專利名稱：用于嵌入式環(huán)境的熱學(xué)管理系統(tǒng)及其制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明 一般涉及熱學(xué)管理系統(tǒng)，更特別涉及用于嵌入式環(huán)境的熱學(xué)管理 系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
具有嵌入式電子系統(tǒng)的環(huán)境，以下稱為嵌入式環(huán)境或加熱環(huán)境，對(duì)于熱 學(xué)管理帶來(lái)了挑戰(zhàn)。這種系統(tǒng)產(chǎn)生廢熱作為其正常工作的一部分，必須除去 這些熱量，以使嵌入式電子件正常工作并保持可靠性。鑒于空間有限，所以 設(shè)計(jì)冷卻嵌入式電子件的熱學(xué)管理系統(tǒng)是一項(xiàng)嚴(yán)峻的挑戰(zhàn)。嵌入式電子系統(tǒng)的示例包括單片機(jī)、可編程邏輯控制器(PLC)、操作員接口計(jì)算機(jī)、便攜 式計(jì)算機(jī)、移動(dòng)電話、個(gè)人數(shù)字助理(PDA)、個(gè)人袖珍計(jì)算機(jī)以及其他電 子設(shè)備，對(duì)于熱學(xué)管理系統(tǒng)來(lái)說(shuō)，只有有限的可用空間。已經(jīng)知道，使用被 動(dòng)冷卻式散熱器或者強(qiáng)制空氣冷卻作為熱學(xué)管理系統(tǒng)，協(xié)助從電子部件帶走 熱量。此外，還知道將電子部件產(chǎn)生的熱量傳遞給安裝電子部件的印刷電路 板，從而讓熱量從較小的區(qū)域向較大的區(qū)域遷移。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明包括涉及加熱環(huán)境所用熱學(xué)管理系統(tǒng)的實(shí)施方式，所述熱學(xué)管理 系統(tǒng)包括普里莫噴射器(pleumo-jet )。普里莫噴射器包括至少一個(gè)限定腔體 的壁，位于所述至少一個(gè)壁上的至少一種活性材料；和位于所述至少一個(gè)壁 上并包圍所述腔體的柔順材料。柔順材料具有至少一個(gè)開(kāi)口，以便于所述腔 體和所述加熱環(huán)境之間的流體連通。本發(fā)明包括涉及普里莫噴射器的實(shí)施方式，該普里莫噴射器包括第一撓 性結(jié)構(gòu)、第二撓性結(jié)構(gòu)、位于第一和第二撓性結(jié)構(gòu)至少其中一方之上的至少 一種活性材料；和位于所述第一和第二撓性結(jié)構(gòu)之間并限定腔體的柔順材 料。柔順材料包括至少一個(gè)開(kāi)口，以便于所述腔體和所述環(huán)境之間的流體連 通。本發(fā)明包括涉及用于加熱環(huán)境的冷卻系統(tǒng)的實(shí)施方式。所述冷卻系統(tǒng)包括基底，其具有一個(gè)自由端和一個(gè)錨定端；位于所述基底上的至少一個(gè)壓電 設(shè)備；向所述至少一個(gè)壓電設(shè)備提供電流的電路。本發(fā)明包括涉及制作普里莫噴射器的方法的實(shí)施方式。所述方法包括提 供一對(duì)撓性結(jié)構(gòu)，至少其中一個(gè)結(jié)構(gòu)連接有活性材料；將柔順材料連接到所 述一對(duì)撓性結(jié)構(gòu)之間，所述彈性材料具有至少一個(gè)開(kāi)口；和將電觸點(diǎn)添加到 所述一對(duì)撓性結(jié)構(gòu)上。從以下本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施方式的詳細(xì)說(shuō)明中，將更容易理解本發(fā)明的所述 優(yōu)勢(shì)和其他優(yōu)勢(shì)以及特征，所述優(yōu)選實(shí)施方式參照附圖給出。


