì)量的檢測(cè)方法,所述檢測(cè)方法包括如下步驟:
      [0009] 步驟101 :獲取待測(cè)PCB和標(biāo)準(zhǔn)模板;
      [0010] 步驟102 :運(yùn)用太赫茲波成像技術(shù)采集待測(cè)PCB原始圖像和標(biāo)準(zhǔn)模板原始圖像;
      [0011] 步驟103 :對(duì)待測(cè)PCB原始圖像和標(biāo)準(zhǔn)模板原始圖像進(jìn)行閾值化、去噪處理,得到 待測(cè)復(fù)原圖像和標(biāo)準(zhǔn)模板復(fù)原圖像;
      [0012] 步驟104 :分別計(jì)算標(biāo)準(zhǔn)模板復(fù)原圖像和待測(cè)復(fù)原圖像的特征函數(shù),獲取過(guò)孔圓 心和孔徑信息,過(guò)程如下:
      [0013] 設(shè)半徑a的圓孔上任意點(diǎn)P(r, 0 )和觀察平面上點(diǎn)兩點(diǎn)距離L,孔和觀 察面距離Z,太赫茲脈沖在時(shí)間域和空間域的分布均為高斯型,入射波脈沖寬度為T,中心 角頻率《,波數(shù)k= 2JI/A,則
      【主權(quán)項(xiàng)】
      1. 一種PCB過(guò)孔內(nèi)壁質(zhì)量的檢測(cè)方法,其特征在于:所述檢測(cè)方法包括如下步驟: 步驟101 :獲取待測(cè)PCB和標(biāo)準(zhǔn)模板; 步驟102 :運(yùn)用太赫茲波成像技術(shù)采集待測(cè)PCB原始圖像和標(biāo)準(zhǔn)模板原始圖像; 步驟103 :對(duì)待測(cè)PCB原始圖像和標(biāo)準(zhǔn)模板原始圖像進(jìn)行閾值化、去噪處理,得到待測(cè) 復(fù)原圖像和標(biāo)準(zhǔn)模板復(fù)原圖像; 步驟104 :分別計(jì)算標(biāo)準(zhǔn)模板復(fù)原圖像和待測(cè)復(fù)原圖像的特征函數(shù),獲取過(guò)孔圓心和 孔徑信息,過(guò)程如下: 設(shè)半徑a的圓孔上任意點(diǎn)P(r, Θ )和觀察平面上點(diǎn)p),兩點(diǎn)距離L,孔和觀察面 距離Z,太赫茲脈沖在時(shí)間域和空間域的分布均為高斯型,入射波脈沖寬度為T,中心角頻 率ω,波數(shù)k = 2 π / λ,則
      平面波入射時(shí),入射波光場(chǎng)描述為
      透射波光場(chǎng)描述戈
      考慮光從P到Q傳播 時(shí)間,將E帶入到U中時(shí)取
      ^ c為光速,既
      光場(chǎng)強(qiáng)度I = |U|2; 標(biāo)準(zhǔn)模板復(fù)原圖像孔圓心及半徑數(shù)據(jù)從標(biāo)準(zhǔn)模板的PCB文件中獲?。淮郎y(cè)PCB復(fù)原圖 像用8-鄰域輪廓提取法獲得圓孔邊緣輪廓,再用最小二乘法擬合計(jì)算圓心坐標(biāo)與半徑; 步驟105 :將所得的標(biāo)準(zhǔn)模板復(fù)原圖像和待測(cè)復(fù)原圖像的特征信息進(jìn)行模板匹配運(yùn) 算,過(guò)程如下:
      首先進(jìn)行圖像配準(zhǔn),既通過(guò)對(duì)PCB孔心坐標(biāo)進(jìn)行坐標(biāo)變換,使復(fù)原圖像坐標(biāo)和標(biāo)準(zhǔn)模 板坐標(biāo)相同; 對(duì)于任意二維圖像上的點(diǎn),均可以通過(guò)變換矩陣 實(shí)現(xiàn)對(duì)它的幾 何變換,既
      ,其中,子矩陣
      實(shí)現(xiàn)了對(duì)目標(biāo)點(diǎn)的旋轉(zhuǎn)變換,子矩陣
      實(shí)現(xiàn)對(duì)目標(biāo)點(diǎn)的平移變換; 由于一組對(duì)應(yīng)坐標(biāo)點(diǎn)確定了 2條方程,故通過(guò)最少三組對(duì)應(yīng)坐標(biāo)點(diǎn)確定變換矩陣G ; 以各個(gè)孔心坐標(biāo)為參考點(diǎn)對(duì)標(biāo)準(zhǔn)模板和待測(cè)復(fù)原模板各個(gè)孔透射場(chǎng)場(chǎng)強(qiáng)分布進(jìn)行對(duì) 比分析,得出任意坐標(biāo)點(diǎn)上的場(chǎng)強(qiáng)差異; 步驟106 :若匹配運(yùn)算結(jié)果在生產(chǎn)允許誤差范圍內(nèi),則顯示檢測(cè)合格; 步驟107 :若匹配運(yùn)算結(jié)果超出生產(chǎn)允許誤差范圍,則顯示檢測(cè)不合格。
