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      一種具有金屬網(wǎng)格的uv固化型透明導電薄膜及其制備方法

      文檔序號:9666955閱讀:389來源:國知局
      一種具有金屬網(wǎng)格的uv固化型透明導電薄膜及其制備方法
      【技術領域】
      [0001]本發(fā)明涉及導電薄膜技術領域,具體涉及一種具有金屬網(wǎng)格的UV固化型透明導電薄膜及其制備方法。
      【背景技術】
      [0002]在觸摸屏顯示屏幕中,透明導電薄膜(Transparent Conductive Films,TCF)作為電極元件,是重要的組成配件之一。TCF的類型有很多,主要分為碳納米管透明導電薄膜、石墨烯透明導電薄膜、金屬氧化物透明導電薄膜、高分子透明導電薄膜以及金屬納米線透明導電薄膜。但現(xiàn)有的透明導電薄膜存在導電性能較差,透過度低和制備工藝復雜等缺點。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0003]為了克服現(xiàn)有技術中存在的缺點和不足,本發(fā)明的目的在于提供一種具有金屬網(wǎng)格的UV固化型透明導電薄膜,該透明導電薄膜導電性能好,透過度高,柔軟性好。
      [0004]本發(fā)明的另一目的在于提供一種具有金屬網(wǎng)格的UV固化型透明導電薄膜的制備方法,該制備方法具有網(wǎng)格間隙可控,線寬及線高可調(diào)等優(yōu)點,工藝簡單,操作控制方便,質(zhì)量穩(wěn)定,生產(chǎn)效率高,生產(chǎn)成本低,可大規(guī)模工業(yè)化生產(chǎn)。
      [0005]本發(fā)明的目的通過下述技術方案實現(xiàn):一種具有金屬網(wǎng)格的UV固化型透明導電薄膜,包括透明基材層和涂布于透明基材層上表面的導電薄膜層,導電薄膜層包括導電區(qū)域和絕緣區(qū)域,導電區(qū)域具有由納米金屬線構成的金屬網(wǎng)格,絕緣區(qū)域由納米金屬線圍合形成,金屬網(wǎng)格突出于絕緣區(qū)域。
      [0006]本發(fā)明的具有金屬網(wǎng)格的UV固化型透明導電薄膜導電性能好,透過度高,柔軟性好。
      [0007]優(yōu)選的,所述透明基材層為經(jīng)過電暈處理的透明聚酯薄膜。電暈處理其原理是利用高頻率高電壓在被處理的塑料表面電暈放電(高頻交流電壓高達5000-15000V/m2),而產(chǎn)生低溫等離子體,使塑料表面產(chǎn)生游離基反應而使聚合物發(fā)生交聯(lián).表面變粗糙并增加其對極性溶劑的潤濕性-這些離子體由電擊和滲透進入被印體的表面破壞其分子結(jié)構,進而將被處理的表面分子氧化和極化,離子電擊侵蝕表面,以致增加承印物表面的附著能力。電暈處理使承印物表面分子結(jié)構重新排列,產(chǎn)生更多的極性部位,有利于附著外物。
      [0008]所述納米金屬線為納米銀線或納米銅線。納米金屬線具有導電性能好、透過度高、容易制備和性質(zhì)柔軟等優(yōu)點。
      [0009]所述金屬網(wǎng)格為方形網(wǎng)格。本發(fā)明通過采用上述結(jié)構,導電性能好,透過度高,柔軟性好。
      [0010]優(yōu)選的,所述透明基材層的厚度為10-500 μ m。具體地,所述透明基材層的厚度可以為 10 μπκΙΟΟ μηι、200 μηι、300 μηι、400 μπι 或 500 μπι。
      [0011]所述導電薄膜層的厚度為10-500nm。具體地,所述導電薄膜層的厚度可以為10nm、lOOnm、200nm、300nm、400nm 或 500nmo
      [0012]所述納米金屬線的寬度為1-20 μπι。具體地,所述納米金屬線的寬度可以為1 μm、5 μ m、10 μ m、15 μ m 或 20 μ m。
      [0013]優(yōu)選的,所述納米金屬線由納米金屬楽料制得,納米金屬楽料由如下重量份的原料組成:
      環(huán)氧丙烯酸脂 8-15份導電金屬55-80份
      光引發(fā)劑5-10份
      硅烷偶聯(lián)劑 0.08-0.2份咪唑0.1-0.3份
      稀釋劑8-13份
      固化劑2-5份。
      [0014]本發(fā)明的納米金屬漿料通過采用上述原料,并嚴格控制各原料的重量配比,制得的納米金屬漿料導電性能好,質(zhì)地柔軟。
      [0015]優(yōu)選的,所述導電金屬為納米銀線、納米銅線、納米銀粉或納米銅粉。本發(fā)明通過采用納米銀線、納米銅線、納米銀粉或納米銅粉作為導電金屬,具有導電性能好、透過度高、容易制備和性質(zhì)柔軟等優(yōu)點。