圖l是采用根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式構(gòu)造的普里莫噴射器的熱學(xué)管理系統(tǒng) 的截面?zhèn)纫灰?jiàn)圖；圖2是示出普里莫噴射器處于不同位置的圖1所示熱學(xué)管理系統(tǒng)的截面 側(cè)視圖；圖3是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式構(gòu)造的熱學(xué)管理系統(tǒng)的頂視圖； 圖4是沿著線IV-IV切開(kāi)的圖3所示熱學(xué)管理系統(tǒng)的截面?zhèn)纫晥D； 圖5是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式構(gòu)造的普里莫噴射器的頂視圖； 圖6是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式構(gòu)造的普里莫噴射器的頂視圖； 圖7是圖6所示普里莫噴射器的側(cè)視圖；管理系統(tǒng)的示意圖；圖9是示出壓電驅(qū)動(dòng)的撓性冷卻設(shè)備處于不同位置的圖8所示熱學(xué)管理系統(tǒng)的示意圖；圖IO示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式形成普里莫噴射器的過(guò)程步驟。
具體實(shí)施方式
參照?qǐng)D1和2，示出的熱學(xué)管理系統(tǒng)10包括以截面圖示出并置于印刷電 路板組件(PCA) 30附近的普里莫噴射器(pleumo-jet) 12, PCA30具有多 個(gè)需要冷卻的電子部件32a-d。雖然參照本發(fā)明實(shí)施方式描述了 PCA30,但 是應(yīng)該理解熱學(xué)管理系統(tǒng)10可以用于任何適當(dāng)?shù)那度胧江h(huán)境并且參照PCA630進(jìn)行描述僅僅是為了便于說(shuō)明。PCA 30可以用于任何數(shù)目的小型電子設(shè) 備中的加熱環(huán)境中，諸如例如單片機(jī)、可編程邏輯控制器(PLC)、便攜計(jì) 算機(jī)、移動(dòng)電話、個(gè)人數(shù)字助理(PDA)、個(gè)人袖珍計(jì)算機(jī)等等。普里莫噴 射器12的尺寸確定為適合其用途，并且一般為細(xì)觀尺度(meso-scale)或微 觀尺度(micro-scale )。普里莫噴射器12定位成使得環(huán)境空氣的脈沖流體流從設(shè)備12產(chǎn)生，并 導(dǎo)向需要冷卻的電子部件32a-d。如圖所示，在圖1中，環(huán)境空氣流體流， 或者其他流體流沿著A方向?qū)蛐枰鋮s的電子部件32b。可以選擇的是， 普里莫噴射器12可以定位成沿著B(niǎo)方向朝著需要冷卻的電子部件32b引導(dǎo) 環(huán)境空氣流體流(圖2)。普里莫噴射器12包括第一結(jié)構(gòu)或壁14和第二結(jié)構(gòu)或壁16。壁14、 16 由撓性材料諸如例如金屬、箔片、塑料或聚合物復(fù)合材料形成。柔順材料18 定位在一對(duì)壁14、 16之間，并且壁14、 16與柔順材料18相結(jié)合來(lái)限定腔 體20。至少一個(gè)開(kāi)口 22在腔體20和設(shè)備12外部環(huán)境之間提供通道。雖然 描述了一對(duì)相對(duì)的壁14、 16，但是應(yīng)該理解，不同于兩個(gè)壁， 一個(gè)壁(巻繞 成柱狀)連同柔順材料18也可以形成普里莫噴射器，諸如普里莫噴射器12。定位在至少其中一個(gè)壁14、 16上的是活性材料諸如例如壓電材料。如 圖所示，活性材料24和26分別定位在壁14、 16上。適當(dāng)?shù)幕钚圆牧鲜悄?利用電刺激產(chǎn)生應(yīng)力的材料。適當(dāng)活性材料的示例包括壓電材料、磁致伸縮 材料(線圈磁場(chǎng)彼此吸引/排斥)、形狀記憶合金以及馬達(dá)失衡(質(zhì)量失衡的 馬達(dá)產(chǎn)生振動(dòng))。