      2. 如權(quán)利要求1所述的一種PCB過(guò)孔內(nèi)壁質(zhì)量的檢測(cè)方法,其特征在于:所述步驟107 中,輸出缺陷區(qū)域信息,所述缺陷區(qū)域信息包含該區(qū)域坐標(biāo)參數(shù)、該坐標(biāo)位置實(shí)際檢測(cè)到場(chǎng) 強(qiáng)與標(biāo)準(zhǔn)模板的差異、該缺陷區(qū)域區(qū)域透射系數(shù)與標(biāo)準(zhǔn)模板的差異,根據(jù)提供的坐標(biāo)參數(shù) 將該區(qū)域的放大圖像在顯示屏上呈現(xiàn)出來(lái)供檢驗(yàn)人員做最終判斷。
      3. 如權(quán)利要求1或2所述的一種PCB過(guò)孔內(nèi)壁質(zhì)量的檢測(cè)方法,其特征在于:所述步 驟103中,采用迭代法進(jìn)行圖像閾值分割。
      4. 如權(quán)利要求1或2所述的一種PCB過(guò)孔內(nèi)壁質(zhì)量的檢測(cè)方法,其特征在于:所述步 驟103中,所述去噪采用小波去噪函數(shù):過(guò)程如下:第一、將信號(hào)進(jìn)行小波變換,第二、利用 信號(hào)和噪聲在空間上的不同性態(tài),對(duì)小波系數(shù)進(jìn)行信號(hào)剪裁,把噪聲從信號(hào)中去除,第三、 利用重構(gòu)算法還原圖像。
      5. 如權(quán)利要求1或2所述的一種PCB過(guò)孔內(nèi)壁質(zhì)量的檢測(cè)方法,其特征在于:步驟104 中,8-鄰域輪廓提取法的過(guò)程如下: 對(duì)于一副二值圖像,設(shè)背景像素為黑色,對(duì)象為白色,對(duì)于圖像中某一黑色背景像素 點(diǎn),若其8個(gè)鄰域內(nèi)都是背景像素點(diǎn),則將該點(diǎn)置為白色,遍歷圖像所有像素點(diǎn)便可完成對(duì) 所有圓孔輪廓的提?。? 用最小二乘法完成圓心坐標(biāo)半徑的擬合計(jì)算: 對(duì)于邊緣輪廓上的N組數(shù)據(jù)(Xi,yi),設(shè)圓心坐標(biāo)P(A,B),半徑為R,則圓方程寫為 (x-A) 2+(y-B)2= R2 記殘差平方和函數(shù)為
      ^,解得圓心坐標(biāo)及半徑為:
      【專利摘要】一種PCB過(guò)孔內(nèi)壁質(zhì)量的檢測(cè)方法,包括如下步驟:步驟101:獲取待測(cè)PCB和標(biāo)準(zhǔn)模板;步驟102:運(yùn)用太赫茲波成像技術(shù)采集待測(cè)PCB原始圖像和標(biāo)準(zhǔn)模板原始圖像;步驟103:對(duì)待測(cè)PCB原始圖像和標(biāo)準(zhǔn)模板原始圖像進(jìn)行閾值化、去噪處理,得到待測(cè)復(fù)原圖像和標(biāo)準(zhǔn)模板復(fù)原圖像;步驟104:分別計(jì)算復(fù)原圖像的特征函數(shù),獲取過(guò)孔圓心和孔徑信息;步驟105:將標(biāo)準(zhǔn)模板復(fù)原圖像和待測(cè)復(fù)原圖像的特征信息進(jìn)行模板匹配運(yùn)算;步驟106:若匹配運(yùn)算結(jié)果在生產(chǎn)允許誤差范圍內(nèi),則顯示檢測(cè)合格;步驟107:若匹配運(yùn)算結(jié)果超出生產(chǎn)允許誤差范圍,則顯示檢測(cè)不合格。本發(fā)明有效實(shí)現(xiàn)對(duì)過(guò)孔內(nèi)壁質(zhì)量的檢測(cè)、保障PCB產(chǎn)品質(zhì)量。
      【IPC分類】G01N21-3581, G06T7-00
      【公開號(hào)】CN104764712
      【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510214044
      【發(fā)明人】劉愷, 楊力帆
      【申請(qǐng)人】浙江工業(yè)大學(xué)
      【公開日】2015年7月8日
      【申請(qǐng)日】2015年4月29日
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