一種樣品測量裝置加熱結(jié)構(gòu)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]
本發(fā)明涉及一種加熱結(jié)構(gòu)，尤其是應(yīng)用于樣品測量裝置加熱結(jié)構(gòu)。
【背景技術(shù)】
[0002]在工業(yè)過程氣體在線分析過程中，樣品成分非常復(fù)雜，在溫度較低情況下，樣品易凝固，導(dǎo)致氣體分析儀樣品測量池光學(xué)元件及池體內(nèi)壁被污染，從而增加了維護(hù)頻率和維護(hù)成本。另外，在溫度較低情況下，樣品中的水分更加容易腐蝕氣體分析儀樣品測量池，從而可能導(dǎo)致氣體分析儀系統(tǒng)崩潰。為了保障氣體分析儀的使用效果，通常情況下，氣體分析儀的樣品測量池往往會設(shè)置加熱裝置，一般是通過加熱板輻射方式加熱，同時將帶加熱板的樣品測量池放置在保溫箱中，從而使得樣品測量池中的樣品保持一定溫度。在此情況下，加熱板將對樣品測量池和整個保溫箱空間同時加熱，熱量的傳遞方式主要靠加熱板熱量的輻射及內(nèi)部對流，加熱效率低，保溫箱體內(nèi)溫度分布不均勻，造成儀器各部件受熱不均及熱量的嚴(yán)重浪費。此類加熱方式既不能選擇性地加熱樣品測量池的不同部位，也不能滿足較高溫度的加熱需求，存在一定局限性。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]為了解決上述問題，本發(fā)明提供一種加熱效率高的樣品測量裝置加熱結(jié)構(gòu)，有針對性地加熱不同區(qū)域。
[0004]如圖1和圖2所示，本發(fā)明提出一種樣品測量裝置加熱結(jié)構(gòu)，包括至少一個子熱源，所述子熱源分散布置于各目標(biāo)加熱區(qū)域，各子熱源由相互獨立的溫度控制模塊驅(qū)動。
[0005]在優(yōu)選地實施例中，所述樣品測量裝置為多次反射光譜測量裝置，包括光學(xué)元件及其安裝部分、樣品測量池和加熱裝置，所述加熱裝置用于加熱光學(xué)元件及其安裝部分和樣品測量池。
[0006]在優(yōu)選地實施例中，所述子熱源以接觸傳導(dǎo)的方式作用于各目標(biāo)加熱區(qū)域。
[0007]在優(yōu)選地實施例中，所述加熱裝置外設(shè)置有保溫箱。
[0008]在優(yōu)選地實施例中，所述子熱源材質(zhì)可以是陶瓷、云母、鑄銅、鑄鐵、鑄鋁、不銹鋼、石英中的一種及其組合。
[0009]通過上述改進(jìn)的技術(shù)方案，該發(fā)明有益的技術(shù)效果為，子熱源以接觸傳導(dǎo)方式作用于樣品測量池，提高了加熱效率。同時，由于子熱源分別加熱于樣品測量池不同目標(biāo)區(qū)域，且子熱源由相互獨立的溫度控制模塊驅(qū)動，使得可以選擇性地加熱樣品測量池的不同區(qū)域，使加熱裝置加熱均勻，可以有效達(dá)成溫控目標(biāo)，同時還具有加熱效率高、功耗低、可靠性高的特點。
【附圖說明】
[0010]附圖1是本發(fā)明一種樣品測量裝置加熱結(jié)構(gòu)主視圖。
[0011]附圖2是圖1 一種樣品測量裝置加熱結(jié)構(gòu)沿箭頭所示方向的剖視圖。
[0012]附圖3為本發(fā)明一種樣品測量裝置實施例。
[0013]附圖4為本發(fā)明一種樣品測量裝置實施例。
[0014]附圖5為本發(fā)明一種樣品測量裝置實施例。
【具體實施方式】
[0015]以下將結(jié)合附圖所示的【具體實施方式】對本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)描述。但這些實施方式并不限制本發(fā)明領(lǐng)域的普通技術(shù)人員根據(jù)這些實施方式所做出的結(jié)構(gòu)、方法、或功能上的變換均包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。
[0016]如圖1和圖2所示，圖1為本發(fā)明一種樣品測量裝置加熱結(jié)構(gòu)主視圖，圖2為圖1一種樣品測量裝置加熱結(jié)構(gòu)沿箭頭所示方向的剖視圖，在本發(fā)明【具體實施方式】中，包括三個子熱源1，所述三個子熱源I分散布置于樣品測量池3的各目標(biāo)加熱區(qū)域2，各子熱源由相互獨立的溫度控制模塊驅(qū)動。
[0017]根據(jù)具體實施需要，部分子熱源之間也可以共享同一溫度控制模塊。
[0018]在本實施例中，所述的溫度控制模塊用于接受溫度傳感器的溫度數(shù)據(jù)，根據(jù)預(yù)設(shè)的控制策略控制加熱目標(biāo)的溫度。
[0019]如附圖3所示，其為樣品測量裝置加熱結(jié)構(gòu)的一種實施例，所述樣品測量裝置為入射光5依次經(jīng)過第一光學(xué)元件及其安裝部分7、樣品測量池3和第二光學(xué)元件及其安裝部分8后，由第二光學(xué)元件及其安裝部分8產(chǎn)生出射光6，所述子熱源I加熱于第一光學(xué)元件及其安裝部分7、樣品測量池3和第二光學(xué)元件及其安裝部分8。
