本公開(kāi)涉及終端技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種壓力觸控裝置和一種電子設(shè)備。

背景技術(shù)：

現(xiàn)有各大終端廠商的主打機(jī)型中指紋識(shí)別已經(jīng)成為必不可少的配置，并且在指紋識(shí)別的基礎(chǔ)上，還集成了壓力觸控等功能，以便對(duì)觸控壓力進(jìn)行識(shí)別。

相關(guān)技術(shù)的一種基于電容式指紋識(shí)別模組集成壓力觸控功能的結(jié)構(gòu)如圖1所示，其中FPC(Flexible Printed Circuit，柔性電路板)與電容式的指紋識(shí)別模組相連，在FPC中設(shè)置有鋼板補(bǔ)強(qiáng)，其中以中框作為參考地，F(xiàn)PC與中框間形成電容C，該電容的容值與FPC和中框間的間距呈相關(guān)變化。當(dāng)手指按壓指紋模組時(shí)，按壓力度的差異將導(dǎo)致指紋模組FPC與中框間的間距產(chǎn)生不同變化，通過(guò)檢測(cè)FPC與中框間的容值變化即可確定施加于指紋模組上的壓力大小，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)相應(yīng)的壓力觸控功能。

在上述結(jié)構(gòu)中，由于指紋識(shí)別模組下方一般設(shè)置有充電接口，因此會(huì)導(dǎo)致指紋模組與中框之間的間隙不平整，從而難以在FPC與中框之間形成穩(wěn)定的電容。而且上述檢測(cè)觸控壓力的電容，是由FPC和中框兩種結(jié)構(gòu)形成的，因此在制作時(shí)需要考慮中框的組裝公差、接地性能、FPC的材質(zhì)等參數(shù)，從而導(dǎo)致生產(chǎn)制作難度加大。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本公開(kāi)提供一種壓力觸控裝置和電子設(shè)備，以解決相關(guān)技術(shù)中的不足。

根據(jù)本公開(kāi)實(shí)施例的第一方面，提供一種壓力觸控裝置，包括：第一處理模塊、第二處理模塊、光電傳感器陣列以及設(shè)置在所述光電傳感器陣列之上的保護(hù)層，所述光電傳感器陣列包括第一陣列和第二陣列，其中，

所述第一陣列，用于接收指紋反射的第一光線；

所述第一處理模塊，電連接于所述第一陣列，用于根據(jù)所述第一光線確定指紋圖形；

所述第二陣列，用于接收所述保護(hù)層反射的第二光線；

所述第二處理模塊，電連接于所述第二陣列，用于根據(jù)接收到所述第二光線的光電傳感器的位置信息確定所述保護(hù)層受到的壓力。

可選地，在所述保護(hù)層未受到壓力時(shí)，所述第二陣列中位于預(yù)設(shè)位置的光電傳感器接收到所述第二光線，所述第二處理模塊根據(jù)所述位置信息和所述預(yù)設(shè)位置的距離確定所述保護(hù)層受到的壓力。

可選地，上述壓力觸控裝置還包括：

光源，與所述光電傳感器陣列設(shè)置在同一層或設(shè)置在所述光電傳感器陣列之下，用于向所述保護(hù)層射出光線。

可選地，上述壓力觸控裝置還包括：

反射層，設(shè)置在所述保護(hù)層之上的預(yù)設(shè)區(qū)域，用于將來(lái)自所述光源的光線反射至所述第二陣列。

可選地，在所述保護(hù)層未受到壓力時(shí)，所述反射層將來(lái)自所述光源的光線反射至所述光電傳感器陣列的第一區(qū)域，在所述保護(hù)層受到閾值壓力時(shí)，所述反射層將來(lái)自所述光源的光線反射至所述光電傳感器陣列的第二區(qū)域，

