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      一種光學(xué)數(shù)據(jù)批量分析方法和系統(tǒng)與流程

      文檔序號:40404967發(fā)布日期:2024-12-20 12:28閱讀:7來源:國知局
      一種光學(xué)數(shù)據(jù)批量分析方法和系統(tǒng)與流程

      本發(fā)明涉及光學(xué)數(shù)據(jù)處理,具體涉及一種光學(xué)數(shù)據(jù)批量分析方法和系統(tǒng)。


      背景技術(shù):

      1、目前分布光度計配光系統(tǒng)、光學(xué)設(shè)計軟件只可以實現(xiàn)單次光學(xué)數(shù)據(jù)的處理,單次配光曲線的生成,難以在分布光度計配光系統(tǒng)、光學(xué)設(shè)計軟件對兩個或者多個不同光學(xué)數(shù)據(jù)進(jìn)行量化處理以及比較,而實際上在批量生產(chǎn)多個同種類光學(xué)配件之后,需要對多個同種類光學(xué)配件進(jìn)行比對,以確保光學(xué)配件性能的一致性。

      2、目前,只能進(jìn)行一次對一個光學(xué)配件進(jìn)行測試,得到其光束角光強(qiáng)分布等基礎(chǔ)光學(xué)參數(shù),對多個光學(xué)配件進(jìn)行參數(shù)比對,需要額外計算或者人工比較,無法直接高效地進(jìn)行比對并獲取誤差的大小,也很難判斷出誤差的來源。


      技術(shù)實現(xiàn)思路

      1、針對以上的缺陷,通過綜合應(yīng)用和設(shè)計,并進(jìn)行特定的轉(zhuǎn)換,實現(xiàn)了基礎(chǔ)光學(xué)參數(shù)的批量導(dǎo)入,提出了一種光學(xué)深度分析方法和系統(tǒng),便于設(shè)計者同時對多個同種類光學(xué)配件的性能參數(shù)進(jìn)行比對,并能盡快發(fā)現(xiàn)誤差,進(jìn)行修正,因此提出了一種光學(xué)深度分析方法和系統(tǒng)。

      2、為了實現(xiàn)上述發(fā)明目的,在第一方面,本發(fā)明提供一種光學(xué)數(shù)據(jù)批量分析方法,包括以下步驟:

      3、獲取若干同類光學(xué)器件的ies文件,得到若干同類光學(xué)器件的光學(xué)參數(shù);

      4、按照預(yù)設(shè)的間隔從光學(xué)參數(shù)中提取出部分參數(shù)作為優(yōu)選參數(shù)數(shù)據(jù),或者對光學(xué)參數(shù)進(jìn)行擴(kuò)展得到優(yōu)選參數(shù)數(shù)據(jù);

      5、將優(yōu)選參數(shù)數(shù)據(jù)進(jìn)行歸一化處理后生成各個光學(xué)器件的光學(xué)分析圖;

      6、基于光學(xué)分析圖獲取各個光學(xué)器件之間的差異值,將差異值與預(yù)設(shè)的判定閾值進(jìn)行比較,得到各光學(xué)器件的質(zhì)量等級。

      7、上述處理過程中,在獲取光學(xué)參數(shù)后,能實現(xiàn)數(shù)據(jù)的批量導(dǎo)入,進(jìn)行批量計算后,可以進(jìn)行多個同種類光學(xué)配件的性能參數(shù)比對,進(jìn)一步的,將設(shè)計的光學(xué)理論數(shù)據(jù)與實際加工出來光學(xué)器件的數(shù)據(jù)差異做詳細(xì)的展現(xiàn),利用此差異在光學(xué)設(shè)計中對批量的光學(xué)配件加以修正,提高了光學(xué)設(shè)計的成功率,避免了反復(fù)的修改,縮短了項目開發(fā)的周期以及降低了開發(fā)成本。

      8、優(yōu)選地,獲取若干同類光學(xué)器件的ies文件采用批量讀取的方式,包括以下步驟:

      9、依次導(dǎo)入ies文件,

      10、獲取其中一個ies文件時,只保留數(shù)值型數(shù)據(jù),刪除ies文件中的其他類型數(shù)據(jù),數(shù)值型數(shù)據(jù)為二維數(shù)組;

      11、從數(shù)值型數(shù)據(jù)的第一行或第二行中找出切面數(shù)以及每個切面的數(shù)據(jù)量;

      12、從數(shù)值型數(shù)據(jù)的第三行起,依次復(fù)制數(shù)據(jù)到本地,并將復(fù)制到本地的數(shù)值型數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換為新的二維數(shù)組,新的二維數(shù)組以切面數(shù)作為行數(shù),以每個切面的數(shù)據(jù)量為列數(shù)。

