1.一種觸控面板，包括：
襯底基板，具有一觸摸面；
多個(gè)發(fā)射器組，每個(gè)所述發(fā)射器組包括多個(gè)發(fā)射器；以及
接收器，
其中，所述發(fā)射器被配置為發(fā)射光線，所述接收器與所述發(fā)射器組對(duì)應(yīng)設(shè)置并被配置為接收與所述接收器對(duì)應(yīng)設(shè)置的所述發(fā)射器組中所述多個(gè)發(fā)射器發(fā)出的光線，所述發(fā)射器組設(shè)置在所述襯底基板遠(yuǎn)離所述觸摸面的一側(cè)，且所述發(fā)射器組中的所述多個(gè)發(fā)射器沿垂直于所述觸摸面的方向排布。
2.如權(quán)利要求1所述的觸控面板，其中，所述接收器包括多個(gè)子接收器，各所述發(fā)射器組中的不同發(fā)射器發(fā)出的光線由不同的子接收器接收。
3.如權(quán)利要求1所述的觸控面板，還包括：
遮光層，
其中，所述遮光層設(shè)置在所述襯底基板和所述發(fā)射器組之間，所述遮光層被配置為防止來(lái)自觸摸面的與所述多個(gè)發(fā)射器發(fā)出的光線波長(zhǎng)相同的光射入所述接收器。
4.如權(quán)利要求3所述的觸控面板，其中，所述遮光層為光子晶體層。
5.如權(quán)利要求4所述的觸控面板，還包括：
多個(gè)光子晶體突觸，間隔設(shè)置在所述光子晶體層遠(yuǎn)離所述觸摸面的一側(cè)。
6.如權(quán)利要求1-5中任一項(xiàng)所述的觸控面板，其中，所述發(fā)射器被配置為發(fā)射紅外光線。
7.如權(quán)利要求4所述的觸控面板，其中，所述光子晶體層的帶隙范圍為780nm-2500nm。
8.如權(quán)利要求1-5中任一項(xiàng)所述的觸控面板，其中，所述襯底基板包括顯示面板。
9.如權(quán)利要求1-5中任一項(xiàng)所述的觸控面板，其中，所述多個(gè)發(fā)射器組包括沿第一方向排列的行發(fā)射器組和沿第二方向排列的列發(fā)射器組，所述第一方向垂直于所述第二方向。
10.如權(quán)利要求1-5中任一項(xiàng)所述的觸控面板，還包括設(shè)置在所述襯底基板上的呈矩陣排列的多個(gè)自電容電極。
11.如權(quán)利要求10所述的觸控面板，還包括設(shè)置在所述襯底基板上的多個(gè)觸控驅(qū)動(dòng)電極和多個(gè)觸控感應(yīng)電極。
12.如權(quán)利要求1-5中任一項(xiàng)所述的觸控面板，其中，所述接收器還包括光電轉(zhuǎn)換器件，所述觸控面板還包括與所述光電轉(zhuǎn)換器件對(duì)應(yīng)設(shè)置的放大電路以及與所述放大電路相通信的分析電路。
13.一種顯示裝置，包括權(quán)利要求1-12中任一項(xiàng)所述的觸控面板。
14.一種觸控檢測(cè)方法，用于如權(quán)利要求1所述的觸控面板，包括：
使用所述多個(gè)發(fā)射器發(fā)射與所述觸控面平行的光線，并使光線射入對(duì)應(yīng)設(shè)置的所述接收器中；以及
檢測(cè)所述接收器是否接收到光線以判斷是否有觸控操作發(fā)生。
15.如權(quán)利要求14所述的觸控檢測(cè)方法，還包括：
檢測(cè)所述接收器接收到的光強(qiáng)以判斷所述觸控操作的壓力的大小。
16.如權(quán)利要求15所述的觸控檢測(cè)方法，其中，所述接收器包括多個(gè)子接收器，各所述發(fā)射器組中的不同發(fā)射器發(fā)出的光線由不同的子接收器接收，所述方法還包括：
檢測(cè)同一所述發(fā)射器組中所述多個(gè)發(fā)射器一一對(duì)應(yīng)設(shè)置的所述多個(gè)子接收器中接收到光線的所述子接收器的個(gè)數(shù)以判斷所述觸控操作的壓力大小。
17.如權(quán)利要求14所述的觸控檢測(cè)方法，所述接收器包括光電轉(zhuǎn)換器件，所述方法還包括：
利用所述接收器中的所述光電轉(zhuǎn)換器件將所述接收器接收的光線轉(zhuǎn)換為感應(yīng)電流；
放大所述感應(yīng)電流；以及
檢測(cè)放大后的所述感應(yīng)電流的大小來(lái)判斷所述接收器是否接收到光線以及接收到的光強(qiáng)。
18.如權(quán)利要求15或16所述的觸控檢測(cè)方法，還包括：
根據(jù)所述觸控操作的壓力的大小產(chǎn)生不同的觸控命令。