其中，所述第二陣列中距離所述第一陣列最近的光電傳感器位于所述第一區(qū)域，距離所述第一陣列最遠(yuǎn)的光電傳感器位于所述第二區(qū)域。

可選地，所述第一陣列為矩形。

可選地，所述第二陣列與所述矩形的一條邊相接。

可選地，所述第二陣列與所述矩形的多條邊相接。

可選地，所述第二陣列與所述矩形的每條邊相接。

可選地，所述光電傳感器包括以下至少一種：

光電二極管、光電三極管、光電晶體管。

根據(jù)本公開(kāi)實(shí)施例的第三方面，提供一種電子設(shè)備，包括：

處理模塊；

用于存儲(chǔ)處理模塊可執(zhí)行指令的存儲(chǔ)器；

其中，所述電子設(shè)備還包括壓力觸控裝置，所述壓力觸控裝置包括：第一處理模塊、第二處理模塊、光電傳感器陣列以及設(shè)置在所述光電傳感器陣列之上的保護(hù)層，所述光電傳感器陣列包括第一陣列和第二陣列，其中，

所述第一陣列，用于接收指紋反射的第一光線；

所述第一處理模塊，電連接于所述第一陣列，用于根據(jù)所述第一光線確定指紋圖形；

所述第二陣列，用于接收所述保護(hù)層反射的第二光線；

所述第二處理模塊，電連接于所述第二陣列，用于根據(jù)接收到所述第二光線的光電傳感器的位置預(yù)設(shè)位置確定所述保護(hù)層受到的壓力。

本公開(kāi)的實(shí)施例提供的技術(shù)方案可以包括以下有益效果：

由上述實(shí)施例可知，本公開(kāi)可以將光電傳感器陣列中的部分光電傳感器設(shè)置為檢測(cè)觸控壓力，無(wú)需額外添加結(jié)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)起來(lái)較為容易。并且也無(wú)需和其他結(jié)構(gòu)配合檢測(cè)觸控壓力，在制作過(guò)程中只需要考慮光電傳感器的性能即可，避免了其他結(jié)構(gòu)導(dǎo)致的性能差異，可以提高同一批次產(chǎn)品壓力檢測(cè)性能的一致性。

應(yīng)當(dāng)理解的是，以上的一般描述和后文的細(xì)節(jié)描述僅是示例性和解釋性的，并不能限制本公開(kāi)。

附圖說(shuō)明

此處的附圖被并入說(shuō)明書(shū)中并構(gòu)成本說(shuō)明書(shū)的一部分，示出了符合本公開(kāi)的實(shí)施例，并與說(shuō)明書(shū)一起用于解釋本公開(kāi)的原理。

圖1是相關(guān)技術(shù)中壓力觸控裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2是根據(jù)一示例性實(shí)施例示出的一種壓力觸控裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖3是圖2所示壓力觸控裝置受到壓力的示意圖。

圖4是根據(jù)一示例性實(shí)施例示出的另一種壓力觸控裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖5是根據(jù)一示例性實(shí)施例示出的光電傳感器陣列的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖6是根據(jù)一示例性實(shí)施例示出的光電傳感器陣列的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖7是圖6所示光電傳感器陣列沿AA’的截面示意圖。

圖8是根據(jù)一示例性實(shí)施例示出的一種顯示裝置的框圖。

具體實(shí)施方式

這里將詳細(xì)地對(duì)示例性實(shí)施例進(jìn)行說(shuō)明，其示例表示在附圖中。下面的描述涉及附圖時(shí)，除非另有表示，不同附圖中的相同數(shù)字表示相同或相似的要素。以下示例性實(shí)施例中所描述的實(shí)施方式并不代表與本公開(kāi)相一致的所有實(shí)施方式。相反，它們僅是與如所附權(quán)利要求書(shū)中所詳述的、本公開(kāi)的一些方面相一致的裝置和方法的例子。

圖2是根據(jù)一示例性實(shí)施例示出的一種壓力觸控裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。圖3是圖2所示壓力觸控裝置受到壓力的示意圖。該壓力觸控裝置可以應(yīng)用于手機(jī)、平板電腦等電子設(shè)備。

如圖2所示，該壓力觸控裝置包括：第一處理模塊(圖中未示出)、第二處理模塊(圖中未示出)、光電傳感器陣列1以及設(shè)置在所述光電傳感器陣列1之上的保護(hù)層2，所述光電傳感器陣列1包括第一陣列11和第二陣列12。

