本發(fā)明涉及觸控技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種保護(hù)蓋板及其制作方法。

背景技術(shù)：

近年來，顯示設(shè)備作為信息展示的接口而大量地運(yùn)用于各種電子產(chǎn)品中。顯示設(shè)備內(nèi)常設(shè)置有遮光層，以遮蔽周邊線路。為了提升視覺效果，往往在顯示設(shè)備外設(shè)置有抗反射層，以降低環(huán)境光影響輸出的影像質(zhì)量。使用上，往往依照影像質(zhì)量的需求而設(shè)計(jì)此抗反射層的特性，即抗反射層是搭配顯示設(shè)備的可視區(qū)而設(shè)計(jì)的，此等抗反射層往往傾向具有較大的抗反射效果。

為了使得非可視區(qū)也具有抗反射效果，然而，由于遮光層所定義的非可視區(qū)內(nèi)具有較低的亮度，因此，具有較大的抗反射能力的抗反射層并不是最適合搭配非可視區(qū)的，換句話說，將適用于可視區(qū)的抗反射能力高的抗反射層設(shè)置于非可視區(qū)，人眼仍容易在非可視區(qū)內(nèi)觀察到不佳的視覺外觀效果，例如遮光層不能呈現(xiàn)出其本來的真實(shí)顏色而出現(xiàn)異色問題，從而影響顯示設(shè)備的外觀效果。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明之多個實(shí)施方式提供一種保護(hù)蓋板，藉由改變非可視區(qū)上的層體性質(zhì)，該位于非可視區(qū)的層體具有低反射率(反射率小于2.5％)，而使遮光層所在的非可視區(qū)具有抗反射效果，同時該位于非可視區(qū)的層體于可見光內(nèi)的抗反射效果接近一致(反射率差異小于2％)，從而使得遮光層可以呈現(xiàn)其真實(shí)顏色而降低異色的問題。

根據(jù)本發(fā)明之部分實(shí)施方式，保護(hù)蓋板包含基板、遮光層以及第一層體堆疊?；寰哂邢鄬υO(shè)置的第一表面與第二表面。遮光層設(shè)置于基板之第一表面，其中遮光層具有遮光層開口，以定義基板之可視區(qū)與非可視區(qū)。第一層體堆疊設(shè)置于基板之第二表面且至少位于非可視區(qū)。第一層體堆疊于可見光波長范圍內(nèi)之反射率差異小于2％，第一層體堆疊在非可視區(qū)于可見光波長范圍內(nèi)之反射率小于2.5％。

于本發(fā)明之多個實(shí)施方式中，第一層體堆疊包含第一折射率層，其中第一折射率層的折射率范圍為大約1.2至大約1.8。

于本發(fā)明之多個實(shí)施方式中，保護(hù)蓋板包含第二層體堆疊，設(shè)置于基板之第二表面且位于可視區(qū)內(nèi)，其中第一層體堆疊與第二層體堆疊相連，且第二層體堆疊為抗反射堆疊。

于本發(fā)明之多個實(shí)施方式中，保護(hù)蓋板包含第二層體堆疊與第三層體堆疊，設(shè)置于基板之第二表面且位于該可視區(qū)，其中第二層體堆疊系位于第三層體堆疊與基板之間，第二層體堆疊鄰近第三層體堆疊的一層體的折射率大于第三層體堆疊鄰近第二層體堆疊的一層體的折射率。

于本發(fā)明之多個實(shí)施方式中，第三層體堆疊與第一層體堆疊的材料相同，且第三層體堆疊與第一層體堆疊為同一制程形成。

于本發(fā)明之多個實(shí)施方式中，位于可視區(qū)的相疊之第三層體堆疊與第二層體堆疊之反射率小于位于非可視區(qū)的第一層體堆疊之反射率。

于本發(fā)明之多個實(shí)施方式中，位于可視區(qū)的相疊之第三抗層體堆疊與第二層體堆疊于可見光波長之反射率差異小于1％。

于本發(fā)明之多個實(shí)施方式中，第一層體堆疊具有開口，位于可視區(qū)內(nèi)，第二層體堆疊位于第一層體堆疊之開口內(nèi)。

于本發(fā)明之多個實(shí)施方式中，第二層體堆疊包含多個第三折射率層以及第四折射率層，每二個第三折射率層由第四折射率層間隔開來，其中第三折射率層之一鄰接基板，其中第三折射率層的折射率大于第四折射率層與該第一層體堆疊的第一折射率層的折射率。