在壓電材料子集內(nèi)，適當(dāng)活性材料包括雙壓電晶體配置， 此時(shí)兩個(gè)壓電層異相激勵(lì)，產(chǎn)生彎折；雷電配置，此時(shí)一個(gè)壓電層設(shè)置在預(yù) 應(yīng)力不銹鋼基片上；蜂鳴元件配置，此時(shí)一個(gè)壓電層設(shè)置在黃銅基片上；和 MFC配置，此時(shí)位于撓性電路上的壓電纖維復(fù)合物結(jié)合到基片?；钚圆牧?4、 26可以包含陶瓷材料。電路(在圖8中示意性描述)連 接到普里莫噴射器12,向活性材料24、 26之一或兩者提供電流。電流可以 是正弦波、方波、三角波或者任何其他適當(dāng)波形，并且應(yīng)該理解，電流并不 限于任何具體的波形。具體來(lái)說(shuō)，發(fā)現(xiàn)低諧振電流諸如例如正弦波可以用來(lái) 提供更為安靜的普里莫噴射器12。圖3和4示出了根據(jù)本發(fā)明另一種實(shí)施方式的熱學(xué)管理系統(tǒng)110。熱學(xué) 管理系統(tǒng)110包括普里莫噴射器系統(tǒng)111，該普里莫噴射器系統(tǒng)具有多個(gè)疊置的普里莫噴射器。如圖所示，普里莫噴射器系統(tǒng)111包括疊置的普里莫噴射器112a、 112b和112c。普里莫噴射器112c位于基板129上，利用一個(gè)或 多個(gè)支撐件127支撐在位置上。普里莫噴射器112a、 112b和112c具有類似 于普里莫噴射器12 (圖1、 2)的結(jié)構(gòu)，任選的不同之處在于所述開(kāi)口。具 體來(lái)說(shuō)，每個(gè)普里莫噴射器112a、 112b和112c包括限定腔體120的撓性壁 和柔性材料，并且每個(gè)撓性壁具有一種或多種活性材料(未示出)。普里莫 噴射器112a、 112b和112c之間的支撐件必須提供足夠的空間，以容納每個(gè) 普里莫噴射器的撓性壁之一或兩者上的活性材料。每個(gè)普里莫噴射器112a、 112b和112c可以包括從腔體120穿過(guò)柔順材 料延伸的單一開(kāi)口 122。普里莫噴射器系統(tǒng)111可以布置地讓每個(gè)普里莫噴 射器112a、 112b和112c的每個(gè)單一開(kāi)口 122位于相同方向(圖4)?？梢赃x 擇的是，每個(gè)單一開(kāi)口 122可以定位成向著不同于其他單一開(kāi)口 122的方向 引導(dǎo)環(huán)境空氣(圖3)。對(duì)于任意兩個(gè)相鄰的開(kāi)口 122來(lái)說(shuō)，開(kāi)口 122之間的 間隔可以介于零度(0。)到小于90度(90°)之間。在一種實(shí)施方式中，相 鄰開(kāi)口 122隔開(kāi)的范圍介于約5°到約45°之間。普里莫噴射器112a、 112b和112c被翅片128包圍，所述翅片支撐在基 板129上。翅片128協(xié)助增大熱傳輸?shù)谋砻娣e，以冷卻電子部件32a-d。與 前述普里莫噴射器12—樣，普里莫噴射器112a、 112b和112c采用活性材 料例如壓電材料(未示出)，形成環(huán)境空氣流。簡(jiǎn)單地說(shuō)，來(lái)自電路(在圖8 中示出)的電流被活性材料接收，并轉(zhuǎn)化成機(jī)械能。電流可以呈現(xiàn)正弦波、 方波、三角波或任何其他適當(dāng)波形。電流的電壓水平可以介于1和150伏特 之間，但是并不限于此。電流的頻率可以介于2和300赫茲之間，用于要求 噪聲較低的實(shí)施方式；和介于300赫茲和l5千赫之間，用于不要求噪聲水 平4交J氐的實(shí)施方式?；钚圆牧显趽闲员谏袭a(chǎn)生應(yīng)力，使它們向內(nèi)彎曲，導(dǎo)致腔體體積改變， 并且環(huán)境空氣流入腔體120,然后流出，從而經(jīng)由開(kāi)口 122將腔體120內(nèi)的 環(huán)境空氣噴出。普里莫噴射器系統(tǒng)的另一種可選實(shí)施方式在圖5中示出。