在一個(gè)實(shí)施例中，第一陣列和第二陣列中的光電傳感器可以通過(guò)相同的橫向和縱向的導(dǎo)線相連。也可以通過(guò)不同的橫向和縱向?qū)Ь€相連，例如第一陣列中的光電傳感器通過(guò)一套橫向和縱向的導(dǎo)線連接至第一處理模塊，第二陣列中的光電傳感器通過(guò)另一套橫向和縱向的導(dǎo)線連接至第二處理模塊。

在一個(gè)實(shí)施例中，保護(hù)層可以由玻璃材料制成，其可以與光電傳感器陣列直接接觸，也可以設(shè)置在光電傳感器上的其他結(jié)構(gòu)之上。

所述第一陣列11，用于接收指紋反射的第一光線；

所述第一處理模塊，電連接于所述第一陣列，用于根據(jù)所述第一光線確定指紋圖形。

在一個(gè)實(shí)施例中，從光源射出的光可以通過(guò)保護(hù)層射出。當(dāng)手指接觸保護(hù)層時(shí)，指紋可以將光反射回保護(hù)層，并進(jìn)一步照射在第一陣列的光電傳感器上，由于指紋的谷脊高度不同，因此反射的光線光路也存在差異，第一處理模塊可以根據(jù)第一陣列接收到光線的情況確定指紋的圖形。進(jìn)一步可以根據(jù)得到的指紋的圖形來(lái)進(jìn)行指紋識(shí)別。

所述第二陣列12，用于接收所述保護(hù)層反射的第二光線；

所述第二處理模塊，電連接于所述第二陣列，用于根據(jù)接收到所述第二光線的光電傳感器的位置信息確定所述保護(hù)層受到的壓力。

在一個(gè)實(shí)施例中，從光源射出的光可以照射在保護(hù)層的上表面，并有部分被反射，從而照射在第二陣列中的光電傳感器上。

如圖3所示，當(dāng)手指對(duì)保護(hù)層產(chǎn)生一定壓力時(shí)，可以導(dǎo)致保護(hù)層的上表面產(chǎn)生形變，從而改變對(duì)來(lái)自光源的光線的反射方向，使其照射在第二陣列上的位置也發(fā)生改變，而受到的壓力越大，位置的改變也越大，從而可以根據(jù)接收到所述第二光線的光電傳感器的位置信息確定所述保護(hù)層受到的壓力。

根據(jù)上述實(shí)施例，通過(guò)第一陣列進(jìn)行指紋識(shí)別，通過(guò)第二陣列檢測(cè)觸控壓力，可以將光電傳感器陣列中的部分光電傳感器設(shè)置為檢測(cè)觸控壓力，無(wú)需額外添加結(jié)構(gòu)用于檢測(cè)觸控壓力，因此實(shí)現(xiàn)起來(lái)較為容易。并且檢測(cè)觸控壓力的操作由光電傳感器陣列獨(dú)立完成，無(wú)需其他結(jié)構(gòu)配合，在制作過(guò)程中也就只需要考慮光電傳感器的性能即可，避免了其他結(jié)構(gòu)導(dǎo)致的性能差異，有利于提高同一批次產(chǎn)品壓力檢測(cè)性能的一致性。

可選地，在所述保護(hù)層未受到壓力時(shí)，所述第二陣列中位于預(yù)設(shè)位置的光電傳感器接收到所述第二光線，第二處理模塊根據(jù)所述位置信息和所述預(yù)設(shè)位置的距離確定所述保護(hù)層受到的壓力。

在一個(gè)實(shí)施例中，可以將保護(hù)層未受到壓力時(shí)，第二陣列中接收到第二光線的光電傳感器的位置記錄為預(yù)設(shè)位置。當(dāng)保護(hù)層受到壓力產(chǎn)生形變時(shí)，第二陣列中接收到第二光線的光電傳感器的位置相對(duì)于預(yù)設(shè)位置就會(huì)產(chǎn)生差異，處理模塊根據(jù)該差異即可確定保護(hù)層上表面的形變程度，進(jìn)而可以根據(jù)形變程度確定受到的壓力值，然后即可根據(jù)壓力值的大小觸發(fā)相應(yīng)的操作。