于本發(fā)明之多個實(shí)施方式中，第三折射率層的折射率范圍為大約2.2至大約2.4之間，第四折射率層的折射率范圍為大約1.4至大約1.6之間。

于本發(fā)明之多個實(shí)施方式中，其中第一層體堆疊具有開口，位于可視區(qū)內(nèi)。

于本發(fā)明之多個實(shí)施方式中，基板包含平坦部以及設(shè)置于平坦部之至少一側(cè)的彎折部，其中遮光層與第一層體堆疊至少設(shè)置于彎折部之相對二側(cè)，彎折部位于非可視區(qū)。

于本發(fā)明之多個實(shí)施方式中，第一層體堆疊之一第一折射率層的材料為氟化鎂。

根據(jù)本發(fā)明之部分實(shí)施方式，保護(hù)蓋板的制作方法包含提供基板，其中基板具有相對設(shè)置的第一表面與第二表面；形成遮光層于基板之第一表面，其中遮光層具有遮光層開口，以定義基板之可視區(qū)與非可視區(qū)；以及形成第一層體堆疊于基板之第二表面且至少位于非可視區(qū)，其中第一層體堆疊于可見光波長范圍內(nèi)之反射率差異小于2％，且第一層體堆疊在非可視區(qū)于可見光波長范圍內(nèi)之反射率小于2.5％。

于本發(fā)明之多個實(shí)施方式中，保護(hù)蓋板的制作方法更包含形成第二層體堆疊于基板之第二表面且位于可視區(qū)。

于本發(fā)明之多個實(shí)施方式中，形成第二層體堆疊于基板之第二表面且位于可視區(qū)內(nèi)的步驟包含形成覆膜于基板之第二表面，覆膜包含位于可視區(qū)的鏤空部；形成至少材料于覆膜上，其中材料覆蓋覆膜且填入鏤空部；以及移除覆膜以及位于覆膜上的材料，使剩余的材料形成第二層體堆疊。

于本發(fā)明之多個實(shí)施方式中，保護(hù)蓋板的制作方法更包含形成一第三層體堆疊于基板之第二表面且位于可視區(qū)內(nèi)，其中第二層體堆疊系位于第三層體堆疊與基板之間，第二層體堆疊鄰近第三層體堆疊的層體的折射率大于第三層體堆疊鄰近第二層體堆疊的層體的折射率。

于本發(fā)明之多個實(shí)施方式中，形成第一層體堆疊的步驟與形成第三層體堆疊的步驟同時進(jìn)行。

于本發(fā)明之多個實(shí)施方式中，基板包含平坦部以及設(shè)置于平坦部之至少一側(cè)的彎折部，其中遮光層與第一層體堆疊至少設(shè)置于彎折部之相對二側(cè)，彎折部位于非可視區(qū)。

附圖說明

圖1a為根據(jù)本發(fā)明之一實(shí)施方式之保護(hù)蓋板之剖面圖。

圖1b為根據(jù)部分實(shí)施方式保護(hù)蓋板之部份第一層體堆疊之折射率頻譜圖。

圖1c為根據(jù)部分實(shí)施方式保護(hù)蓋板之第一層體堆疊之反射頻譜圖。

圖2為根據(jù)本發(fā)明之另一實(shí)施方式之保護(hù)蓋板之剖面圖。

圖3為根據(jù)本發(fā)明之再一實(shí)施方式之保護(hù)蓋板之剖面圖。

圖4為根據(jù)本發(fā)明之另一實(shí)施方式之保護(hù)蓋板之剖面圖。

圖5為根據(jù)本發(fā)明之又一實(shí)施方式之保護(hù)蓋板之剖面圖。

圖6a至圖6d為根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施方式的保護(hù)蓋板于多個制造階段的剖面圖。

100：保護(hù)蓋板142：第三折射率層

110：基板144：第四折射率層

112：平坦部150：第三層體堆疊

114：彎折部154：第五折射率層

120：遮光層200：覆膜

122：遮光層開口210：鏤空部

130：第一層體堆疊s1：第一表面

130a：底面s2：第二表面

134：第一折射率層va：可視區(qū)

