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      單層多點觸控結(jié)構(gòu)的制造方法

      文檔序號:8527878閱讀:394來源:國知局
      單層多點觸控結(jié)構(gòu)的制造方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本發(fā)明涉及觸摸屏技術(shù)領(lǐng)域,具體地,涉及一種單層多點觸控結(jié)構(gòu)的制造方法。
      【背景技術(shù)】
      [0002]隨著觸控面板行業(yè)的激烈競爭,觸摸屏技術(shù)不斷更新和發(fā)展,其在平板電腦、電視和手機(jī)推廣、應(yīng)用,單層多點觸控技術(shù)以其較低的成本優(yōu)勢逐漸受到市場的認(rèn)可。
      [0003]現(xiàn)有單層多點觸控結(jié)構(gòu),采用絲印絕緣油墨,并加熱固化絕緣油墨,將局部區(qū)域的銀楽走線與ITO (Indium Tin Oxide,氧化銦錫,其特點是透明和具有良好的導(dǎo)電性能)走線隔離。
      [0004]銀漿走線、ITO走線及絕緣油墨之間的相互套合精度主要通過絲印實現(xiàn),而絲印精度通常受網(wǎng)版以及絲印參數(shù)的影響大,難以實現(xiàn)較高的套合精度,且加熱固化絕緣油墨會因高溫烘烤導(dǎo)致膜材收縮,生產(chǎn)效率低。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0005]本發(fā)明的目的在于提供一種高精度和高生產(chǎn)效率的單層多點觸控結(jié)構(gòu)的制造方法。
      [0006]本發(fā)明公開的單層多點觸控結(jié)構(gòu)的制造方法所采用的技術(shù)方案是:
      一種單層多點觸控結(jié)構(gòu)的制造方法,包括以下步驟:
      S10,基材表面上制作ITO走線;
      S20,絲印感光型絕緣油墨,紫外光固化;
      S30,絲印感光銀漿,曝光顯影制作銀漿走線;
      S40,烘烤。
      [0007]優(yōu)選地,在步驟S20中,所述感光型絕緣油墨經(jīng)紫外固化后厚度小于或等于15 μ m0
      [0008]優(yōu)選地,在步驟S20中,絲印網(wǎng)版使用聚酯網(wǎng)版30目,線徑30μπι,乳劑厚度為10-12 μ m,紫外燈照度為160mW/cm2,紫外燈照時間為40-60秒。
      [0009]優(yōu)選地,在步驟S30中,所述感光銀漿厚度為4-6 μ m,曝光能量為300-400mj/cm2,曝光時間為10-15秒。
      [0010]優(yōu)選地,在步驟S30中感光銀漿在曝光之前,在90-100°C溫度下預(yù)烘烤10分鐘。
      [0011]優(yōu)選地,在步驟S30中感光銀漿在曝光之后,在濃度為0.18-0.25wt%、溫度為28-30°C的Na2CO3溶液中顯影處理15-30秒。
      [0012]優(yōu)選地,步驟SlO包括:
      S11,在基材表面設(shè)置由ITO膜制成的導(dǎo)電層;
      S12,在導(dǎo)電層的表面涂覆一層抗蝕刻層;
      S13,曝光抗蝕刻層;
      S14,顯像處理; S15,蝕刻;
      S16,剝離抗蝕刻層。
      [0013]優(yōu)選地,上述步驟均在黃光條件下進(jìn)行。
      [0014]本發(fā)明公開的單層多點觸控結(jié)構(gòu)的制造方法的有益效果是:采用感光型絕緣油墨,避免高溫?zé)峁袒^緣油墨因高溫烘烤導(dǎo)致基材收縮,提高生產(chǎn)效率,感光銀漿、基材表面ITO走線和感光型絕緣油墨之間的套合精度通過曝光實現(xiàn),提高了套合精度。
      【附圖說明】
      [0015]圖1是本發(fā)明單層多點觸控結(jié)構(gòu)的制造方法的流程圖;
      圖2是本發(fā)明步驟SlO的流程不意圖。
      【具體實施方式】
      [0016]下面結(jié)合具體實施例和說明書附圖對本發(fā)明做進(jìn)一步闡述和說明:
      一種單層多點觸摸屏電極的制造方法包括以下步驟,所有步驟在黃光條件下進(jìn)行。
      [0017]步驟S10,基材表面上制作ITO走線。步驟SlO包括以下步驟:S11,在基材表面設(shè)置導(dǎo)電層。通過濺射或蒸發(fā)等方法在基材上鍍上一層厚度小于等于15 μm的ITO膜,形成透明的導(dǎo)電層。S12,在導(dǎo)電層的表面涂覆一層抗蝕刻層,用以保護(hù)導(dǎo)電層??刮g刻層的材料為光阻劑,可采用負(fù)型光阻劑,其照到光的部分固化。S13,曝光抗蝕刻層。將曝光模版置于抗蝕刻層上方,曝光光線通過曝光模版照射到抗蝕刻層,曝光的抗蝕刻層固化。S14,顯像處理。利用K2CO3的有機(jī)溶液對抗蝕刻層顯像處理,將沒有曝光即未固化的負(fù)型光阻劑沖洗干凈,而曝光固化的負(fù)型光阻劑得以保存下來。S15,蝕刻。利用此1、圓03等酸性溶液對沒有抗蝕刻層保護(hù)的導(dǎo)電層進(jìn)行蝕刻。S16,剝離抗蝕刻層。利用NaOH等堿性溶液對負(fù)型光阻劑進(jìn)行剝離處理,基材表面的導(dǎo)電層形成ITO走線。
