智能數(shù)字通訊設(shè)備觸屏表面高分子化合物線性處理設(shè)備的制作方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明屬于機(jī)電【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及智能數(shù)字通訊設(shè)備觸屏表面高分子化合物線性處理設(shè)備，包括移動(dòng)機(jī)構(gòu)、旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)和電路板，移動(dòng)機(jī)構(gòu)還包括傾斜驅(qū)動(dòng)器和緩沖裝置，下工作臺(tái)與傾斜支架之間通過(guò)轉(zhuǎn)軸連接，傾斜滾輪與下工作臺(tái)接觸連接，下工作臺(tái)還設(shè)置有緩沖裝置；緩沖裝置包括緩沖座和緩沖桿，緩沖座固定在移動(dòng)臺(tái)上，緩沖桿的下端通過(guò)彈簧與緩沖座連接，緩沖桿的上端與下工作臺(tái)接觸連接。本發(fā)明通過(guò)以上結(jié)構(gòu)，提高調(diào)節(jié)工作臺(tái)的水平位置以及旋轉(zhuǎn)角度的精度，使工作臺(tái)達(dá)到最佳的線性處理位置和角度，防止線性處理偏斜，線性處理時(shí)前后端的力度一致。
【專(zhuān)利說(shuō)明】智能數(shù)字通訊設(shè)備觸屏表面高分子化合物線性處理設(shè)備

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于機(jī)電【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及智能數(shù)字通訊設(shè)備觸屏表面高分子化合物線性處理設(shè)備。

【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有的智能數(shù)字通訊設(shè)備觸屏表面高分子化合物線性處理設(shè)備，在調(diào)節(jié)工作臺(tái)水平位置和旋轉(zhuǎn)角度時(shí)，由于調(diào)節(jié)精度不夠，使智能設(shè)備表面的高分子化合物線性先行處理后出現(xiàn)偏差。線性處理角度也不能達(dá)到理想的范圍，導(dǎo)致整個(gè)高分子化合物線性處理時(shí)前后端力度不一致。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的在于提出智能數(shù)字通訊設(shè)備觸屏表面高分子化合物線性處理設(shè)備，震動(dòng)小，結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性高，可靠性高，增加了線性處理效果的可控性。
[0004]為達(dá)此目的，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案:
[0005]智能數(shù)字通訊設(shè)備觸屏表面高分子化合物線性處理設(shè)備，包括移動(dòng)機(jī)構(gòu)、旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)和電路板；
[0006]所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)包括旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)器、旋轉(zhuǎn)軸、旋轉(zhuǎn)支架、底板和上工作臺(tái)；所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)器和所述旋轉(zhuǎn)軸通過(guò)所述旋轉(zhuǎn)支架安裝在所述底板上，所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)器與所述旋轉(zhuǎn)軸連接，所述上工作臺(tái)安裝在所述旋轉(zhuǎn)軸上；