136：開口na：非可視區(qū)

140：第二層體堆疊

140’：材料

140a：底面

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖與具體實(shí)施方式對本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)描述。

圖1a為根據(jù)本發(fā)明之一實(shí)施方式之保護(hù)蓋板100之剖面圖。保護(hù)蓋板100包含基板110、遮光層120以及第一層體堆疊130?；?10具有相對設(shè)置的第一表面s1與第二表面s2，其中，保護(hù)蓋板100作為顯示設(shè)備的外蓋板使用時，第二表面s2相較第一表面s1更加靠近人眼。遮光層120設(shè)置于基板110之第一表面s1，其中遮光層120具有遮光層開口122，以定義基板110之可視區(qū)va與非可視區(qū)na，其中遮光層開口122對應(yīng)的區(qū)域?yàn)榭梢晠^(qū)va，其它為非可視區(qū)na。第一層體堆疊130設(shè)置于基板110之第二表面s2且至少位于非可視區(qū)na。位于非可視區(qū)na的第一層體堆疊130于可見光波長范圍內(nèi)對應(yīng)不同波長之反射率差異小于2％，且第一層體堆疊130在非可視區(qū)na于可見光波長范圍內(nèi)之反射率小于2.5％。

于本文中，一材料或結(jié)構(gòu)的「反射率差異」系定義為該材料或結(jié)構(gòu)在可見光波長范圍內(nèi)(波長400奈米至波長700奈米之間)之最大反射率與最小反射率的差值。

在一實(shí)施例中，第一層體堆疊130包含第一折射率層134。第一折射率層134設(shè)置于基板110之第二表面s2且位于非可視區(qū)na。第一折射率層134的折射率范圍為大約1.2至大約1.8。

于本發(fā)明之多個實(shí)施方式中，在非可視區(qū)na內(nèi)，藉由僅采用反射率差異較小的第一層體堆疊130，并搭配上述第一層體堆疊130的反射率范圍。如此一來，使非可視區(qū)na既具有抗反射的效果，同時從視覺效果來看，非可視區(qū)na之遮光層120的顏色并不會因第一層體堆疊130而改變，可呈現(xiàn)遮光層120其本身的顏色，可以降低在非可視區(qū)na上遮光層120容易觀察到異色的問題。

請繼續(xù)參照圖1a，于本發(fā)明之多個實(shí)施方式中，保護(hù)蓋板100包含第二層體堆疊140以及第三層體堆疊150。第二層體堆疊140設(shè)置于基板110之第二表面s2且位于可視區(qū)va內(nèi)，第三層體堆疊150設(shè)置于第二層體堆疊140相對基板110之一側(cè)，而使得第二層體堆疊140位于第三層體堆疊150與基板110之間。

第二層體堆疊140包含多個第三折射率層142以及第四折射率層144，每二個第三折射率層142由一個第四折射率層144間隔開來，其中第三折射率層142之一(例如圖1a中位于第四折射率層144下方的第三折射率層142)鄰接基板110，第三折射率層142之另一(例如圖1a中位于第四折射率層144上方的第三折射率層142)鄰接第三層體堆疊150。第三折射率層142的折射率大于第四折射率層144的折射率。于部分實(shí)施方式中，第三折射率層142的折射率大于第一折射率層134的折射率。于此，雖然僅以三層結(jié)構(gòu)繪示此第二層體堆疊140，但實(shí)際應(yīng)用上可以采用五層、七層等結(jié)構(gòu)，不應(yīng)以圖中所示而限制本發(fā)明之范圍。

于部分實(shí)施方式中，第一層體堆疊130與第三層體堆疊150的材料相同。于本發(fā)明之多個實(shí)施方式中，第三層體堆疊150包含第五折射率層154。在可視區(qū)va中以折射率較小的第五折射率層154作為連接空氣的最外層，以降低空氣與層體堆疊之間的界面的反射率。