[0020]如附圖4所示，其為樣品測量裝置加熱結(jié)構(gòu)的一種實施例，所述樣品測量裝置為入射光5依次經(jīng)過第一光學(xué)元件及其安裝部分7、樣品測量池3和第二光學(xué)元件及其安裝部分8后，被第二光學(xué)元件及其安裝部分8回返，并由第一光學(xué)元件及其安裝部分7產(chǎn)生出射光6，所述子熱源I加熱于第一光學(xué)元件及其安裝部分7、樣品測量池3和第二光學(xué)元件及其安裝部分8。
[0021]如附圖5所示，其為樣品測量裝置加熱結(jié)構(gòu)的一種實施例，通過對所述第一光學(xué)元件及其安裝部分7、第二光學(xué)元件及其安裝部分8的口徑、曲率等參數(shù)及兩者之間的距離，使得入射光5經(jīng)過第一光學(xué)元件及其安裝部分7后，在樣品測量池3中完成預(yù)定次數(shù)的多次來回反射，由一光學(xué)元件及其安裝部分7產(chǎn)生出射光6，出射光6與入射光5非平行，并具有大于零度的夾角。
[0022]在本實施例中，所述子熱源I以接觸傳導(dǎo)的方式作用于第一光學(xué)元件及其安裝部分7、第二光學(xué)元件及其安裝部分8和樣品測量池3。
[0023]為了對樣品測量池3各目標(biāo)加熱區(qū)域2進(jìn)行有針對性地加熱，子熱源I數(shù)量根據(jù)需要加熱的目標(biāo)區(qū)域而定。
[0024]在本實施例中，加熱裝置外設(shè)置有保溫箱4，減少熱量損失。
[0025]在本實施例中，子熱源I材質(zhì)可以是陶瓷、云母、鑄銅、鑄鐵、鑄鋁、不銹鋼、石英中的一種及其組合。
[0026]在本實施例中，子熱源加熱方式包括電加熱、磁加熱、微波加熱。
[0027]在具體實施過程中，各子熱源分散設(shè)置于于第一光學(xué)元件及其安裝部分7、第二光學(xué)元件及其安裝部分8和樣品測量池3，并由相互獨立的溫度控制模塊驅(qū)動。
[0028]通過上述改進(jìn)的技術(shù)方案，該發(fā)明有益的技術(shù)效果為，子熱源以接觸傳導(dǎo)方式作用于不同目標(biāo)區(qū)域，提高了加熱效率。同時，由于子熱源分別加熱于樣品測量池不同目標(biāo)區(qū)域，且子熱源由相互獨立的溫度控制模塊驅(qū)動，使得可以選擇性地加熱樣品測量池的不同區(qū)域，使加熱裝置加熱均勻，可以有效達(dá)成溫控目標(biāo)，同時還具有加熱效率高、功耗低、可靠性高的特點。
【主權(quán)項】
1.一種樣品測量裝置加熱結(jié)構(gòu)，包括至少一個子熱源，其特征在于，所述子熱源分散布置于各目標(biāo)加熱區(qū)域，各子熱源由相互獨立的溫度控制模塊驅(qū)動。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種樣品測量裝置加熱結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述樣品測量裝置為多次反射光譜測量裝置，包括光學(xué)元件及其安裝部分、樣品測量池和加熱裝置，所述加熱裝置用于加熱光學(xué)元件及其安裝部分和樣品測量池。3.根據(jù)權(quán)利要求1-2任一所述的一種樣品測量裝置加熱結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述子熱源以接觸傳導(dǎo)的方式作用于各目標(biāo)加熱區(qū)域。4.根據(jù)權(quán)利要求1-2任一所述的一種樣品測量裝置加熱結(jié)構(gòu)，其特征在于，加熱裝置外設(shè)置有保溫箱。5.根據(jù)權(quán)利要求1-2任一所述的一種樣品測量裝置加熱結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述子熱源材質(zhì)是陶瓷、云母、鑄銅、鑄鐵、鑄鋁、不銹鋼、石英中的一種及其組合。
【專利摘要】本發(fā)明提供的一種樣品測量裝置加熱結(jié)構(gòu)，包括至少一個子熱源，其特征在于，所述子熱源分散布置于各目標(biāo)加熱區(qū)域，各子熱源由相互獨立的溫度控制模塊驅(qū)動。所述樣品測量裝置為多次反射光譜測量裝置，包括光學(xué)元件及其安裝部分、樣品測量池和加熱裝置，所述加熱裝置用于加熱光學(xué)元件及其安裝部分和樣品測量池。由于子熱源分別加熱于樣品測量池不同目標(biāo)區(qū)域，且子熱源由相互獨立的溫度控制模塊驅(qū)動，使得可以選擇性地加熱樣品測量池的不同區(qū)域，使加熱裝置加熱均勻，可以有效達(dá)成溫控目標(biāo)，同時還具有加熱效率高、功耗低、可靠性高的特點。
【IPC分類】G01N21/25
【公開號】CN105158170
【申請?zhí)枴緾N201510308073
【發(fā)明人】鄧文平, 朱道龍
【申請人】蘇州譜道光電科技有限公司
【公開日】2015年12月16日
【申請日】2015年6月8日