。圖2為本 發(fā)明實(shí)施例中獲取最優(yōu)分割線矩陣的流程圖。即圖2所示流程圖為上述圖1所示實(shí)施例中 步驟s3 "根據(jù)步驟S2更新后的第一矩陣W獲取最優(yōu)分割線矩陣Fz"的一種具體實(shí)現(xiàn)方式， 如圖2所示，根據(jù)步驟S2更新后的第一矩陣W獲取最優(yōu)分割線矩陣Fz，具體可以包括如下 步驟：
[0040] (1)從步驟S2更新后的第一矩陣W的第一行開(kāi)始對(duì)每列逐列掃描；將每列中前三 個(gè)〇和1交界處1的位置提取并保存，如果不存在則為零，形成一個(gè)3Xn的第二矩陣R; [0041] (2)從第二矩陣R的第三行中獲取不為零的最小值是a3min;
[0042] (3)從第二矩陣R的第二行獲取小于a3min的非零值的最大值a2max與最小值 a2min；
[0043] (4)從第二矩陣R的第一行獲取全部小于a3min并且大于a2min的值集合al;
[0044] (5)判斷al是否為空集，如果al為空集，則分割線a=a3min，結(jié)束尋本次尋找， 執(zhí)行步驟（7);否則執(zhí)行步驟（6);
[0045] (6)如果al不為空集，則分割線a=a2max_l，將a放入最優(yōu)分割線矩陣Fz;執(zhí)行 步驟（7);
[0046] (7)判斷a是否小于m，如果a〈m，則執(zhí)行步驟⑶；否則如果a彡m，則獲取最優(yōu)分 割線矩陣Fz的過(guò)程結(jié)束；
[0047] (8)從上次尋找的最優(yōu)分割線所在的行數(shù)對(duì)每列逐列掃描，將每列中前三個(gè)0和1 交界處1的位置提取并保存，如果不存在則為零，形成一個(gè)新的3Xn的第二矩陣R;并執(zhí)行 步驟（2)。
[0048] 采用上述步驟，對(duì)更新后的第一矩陣W循環(huán)掃描，最終可以得到最優(yōu)分割線矩陣 Fz〇
[0049] 進(jìn)一步可選地，在上述實(shí)施例的技術(shù)方案的基礎(chǔ)上，其中網(wǎng)格的間距小于或者等 于磨盤(pán)口徑的1/4。該磨盤(pán)即為加工待加工工件面型的磨盤(pán)。
[0050] 進(jìn)一步可選地，其中網(wǎng)格劃分時(shí)網(wǎng)格的橫向和縱向的間距相等或者不等。具體根 據(jù)實(shí)際加工需求設(shè)置。
[0051] 進(jìn)一步可選地，如上的方法中，其中加工閾值為待加工工件面型中所有駐留點(diǎn)的 面型誤差的平均值。
[0052] 進(jìn)一步可選地，如上的方法中，其中根據(jù)駐留點(diǎn)集合P、最優(yōu)分割線矩陣Fz和各駐 留點(diǎn)的縱坐標(biāo)值，生成待加工工件面型加工軌跡，具體可以采用如下方式：若矩陣Fz有k個(gè) 元素，根據(jù)最優(yōu)分割線矩陣Fz和各駐留點(diǎn)的縱坐標(biāo)值，則將駐留點(diǎn)集合P分割成k+1個(gè)子 集（P1，P2，…，Pi，…Pk+1)，以保證在每個(gè)子集Pi*在縱坐標(biāo)方向不存在不連續(xù)的駐留 點(diǎn)。其中i為駐留點(diǎn)子集的序號(hào)，如果i是奇數(shù)，軌跡規(guī)劃方向和該駐留點(diǎn)子集中駐留點(diǎn)的 排列次序是相同的，對(duì)Pi不須做處理；如果i是偶數(shù)，軌跡規(guī)劃方向和該駐留點(diǎn)子集中駐留 點(diǎn)的排列次序是相反的則需要對(duì)Pi中的駐留點(diǎn)做倒序，最終得到新的駐留點(diǎn)集合P'，并生 成加工軌跡。駐留點(diǎn)集合P'所標(biāo)識(shí)的所有駐留點(diǎn)連接起來(lái)便生成了加工軌跡。
[0053] 下面以加工一塊待加工的光學(xué)元件為〇300mm的石英平面玻璃為實(shí)例，詳細(xì)介紹 本發(fā)明的技術(shù)方案。