如圖1所示，上述壓力觸控裝置還包括：

光源3，與所述光電傳感器陣列設(shè)置在同一層或設(shè)置在所述光電傳感器陣列之下，用于向所述保護(hù)層射出光線。

在一個(gè)實(shí)施例中，光源可以如圖2所示與光電傳感器陣列設(shè)置在同一層，也可以根據(jù)需要設(shè)置在其他位置，例如設(shè)置在光電傳感器陣列之下。并且光源的類(lèi)型也可以根據(jù)需要進(jìn)行設(shè)置，例如可以為藍(lán)光光源、紅外光源等。

圖4是根據(jù)一示例性實(shí)施例示出的另一種壓力觸控裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖4所示，在圖2所示實(shí)施例的基礎(chǔ)上，上述壓力觸控裝置還包括：

反射層4，設(shè)置在所述保護(hù)層2之上的預(yù)設(shè)區(qū)域，用于將來(lái)自所述光源3的光線反射至所述第二陣列12。

在圖2所示的實(shí)施例中，由于第二處理模塊需要根據(jù)第二陣列中接收到保護(hù)層反射的光線的光電傳感器的位置來(lái)確定受到的壓力，但是保護(hù)層上表面的反射率是有限的，并且第一陣列還需要接收指紋反射的光線，這就需要保護(hù)層是透光的，所以由光源射出并被保護(hù)層反射至第二陣列的光并不多，因此強(qiáng)度也較低，入射到第二陣列上的環(huán)境光也可能對(duì)檢測(cè)結(jié)果造成影響。

基于此，在一個(gè)實(shí)施例中，可以在保護(hù)層為透光的情況下，在保護(hù)層上表面的預(yù)設(shè)區(qū)域設(shè)置反射層，以便將光源照射在預(yù)設(shè)區(qū)域的光全部反射至第二陣列，使得第二陣列中的光電傳感器能夠接收到足夠的反射光產(chǎn)生足夠的電信號(hào)，降低接收到外界光線而產(chǎn)生的電信號(hào)對(duì)檢測(cè)結(jié)果造成的影響，保證第二處理模塊能夠準(zhǔn)確地確定接收到反射光的光電傳感器位置，進(jìn)而準(zhǔn)確地確定壓力。

在一個(gè)實(shí)施例中，反射層可以由反光金屬制成，例如鋁、銀等。反射層除了可以設(shè)置在保護(hù)層之上，還可以設(shè)置在保護(hù)層內(nèi)部，具體可以根據(jù)需要進(jìn)行調(diào)整。

可選地，在所述保護(hù)層未受到壓力時(shí)，所述反射層將來(lái)自所述光源的光線反射至所述光電傳感器陣列的第一區(qū)域，在所述保護(hù)層受到閾值壓力時(shí)，所述反射層將來(lái)自所述光源的光線反射至所述光電傳感器陣列的第二區(qū)域，

其中，所述第二陣列中距離所述第一陣列最近的光電傳感器位于所述第一區(qū)域，距離所述第一陣列最遠(yuǎn)的光電傳感器位于所述第二區(qū)域。

在一個(gè)實(shí)施例中，由于反射層具有一定寬度，因此會(huì)將來(lái)自光源的光線反射到一個(gè)區(qū)域內(nèi)，例如在保護(hù)層未受到壓力時(shí)，反射層可以將光線反射至上述第一區(qū)域，在保護(hù)層受到閾值壓力，也即所能承受的最大壓力時(shí)，反射層可以將光線反射至上述第二區(qū)域，而在保護(hù)層受到的壓力小于閾值壓力時(shí)，則可以將光線反射到第一區(qū)域和第二區(qū)域之間。

通過(guò)將第二陣列中距離第一陣列最近的光電傳感器設(shè)置在第一區(qū)域，將距離第一陣列最遠(yuǎn)的光電傳感器設(shè)置在第二區(qū)域，可以保證在保護(hù)層受到壓力產(chǎn)生形變時(shí)，反射片隨之改變反射路徑的過(guò)程中，反射的光線始終能夠照射在第二陣列上，從而保證第二陣列對(duì)于反射光線變化的全面采集，進(jìn)而保證對(duì)于受到壓力的準(zhǔn)確計(jì)算。

圖5是根據(jù)一示例性實(shí)施例示出的光電傳感器陣列的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖5所示，所述第一陣列為矩形。