      [0016]優(yōu)選的,所述光引發(fā)劑為2,4,6(三甲基苯甲?;?二苯基氧化膦。本發(fā)明通過采用2,4,6 (三甲基苯甲?;?二苯基氧化膦作為光引發(fā)劑,
      所述硅烷偶聯(lián)劑為硅烷偶聯(lián)劑KH550。本發(fā)明通過采用硅烷偶聯(lián)劑KH550作為硅烷偶聯(lián)劑,可以改善無機物與有機物之間的界面作用,從而大大提高復合材料的性能導電性能。
      [0017]優(yōu)選的,所述稀釋劑為環(huán)氧丙烷。本發(fā)明通過采用環(huán)氧丙烷作為稀釋劑,稀釋效果好,材料性能佳。
      [0018]所述固化劑為三乙醇胺。本發(fā)明通過采用三乙醇胺作為固化劑,其固化效果好,固化速度快。
      [0019]一種具有金屬網(wǎng)格的UV固化型透明導電薄膜的制備方法,包括如下步驟:
      (1)取一透明聚酯薄膜作為透明基材層,在透明聚酯薄膜的一面進行清洗并烘干,將烘干后的透明聚酯薄膜進行電暈處理;
      (2)將透明聚酯薄膜的電暈處理面朝上作為涂布面,置于滴膠管的下方,移動透明聚酯薄膜,打開滴膠管并擠出納米金屬漿料進行縱向涂布,靜置2-lOs,再進行UV固化;
      (3)將縱向涂布并固化后的透明聚酯薄膜旋轉(zhuǎn)90°后,重新置于滴膠管的下方,移動透明聚酯薄膜,打開滴膠管并擠出納米金屬漿料進行橫向涂布,靜置2-lOs,再進行UV固化;
      (4)將上述完成縱橫涂布后形成網(wǎng)格的透明聚酯薄膜烘干,形成導電薄膜層,制得具有金屬網(wǎng)格的UV固化型透明導電薄膜。
      [0020]本發(fā)明的制備方法具有網(wǎng)格間隙可控,線寬及線高可調(diào)等優(yōu)點,工藝簡單,操作控制方便,質(zhì)量穩(wěn)定,生產(chǎn)效率高,生產(chǎn)成本低,可大規(guī)模工業(yè)化生產(chǎn)。
      [0021]優(yōu)選的,所述步驟(1)中,電暈處理的電流強度為0.1-0.7A,處理時間為2-lOs。本發(fā)明通過將電流強度控制在0.1-0.7A,處理時間控制在2-10S,可以提高納米金屬漿料的附著力。
      [0022]優(yōu)選的,所述步驟(2)和所述步驟(3)中,透明聚酯薄膜的移動速度為0.05-0.6m/min,滴膠管的數(shù)量為4-12個,單個滴膠管的擠出速度為3.5 X 106-4.8 X ΙΟ7 μ m3/min,滴膠管距離透明聚酯薄膜電暈處理面的距離為30-100 μm,UV固化的光照強度為1000-1500W/cm2。本發(fā)明通過將透明聚酯薄膜的移動速度、單個滴膠管的擠出速度、滴膠管距離透明聚酯薄膜電暈處理面的距離、以及UV固化的光照強度控制在上述參數(shù),使得納米金屬漿料的涂布更加均勻,網(wǎng)格間隙可控,線寬及線高可調(diào)。多個滴膠管呈一排排列,可以一次噴涂多條納米金屬楽束,節(jié)省時間。
      [0023]優(yōu)選的,所述步驟(4)中,烘干溫度為80_150°C,烘干時間為10_50s。本申請通過將烘干溫度控制在80-150°C,烘干時間控制在10-50s,納米金屬漿料的固化效果好,制得的UV固化型透明導電薄膜導電性能好,透過度高,柔軟性好。
      [0024]本發(fā)明的有益效果在于:本發(fā)明的具有金屬網(wǎng)格的UV固化型透明導電薄膜導電性能好,透過度高,柔軟性好。
      [0025]本發(fā)明的制備方法具有網(wǎng)格間隙可控,線寬及線高可調(diào)等優(yōu)點,工藝簡單,操作控制方便,質(zhì)量穩(wěn)定,生產(chǎn)效率高,生產(chǎn)成本低,可大規(guī)模工業(yè)化生產(chǎn)。
      【附圖說明】
      [0026]圖1是本發(fā)明的局部剖視圖。
      [0027]圖2是本發(fā)明所述導電薄膜層的結(jié)構示意圖。
      圖3是本發(fā)明所述導電薄膜層的縱向涂布示意圖。
      圖4是本發(fā)明所述導電薄膜層的橫向涂布示意圖。
      [0028]附圖標記為:1 一透明基材層、2—導電薄膜層、21—金屬網(wǎng)格、22—絕緣區(qū)域、31—滴膠管、32—紫外燈。
      【具體實施方式】
      [0029]為了便于本領域技術人員的理解,下面結(jié)合實施例及附圖1-4對本發(fā)明作進一步的說明,實施方式提及的內(nèi)容并非對本發(fā)明的限定。
      [0030]實施例1
      見圖1-2,一種具有金屬網(wǎng)格的UV固化型透明導電薄膜,包括透明基材層1和涂布于透明基材層1上表面的導電薄膜層2,導電
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