具體來(lái)說(shuō)，普 里莫噴射器系統(tǒng)211示為包括支撐普里莫噴射器212的基板229。普里莫噴 射器212具有多個(gè)開(kāi)口 222,每個(gè)開(kāi)口沿著不同的徑向向外延伸?；钚圆牧?224示為位于普里莫噴射器212撓性壁的表面上。對(duì)于任意兩個(gè)相鄰的開(kāi)口222來(lái)說(shuō)，開(kāi)口 222之間的間隔可以介于0。以上到小于90。之間。在一種實(shí) 施方式中，相鄰開(kāi)口 222的間隔可以介于約5。到約45。之間。
圖6和7示出了普里莫噴射器312。普里莫噴射器312包括第一撓性壁 或結(jié)構(gòu)314、第二撓性壁或結(jié)構(gòu)316以及位于撓性壁314、 316之間的柔順材 料318。壁314和316為矩形，并且連同柔性材料318—起形成腔體(未示 出)。開(kāi)口 322通過(guò)柔性材料318從腔體延伸到環(huán)境中。活性材料324位于 壁314上，任選的活性材料326可以位于壁316上?；钚圆牧峡梢岳秒娐?(未示出)提供的電流激勵(lì)，在壁314 (和316)上產(chǎn)生應(yīng)力，將環(huán)境空氣 吸入所述腔體并將該腔體內(nèi)的環(huán)境空氣排出到周圍加熱的環(huán)境中。
圖8和9示出了熱學(xué)管理系統(tǒng)的另一種實(shí)施方式。熱學(xué)管理系統(tǒng)410示 為包括與包含需要冷卻的電子部件32a-d的PCA 30成工作關(guān)系的壓電風(fēng)扇 設(shè)備412。壓電風(fēng)扇設(shè)備412包括一個(gè)自由端和一個(gè)固定到支撐構(gòu)件420的 固定端。壓電風(fēng)扇設(shè)備包括基底414和活性材料416?；钚圆牧?16可以采 用例如壓電材;阡。
電路418連接到壓電風(fēng)扇設(shè)備412。通過(guò)壓電風(fēng)扇設(shè)備412流過(guò)電流， 經(jīng)由活性材料416傳送電荷。通過(guò)在基底414上產(chǎn)生應(yīng)力，活性材料416將 電能轉(zhuǎn)化為機(jī)械能，使其圍繞固定端旋轉(zhuǎn)。根據(jù)壓電風(fēng)扇設(shè)備412相對(duì)于需 要冷卻的電子部件32a-d的位置，使得環(huán)境空氣流沿C方向(圖8)或D方 向(圖9 )行進(jìn)。
接著，具體參照?qǐng)D10,將論述形成根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的普里莫噴射器 的過(guò)程。在步驟500，提供一對(duì)撓性結(jié)構(gòu)。撓性結(jié)構(gòu)可以是金屬，或者它們 可以是非金屬，諸如塑料或聚合物復(fù)合材料。撓性結(jié)構(gòu)的示例包括撓性壁14、 16 (圖2)和撓性壁314、 316 (圖6、 7)。撓性結(jié)構(gòu)之一或兩者要求其上附 著可以被電刺激所激勵(lì)的活性材料。適當(dāng)?shù)幕钚圆牧鲜纠ú牧?4、 26 (圖1 )和材料324、 326 (圖6、 7)。
在步驟505,柔順材料連接到撓性結(jié)構(gòu)之間。柔順材料可以是柔順材料 18 (圖1、 2)或者柔順材料318 (圖6、 7)。設(shè)置柔順材料的方式要在撓性 結(jié)構(gòu)之間限定腔體。 一種設(shè)置柔順材料的過(guò)程是以液體或半液體形式在其中 一個(gè)撓性壁上分散柔順材料，將另一種導(dǎo)電結(jié)構(gòu)置于柔順材料上，允許柔順 材料干燥。液體硅基材料可能適合于該過(guò)程。其他設(shè)置柔順材料的過(guò)程是從 預(yù)制柔順材料板材切割柔順材料，并將切下的柔順材料預(yù)制板材結(jié)合到撓性結(jié)構(gòu)上。預(yù)制硅基材料板材可能適合該過(guò)程。
