專利名稱：一種單片結(jié)構(gòu)的電容式觸摸屏制造工藝及其方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及電容式觸摸屏領(lǐng)域，尤其是一種單片結(jié)構(gòu)的電容式觸摸屏制造工藝及其方法。
背景技術(shù)：
電容式觸摸屏主要技術(shù)分為薄膜式(film type)圖7和玻璃式(glass type)圖8兩種，目前主流的薄膜式結(jié)構(gòu)是將兩層或一層ITO薄膜12通過光刻或絲印蝕刻出所設(shè)計的電極圖案，再與外層保護(hù)玻璃10用光學(xué)膠11貼合到一起稱為GFF (Glass+Film+Film)或GF(Glass+Film)結(jié)構(gòu)。而主流的玻璃式結(jié)構(gòu)是將觸控傳感器做在ITO玻璃13上，外層再用光學(xué)膠11貼上一片保護(hù)玻璃10稱為GG (Glass+Glass)結(jié)構(gòu)。此兩種結(jié)構(gòu)生產(chǎn)工藝比較長也比較復(fù)雜，貼合良率都普遍偏低，也是造成電容觸控面板成本居高不下的主因。且前者受限于高階ITO薄膜材料掌握在少數(shù)日商手中供料不穩(wěn)定，后者GG貼合后整體相對較厚，且良率不高。因此未來單片結(jié)構(gòu)的電容式觸摸屏將成為發(fā)屏趨勢的主流，而目前各大廠商所開發(fā)的單片結(jié)構(gòu)電容式觸摸屏生產(chǎn)良率都非常低，成本也較高且觸控效果也相對較差等。這些都是導(dǎo)致目前單片結(jié)構(gòu)的電容式觸摸屏還無法成為主流的原因。

發(fā)明內(nèi)容
此單片結(jié)構(gòu)的電容式觸摸屏發(fā)明的目的在于簡化電容式觸摸屏的制造工藝，節(jié)省原材料成本同時滿足終端消費(fèi)性電子產(chǎn)品輕薄化及低成本的市場趨勢。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采取以下工藝技術(shù)方案
I將大板或切割后的小片面板按設(shè)計要求絲印好裝飾圖案并烘烤:2.通過真空鍍膜設(shè)備使其絲印裝飾面鍍上一層方阻在30Ω/ □ -400Ω/ □ 透過率在85%以上的ITO:3.電鍍或絲印金屬引出線:4.通過光刻或鐳射激光將ITO及金屬引出線蝕刻出所設(shè)計的電極圖案，并對所蝕刻出來的電極圖案進(jìn)行功能檢測:5.將檢測OK的半成品根據(jù)所設(shè)計的裝飾效果圖案進(jìn)行絲印及烘烤:6.將絲印好的面板通過導(dǎo)電膠與柔性線路板進(jìn)行邦定工序使其玻璃上的電極圖案與IC相聯(lián)，并再次對邦定好的成品進(jìn)行功能檢測及外觀檢驗最后包裝出貨。上述制造工藝相比傳統(tǒng)多層結(jié)構(gòu)電容式觸摸屏要節(jié)省材料，產(chǎn)品也更加輕薄，與其它單片結(jié)構(gòu)的電容式觸摸屏生產(chǎn)工藝相比要簡化許多，觸摸效果與傳統(tǒng)電容屏相當(dāng)，對產(chǎn)品外觀設(shè)計也無限制。


圖1是未切割的大版透明基材。圖2和圖3是切割好的單片透明面板外形結(jié)構(gòu)。圖4和圖5是蝕刻好的電極圖案。圖6和圖6a是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)圖及放大后的工藝制程后的疊層示意圖。圖7和圖8是目前兩種電容式觸摸屏結(jié)構(gòu)。
具體實施例方式為使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。 附圖及實施例，對本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說明。如圖:6a此單片結(jié)構(gòu)的電容式觸摸屏，其由面板10及依次堆疊在面板下的裝飾圖案油墨層17、ITO透明電極圖案層18、金屬引出導(dǎo)線層19、裝飾圖案油墨層17。本發(fā)明所提供的單片結(jié)構(gòu)的電容式觸摸屏制造工藝具體步驟如下:
步驟1、將大板圖1或切割后的小片面板圖2和圖3按設(shè)計要求絲印好裝飾圖案并烘
烤；
步驟2、在面板其10表面絲印出裝飾圖案層17;
步驟3、通過真空鍍膜設(shè)備使其絲印裝飾面17鍍上一層方阻在30Ω/ □ -400Ω/ □透過率在85%以上的ITO層18，并在ITO層18表面通過電鍍或絲印出金屬引出導(dǎo)線層19;步驟4、通過光刻或鐳射激光將ITO及金屬引出線蝕刻出所設(shè)計的電極圖案如圖4和圖