[0007]所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)包括移動(dòng)臺(tái)和下工作臺(tái)，所述移動(dòng)臺(tái)包括X向平臺(tái)、XY連接板、Y向平臺(tái)和角度微調(diào)板，所述X向平臺(tái)通過(guò)X軸方向的軌道安裝在所述底板上，所述XY連接板通過(guò)X軸方向的軌道安裝在所述X向平臺(tái)上，所述Y向平臺(tái)通過(guò)Y軸方向的軌道安裝在所述XY連接板上，所述角度微調(diào)板通過(guò)Z軸方向的轉(zhuǎn)軸與所述Y向平臺(tái)連接，所述轉(zhuǎn)軸位于所述角度微調(diào)板的中心位置；所述下工作臺(tái)安裝在所述角度微調(diào)板上；
[0008]所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)器與所述旋轉(zhuǎn)軸通過(guò)聯(lián)軸器連接，所述旋轉(zhuǎn)軸上設(shè)置有旋轉(zhuǎn)緩沖機(jī)構(gòu)，所述上工作臺(tái)的中心軸部位固定在所述旋轉(zhuǎn)軸上；
[0009]所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)還包括傾斜驅(qū)動(dòng)器和緩沖裝置，所述下工作臺(tái)的X軸方向的一端通過(guò)傾斜支架安裝在所述角度微調(diào)板上，另一端的側(cè)面設(shè)有滾輪且其下方設(shè)置有傾斜驅(qū)動(dòng)器，所述傾斜驅(qū)動(dòng)器的上端部設(shè)置有傾斜滾輪；所述下工作臺(tái)與所述傾斜支架之間通過(guò)轉(zhuǎn)軸連接，所述傾斜滾輪與所述下工作臺(tái)接觸連接，所述下工作臺(tái)還設(shè)置有緩沖裝置；
[0010]所述緩沖裝置包括緩沖座和緩沖桿,所述緩沖座固定在所述移動(dòng)臺(tái)上,所述緩沖桿的下端通過(guò)彈簧與所述緩沖座連接，所述緩沖桿的上端與所述下工作臺(tái)接觸連接。
[0011]進(jìn)一步，所述X向平臺(tái)、XY連接板和Y向平臺(tái)還分別設(shè)有X向千分尺、Y向千分尺和角度千分尺；所述X向千分尺安裝于所述X向平臺(tái)，并通過(guò)頂軸與所述XY連接板的X軸方向的側(cè)面接觸連接；所述Y向千分尺安裝于所述XY連接板，并通過(guò)頂軸與所述Y向平臺(tái)的Y軸方向的側(cè)面接觸連接；所述角度千分尺安裝于所述Y向平臺(tái)，并通過(guò)頂軸與所述角度微調(diào)板側(cè)面的端部接觸連接。
[0012]進(jìn)一步，還包括基座，所述基座為抽屜式箱體基座，包括底座和抽屜，所述電路板置于所述抽屜內(nèi)；
[0013]所述抽屜上設(shè)有控制面板，所述控制面板、底座和所述底板組成封閉的箱體。
[0014]進(jìn)一步，支撐所述旋轉(zhuǎn)軸的所述旋轉(zhuǎn)支架為龍門(mén)支架。
[0015]進(jìn)一步，所述旋轉(zhuǎn)緩沖機(jī)構(gòu)包括緩沖擋塊和緩沖支架，所述緩沖擋塊的一端固定在所述旋轉(zhuǎn)軸上，所述緩沖支架置于所述緩沖擋塊的下方；在所述旋轉(zhuǎn)軸的兩側(cè)分別設(shè)有兩個(gè)緩沖頂針，安裝在所述緩沖支架上，其下端設(shè)有彈簧，并處于所述緩沖擋塊的旋轉(zhuǎn)半徑內(nèi)，與所述緩沖擋塊相配合；還包括不銹鋼材質(zhì)的緩沖加強(qiáng)管，套于所述緩沖頂針外并固定在所述緩沖支架上。
[0016]進(jìn)一步，所述旋轉(zhuǎn)軸沿X軸方向或者Y軸方向安裝。
[0017]進(jìn)一步，所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)器和所述傾斜驅(qū)動(dòng)器為氣缸，所述傾斜驅(qū)動(dòng)器數(shù)量為兩個(gè)。
[0018]進(jìn)一步，所述上工作臺(tái)包括旋轉(zhuǎn)真空板和旋轉(zhuǎn)背板，所述旋轉(zhuǎn)真空板通過(guò)所述旋轉(zhuǎn)背板固定在所述旋轉(zhuǎn)軸上，所述旋轉(zhuǎn)真空板設(shè)于所述旋轉(zhuǎn)背板的下方。
[0019]進(jìn)一步，所述下工作臺(tái)包括真空背板和真空角度微調(diào)板，所述真空角度微調(diào)板通過(guò)真空背板安裝在所述傾斜支架上，所述真空角度微調(diào)板設(shè)于所述真空背板的上方。
[0020]本發(fā)明通過(guò)以上結(jié)構(gòu)，提高調(diào)節(jié)工作臺(tái)的水平位置以及旋轉(zhuǎn)角度的精度，使工作臺(tái)達(dá)到最佳的線性處理位置和角度，防止線性處理偏斜，線性處理時(shí)前后端的力度一致。