如圖5所示，所述第二陣列與所述矩形的一條邊相接。

在一個(gè)實(shí)施例中，如圖5所示，第二陣列12可以設(shè)置在第一陣列11的右側(cè)，其中，圖2即圖5沿AA’的截面圖，光源3可以設(shè)置在第二陣列12的右側(cè)，以便為第二陣列提供足夠強(qiáng)的反射光。并且第一陣列和第二陣列中光電傳感器可以通過(guò)相同工藝制作，以便簡(jiǎn)化制作流程，而且同一批次制作的光電傳感器性能較差很小，易于保證同一批次產(chǎn)品具有相同的壓力檢測(cè)性能。

可選地，所述第二陣列與所述矩形的多條邊相接。

由于用戶在保護(hù)層上進(jìn)行壓力觸控操作時(shí)，手指的按壓中心一般在第一陣列所處區(qū)域，因此引發(fā)第一陣列對(duì)應(yīng)的保護(hù)層上表面形變較大，而引發(fā)第二陣列對(duì)應(yīng)的保護(hù)層上表面形變較小，從而導(dǎo)致接收反射光在第二陣列中改變的位置也較小，如圖3所示，當(dāng)?shù)诙嚵袃H與矩形的一條邊相接時(shí)，僅根據(jù)第一陣列右側(cè)區(qū)域的第二陣列中接收反射光線位置的改變確定受力精確度較低。

在一個(gè)實(shí)施例中，通過(guò)設(shè)置第二陣列與第一陣列的構(gòu)成矩形的多條邊相接，在保護(hù)層受要按壓時(shí)，可以引起第一陣列每條邊對(duì)應(yīng)的第二陣列接收光線的位置發(fā)生改變，從而提高了第二陣列對(duì)于反射光線的采樣數(shù)量，進(jìn)而可以更加準(zhǔn)確地確定反射光線位置改變的情況，以便更加準(zhǔn)確地確定保護(hù)層的受力情況。

圖6是根據(jù)一示例性實(shí)施例示出的光電傳感器陣列的結(jié)構(gòu)示意圖，圖7是圖6所示光電傳感器陣列沿AA’的截面示意圖。如圖6和圖7所示，所述第二陣列12與所述矩形的每條邊相接。

根據(jù)上述實(shí)施例中的描述可知，當(dāng)?shù)诙嚵袃H與矩形的一條邊相接時(shí)，僅根據(jù)第一陣列一側(cè)區(qū)域的第二陣列中接收反射光線位置的改變確定受力精確度較低。而如圖6和圖7所示，通過(guò)設(shè)置第二陣列12與第一陣列11構(gòu)成矩形的每條邊相接，也即第二陣列12為方環(huán)，設(shè)置在第一陣列11外圍，可以使得第一陣列對(duì)應(yīng)區(qū)域的保護(hù)層發(fā)生形變時(shí)，四條邊對(duì)應(yīng)的第二陣列接收光線的位置也都發(fā)生改變，從而可以在更大的面積以及角度范圍內(nèi)對(duì)反射光線進(jìn)行采樣，進(jìn)而可以更加準(zhǔn)確地確定反射光線位置改變的情況，以便更加準(zhǔn)確地確定保護(hù)層的受力情況。

所述光電傳感器包括以下至少一種：

光電二極管、光電三極管、光電晶體管。

在一個(gè)實(shí)施例中，光電傳感器的類(lèi)型可以根據(jù)需要進(jìn)行設(shè)置。

圖8是根據(jù)一示例性實(shí)施例示出的一種顯示裝置800的框圖。例如，裝置800可以是移動(dòng)電話，計(jì)算機(jī)，數(shù)字廣播終端，消息收發(fā)設(shè)備，游戲控制臺(tái)，平板設(shè)備，醫(yī)療設(shè)備，健身設(shè)備，個(gè)人數(shù)字助理等。