且，第二層體堆疊140鄰接第三層體堆疊150的第三折射率層142的折射率大于第三層體堆疊150鄰接第二層體堆疊140的第五折射率層154的折射率，從而使得第二層體堆疊140與第三層體堆疊150形成折射率高低交錯搭配的層疊關(guān)系，以透過破壞性干涉維持可視區(qū)va的抗反射效果。

于此，于可見光波長范圍內(nèi)，相較于常規(guī)的適用于可視區(qū)va的抗反射層，第一層體堆疊130的反射率差異小于2％，具有較均勻的抗反射效果，以降低非可視區(qū)na的遮光層120出現(xiàn)異色的問題。位于可視區(qū)va的相疊之第三層體堆疊150與第二層體堆疊140于可見光波長范圍內(nèi)整體疊構(gòu)之反射率小于位于非可視區(qū)na的第一層體堆疊130之反射率，較佳的，位于該可視區(qū)va的相疊之第三層體堆疊150與第二層體堆疊140整體疊構(gòu)之反射率小于1％，以使可視區(qū)va具有較佳的抗反射效果。

于本實(shí)施方式中，為提高制程效率及實(shí)現(xiàn)第一層體堆疊130與第二層體堆疊140之間無縫連接，第一層體堆疊130與第三層體堆疊150由相同的制程步驟所組成，兩者邊緣可以互相連接而做為連續(xù)的結(jié)構(gòu)，當(dāng)然不應(yīng)以此限制本發(fā)明之范圍?；蛘?，于其他實(shí)施方式中，第一層體堆疊130與第三層體堆疊150可以分別形成，兩者可以不互相連接，且其材料可以不同。

于部分實(shí)施方式中，第一層體堆疊130與第二層體堆疊140相鄰接，且第一層體堆疊130之底面130a對齊于第二層體堆疊140之底面140a，以使第一層體堆疊130結(jié)合第二層體堆疊140可以完全覆蓋保護(hù)蓋板100的第二表面s2。

于本發(fā)明之多個實(shí)施方式中，第一層體堆疊130于基板110上的投影完全覆蓋非可視區(qū)na，而第二層體堆疊140不位于非可視區(qū)na中。由于第一層體堆疊130于可見光波長范圍內(nèi)的各個波長的反射率較一致，因此，可以減少非可視區(qū)na內(nèi)的遮光層120受到第一層體堆疊130的影響，降低非可視區(qū)na內(nèi)的遮光層120異色的問題。于部分實(shí)施方式中，部分的第一層體堆疊130還位于可視區(qū)va中。于其他實(shí)施方式中，第一層體堆疊130可以僅位于非可視區(qū)na，而不位于可視區(qū)va。

以下舉例說明各個層體堆疊的材料與相關(guān)特性，應(yīng)了解到各個層體堆疊中的材料與層體數(shù)量可以有各種變形。

于本發(fā)明之多個實(shí)施方式中，第一層體堆疊130中，第一折射率層134的材料可為氟化鎂或其組合物。于此，雖然僅以單層結(jié)構(gòu)繪示此第一層體堆疊130，但實(shí)際應(yīng)用上第一層體堆疊130還可以包含其他層體于第一折射率層134上，例如二氧化硅層。于本發(fā)明之多個實(shí)施方式中，第二層體堆疊140中，第三折射率層142的折射率范圍為大約2.2至大約2.4之間，第四折射率層144的折射率范圍為大約1.4至大約1.6之間。舉例而言，第三折射率層142的材料可以是氧化鈦(ti3o5)、氮化硅(si3n4)、氧化鈮(nb2o5)，第四折射率層144的材料可以是二氧化硅。

詳細(xì)而言，同時參照圖1b與圖1c。圖1b為根據(jù)部分實(shí)施方式保護(hù)蓋板之部份第一層體堆疊130之折射率頻譜圖，圖1c為根據(jù)部分實(shí)施方式保護(hù)蓋板100之第一層體堆疊130之反射頻譜圖。于此，第一層體堆疊130以氟化鎂層以及二氧化硅層堆疊為例，為了更好的說明第一層體堆疊之反射率差異，圖1c中另一條曲線為常規(guī)的抗反射層如氧化鈦以及二氧化硅堆疊的反射率頻譜，以作為對比來進(jìn)行說明。圖1b為氟化鎂層之折射率頻譜圖。參照圖1b，第一層體堆疊130之氟化鎂層于可見光內(nèi)的折射率值在1.2至1.8之間(虛線所表示的范圍內(nèi))。參照圖1c，第一層體堆疊130于可見光內(nèi)的反射率差異(以細(xì)線表示)小于氧化鈦及二氧化硅堆疊于可見光內(nèi)的反射率差異(以粗線表示)，例如圖中第一層體堆疊130于可見光內(nèi)的反射率差異小于2％。如此一來，此等第一層體堆疊130在不犧牲可視區(qū)va的影像質(zhì)量下降低非可視區(qū)na內(nèi)的遮光層120異色的問題。

