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      高質(zhì)量碳納米管透明導(dǎo)電膜及其制備方法與應(yīng)用與流程

      文檔序號(hào):11064149閱讀:2053來源:國(guó)知局
      高質(zhì)量碳納米管透明導(dǎo)電膜及其制備方法與應(yīng)用與制造工藝

      本發(fā)明特別涉及一種高質(zhì)量碳納米管透明導(dǎo)電膜及其制備方法與應(yīng)用,屬于材料科學(xué)領(lǐng)域。



      背景技術(shù):

      隨著觸控面板大尺寸化、低價(jià)化的需求,以及氧化銦錫(ITO)薄膜不適用于可撓式顯示器應(yīng)用、導(dǎo)電性及透光率等本質(zhì)問題不易克服等,觸控面板廠正積極找新材料,希望取代占成本40%左右的ITO薄膜。在此背景下,金屬網(wǎng)格、納米銀線、碳納米管、石墨烯等替代材料興起,受到各大觸控廠商青睞。

      碳納米管導(dǎo)電膜在柔性、真彩色性、化學(xué)穩(wěn)定性和成本等方面具有明顯的優(yōu)勢(shì),但因其自身結(jié)構(gòu)所限,其導(dǎo)電性質(zhì)卻不及銀納米線。單壁碳納米管依直徑與旋度可分為金屬性與半導(dǎo)體性,其導(dǎo)電性差異很大;且在碳納米管網(wǎng)絡(luò)中隨機(jī)接觸的金屬性和半導(dǎo)體碳納米管之間存在肖特基勢(shì)壘,直接影響碳納米管導(dǎo)電膜的電學(xué)性質(zhì)。目前主要通過化學(xué)摻雜改善碳納米管薄膜的導(dǎo)電性,但其穩(wěn)定性較差且工藝復(fù)雜。因此如何有效降低碳納米管薄膜表面電阻是限制其商業(yè)化的瓶頸問題。



      技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

      針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足,本發(fā)明的目的在于提供一種高質(zhì)量碳納米管透明導(dǎo)電膜及其制備方法與應(yīng)用。

      為實(shí)現(xiàn)前述發(fā)明目的,本發(fā)明采用的技術(shù)方案包括:

      在一些實(shí)施方案中提供了一種高質(zhì)量碳納米管透明導(dǎo)電膜,其包括透明襯底和位于透明襯底上的復(fù)合導(dǎo)電膜,所述復(fù)合導(dǎo)電膜包括導(dǎo)電網(wǎng)格以及與所述導(dǎo)電網(wǎng)格電性結(jié)合的碳納米管層。

      在一些較為優(yōu)選的實(shí)施方案之中,所述導(dǎo)電網(wǎng)格的厚度為0.02~20μm,網(wǎng)格間線距為5~1000μm。需要說明的是,此處所述的“厚度”是指所述導(dǎo)電網(wǎng)格中任一個(gè)有經(jīng)線和/或緯線存在的區(qū)域的頂端與底端之間的距離。

      在一些較為優(yōu)選的實(shí)施方案之中,用以形成所述導(dǎo)電網(wǎng)格的經(jīng)線和/或緯線的線寬為1~5μm。

      進(jìn)一步優(yōu)選的,用以形成所述導(dǎo)電網(wǎng)格的經(jīng)線和/或緯線的線寬<2μm。

      進(jìn)一步的,所述導(dǎo)電網(wǎng)格的材料包括金屬材料和/或半導(dǎo)體材料,所述金屬材料可以包括但不限于金、銀、銅、鋁、鎳、鈦中的任一種或兩種以上的組合,所述半導(dǎo)體材料包括半導(dǎo)體氧化物。

      較為優(yōu)選的,所述導(dǎo)電網(wǎng)格采用金屬網(wǎng)格。

      在一些較為優(yōu)選的實(shí)施方案之中,所述碳納米管層的厚度為2nm~2μm。

      進(jìn)一步的,所述碳納米管包括單壁、雙壁、多壁碳納米管中的任一種或兩種以上的組合。

      進(jìn)一步的,所述透明襯底可優(yōu)選自但不限于PET襯底、PI襯底、PDMS襯底、PMMA襯底、PC襯底中的任一種或兩種以上的組合。

      本發(fā)明還提供了一種制備所述高質(zhì)量碳納米管透明導(dǎo)電膜的方法。

      在一些實(shí)施例中,所述制備方法包括:在透明襯底上層疊設(shè)置導(dǎo)電網(wǎng)格和碳納米管層形成復(fù)合導(dǎo)電膜,從而獲得高質(zhì)量碳納米管透明導(dǎo)電膜。