      [0018]步驟S20,絲印感光型絕緣油墨,紫外光固化。在制作ITO走線的基材表面絲印感光型絕緣油墨,感光型絕緣油墨采用深圳市智化電科技有限公司開發(fā)的ELECT-3810-1型,絲印網(wǎng)版使用聚酯網(wǎng)版30目,線徑30 μ m,乳劑厚度為10-12 μ m,紫外燈照度為140-160mw/cm2,紫外燈照時間為40-60秒,感光型絕緣油墨經(jīng)紫外固化后厚度不超過15 μ m,形成絕緣油墨圖案。
      [0019]步驟S30,絲印感光銀漿,曝光顯影制作銀漿走線。在形成絕緣油墨圖案的基材表面絲印感光銀漿,所述感光銀漿厚度為4-6 μ??,在90-100°C溫度下預(yù)烘烤10分鐘,曝光感光銀漿,曝光能量為300-400mj/cm2,曝光時間為10-15秒,曝光的部分固化,沒曝光的部分不會固化,在濃度為0.18-0.25wt%、溫度為28-30°C的Na2CO3溶液中顯影處理15-30秒,形成圖形化的感光銀漿。由于感光型絕緣油墨采用深圳市智化電科技有限公司開發(fā)的ELECT-3810-1型,經(jīng)紫外光固化后表面粗糙度值較低,避免感光銀漿在顯影后出現(xiàn)銀漿走線脫落的現(xiàn)象。
      [0020]步驟S40,烘烤。在140°C溫度下烘烤40分鐘。由于是在ITO走線、絲印感光型絕緣油墨和感光銀漿之后,不會對基材造成較大的影響,也不會影響各圖案之間的相互套合精度。
      [0021]上述步驟在黃光條件下進(jìn)行,可實現(xiàn)感光銀漿走線線寬與線距在20/20 μπι,同時,感光銀漿、基材表面ITO走線和感光型絕緣油墨之間的套合精度主要是通過曝光實現(xiàn),三者之間的套合精度可控制在10 μπι以內(nèi)。
      [0022]最后應(yīng)當(dāng)說明的是,以上實施例僅用以說明本發(fā)明的技術(shù)方案,而非對本發(fā)明保護(hù)范圍的限制,盡管參照較佳實施例對本發(fā)明作了詳細(xì)地說明,本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解,可以對本發(fā)明的技術(shù)方案進(jìn)行修改或者等同替換,而不脫離本發(fā)明技術(shù)方案的實質(zhì)和范圍。
      【主權(quán)項】
      1.一種單層多點觸控結(jié)構(gòu)的制造方法,其特征在于,包括以下步驟: S10,基材表面上制作ITO走線; S20,絲印感光型絕緣油墨,紫外光固化; S30,絲印感光銀漿,曝光顯影制作銀漿走線; S40,烘烤。
      2.如權(quán)利要求1所述的單層多點觸控結(jié)構(gòu)的制造方法,其特征在于,在步驟S20中,所述感光型絕緣油墨經(jīng)紫外固化后厚度小于或等于15 μm。
      3.如權(quán)利要求2所述的單層多點觸控結(jié)構(gòu)的制造方法,其特征在于,在步驟S20中,絲印網(wǎng)版使用聚酯網(wǎng)版30目,線徑30μπι,乳劑厚度為10-12μπι,紫外燈照度為160mW/Cm2,紫外燈照時間為40-60秒。
      4.如權(quán)利要求1所述的單層多點觸控結(jié)構(gòu)的制造方法,其特征在于,在步驟S30中,所述感光銀漿厚度為4-6 μ m,曝光能量為300-400mj/cm2,曝光時間為10-15秒。
      5.如權(quán)利要求4所述的單層多點觸控結(jié)構(gòu)的制造方法,其特征在于,在步驟S30中感光銀漿在曝光之前,在90-100°C溫度下預(yù)烘烤10分鐘。
      6.如權(quán)利要求5所述的單層多點觸控結(jié)構(gòu)的制造方法,其特征在于,在步驟S30中感光銀漿在曝光之后,在濃度為0.18-0.25wt%、溫度為28-30°C的Na2CO3溶液中顯影處理15-30秒。
      7.如權(quán)利要求1-6任一項所述的單層多點觸控結(jié)構(gòu)的制造方法,其特征在于,步驟SlO包括: S11,在基材表面設(shè)置由ITO膜制成的導(dǎo)電層; S12,在導(dǎo)電層的表面涂覆一層抗蝕刻層; S13,曝光抗蝕刻層; S14,顯像處理; S15,蝕刻; S16,剝離抗蝕刻層。
      8.如權(quán)利要求7所述的單層多點觸控結(jié)構(gòu)的制造方法,其特征在于,上述步驟均在黃光條件下進(jìn)行。
      【專利摘要】本發(fā)明公開了一種單層多點觸控結(jié)構(gòu)的制造方法,包括以下步驟:S10,基材表面上制作ITO走線;S20,絲印感光型絕緣油墨,紫外光固化;S30,絲印感光銀漿,曝光顯影制作銀漿走線;S40,烘烤。該單層多點觸控結(jié)構(gòu)的制造方法具有精度高和生產(chǎn)效率高的優(yōu)點。
      【IPC分類】G06F3-041
      【公開號】CN104850265
      【申請?zhí)枴緾N201510295796
      【發(fā)明人】楊玉生, 周佩先
      【申請人】深圳市成鴻科技有限公司
      【公開日】2015年8月19日
      【申請日】2015年6月3日
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