【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0021]圖1是本發(fā)明一種實(shí)例的立體結(jié)構(gòu)示意圖。
[0022]圖2是圖1的另一視角立體結(jié)構(gòu)示意圖。
[0023]其中:移動(dòng)臺(tái)1、X向平臺(tái)2、XY連接板3、Y向平臺(tái)4、角度微調(diào)板5、Χ向千分尺6、下工作臺(tái)7、傾斜支架8、傾斜驅(qū)動(dòng)器9、傾斜滾輪10、緩沖裝置11、滾輪12、旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)器13、旋轉(zhuǎn)軸14、旋轉(zhuǎn)支架15、底板16、聯(lián)軸器17、旋轉(zhuǎn)緩沖機(jī)構(gòu)18、緩沖擋塊19、緩沖支架20、緩沖頂針21、緩沖加強(qiáng)管22、上工作臺(tái)23、底座24、控制面板25。

【具體實(shí)施方式】
[0024]下面結(jié)合附圖并通過(guò)【具體實(shí)施方式】來(lái)進(jìn)一步說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)方案。
[0025]如圖1至圖2所示，智能數(shù)字通訊設(shè)備觸屏表面高分子化合物線性處理設(shè)備，包括移動(dòng)機(jī)構(gòu)、旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)和電路板；
[0026]所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)包括旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)器13、旋轉(zhuǎn)軸14、旋轉(zhuǎn)支架15、底板16和上工作臺(tái)23 ;所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)器13和所述旋轉(zhuǎn)軸14通過(guò)所述旋轉(zhuǎn)支架15安裝在所述底板16上，所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)器13與所述旋轉(zhuǎn)軸14連接，所述上工作臺(tái)安裝在所述旋轉(zhuǎn)軸14上。
[0027]所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)包括移動(dòng)臺(tái)I和下工作臺(tái)7，所述移動(dòng)臺(tái)I包括X向平臺(tái)2、ΧΥ連接板3、Y向平臺(tái)4和角度微調(diào)板5，所述X向平臺(tái)2通過(guò)X軸方向的軌道安裝在所述底板16上，所述XY連接板3通過(guò)X軸方向的軌道安裝在所述X向平臺(tái)2上，所述Y向平臺(tái)4通過(guò)Y軸方向的軌道安裝在所述XY連接板3上，所述角度微調(diào)板5通過(guò)Z軸方向的轉(zhuǎn)軸與所述Y向平臺(tái)4連接，所述轉(zhuǎn)軸位于所述角度微調(diào)板5的中心位置；所述下工作臺(tái)7安裝在所述角度微調(diào)板5上。
[0028]所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)器13與所述旋轉(zhuǎn)軸14通過(guò)聯(lián)軸器17連接，所述旋轉(zhuǎn)軸14上設(shè)置有旋轉(zhuǎn)緩沖機(jī)構(gòu)18，所述上工作臺(tái)23的中心軸部位固定在所述旋轉(zhuǎn)軸14上。通過(guò)所述旋轉(zhuǎn)緩沖機(jī)構(gòu)18減少在翻轉(zhuǎn)過(guò)程中產(chǎn)生的震動(dòng)，提高貼機(jī)的穩(wěn)定性，聯(lián)軸器還有緩沖、減振和提聞?shì)S系動(dòng)態(tài)性能的作用，進(jìn)一步提聞穩(wěn)定性。