      在一些實(shí)施方案之中,可以在透明襯底上交替設(shè)置導(dǎo)電網(wǎng)格和碳納米管層形成復(fù)合導(dǎo)電膜。

      在一些實(shí)施方案之中,可以直接在所述襯底上制備形成碳納米管層。

      在一些實(shí)施方案之中,可以將成型碳納米管薄膜轉(zhuǎn)移到所述襯底上而形成碳納米管層。

      例如,可以采用化學(xué)氣相沉積法在可撓性襯底上制備碳納米管薄膜。

      在一些實(shí)施例之中,所述碳納米管層為由碳納米管分散液制得的碳納米管薄膜或經(jīng)CVD干法制備的碳納米管薄膜。

      例如,也可以對(duì)碳納米管分散液進(jìn)行抽濾而獲得碳納米管薄膜,以及將所述碳納米管薄膜轉(zhuǎn)移到所述襯底上而形成碳納米管層。

      在一些實(shí)施方案之中,至少可以選用印刷、濺射、蒸鍍、電化學(xué)沉積中的任一種方式所述襯底上形成所述導(dǎo)電網(wǎng)格。

      例如,可以直接以金屬油墨進(jìn)行印刷形成所述金屬網(wǎng)格。

      或者,也可以在所述襯底上形成導(dǎo)電薄膜,再通過微加工而形成所述金屬網(wǎng)格,所述微加工包括黃光蝕刻工藝。

      在一些更為具體的實(shí)施案例之中,所述金屬網(wǎng)格的制備工藝包括:

      對(duì)于一些外觀要求不高的應(yīng)用,直接利用絲網(wǎng)印刷工藝,在襯底上絲印金屬油墨形成導(dǎo)電網(wǎng)格結(jié)構(gòu);

      或者利用納米壓印技術(shù)在襯底上形成圖案化的金屬網(wǎng)格結(jié)構(gòu);

      或者,先在襯底上整面涂布或?yàn)R射金屬薄膜,再透過黃光蝕刻制程,洗去多余成分而產(chǎn)生網(wǎng)格;

      或者,先在襯底上整面涂布金屬鹽,例如溴化銀,再利用化學(xué)還原方式形成金屬膜,再透過黃光微影制程等洗去多余成分而產(chǎn)生網(wǎng)格。

      本發(fā)明還提供了所述高質(zhì)量碳納米管透明導(dǎo)電膜的用途,例如在電子、光電子領(lǐng)域的應(yīng)用。

      例如,在一些實(shí)施例之中提供了一種裝置,其包括所述的高質(zhì)量碳納米管透明導(dǎo)電膜。

      本發(fā)明通過將碳納米管膜與金屬網(wǎng)格復(fù)合,可以利用金屬網(wǎng)格有效提高電子在金屬性和半導(dǎo)體性碳納米管之間的遷移速度,進(jìn)而大幅改善碳納米管導(dǎo)電膜的導(dǎo)電性;優(yōu)選的,通過使用更細(xì)的金屬網(wǎng)格(<2μm),還可有效消除莫瑞干涉波紋;又及,利用碳納米管橋接也可避免因過細(xì)金屬線蝕刻導(dǎo)致的斷裂金屬線而引起的良率低下等問題,從而提高金屬網(wǎng)格制程良率;此外,碳納米管薄膜的存在也可有效降低復(fù)合膜的霧度及反射率。

      與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)包括:

      1.提供的高質(zhì)量碳納米管透明導(dǎo)電膜導(dǎo)電性能優(yōu)異,表面電阻低,穩(wěn)定性好,透光率高,且霧度低,反射率低,在電子、光電子領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用前景;

      2.提供的高質(zhì)量碳納米管透明導(dǎo)電膜制備工藝簡(jiǎn)單易實(shí)施,可控性高,成本低,良率高,利于大規(guī)模工業(yè)化生產(chǎn)。

      附圖說明

      圖1為本發(fā)明一典型實(shí)施方案之中一種高質(zhì)量碳納米管透明導(dǎo)電膜的工作原理圖;

      圖2為本發(fā)明一典型實(shí)施方案之中一種高質(zhì)量碳納米管透明導(dǎo)電膜的結(jié)構(gòu)示意圖。

      具體實(shí)施方式

      鑒于現(xiàn)有技術(shù)中的不足,本案發(fā)明人經(jīng)長(zhǎng)期研究和大量實(shí)踐,得以提出本發(fā)明的技術(shù)方案,其主要涉及一種高質(zhì)量碳納米管透明導(dǎo)電膜,其包括透明襯底和位于透明襯底上的復(fù)合導(dǎo)電膜,所述復(fù)合導(dǎo)電膜包括導(dǎo)電網(wǎng)格以及與所述導(dǎo)電網(wǎng)格電性結(jié)合的碳納米管層。

      請(qǐng)參閱圖1,通過將碳納米管層與導(dǎo)電網(wǎng)格,例如金屬網(wǎng)格復(fù)合,可利用金屬網(wǎng)格而大幅提高電子在金屬性和半導(dǎo)體性碳納米管之間的遷移速度,從而大幅改善碳納米管導(dǎo)電膜的導(dǎo)電性,以及,高質(zhì)量碳納米管膜同時(shí)也可改善金屬網(wǎng)格制程良率,并降低其霧度。