此外，由于在部分實(shí)施方式中，第三層體堆疊150與第一層體堆疊130的材料相同，因此，第五折射率層154可與第一折射率層134之材料相同。

本發(fā)明之部分實(shí)施方式中，第三折射率層142之另一(例如圖1a中位于第四折射率層144上方的第三折射率層142)鄰接第三層體堆疊150之第五折射率層154，使得在可視區(qū)va內(nèi)，反射率差異較大的第二層體堆疊140與反射率差異較小的第三層體堆疊150組合成一折射率高低交錯的結(jié)構(gòu)，以破壞性干涉有效地達(dá)到抗反射的效果。而在非可視區(qū)na內(nèi)，僅采用反射率差異較小的第一層體堆疊130，以降低在非可視區(qū)na上容易觀察到異色的問題。

圖2為根據(jù)本發(fā)明之另一實(shí)施方式之保護(hù)蓋板100之剖面圖。本實(shí)施方式與圖1a之實(shí)施方式相似，差別在于：本實(shí)施方式中，基板110包含平坦部112以及設(shè)置于平坦部112之至少一側(cè)的彎折部114，其中遮光層120與第一層體堆疊130至少設(shè)置于彎折部114之相對二側(cè)，彎折部114位于非可視區(qū)na。第一層體堆疊130覆蓋彎折部114。

如同前述，于可視區(qū)va內(nèi)，采用反射率差異較大的第二層體堆疊140與反射率差異較小的第三層體堆疊150組合成一折射率高低交錯的結(jié)構(gòu)，且采用折射率較低的第五折射率層154作為最外層，而能有效地達(dá)到抗反射的效果。而在非可視區(qū)na內(nèi)，特別是當(dāng)遮光層120還設(shè)置于彎折部114上時，如果將習(xí)知的僅適用于可視區(qū)va的抗反射層直接設(shè)置于彎折部114上，且位于遮光層120之相對側(cè)，一方面由于曲面鍍膜會導(dǎo)致抗反射層出現(xiàn)厚度不均勻，從而導(dǎo)致曲面區(qū)域的遮光層異色。另一方面，利用干涉原理達(dá)到抗反射作用的抗反射層，因?yàn)榍娴拇嬖谝约叭肷鋳A角較大的緣故，可能使反射光無法順利干涉，進(jìn)而無法正常運(yùn)作，容易導(dǎo)致曲面區(qū)域的遮光層產(chǎn)生異色等相應(yīng)的外觀缺陷。故習(xí)知適用于可視區(qū)va的抗反射層則不再適用于彎折部114，不能真實(shí)呈現(xiàn)出遮光層120本來的顏色。本發(fā)明采用反射率差異較小的第一層體堆疊130覆蓋非可視區(qū)na，藉由此設(shè)置，可以降低在非可視區(qū)na的彎折部114上容易觀察到遮光層120異色問題的產(chǎn)生。

本實(shí)施方式的其他細(xì)節(jié)大致上如圖1a之實(shí)施方式所述，在此不再贅述。

圖3為根據(jù)本發(fā)明之再一實(shí)施方式之保護(hù)蓋板100之剖面圖。本實(shí)施方式與圖1a之實(shí)施方式相似，差別在于：本實(shí)施方式中，保護(hù)蓋板100不包含第三層體堆疊150，且第二層體堆疊140為多層高低折射率搭配的抗反射堆疊。于此，第一層體堆疊130具有開口136，位于可視區(qū)va內(nèi)。第二層體堆疊140位于第一層體堆疊130之開口136內(nèi)。第一層體堆疊130結(jié)合第二層體堆疊140全面覆蓋非可視區(qū)na與可視區(qū)va。