[0029]所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)還包括傾斜驅(qū)動(dòng)器9和緩沖裝置11，所述下工作臺(tái)7的X軸方向的一端通過(guò)傾斜支架8安裝在所述角度微調(diào)板5上，另一端的側(cè)面設(shè)有滾輪12且其下方設(shè)置有傾斜驅(qū)動(dòng)器9，所述傾斜驅(qū)動(dòng)器9的上端部設(shè)置有傾斜滾輪10 ;所述下工作臺(tái)7與所述傾斜支架8之間通過(guò)轉(zhuǎn)軸連接,所述傾斜滾輪10與所述下工作臺(tái)7接觸連接,所述下工作臺(tái)7還設(shè)置有緩沖裝置11。使用單獨(dú)的傾斜驅(qū)動(dòng)器9控制下工作臺(tái)7的傾斜角度和線性處理力度，在線性處理時(shí)得到最佳的線性處理壓力，則可以完全克服出現(xiàn)氣泡或壓痕等等缺點(diǎn)。所述貼和緩沖裝置11減少線性處理時(shí)的震動(dòng)，提高線性處理效果。
[0030]所述X向平臺(tái)2、XY連接板3和Y向平臺(tái)4還分別設(shè)有X向千分尺6、Y向千分尺和角度千分尺；所述X向千分尺6安裝于所述X向平臺(tái)2，并通過(guò)頂軸與所述XY連接板3的X軸方向的側(cè)面接觸連接；所述Y向千分尺安裝于所述XY連接板3,并通過(guò)頂軸與所述Y向平臺(tái)4的Y軸方向的側(cè)面接觸連接；所述角度千分尺安裝于所述Y向平臺(tái)4，并通過(guò)頂軸與所述角度微調(diào)板5側(cè)面的端部接觸連接。所述X向千分尺6和Y向千分尺分別微調(diào)所述下工作臺(tái)7X軸方向和Y軸方向的位置，所述角度千分尺以所述轉(zhuǎn)軸為中心軸，在水平面微調(diào)所述下工作臺(tái)7的旋轉(zhuǎn)角度。
[0031]進(jìn)一步，還包括基座，所述基座為抽屜式箱體基座，包括底座24和抽屜，所述電路板置于所述抽屜內(nèi)。采用抽屜式機(jī)箱裝載電路，便于維修。
[0032]所述抽屜上設(shè)有控制面板25，所述控制面板25、底座24和所述底板16組成封閉的箱體。
[0033]進(jìn)一步，支撐所述旋轉(zhuǎn)軸14的所述旋轉(zhuǎn)支架15為龍門(mén)支架，旋轉(zhuǎn)軸支架230采用龍門(mén)式而非“L”型，提高了結(jié)構(gòu)剛度。
[0034]進(jìn)一步，所述旋轉(zhuǎn)緩沖機(jī)構(gòu)18包括緩沖擋塊19和緩沖支架20，所述緩沖擋塊19的一端固定在所述旋轉(zhuǎn)軸14上，所述緩沖支架20置于所述緩沖擋塊19的下方；在所述旋轉(zhuǎn)軸14的兩側(cè)分別設(shè)有兩個(gè)緩沖頂針21，安裝在所述緩沖支架20上，其下端設(shè)有彈簧，并處于所述緩沖擋塊19的旋轉(zhuǎn)半徑內(nèi)，與所述緩沖擋塊19相配合；還包括不銹鋼材質(zhì)的緩沖加強(qiáng)管22，套于所述緩沖頂針21外并固定在所述緩沖支架20上，利用所述緩沖加強(qiáng)管22的高度準(zhǔn)確控制所述緩沖擋塊19的旋轉(zhuǎn)位置，從而控制所述上工作臺(tái)23的翻轉(zhuǎn)角度，所述緩沖加強(qiáng)管22使用螺紋安裝在所述緩沖支架20上，其下端面利用利用墊片作為下基準(zhǔn)面，不銹鋼材質(zhì)的緩沖加強(qiáng)管22堅(jiān)硬耐磨，能保證在長(zhǎng)期的使用過(guò)程中不會(huì)磨損，讓所述上工作臺(tái)23在長(zhǎng)期工作后依然能保持準(zhǔn)確的翻轉(zhuǎn)角度。
[0035]進(jìn)一步，所述旋轉(zhuǎn)軸14沿X軸方向或者Y軸方向安裝。
[0036]進(jìn)一步，所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)器13和所述傾斜驅(qū)動(dòng)器9為氣缸，所述傾斜驅(qū)動(dòng)器9數(shù)量為兩個(gè)。
[0037]進(jìn)一步，所述上工作臺(tái)23包括旋轉(zhuǎn)真空板271和旋轉(zhuǎn)背板272，所述旋轉(zhuǎn)真空板271通過(guò)所述旋轉(zhuǎn)背板272固定在所述旋轉(zhuǎn)軸14上，所述旋轉(zhuǎn)真空板271設(shè)于所述旋轉(zhuǎn)背板272的下方。
[0038]進(jìn)一步，所述下工作臺(tái)7包括真空背板121和真空角度微調(diào)板122，所述真空角度微調(diào)板122通過(guò)真空背板121安裝在所述傾斜支架8上，所述真空角度微調(diào)板122設(shè)于所述真空背板121的上方。
[0039]進(jìn)一步，所述緩沖裝置11包括緩沖座161和緩沖桿162，所述緩沖座161固定在所述移動(dòng)臺(tái)I上，所述緩沖桿162的下端通過(guò)彈簧與所述緩沖座161連接，所述緩沖桿162的上端與所述下工作臺(tái)7接觸連接。