在步驟510，為撓性結(jié)構(gòu)設(shè)置電觸點(diǎn)。電路將連接到所述電觸點(diǎn)。 雖然僅針對(duì)有限的實(shí)施方式詳細(xì)說(shuō)明了本發(fā)明，但是應(yīng)該容易理解，本
發(fā)明并不限于所公開(kāi)的實(shí)施方式。相反，本發(fā)明可以改動(dòng)，從而包含任何數(shù)
目的變體、改動(dòng)、替換或以上未說(shuō)明的同等布置。此外，雖然i兌明了本發(fā)明
各種實(shí)施方式，但是應(yīng)該理解，發(fā)明的一些方面可以僅包括其中一些實(shí)施方 式。因此，本發(fā)明并不應(yīng)該認(rèn)為受到前述內(nèi)容的限制，而是僅由附帶的權(quán)利 要求書(shū)來(lái)限定。
認(rèn)為新穎并要求美國(guó)Letters Patent保護(hù)的是
權(quán)利要求
1. 一種用于加熱環(huán)境的熱學(xué)管理系統(tǒng)，包括普里莫噴射器，其包括至少一個(gè)限定腔體的壁；位于所述至少一個(gè)壁上的至少一種活性材料；和位于所述至少一個(gè)壁內(nèi)并包圍所述腔體的柔順材料，所述柔順材料具有至少一個(gè)開(kāi)口，以便于所述腔體和所述加熱環(huán)境之間的流體連通。
2. 如權(quán)利要求1所述的熱學(xué)管理系統(tǒng)，其特征在于，所述柔順材料包 括彈性材料。
3. 如權(quán)利要求1所述的熱學(xué)管理系統(tǒng)，包括向所述普里莫噴射器提供 電;危的電i 各。
4. 如權(quán)利要求3所述的熱學(xué)管理系統(tǒng)，其特征在于，所述電流是呈現(xiàn) 較低諧振的電流。
5. 如權(quán)利要求4所述的熱學(xué)管理系統(tǒng)，其特征在于，所述電流包括正 弦波。
6. 如權(quán)利要求1所述的熱學(xué)管理系統(tǒng)，其特征在于，所述加熱環(huán)境包 括單片機(jī)、可編程邏輯控制器(PLC)、操作員接口計(jì)算機(jī)、便攜式計(jì)算機(jī)、 移動(dòng)電話、個(gè)人數(shù)字助理(PDA)、個(gè)人袖珍計(jì)算機(jī)。
7. 如權(quán)利要求1所述的熱學(xué)管理系統(tǒng)，其特征在于，所述加熱環(huán)境包 括至少一個(gè)加熱體。
8. 如權(quán)利要求7所述的熱學(xué)管理系統(tǒng)，其特征在于，所述至少一個(gè)開(kāi)口定位成將環(huán)境流體直接噴射到所述至少一個(gè)加熱體上。
9. 如權(quán)利要求8所述的熱學(xué)管理系統(tǒng)，其特征在于，所述至少一個(gè)開(kāi) 口與所述至少一個(gè)加熱體的上表面成一定角度。
10. 如權(quán)利要求1所述的熱學(xué)管理系統(tǒng)，其特征在于，所述彈性材料包 括便于所述腔體和所述加熱環(huán)境之間流體連通的多個(gè)開(kāi)口 。
11. 如權(quán)利要求10所述的熱學(xué)管理系統(tǒng)，其特征在于，所述至少一個(gè) 壁具有圓形輪廓。
12. 如權(quán)利要求10所述的熱學(xué)管理系統(tǒng)，其特征在于，所述至少一個(gè)壁具有矩形輪廓。
13. 如權(quán)利要求1所述的熱學(xué)管理系統(tǒng)，包括 基板，所述普里莫噴射器定位在該基板上；和 包圍所述普里莫噴射器的多個(gè)翅片。
14. 如權(quán)利要求13所述的熱學(xué)管理系統(tǒng)，包括位于所述基板上的多 個(gè)疊置的普里莫噴射器。
15. 如權(quán)利要求1所述的熱學(xué)管理系統(tǒng)，其特征在于，所述普里莫噴射 器包括夾持所述彈性材料的一對(duì)壁，每個(gè)壁具有所述至少一個(gè)壓電設(shè)備。