[0054] 結(jié)合圖1和圖2所示的本發(fā)明方法的流程圖，下面僅以一塊待加工的光學(xué)元件為 〇300mm的石英平面玻璃為實(shí)例描述本發(fā)明中加工軌跡的生成過(guò)程，該實(shí)例對(duì)實(shí)現(xiàn)本發(fā)明 方法的具體實(shí)施步驟如下：
[0055] 步驟1 :對(duì)待加工的石英玻璃表面誤差進(jìn)行20*20的網(wǎng)格數(shù)據(jù)點(diǎn)離散，并生成與離 散點(diǎn)相對(duì)應(yīng)的20X20的零矩陣W，設(shè)定加工閾值為0. 2um，對(duì)任意一個(gè)網(wǎng)格如果該處的面形 殘差大于〇.2um，那么該處存在駐留點(diǎn)，否則不存在，如圖3所示是本發(fā)明的駐留點(diǎn)填充前 面形網(wǎng)格示意圖。圖3中黑色表示存在駐留點(diǎn)的位置，白色的位置表示不存在駐留點(diǎn)。提 取離散點(diǎn)誤差值大于加工閾值的點(diǎn)作為初始的磨頭要運(yùn)動(dòng)的加工點(diǎn)，同時(shí)將與加工點(diǎn)在矩 陣W的對(duì)應(yīng)位置的值變?yōu)?，得到一個(gè)僅由0和1組成的矩陣W。
[0056]
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種加工軌跡的生成方法，其特征在于：包括如下步驟： 步驟Sl :對(duì)待加工工件面型進(jìn)行橫向和縱向的網(wǎng)格劃分，得到一組m行η列的網(wǎng)格；將 網(wǎng)格中交點(diǎn)的面型誤差大于或者等于加工閾值的交點(diǎn)確定為初始的駐留點(diǎn)，否則不存在駐 留點(diǎn)；生成與網(wǎng)格交點(diǎn)相對(duì)應(yīng)的mXn第一矩陣W ;所述第一矩陣W中存在駐留點(diǎn)的位置對(duì) 應(yīng)的元素為1，否則為O ; 步驟S2 :對(duì)步驟Sl得到的所述第一矩陣W逐列掃描，對(duì)于同一列中任意兩個(gè)1的元素 之間僅有兩個(gè)或者小于兩個(gè)〇元素的，則將其中的元素〇替換為1，更新了所述第一矩陣W， 并統(tǒng)計(jì)所述第一矩陣中元素為1的元素及其對(duì)應(yīng)的位置得到駐留點(diǎn)集合P ; 步驟S3 :根據(jù)步驟S2更新后的所述第一矩陣W獲取最優(yōu)分割線矩陣Fz ; 步驟S4:根據(jù)所述駐留點(diǎn)集合P、所述最優(yōu)分割線矩陣Fz和所述各駐留點(diǎn)的縱坐標(biāo)值， 生成所述待加工工件面型加工軌跡。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，根據(jù)步驟S2更新后的所述第一矩陣W獲 取最優(yōu)分割線矩陣Fz，具體包括如下步驟： (1) 首先從步驟S2更新后的所述第一矩陣W的第一行開(kāi)始對(duì)每列逐列掃描；將每列中 前三個(gè)O和1交界處1的位置提取并保存，如果不存在則為零，形成一個(gè)3Xn的第二矩陣 R; (2) 從所述第二矩陣R的第三行中獲取不為零的最小值是a3min ; (3) 從所述第二矩陣R的第二行獲取小于所述a3min的非零值的最大值a2max與最小 值 a2min ; (4) 從所述第二矩陣R的第一行獲取全部小于所述a3min并且大于所述a2min的值集 合al ;如果al為空集，則分割線a = a3min，結(jié)束尋本次尋找，執(zhí)行步驟（6);否則執(zhí)行步驟 (5)； (5) 如果al不為空集，則分割線a = a2max_l，將所述a放入所述最優(yōu)分割線矩陣Fz ; (6) 判斷a是否小于m，如果a〈m，則執(zhí)行步驟（7);否則如果a多m，則獲取最優(yōu)分割線 矩陣Fz的過(guò)程結(jié)束； (7) 從上次尋找的最優(yōu)分割線所在的行數(shù)對(duì)每列逐列掃描，將每列中前三個(gè)O和1交界 處1的位置提取并保存，如果不存在則為零，形成一個(gè)新的3Xn的所述第二矩陣R ;執(zhí)行步 驟⑵。