[0040]本發(fā)明通過(guò)以上結(jié)構(gòu)，線性處理壓力可定量調(diào)節(jié)，線性處理角度可調(diào)，翻板動(dòng)作與線性處理壓力的施加分開(kāi)控制，采用中間翻板機(jī)構(gòu)，大大降低了翻板的轉(zhuǎn)動(dòng)慣量，提高動(dòng)作的穩(wěn)定性、可靠性。旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)器控制翻板動(dòng)作，傾斜驅(qū)動(dòng)器控制下工作臺(tái)的傾斜角度，定量控制線性處理壓力，并且將角度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)與翻板機(jī)構(gòu)分開(kāi)，這樣將影響線性處理效果的各個(gè)因素單獨(dú)控制，比如線性處理角度、線性處理壓力，達(dá)到解耦的效果，提高了對(duì)線性處理效果的可控性。
[0041]以上結(jié)合具體實(shí)施例描述了本發(fā)明的技術(shù)原理。這些描述只是為了解釋本發(fā)明的原理，而不能以任何方式解釋為對(duì)本發(fā)明保護(hù)范圍的限制?；诖颂幍慕忉?zhuān)绢I(lǐng)域的技術(shù)人員不需要付出創(chuàng)造性的勞動(dòng)即可聯(lián)想到本發(fā)明的其它【具體實(shí)施方式】，這些方式都將落入本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.智能數(shù)字通訊設(shè)備觸屏表面高分子化合物線性處理設(shè)備，包括移動(dòng)機(jī)構(gòu)、旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)和電路板； 所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)包括旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)器、旋轉(zhuǎn)軸、旋轉(zhuǎn)支架、底板和上工作臺(tái)；所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)器和所述旋轉(zhuǎn)軸通過(guò)所述旋轉(zhuǎn)支架安裝在所述底板上，所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)器與所述旋轉(zhuǎn)軸連接，所述上工作臺(tái)安裝在所述旋轉(zhuǎn)軸上； 所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)包括移動(dòng)臺(tái)和下工作臺(tái)，所述移動(dòng)臺(tái)包括X向平臺(tái)、XY連接板、Y向平臺(tái)和角度微調(diào)板，所述X向平臺(tái)通過(guò)X軸方向的軌道安裝在所述底板上，所述XY連接板通過(guò)X軸方向的軌道安裝在所述X向平臺(tái)上，所述Y向平臺(tái)通過(guò)Y軸方向的軌道安裝在所述XY連接板上，所述角度微調(diào)板通過(guò)Z軸方向的轉(zhuǎn)軸與所述Y向平臺(tái)連接，所述轉(zhuǎn)軸位于所述角度微調(diào)板的中心位置；所述下工作臺(tái)安裝在所述角度微調(diào)板上； 所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)器與所述旋轉(zhuǎn)軸通過(guò)聯(lián)軸器連接，所述旋轉(zhuǎn)軸上設(shè)置有旋轉(zhuǎn)緩沖機(jī)構(gòu)，所述上工作臺(tái)的中心軸部位固定在所述旋轉(zhuǎn)軸上； 所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)還包括傾斜驅(qū)動(dòng)器和緩沖裝置，所述下工作臺(tái)的X軸方向的一端通過(guò)傾斜支架安裝在所述角度微調(diào)板上，另一端的側(cè)面設(shè)有滾輪且其下方設(shè)置有傾斜驅(qū)動(dòng)器，所述傾斜驅(qū)動(dòng)器的上端部設(shè)置有傾斜滾輪；所述下工作臺(tái)與所述傾斜支架之間通過(guò)轉(zhuǎn)軸連接，所述傾斜滾輪與所述下工作臺(tái)接觸連接，所述下工作臺(tái)還設(shè)置有緩沖裝置； 