參照?qǐng)D8，裝置800可以包括以下一個(gè)或多個(gè)組件：處理組件802，存儲(chǔ)器804，電源組件806，多媒體組件808，音頻組件810，輸入/輸出(I/O)的接口812，傳感器組件814，以及通信組件816。還包括：壓力觸控裝置，所述壓力觸控裝置包括：第一處理模塊、第二處理模塊、光電傳感器陣列以及設(shè)置在所述光電傳感器陣列之上的保護(hù)層，所述光電傳感器陣列包括第一陣列和第二陣列，其中，所述第一陣列，用于接收指紋反射的第一光線；所述第一處理模塊，電連接于所述第一陣列，用于根據(jù)所述第一光線確定指紋圖形；所述第二陣列，用于接收所述保護(hù)層反射的第二光線；所述第二處理模塊，電連接于所述第二陣列，用于根據(jù)接收到所述第二光線的光電傳感器的位置預(yù)設(shè)位置確定所述保護(hù)層受到的壓力。

處理組件802通?？刂蒲b置800的整體操作，諸如與顯示，電話呼叫，數(shù)據(jù)通信，相機(jī)操作和記錄操作相關(guān)聯(lián)的操作。處理組件802可以包括一個(gè)或多個(gè)處理模塊820來(lái)執(zhí)行指令。此外，處理組件802可以包括一個(gè)或多個(gè)模塊，便于處理組件802和其他組件之間的交互。例如，處理組件802可以包括多媒體模塊，以方便多媒體組件808和處理組件802之間的交互。

存儲(chǔ)器804被配置為存儲(chǔ)各種類(lèi)型的數(shù)據(jù)以支持在裝置800的操作。這些數(shù)據(jù)的示例包括用于在裝置800上操作的任何應(yīng)用程序或方法的指令，聯(lián)系人數(shù)據(jù)，電話簿數(shù)據(jù)，消息，圖片，視頻等。存儲(chǔ)器804可以由任何類(lèi)型的易失性或非易失性存儲(chǔ)設(shè)備或者它們的組合實(shí)現(xiàn)，如靜態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(SRAM)，電可擦除可編程只讀存儲(chǔ)器(EEPROM)，可擦除可編程只讀存儲(chǔ)器(EPROM)，可編程只讀存儲(chǔ)器(PROM)，只讀存儲(chǔ)器(ROM)，磁存儲(chǔ)器，快閃存儲(chǔ)器，磁盤(pán)或光盤(pán)。

電源組件806為裝置800的各種組件提供電力。電源組件806可以包括電源管理系統(tǒng)，一個(gè)或多個(gè)電源，及其他與為裝置800生成、管理和分配電力相關(guān)聯(lián)的組件。

多媒體組件808包括在所述裝置800和用戶之間的提供一個(gè)輸出接口的屏幕。在一些實(shí)施例中，屏幕可以包括液晶顯示器(LCD)和觸摸面板(TP)。如果屏幕包括觸摸面板，屏幕可以被實(shí)現(xiàn)為觸摸屏，以接收來(lái)自用戶的輸入信號(hào)。觸摸面板包括一個(gè)或多個(gè)觸摸傳感器以感測(cè)觸摸、滑動(dòng)和觸摸面板上的手勢(shì)。所述觸摸傳感器可以不僅感測(cè)觸摸或滑動(dòng)動(dòng)作的邊界，而且還檢測(cè)與所述觸摸或滑動(dòng)操作相關(guān)的持續(xù)時(shí)間和壓力。在一些實(shí)施例中，多媒體組件808包括一個(gè)前置攝像頭和/或后置攝像頭。當(dāng)裝置800處于操作模式，如拍攝模式或視頻模式時(shí)，前置攝像頭和/或后置攝像頭可以接收外部的多媒體數(shù)據(jù)。每個(gè)前置攝像頭和后置攝像頭可以是一個(gè)固定的光學(xué)透鏡系統(tǒng)或具有焦距和光學(xué)變焦能力。

音頻組件810被配置為輸出和/或輸入音頻信號(hào)。例如，音頻組件810包括一個(gè)麥克風(fēng)(MIC)，當(dāng)裝置800處于操作模式，如呼叫模式、記錄模式和語(yǔ)音識(shí)別模式時(shí)，麥克風(fēng)被配置為接收外部音頻信號(hào)。所接收的音頻信號(hào)可以被進(jìn)一步存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器804或經(jīng)由通信組件816發(fā)送。在一些實(shí)施例中，音頻組件810還包括一個(gè)揚(yáng)聲器，用于輸出音頻信號(hào)。