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述網(wǎng)格的間距小于或者等于磨盤(pán)口 徑的1/4。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述網(wǎng)格劃分時(shí)所述網(wǎng)格的橫向和縱 向的間距相等或者不等。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述加工閾值為所述待加工工件面型 中所有駐留點(diǎn)的面型誤差的平均值。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，根據(jù)所述駐留點(diǎn)集合P、所述最優(yōu)分 割線矩陣Fz和所述各駐留點(diǎn)的縱坐標(biāo)值，生成所述待加工工件面型加工軌跡，具體包括： 若矩陣Fz有k個(gè)元素，根據(jù)最優(yōu)分割線矩陣Fz和各駐留點(diǎn)的縱坐標(biāo)值，則將所述駐留 點(diǎn)集合P分割成k+Ι個(gè)子集（Ρ1，Ρ2，·*·，Ρ?，…Pk+Ι)，以保證在每個(gè)子集Pi中在縱坐標(biāo) 方向不存在不連續(xù)的駐留點(diǎn)。其中i為駐留點(diǎn)子集的序號(hào)，如果i是奇數(shù)，軌跡規(guī)劃方向和 該駐留點(diǎn)子集中駐留點(diǎn)的排列次序是相同的，對(duì)Pi不須做處理；如果i是偶數(shù)，軌跡規(guī)劃方 向和該駐留點(diǎn)子集中駐留點(diǎn)的排列次序是相反的則需要對(duì)P i中的駐留點(diǎn)做倒序，最終得 到新的駐留點(diǎn)集合P'，并生成加工軌跡。
【專利摘要】本發(fā)明提供一種加工軌跡的生成方法。其包括：對(duì)待加工工件面型進(jìn)行橫向和縱向的網(wǎng)格劃分，得到一組m行n列的網(wǎng)格；將網(wǎng)格中交點(diǎn)的面型誤差大于或者等于加工閾值的交點(diǎn)確定為初始的駐留點(diǎn)，生成與網(wǎng)格交點(diǎn)相應(yīng)的第一矩陣W，其中存在駐留點(diǎn)的位置對(duì)應(yīng)的元素為1；對(duì)得到的第一矩陣W逐列掃描，對(duì)于同一列中任意兩個(gè)1的元素之間僅有兩個(gè)或者小于兩個(gè)0元素的，將其中的0替換為1，更新第一矩陣W，統(tǒng)計(jì)第一矩陣中元素為1的元素及其對(duì)應(yīng)的位置得到駐留點(diǎn)集合P；根據(jù)更新后的第一矩陣W獲取最優(yōu)分割線矩陣Fz；若矩陣Fz有k個(gè)元素，根據(jù)駐留點(diǎn)集合P、最優(yōu)分割線矩陣Fz和各駐留點(diǎn)的縱坐標(biāo)值，生成加工軌跡。
【IPC分類(lèi)】G05B19-19
【公開(kāi)號(hào)】CN104570931
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201410658702
【發(fā)明人】施春燕, 李文宗, 范斌, 王佳
【申請(qǐng)人】中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所
【公開(kāi)日】2015年4月29日
【申請(qǐng)日】2014年11月18日