其特征在于:所述緩沖裝置包括緩沖座和緩沖桿，所述緩沖座固定在所述移動(dòng)臺(tái)上，所述緩沖桿的下端通過(guò)彈簧與所述緩沖座連接，所述緩沖桿的上端與所述下工作臺(tái)接觸連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的智能數(shù)字通訊設(shè)備觸屏表面高分子化合物線性處理設(shè)備，其特征在于:所述X向平臺(tái)、XY連接板和Y向平臺(tái)還分別設(shè)有X向千分尺、Y向千分尺和角度千分尺；所述X向千分尺安裝于所述X向平臺(tái)，并通過(guò)頂軸與所述XY連接板的X軸方向的側(cè)面接觸連接；所述Y向千分尺安裝于所述XY連接板，并通過(guò)頂軸與所述Y向平臺(tái)的Y軸方向的側(cè)面接觸連接；所述角度千分尺安裝于所述Y向平臺(tái)，并通過(guò)頂軸與所述角度微調(diào)板側(cè)面的端部接觸連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的智能數(shù)字通訊設(shè)備觸屏表面高分子化合物線性處理設(shè)備，其特征在于:還包括基座，所述基座為抽屜式箱體基座，包括底座和抽屜，所述電路板置于所述抽屜內(nèi)； 所述抽屜上設(shè)有控制面板，所述控制面板、底座和所述底板組成封閉的箱體。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的智能數(shù)字通訊設(shè)備觸屏表面高分子化合物線性處理設(shè)備，其特征在于:支撐所述旋轉(zhuǎn)軸的所述旋轉(zhuǎn)支架為龍門(mén)支架。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的智能數(shù)字通訊設(shè)備觸屏表面高分子化合物線性處理設(shè)備，其特征在于:所述旋轉(zhuǎn)緩沖機(jī)構(gòu)包括緩沖擋塊和緩沖支架，所述緩沖擋塊的一端固定在所述旋轉(zhuǎn)軸上，所述緩沖支架置于所述緩沖擋塊的下方；在所述旋轉(zhuǎn)軸的兩側(cè)分別設(shè)有兩個(gè)緩沖頂針，安裝在所述緩沖支架上，其下端設(shè)有彈簧，并處于所述緩沖擋塊的旋轉(zhuǎn)半徑內(nèi)，與所述緩沖擋塊相配合；還包括不銹鋼材質(zhì)的緩沖加強(qiáng)管，套于所述緩沖頂針外并固定在所述緩沖支架上。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的智能數(shù)字通訊設(shè)備觸屏表面高分子化合物線性處理設(shè)備，其特征在于:所述旋轉(zhuǎn)軸沿X軸方向或者Y軸方向安裝。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的智能數(shù)字通訊設(shè)備觸屏表面高分子化合物線性處理設(shè)備，其特征在于:所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)器和所述傾斜驅(qū)動(dòng)器為氣缸，所述傾斜驅(qū)動(dòng)器數(shù)量為兩個(gè)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的智能數(shù)字通訊設(shè)備觸屏表面高分子化合物線性處理設(shè)備，其特征在于:所述上工作臺(tái)包括旋轉(zhuǎn)真空板和旋轉(zhuǎn)背板，所述旋轉(zhuǎn)真空板通過(guò)所述旋轉(zhuǎn)背板固定在所述旋轉(zhuǎn)軸上，所述旋轉(zhuǎn)真空板設(shè)于所述旋轉(zhuǎn)背板的下方。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的智能數(shù)字通訊設(shè)備觸屏表面高分子化合物線性處理設(shè)備，其特征在于:所述下工作臺(tái)包括真空背板和真空角度微調(diào)板，所述真空角度微調(diào)板通過(guò)真空背板安裝在所述傾斜支架上，所述真空角度微調(diào)板設(shè)于所述真空背板的上方。
【文檔編號(hào)】G06F3/041GK104317443SQ201410539647
【公開(kāi)日】2015年1月28日 申請(qǐng)日期:2014年10月13日 優(yōu)先權(quán)日:2014年10月13日
【發(fā)明者】不公告發(fā)明人 申請(qǐng)人:佛山市禾才科技服務(wù)有限公司