I/O接口812為處理組件802和外圍接口模塊之間提供接口，上述外圍接口模塊可以是鍵盤(pán)，點(diǎn)擊輪，按鈕等。這些按鈕可包括但不限于：主頁(yè)按鈕、音量按鈕、啟動(dòng)按鈕和鎖定按鈕。

傳感器組件814包括一個(gè)或多個(gè)傳感器，用于為裝置800提供各個(gè)方面的狀態(tài)評(píng)估。例如，傳感器組件814可以檢測(cè)到裝置800的打開(kāi)/關(guān)閉狀態(tài)，組件的相對(duì)定位，例如所述組件為裝置800的顯示器和小鍵盤(pán)，傳感器組件814還可以檢測(cè)裝置800或裝置800一個(gè)組件的位置改變，用戶與裝置800接觸的存在或不存在，裝置800方位或加速/減速和裝置800的溫度變化。傳感器組件814可以包括接近傳感器，被配置用來(lái)在沒(méi)有任何的物理接觸時(shí)檢測(cè)附近物體的存在。傳感器組件814還可以包括光傳感器，如CMOS或CCD圖像傳感器，用于在成像應(yīng)用中使用。在一些實(shí)施例中，該傳感器組件814還可以包括加速度傳感器，陀螺儀傳感器，磁傳感器，壓力傳感器或溫度傳感器。

通信組件816被配置為便于裝置800和其他設(shè)備之間有線或無(wú)線方式的通信。裝置800可以接入基于通信標(biāo)準(zhǔn)的無(wú)線網(wǎng)絡(luò)，如WiFi，2G或3G，或它們的組合。在一個(gè)示例性實(shí)施例中，通信組件816經(jīng)由廣播信道接收來(lái)自外部廣播管理系統(tǒng)的廣播信號(hào)或廣播相關(guān)信息。在一個(gè)示例性實(shí)施例中，所述通信組件816還包括近場(chǎng)通信(NFC)模塊，以促進(jìn)短程通信。例如，在NFC模塊可基于射頻識(shí)別(RFID)技術(shù)，紅外數(shù)據(jù)協(xié)會(huì)(IrDA)技術(shù)，超寬帶(UWB)技術(shù)，藍(lán)牙(BT)技術(shù)和其他技術(shù)來(lái)實(shí)現(xiàn)。

在示例性實(shí)施例中，裝置800可以被一個(gè)或多個(gè)應(yīng)用專(zhuān)用集成電路(ASIC)、數(shù)字信號(hào)處理模塊(DSP)、數(shù)字信號(hào)處理設(shè)備(DSPD)、可編程邏輯器件(PLD)、現(xiàn)場(chǎng)可編程門(mén)陣列(FPGA)、控制器、微控制器、微處理模塊或其他電子元件實(shí)現(xiàn)。

在示例性實(shí)施例中，還提供了一種包括指令的非臨時(shí)性計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，例如包括指令的存儲(chǔ)器804，上述指令可由裝置800的處理模塊820執(zhí)行。例如，所述非臨時(shí)性計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)可以是ROM、隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(RAM)、CD-ROM、磁帶、軟盤(pán)和光數(shù)據(jù)存儲(chǔ)設(shè)備等。

本領(lǐng)域技術(shù)人員在考慮說(shuō)明書(shū)及實(shí)踐這里公開(kāi)的公開(kāi)后，將容易想到本公開(kāi)的其它實(shí)施方案。本申請(qǐng)旨在涵蓋本公開(kāi)的任何變型、用途或者適應(yīng)性變化，這些變型、用途或者適應(yīng)性變化遵循本公開(kāi)的一般性原理并包括本公開(kāi)未公開(kāi)的本技術(shù)領(lǐng)域中的公知常識(shí)或慣用技術(shù)手段。說(shuō)明書(shū)和實(shí)施例僅被視為示例性的，本公開(kāi)的真正范圍和精神由下面的權(quán)利要求指出。

應(yīng)當(dāng)理解的是，本公開(kāi)并不局限于上面已經(jīng)描述并在附圖中示出的精確結(jié)構(gòu)，并且可以在不脫離其范圍進(jìn)行各種修改和改變。本公開(kāi)的范圍僅由所附的權(quán)利要求來(lái)限制。