專利名稱：一種用于高速激光打標(biāo)的去點(diǎn)點(diǎn)陣字庫(kù)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種點(diǎn)陣字庫(kù)，主要用于高速激光打標(biāo)的去點(diǎn)點(diǎn)陣字庫(kù)。
背景技術(shù)：
激光打標(biāo)機(jī)用以在各種相關(guān)的材料上標(biāo)刻出需要的文字符號(hào)和圖片。通過(guò)專用的標(biāo)刻軟件，我們把信號(hào)發(fā)送給工控機(jī)中的D/A卡以及相關(guān)的控制模塊，信號(hào)經(jīng)轉(zhuǎn)換后傳送到激光器，以控制激光脈沖的開(kāi)關(guān)頻率。同時(shí)，發(fā)送的信號(hào)也控制高速掃描系統(tǒng)的運(yùn)動(dòng)。掃描鏡片將激光反射到材料上，在材料上標(biāo)刻出一定的文字和圖案。文字都是由連續(xù)的筆畫組成，當(dāng)調(diào)入到軟件中標(biāo)刻時(shí)，需要先把文字進(jìn)行點(diǎn)陣化。對(duì)于其中的阿拉伯?dāng)?shù)字和英文字母，常規(guī)的字庫(kù)一般采用5×7點(diǎn)陣。要標(biāo)刻出一個(gè)完整的字，需要35個(gè)點(diǎn)才能完成。點(diǎn)數(shù)越多，則激光標(biāo)刻需要的時(shí)間就越長(zhǎng)。所以，這種常規(guī)的5×7點(diǎn)陣字庫(kù)限制了標(biāo)刻速度的提升，不利于高速激光打標(biāo)機(jī)的發(fā)展。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是為了克服現(xiàn)有的常規(guī)的5×7點(diǎn)陣字庫(kù)要標(biāo)刻出一個(gè)完整的字，需要35個(gè)點(diǎn)才能完成的缺點(diǎn)，提供一種去點(diǎn)點(diǎn)陣字庫(kù)。
本發(fā)明的技術(shù)方案是這樣來(lái)完成的它是以5×7點(diǎn)陣字庫(kù)為基礎(chǔ)，5方向上不變，在7的方向上每列的第一點(diǎn)不動(dòng)，然后隔點(diǎn)去掉連續(xù)的點(diǎn)；在7的方向上每一列上本身已有的間隔的點(diǎn)仍保持不變。
上述方案是在5×7點(diǎn)陣字庫(kù)基礎(chǔ)上根據(jù)其去點(diǎn)原則得到一種新的5×4點(diǎn)陣字庫(kù)，標(biāo)刻出一個(gè)完整的阿拉伯?dāng)?shù)字和英文字母，只需要20個(gè)點(diǎn)就能完成這種5×4點(diǎn)陣字庫(kù)既減少了實(shí)際的激光打點(diǎn)數(shù)，又一定程度上保持5×7點(diǎn)陣字體的美觀和筆畫的連續(xù)。對(duì)于任何一個(gè)阿拉伯?dāng)?shù)字或者英文字母，要表示出來(lái)，需要的點(diǎn)數(shù)不會(huì)多于20個(gè)。因此，采用本點(diǎn)陣字庫(kù)后，標(biāo)刻一個(gè)數(shù)字或者字母所需要的點(diǎn)數(shù)減少了很多，標(biāo)刻速度也可以相應(yīng)的提高，對(duì)激光器的光脈沖頻率也大幅下降。


圖1為用5×7點(diǎn)陣字庫(kù)表示的阿拉伯?dāng)?shù)字和英文字母的點(diǎn)陣格式圖；圖2為用5×4點(diǎn)陣字庫(kù)表示的阿拉伯?dāng)?shù)字和英文字母的點(diǎn)陣格式圖。
具體實(shí)施例方式
它是以5×7點(diǎn)陣字庫(kù)為基礎(chǔ)，如圖1所示，在5方向上不變，在7的方向上每列的第一點(diǎn)不動(dòng)，然后隔點(diǎn)去掉連續(xù)的點(diǎn)，如以“H”字母為例，7的方向上每列的第一點(diǎn)不動(dòng)，然后隔點(diǎn)去掉連續(xù)的點(diǎn)，留下的為1、3、5、7上的點(diǎn)；在7的方向上每一列上本身已有的間隔的點(diǎn)仍保持不變，如以“A”字母為例，第二列2上有點(diǎn)就保持不變。本發(fā)明在50W二氧化碳激光在線打標(biāo)機(jī)的打標(biāo)控制軟件中得到應(yīng)用，用本點(diǎn)陣字庫(kù)標(biāo)刻出26個(gè)字母以及0-9十個(gè)阿拉伯?dāng)?shù)字。與使用常規(guī)字庫(kù)相比，當(dāng)標(biāo)刻出具有近似清晰度的文字時(shí)，速度明顯加快。提高了標(biāo)刻速度，從而提高了流水線工作的效率。
權(quán)利要求
1.一種用于高速激光打標(biāo)的去點(diǎn)點(diǎn)陣字庫(kù)，其特征在于，它是以5×7點(diǎn)陣字庫(kù)為基礎(chǔ)，5方向上不變，在7的方向上每列的第一點(diǎn)不動(dòng)，然后隔點(diǎn)去掉連續(xù)的點(diǎn)；在7的方向上每一列上本身已有的間隔的點(diǎn)仍保持不變。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于高速激光打標(biāo)的去點(diǎn)點(diǎn)陣字庫(kù)。它以5×7點(diǎn)陣字庫(kù)為基礎(chǔ)，5方向上不變，在7的方向上每列的第一點(diǎn)不動(dòng)，然后隔點(diǎn)去掉連續(xù)的點(diǎn)；在7的方向上每一列上本身已有的間隔的點(diǎn)仍保持不變。在5×7點(diǎn)陣字庫(kù)基礎(chǔ)上得到新的5×4點(diǎn)陣字庫(kù)，標(biāo)刻出一個(gè)數(shù)字和字母，只需要20個(gè)點(diǎn)就能完成。減少了激光打點(diǎn)數(shù)，標(biāo)刻速度也相應(yīng)得到提高，并仍能保持字體的美觀和筆畫的連續(xù)。
文檔編號(hào)G06F9/00GK1508668SQ0215516
公開(kāi)日2004年6月30日 申請(qǐng)日期2002年12月18日 優(yōu)先權(quán)日2002年12月18日
發(fā)明者吳磊, 楊彬, 彭蓮春, 方愛(ài)萍, 吳 磊 申請(qǐng)人:上海光通激光光電子技術(shù)創(chuàng)新中心有限公司, 上海光通激光光電子技術(shù)創(chuàng)新中心有限