      13、通過對ies文件的解析給出了一種具體的提取ies文件中光學(xué)性能參數(shù)的方法,將原ies文件中的二維數(shù)組轉(zhuǎn)換為統(tǒng)一的格式,可以將不同測試儀器獲取的ies文件中的數(shù)據(jù)統(tǒng)一為一個格式,便于后續(xù)的計算和比對。

      14、優(yōu)選地,按照預(yù)設(shè)的間隔從光學(xué)參數(shù)中提取出部分參數(shù)作為優(yōu)選參數(shù)數(shù)據(jù)包括,在新的二維數(shù)組的行方向上,間隔n個數(shù)提取數(shù)據(jù),和/或,在新的二維數(shù)組的列方向上,間隔m個數(shù)提取數(shù)據(jù),n和m都是自然數(shù),提取得到的二維數(shù)組為優(yōu)選參數(shù)數(shù)據(jù)??紤]到ies文件中光學(xué)性能參數(shù)多,計算量大,而是在實際中并不需要對所有的數(shù)據(jù)進(jìn)行計算,提取部分?jǐn)?shù)據(jù)進(jìn)行計算,得到的光學(xué)分析圖就足以體現(xiàn)光學(xué)配件的性能,因此,給出了提取部分光學(xué)參數(shù)的方法。

      15、優(yōu)選地,n的取值范圍是1~8,其中,

      16、對于0°~24°光束角的光學(xué)配件,n=1;

      17、對于24°~36°光束角的光學(xué)配件,n=2;

      18、對于36°~45°光束角的光學(xué)配件,n=3;

      19、對于45°~60°光束角的光學(xué)配件,n=4;

      20、對于60°~90°光束角的光學(xué)配件,n=5;

      21、對于90°~120°光束角的光學(xué)配件,n=6;

      22、對于120°~150°光束角的光學(xué)配件,n=7;

      23、對于大于150°光束角的光學(xué)配件,n=8。

      24、考慮到雖然提取部分參數(shù)有利于節(jié)約算力,提高分析效率,但是針對不同的光學(xué)配件,間隔多少數(shù)據(jù)進(jìn)行提取是不能用一個尺度的,因此根據(jù)光學(xué)配件光束角的不同,提供了行方向上提取分布參數(shù)的間隔數(shù)設(shè)置,在節(jié)約算力和提高分析準(zhǔn)確性上取得了平衡,給出了參考范圍。

      25、優(yōu)選地,對光學(xué)參數(shù)進(jìn)行擴(kuò)展包括,在二維數(shù)組行方向和/或列方向上,復(fù)制前一數(shù)據(jù),將復(fù)制得到的新的數(shù)據(jù)插入到前一數(shù)據(jù)和其后一數(shù)據(jù)之間,將光學(xué)參數(shù)數(shù)量增加到預(yù)設(shè)的行數(shù)和列數(shù)。在實際批量導(dǎo)入ies文件數(shù)據(jù)中,不僅存在提取部分?jǐn)?shù)據(jù)進(jìn)行計算的情況,還存在需要插值增加數(shù)據(jù)使得批量導(dǎo)入的ies光學(xué)數(shù)據(jù)具有相同的行列數(shù),當(dāng)二維數(shù)據(jù)的行數(shù)列數(shù)不夠的情況下,通過復(fù)制數(shù)據(jù)插入行和列,進(jìn)行擴(kuò)展,該方法使得插入的數(shù)值符合實際檢測情況,同時數(shù)據(jù)量也得到了增加。

      26、優(yōu)選地,歸一化處理包括:將優(yōu)選參數(shù)數(shù)據(jù)中實際光通量換算到1000lm光通量條件下得出預(yù)處理后的光強(qiáng)值,根據(jù)預(yù)處理后的光強(qiáng)值生成各個光學(xué)器件的光學(xué)分析圖。即便是同類光學(xué)器件,在進(jìn)行配光設(shè)計時,沒有統(tǒng)一的光通量,就沒有客觀的參考量,無法進(jìn)行比較。因此,需要將光學(xué)參數(shù)經(jīng)過1000lm光通量轉(zhuǎn)換,進(jìn)行歸一化處理,在1000lm光通量的前提下進(jìn)行比較,才能得到相對準(zhǔn)確的數(shù)據(jù)。

      27、優(yōu)選地,光學(xué)分析圖包括坎德拉圖、光斑圖、照度分布圖和光強(qiáng)分布數(shù)據(jù)圖。

      28、優(yōu)選地,生成各個光學(xué)器件的光學(xué)分析圖進(jìn)行的計算包括:光束角計算,初始分析基準(zhǔn)面計算以及ugr距高比計算,計算得到的光學(xué)參數(shù)包括光學(xué)器件的光強(qiáng)、照度、光斑、光束角、光效、亮度、光通量、k值和ugr。