于本實(shí)施方式中，第二層體堆疊140包含多個第三折射率層142以及多個第四折射率層144，第三折射率層142與第四折射率層144彼此交錯。第三折射率層142的折射率大于第四折射率層144的折射率。于此，以折射率較小的第四折射率層144作為連接空氣的最外層，以降低反射率。

于本實(shí)施方式中，在可視區(qū)va內(nèi)，由第二層體堆疊140達(dá)到抗反射的效果。而在非可視區(qū)na內(nèi)，僅采用反射率差異較第二層體堆疊140小的第一層體堆疊130，以降低在非可視區(qū)na上容易觀察到異色的問題。本實(shí)施方式的其他細(xì)節(jié)大致上如圖1a之實(shí)施方式所述，在此不再贅述。

圖4為根據(jù)本發(fā)明之另一實(shí)施方式之保護(hù)蓋板100之剖面圖。本實(shí)施方式與圖1a之實(shí)施方式相似，差別在于：本實(shí)施方式中，保護(hù)蓋板100僅包含第一層體堆疊130，不包含第三層體堆疊150與第二層體堆疊140(參照圖1a)。第一層體堆疊130具有開口136，位于可視區(qū)va內(nèi)。

本實(shí)施方式中，于可視區(qū)va內(nèi)不采用任何層體堆疊。而在非可視區(qū)na內(nèi)，僅采用反射率差異較小的第一層體堆疊130，以降低在遮光層120上容易觀察到異色的問題。本實(shí)施方式的其他細(xì)節(jié)大致上如圖1a之實(shí)施方式所述，在此不再贅述。

圖5為根據(jù)本發(fā)明之又一實(shí)施方式之保護(hù)蓋板100之剖面圖。本實(shí)施方式與圖4之實(shí)施方式相似，差別在于：本實(shí)施方式中，基板110包含平坦部112以及設(shè)置于平坦部112之至少一側(cè)的彎折部114，其中遮光層120與第一層體堆疊130至少設(shè)置于彎折部114之相對二側(cè)，彎折部114位于非可視區(qū)na。第一層體堆疊130覆蓋彎折部114。

本實(shí)施方式中，于可視區(qū)va內(nèi)不采用任何層體堆疊。而在非可視區(qū)na內(nèi)，僅采用反射率差異較小的第一層體堆疊130，以降低在非可視區(qū)na的彎折部114上容易觀察到異色的問題。本實(shí)施方式的其他細(xì)節(jié)大致上如圖1a之實(shí)施方式所述，在此不再贅述。

圖6a至圖6d為根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施方式的保護(hù)蓋板100于多個制造階段的剖面圖。以下制造流程可對應(yīng)形成圖2所示實(shí)施例的保護(hù)蓋板100，其它實(shí)施例的保護(hù)蓋板形成步驟可基本與此相同。

首先，參照圖6a，提供基板110并形成遮光層120其上?；?10包含平坦部112以及設(shè)置于平坦部112之至少一側(cè)的彎折部114，且基板110具有相對設(shè)置的第一表面s1與第二表面s2。于此，將遮光層120形成于基板110之第一表面s1且位于彎折部114上，本實(shí)施例中，遮光層120還有部份位于平坦部112上。于本實(shí)施方式中，遮光層120具有遮光層開口122，以定義基板110之可視區(qū)va與非可視區(qū)na。彎折部114位于非可視區(qū)na。于此，還形成覆膜200于基板110之第二表面s2，其中覆膜200包含位于可視區(qū)va的鏤空部210。

于本實(shí)施方式中，覆膜200可以是具有離型能力的軟性薄膜基板，以利一次性地剝除覆膜200。覆膜200可與基板110直接接觸，而利用其離型能力黏貼至彎折部114上?；蛘?，可以透過涂布液態(tài)膠體于彎折部114上，再透過固化或烘烤等方式而形成覆膜200。覆膜200的材料可以是固化后能一次性剝除的材料，舉例而言，覆膜200可以是樹脂。于本實(shí)施方式中，遮光層開口122與覆膜200之關(guān)系，可以存在其他多種變型，但一般情況下，鏤空部210在基板110上的正投影位于遮光層開口122之內(nèi)或與遮光層開口122大致相同。