      再請(qǐng)參閱圖2所示是本發(fā)明一典型實(shí)施案例之中的一種高質(zhì)量碳納米管透明導(dǎo)電膜的結(jié)構(gòu)示意圖,其包括透明襯底和依次形成于透明襯底上的金屬網(wǎng)格和碳納米管層。

      當(dāng)然,在另外一些實(shí)施例之中,碳納米管層也可設(shè)置于金屬網(wǎng)格和透明襯底之間。

      在其它的一些實(shí)施例之中,所述高質(zhì)量碳納米管透明導(dǎo)電膜可包括交替設(shè)置的多層金屬網(wǎng)格和碳納米管層。

      如下將結(jié)合若干實(shí)施例對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案、其實(shí)施過程及原理等作進(jìn)一步的解釋說明。

      實(shí)施例1

      a)在PET襯底上用PVD法鍍銅;

      b)通過黃光曝光顯影,酸堿蝕刻制程,制成線寬2μm,網(wǎng)格尺寸400μm的金屬網(wǎng)格,厚度約100nm;

      c)用CVD法在金屬可撓性襯底上生長(zhǎng)單壁碳納米管導(dǎo)電膜;

      d)將金屬可撓性襯底上的單壁碳納米管導(dǎo)電膜經(jīng)卷對(duì)卷形式轉(zhuǎn)移至金屬網(wǎng)格表面制得金屬網(wǎng)格/碳納米管復(fù)合導(dǎo)電膜;

      e)獲得高質(zhì)量碳納米管透明導(dǎo)電膜(簡(jiǎn)稱復(fù)合導(dǎo)電膜)的表面方阻為60ohm/sq,透光率為90%,霧度0.6%。

      實(shí)施例2

      a)PET表面涂布光刻膠;

      b)UV膠表面圖案壓印及固化;

      c)納米銀印刷制成金屬網(wǎng)格,制成線寬4μm,網(wǎng)格尺寸50μm的金屬網(wǎng)格,厚度約220nm;

      d)用CVD法在金屬可撓性襯底上生長(zhǎng)單壁碳納米管導(dǎo)電膜;

      e)將金屬可撓性襯底上生長(zhǎng)的單壁碳納米管導(dǎo)電膜通過卷對(duì)卷形式轉(zhuǎn)移至金屬網(wǎng)格表面制得金屬網(wǎng)格/碳納米管復(fù)合導(dǎo)電膜;

      f)獲得復(fù)合導(dǎo)電膜的表面方阻為20ohm/sq,透光率88%霧度0.9%。

      實(shí)施例3

      a)在PET襯底上用磁控濺射法鍍銅;

      b)通過黃光曝光顯影,酸堿刻蝕制程,制成線寬1μm,網(wǎng)格尺寸50μm的金屬網(wǎng)格,厚度約150nm;

      c)用1mg/mL的單壁碳納米管分散液抽濾制得單壁碳納米管導(dǎo)電膜轉(zhuǎn)移至金屬網(wǎng)格表面;

      d)將復(fù)合導(dǎo)電膜放于80℃干燥3min,制得金屬網(wǎng)格/碳納米管復(fù)合導(dǎo)電膜;

      e)獲得復(fù)合導(dǎo)電膜的表面方阻為15ohm/sq,透光率89%,霧度0.7%。

      實(shí)施例4

      a)PET表面涂布光刻膠;

      b)UV膠表面圖案壓印及固化;

      c)納米銀印刷制成金屬網(wǎng)格,制成線寬3μm,網(wǎng)格尺寸100μm的金屬網(wǎng)格,厚度約220nm;

      d)用1mg/ml的單壁碳納米管分散液抽濾制得單壁碳納米管導(dǎo)電膜轉(zhuǎn)移至金屬網(wǎng)格表面;

      e)將復(fù)合導(dǎo)電膜放于80℃干燥3min,制得金屬網(wǎng)格/碳納米管復(fù)合導(dǎo)電膜;

      f)獲得復(fù)合導(dǎo)電膜的表面方阻為25ohm/sq,透光率87%,霧度0.9%。

      需要說明的是,本發(fā)明的附圖均采用非常簡(jiǎn)化的形式且均使用非精準(zhǔn)的比率,僅用于方便、明晰地輔助說明本發(fā)明的實(shí)施例。另外,前述實(shí)施例1-4中的各個(gè)工序,例如鍍銅、光刻等微加工工序及干燥、卷對(duì)卷轉(zhuǎn)移等其它輔助工序,若非特別說明,則均可采用本領(lǐng)域已知的任一種合適工藝操作和工藝條件,例如可參考CN102063951A、ZL201010533228.9、CN203299798U、CN103204492A、CN103031531A、CN102602118A、CN102110489B等。

      應(yīng)當(dāng)理解,上述實(shí)施例僅為說明本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思及特點(diǎn),其目的在于讓熟悉此項(xiàng)技術(shù)的人士能夠了解本發(fā)明的內(nèi)容并據(jù)以實(shí)施,并不能以此限制本發(fā)明的保護(hù)范圍。凡根據(jù)本發(fā)明精神實(shí)質(zhì)所作的等效變化或修飾,都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。

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