      29、優(yōu)選地,各光學(xué)器件的質(zhì)量等級以光強(qiáng)差異率作為判斷依據(jù),

      30、光強(qiáng)差異率為0%~1%,質(zhì)量等級為最優(yōu)等級;

      31、光強(qiáng)差異率為1%~3%,質(zhì)量等級為較優(yōu)等級;

      32、光強(qiáng)差異率為3%~10%,質(zhì)量等級為合格等級;

      33、光強(qiáng)差異率為10%~20%,質(zhì)量等級為不合格等級。

      34、在第二方面,本發(fā)明提供一種光學(xué)數(shù)據(jù)批量分析系統(tǒng),包括光學(xué)數(shù)據(jù)采集模塊、分析模塊和數(shù)據(jù)輸出模塊,

      35、光學(xué)數(shù)據(jù)采集模塊用于獲取若干同類光學(xué)器件的ies文件;

      36、分析模塊用于采用上述任一的一種光學(xué)數(shù)據(jù)批量分析方法得到各光學(xué)器件的質(zhì)量等級;

      37、數(shù)據(jù)輸出模塊用于輸出光學(xué)器件的質(zhì)量等級。

      38、在第三方面,本發(fā)明提供一種光學(xué)數(shù)據(jù)批量分析軟件,包括數(shù)據(jù)獲取模塊、數(shù)據(jù)處理模塊和圖像展示模塊,

      39、數(shù)據(jù)獲取模塊獲取若干同類光學(xué)器件的ies文件,得到若干同類光學(xué)器件的光學(xué)數(shù)據(jù);

      40、數(shù)據(jù)處理模塊用于按照預(yù)設(shè)的間隔從光學(xué)參數(shù)中提取出部分參數(shù)作為優(yōu)選參數(shù)數(shù)據(jù),或者對光學(xué)參數(shù)進(jìn)行擴(kuò)展得到優(yōu)選參數(shù)數(shù)據(jù);

      41、圖像展示模塊用于根據(jù)優(yōu)選的參數(shù)數(shù)據(jù)在同一界面生成若干同類光學(xué)器件的光強(qiáng)分析圖。

      42、優(yōu)選地,數(shù)據(jù)處理模塊還用于生成配光數(shù)據(jù)總表、計算坎德拉圖對應(yīng)的數(shù)據(jù)、計算光斑圖對應(yīng)的數(shù)據(jù)、照度分析、光強(qiáng)數(shù)據(jù)分析、亮度數(shù)據(jù)分析、模具加工與設(shè)計差異分析和生成ugr表格。

      43、優(yōu)選地,軟件采取了歸一化的計算對若干ies文件進(jìn)行光強(qiáng)值的換算,計算出每個燈具1000lm時各個方向的光強(qiáng)數(shù)據(jù),并取1000mm遠(yuǎn)作為光斑的接受面,

      44、光強(qiáng)值的換算公式為:

      45、

      46、其中,是轉(zhuǎn)換后的光強(qiáng)值,是環(huán)帶光通量之和,是原始光強(qiáng)值,i是每個切面測得數(shù)據(jù)的方向值,取值范圍是0~180。

      47、優(yōu)選地,數(shù)據(jù)處理模塊進(jìn)行的計算包括光束角計算,初始分析基準(zhǔn)面計算以及ugr距高比計算,計算得到的光學(xué)參數(shù)包括光學(xué)器件的光強(qiáng)、照度、光斑、光束角、光效、亮度、光通量、k值和ugr。

      48、優(yōu)選地,數(shù)據(jù)處理模塊還用于重新設(shè)置垂直角間隔、最大垂直角,重新選擇分析基準(zhǔn),得出新的光強(qiáng)分布數(shù)據(jù)以及差異率。

      49、相比現(xiàn)有技術(shù),本發(fā)明的有益效果在于:本發(fā)明的方法在獲取光學(xué)參數(shù)后,能實現(xiàn)數(shù)據(jù)的批量導(dǎo)入,進(jìn)行批量計算后,可以進(jìn)行多個同種類光學(xué)配件的性能參數(shù)比對,將設(shè)計的光學(xué)理論數(shù)據(jù)與實際加工出來光學(xué)器件的數(shù)據(jù)差異做詳細(xì)的展現(xiàn),利用此差異在光學(xué)設(shè)計中對批量的光學(xué)配件加以修正,提高了光學(xué)設(shè)計的成功率,避免了反復(fù)的修改,縮短了項目開發(fā)的周期以及降低了開發(fā)成本。

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