16. —種普里莫噴射器，包括 第一撓性機(jī)構(gòu)； 第二撓性結(jié)構(gòu)；位于第 一和第二撓性結(jié)構(gòu)至少其中 一方之上的至少一種活性材料；和 位于所述第一和第二撓性結(jié)構(gòu)之間并限定腔體的柔順材料，所述柔順材 料包括至少一個(gè)開(kāi)口 ，以便于所述腔體和環(huán)境之間的流體連通。
17. 如權(quán)利要求16所述的普里莫噴射器，包括向所述至少一種活性材 料提供電流的電路。
18. 如權(quán)利要求16所述的普里莫噴射器，其特征在于，所述柔順材料 包括彈性材料。
19. 如權(quán)利要求16所述的普里莫噴射器，其特征在于，所述設(shè)備不大 于細(xì)觀尺度。
20. 如權(quán)利要求16所述的普里莫噴射器，其特征在于，所述至少一種 活性材料包括壓電陶瓷材料。
21. 如權(quán)利要求16所述的普里莫噴射器，其特征在于，所述至少一種 活性材料位于所述第一和第二撓性結(jié)構(gòu)兩者上。
22. —種用于加熱環(huán)境的冷卻系統(tǒng)，包括 基底，其具有一個(gè)自由端和一個(gè)錨定端； 位于所述基底上的至少一個(gè)壓電設(shè)備；和 向所述至少一個(gè)壓電設(shè)備提供電流的電路。
23. 如權(quán)利要求22所述的冷卻系統(tǒng)，其特征在于，所述加熱環(huán)境包括 單片機(jī)、可編程邏輯控制器(PLC)、操作員接口計(jì)算機(jī)、便攜式計(jì)算機(jī)、 移動(dòng)電話、個(gè)人數(shù)字助理(PDA)、個(gè)人袖珍計(jì)算機(jī)。
24. 如權(quán)利要求22所述的冷卻系統(tǒng)，其特征在于，所述基底不大于細(xì)觀尺度。
25. —種制作普里莫噴射器的方法，包括 提供一對(duì)撓性結(jié)構(gòu)，至少其中一個(gè)撓性結(jié)構(gòu)連接有活性材料； 將柔順材料連接到所述一對(duì)撓性結(jié)構(gòu)之間，所述彈性材料具有至少一個(gè)開(kāi)口；和將電觸點(diǎn)添加到所述一對(duì)撓性結(jié)構(gòu)上。
26. 如權(quán)利要求25所述的方法，其特征在于，所述提供步驟包括為所 述一對(duì)撓性結(jié)構(gòu)每一個(gè)提供相連的活性材料。
27. 如權(quán)利要求25所述的方法，其特征在于，所述連接步驟包括將彈 性材料連接在所述一對(duì)撓性結(jié)構(gòu)之間。
28. 如權(quán)利要求25所述的方法，其特征在于，所述連接步驟包括 以半液體硅基材料分散柔順材料； 將所述半液體硅基材料與其中一個(gè)撓性結(jié)構(gòu)接觸；和 將另一個(gè)撓性結(jié)構(gòu)與所述半液體硅基材料接觸。
29. 如權(quán)利要求25所述的方法，其特征在于，所述連接步驟包括 用硅基材料預(yù)制板材形成所述柔順材料；和將所迷柔順材料結(jié)合到所述一對(duì)撓性結(jié)構(gòu)。
全文摘要
說(shuō)明了一種用于嵌入式環(huán)境的熱學(xué)管理系統(tǒng)。所述熱學(xué)管理系統(tǒng)包括普里莫噴射器，其具有至少一個(gè)限定腔體的壁；位于所述至少一個(gè)壁上的至少一種活性材料；和位于所述至少一個(gè)壁內(nèi)并包圍所述腔體的柔順材料。所述柔順材料具有至少一個(gè)開(kāi)口，以便于所述腔體和所述嵌入式環(huán)境之間的流體連通。還說(shuō)明了一種冷卻系統(tǒng)。還說(shuō)明了一種制作普里莫噴射器的方法。
文檔編號(hào)G06F1/20GK101548255SQ200780045121
公開(kāi)日2009年9月30日 申請(qǐng)日期2007年10月26日 優(yōu)先權(quán)日2006年12月8日
發(fā)明者威廉·H·利肯巴克, 戴維·S·斯萊頓, 查爾斯·E·西利, 查爾斯·F·沃爾夫, 梅麥特·阿里克, 約根·V·厄特卡 申請(qǐng)人:通用電氣公司