于其他實(shí)施方式中，覆膜200的材料可以是光阻。藉由設(shè)置光阻層于第二表面s2上，并以遮光層120做為光罩，使光線經(jīng)過遮光層120之遮光層開口122而對光阻層進(jìn)行曝光，并且在顯影之后再透過濕式剝除或干式剝除等方式移除受到曝光顯影后之光阻層，使剩余的光阻層做為覆膜200。于部分實(shí)施方式中，由于遮光層120做為光阻層曝光過程的光罩，鏤空部210與遮光層120之遮光層開口122具有大致相同的圖案，即遮光層開口122與覆膜200之鏤空部210在基板110上的投影形狀與面積相同。

接著，參照圖6b，形成至少一材料140’于覆膜200上，其中材料140’覆蓋覆膜200且填入鏤空部210。于本發(fā)明之多個實(shí)施方式中，可以透過沉積、涂布等方式而將多個材料分層地填入鏤空部210，以構(gòu)成多個層體，使得材料140’可以包含多個層體，例如氧化鈦層與二氧化硅層。

參照圖6c，移除覆膜200以及位于覆膜200上的材料140’，使剩余的材料140’(參考圖6b)形成第二層體堆疊140，第二層體堆疊140位于基板110之第二表面s2且位于可視區(qū)va內(nèi)。

然后，參照圖6d，形成第一層體堆疊130以及第三層體堆疊150于基板110之第二表面s2上。于此，相同地，可以透過沉積、涂布等方式而形成第一層體堆疊130以及第三層體堆疊150。第一層體堆疊130至少位于非可視區(qū)na，第三層體堆疊150位于可視區(qū)va內(nèi)。于本發(fā)明之多個實(shí)施方式中，形成第一層體堆疊130的步驟與形成第三層體堆疊150的步驟可同時進(jìn)行。第三層體堆疊150與第一層體堆疊130的各個層體的材料以及制造過程大致相同。

于本發(fā)明之多個實(shí)施方式中，遮光層120與第一層體堆疊130至少設(shè)置于彎折部114之相對二側(cè)，并不設(shè)置第二層體堆疊140于非可視區(qū)na。如前所述，第二層體堆疊140相較于第三層體堆疊150可以具有較高的反射率，而第一層體堆疊130之反射率差異系配置小于第二層體堆疊140之反射率差異，藉以在不犧牲影響質(zhì)量的情況下，改善前述的異色問題。

于本發(fā)明之多個實(shí)施方式中，在第二層體堆疊140的形成之后才形成第三層體堆疊150于其上，使得第二層體堆疊140系位于第三層體堆疊150與基板110之間。于此，第一層體堆疊130與第二層體堆疊140是直接設(shè)置于基板110上，而使第一層體堆疊130與第二層體堆疊140相鄰接，且第一層體堆疊130之底面130a對齊于第二層體堆疊140之底面140a。

于此，第一層體堆疊130與第三層體堆疊150可以包含多個層體，例如氧化硅層與氟化鎂層。在此，為了方便說明制程步驟，并未詳細(xì)繪示各個層體堆疊內(nèi)的層體，本實(shí)施方式之各個層體堆疊的詳細(xì)結(jié)構(gòu)可以參考圖2之實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)，在此不再贅述。

于部分實(shí)施方式中，第三層體堆疊150并非必要之配置，可以透過蝕刻制程或其他方法，移除或省略第三層體堆疊150。本實(shí)施方式的其他細(xì)節(jié)大致上如圖2之實(shí)施方式所述，在此不再贅述。

本發(fā)明之多個實(shí)施方式提供一種保護(hù)蓋板，藉由改變非可視區(qū)上的層體性質(zhì)，使該位于非可視區(qū)的層體具有低反射率(反射率小于2.5％)，而使遮光層所在的非可視區(qū)具有抗反射效果，同時該位于非可視區(qū)的層體于可見光內(nèi)的抗反射效果接近一致(反射率差異小于2％)。如此一來，可以在不犧牲可視區(qū)的影像質(zhì)量下降低非可視區(qū)的層體于遮光層上的反射率差異與遮光層異色的問題。

以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所做的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明保護(hù)的范圍之內(nèi)。