5;
步驟5、進(jìn)行絲印裝飾效果圖案層17;
步驟6、通過導(dǎo)電膠與柔性線路板20進(jìn)行邦定工序使其面板上的電極圖案與IC相聯(lián)進(jìn)而產(chǎn)生觸控功能；
上述制造工藝相比傳統(tǒng)及其它單片結(jié)構(gòu)的電容式觸摸屏要簡單得多且良率也較高，產(chǎn)品觸控效果、面板強(qiáng)度等與傳統(tǒng)電容觸摸屏相當(dāng)。 以上所述，僅是本發(fā)明的較佳實施例，并非對本發(fā)明作任何形式上的限制，凡是依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實質(zhì)對以上實施例所作的任何簡單修改，等同變化與修飾，均仍屬本發(fā)明技術(shù)方案的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種單片結(jié)構(gòu)的電容式觸摸屏制造工藝及其方法，其特征在于:所述單片結(jié)構(gòu)的電容式觸摸屏使其背向面板觸控面的下表面通過絲印裝飾圖案，鍍ITO導(dǎo)電膜，電鍍或絲印金屬導(dǎo)電材質(zhì)做引出導(dǎo)線，根據(jù)所設(shè)計的電極圖案對ITO導(dǎo)電膜及金屬引出導(dǎo)線進(jìn)行蝕刻，再用導(dǎo)電膠通過邦定工序與柔性線路板簡稱FPC相聯(lián)進(jìn)而與觸控IC導(dǎo)通產(chǎn)生觸控功倉泛。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述單片結(jié)構(gòu)的電容式觸摸屏制造工藝及其方法其特征在于:所述單片結(jié)構(gòu)的電容式觸摸屏其面板分為大板工藝和小片工藝，其區(qū)別在于大板是將整個線路做好后再切割，小片工藝是先將大板切割成小片再做線路。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述單片結(jié)構(gòu)的電容式觸摸屏制造工藝及其方法，其特征在于:所述單片結(jié)構(gòu)的電容式觸摸屏其面板材質(zhì)為PMMA、玻璃、PMMA/PC復(fù)合料等且不限所述材質(zhì)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述單片結(jié)構(gòu)的電容式觸摸屏制造工藝及其方法，其特征在于:所述ITO導(dǎo)電膜是鍍在其面板的絲印裝飾圖案面，其ITO導(dǎo)電膜透過率在85%以上，方塊電阻在 30Ω/ □ -400Ω/ □。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述單片結(jié)構(gòu)的電容式觸摸屏制造工藝及其方法，其特征在于:所述對ITO導(dǎo)電膜及金屬引出導(dǎo)線進(jìn)行蝕刻，是將鍍好ITO導(dǎo)電膜及金屬引出導(dǎo)線的面板通過光刻、絲印蝕刻、鐳射激光等其中一種且不限于其中一種工藝蝕刻出所設(shè)計的電極圖案。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種單片結(jié)構(gòu)的電容式觸摸屏制造工藝及其方法，所述面板的下表面依次疊層包括絲印裝飾圖案層17，ITO透明電極層18，金屬引出導(dǎo)線層19，裝飾圖案層17。所述制造工藝包括以下步驟在面板絲印面鍍一層透明ITO膜及金屬引出線，按設(shè)計要求蝕刻所述透明ITO膜及金屬引出線，形成電極圖案。本發(fā)明提供的單片結(jié)構(gòu)的電容式觸摸屏制造工藝及其方法與傳統(tǒng)多層結(jié)構(gòu)的電容式觸摸屏節(jié)省材料，產(chǎn)品也更加輕薄。與其它單片結(jié)構(gòu)的電容式觸摸屏制造工藝相比要簡化許多，成本較低且良率較高，觸控性能及玻璃硬度也與傳統(tǒng)電容屏相當(dāng)，對產(chǎn)品外觀設(shè)計也無限制。滿足終端消費(fèi)性電子產(chǎn)品輕薄化及低成本的市場趨勢。
文檔編號G06F3/044GK103218101SQ201310168778
公開日2013年7月24日 申請日期2013年5月9日 優(yōu)先權(quán)日2013年5月9日
發(fā)明者左富強(qiáng) 申請人:左富強(qiáng)