一種觸摸屏及其制作方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術領域，特別是涉及一種觸摸屏及其制作方法。
【背景技術】
[0002]觸摸屏作為一種全新的人機交互設備，有著生動直觀的操作接口且符合人體的使用習慣，能讓娛樂辦公變得更加生動和放松，并且基于電容觸摸屏的高透明度、耐用性、多點觸摸等優(yōu)勢，在消費電子領域得到廣泛的應用。OGS作為觸摸屏的一種，因其簡單的解決方案以及非常高的靈敏度，一直在顧客體驗中占據(jù)優(yōu)勢地位。
[0003]但現(xiàn)有的OGS觸摸屏工藝一般為5mask(金屬橋)工藝或6mask(IT0橋)工藝，但ITO鍍膜后會造成襯底基板翹曲變形，襯底基板表面的受力狀態(tài)遭到ITO的沖擊和破壞，基板表面強度變低。Griffith微裂紋理論:Griffith認為實際材料中總存在許多細小的裂紋或缺陷，在外力作用下，這些裂紋和缺陷附近就會產生應力集中現(xiàn)象，當應力達到一定程度時，裂紋就開始擴展而導致斷裂，根據(jù)Griffith微裂紋理論可知，斷裂并不是兩部分晶體同時沿整個界面拉斷，而是裂紋擴展的結果。襯底基板表面存在許多特別細小的紋理，當受力狀態(tài)遭到ITO的沖擊和破壞，基板表面強度變低，使得觸摸屏的良率大大降低。

【發(fā)明內容】

[0004]本發(fā)明實施例的目的是提供一種觸摸屏及其制作方法，該觸摸屏通過在襯底基板上設置一層增強層，可以有效提高襯底基板的強度，從而提高整個觸摸屏的強度，提高產品的良率。
[0005]本發(fā)明的實施例提供了一種觸摸屏，包括襯底基板，還包括:設置于襯底基板表面的增強層，所述的增強層用于提高襯底基板的強度。減小了 ITO鍍膜后造成襯底基板翹曲變形的幾率，使得襯底基板表面的受力狀態(tài)遭到ITO的沖擊和破壞時，增強基板表面強度，從而降低了表面微小裂紋擴展而導致斷裂的可能性。
[0006]例如，所述的增強層為透明光阻材料層，所述的透明光阻材料層上設置驅動電極和感應電極，以及位于驅動電極和感應電極之間的絕緣層。
[0007]在襯底基板上設置透明光阻材料層，使得襯底基板的表面的受力狀態(tài)在受到電極層的沖擊和破壞時，可以有效的保護襯底基板的壓縮應力層的分布狀態(tài)不受變化，從而增加產品表面的強度。
[0008]例如，透明光阻材料層的厚度范圍為0.4?5um。
[0009]例如，透明光阻材料層的折射率大于1.67為高折射透明光阻材料層，具有消影的作用，可以充當消影層的功能，在減少制程的同時達到客戶對消影效果的需求，有效的簡化了工藝流程。
[0010]例如，所述的透明光阻材料層的折射率等于1.5為普通折射率的透明光阻材料，需要在透明光阻材料層制成后增加消影層，以達到消影的效果。
[0011]例如，在所述的透明光阻材料層和驅動電極間設置消影層，所述的消影層的材料為S12和Nb2O5,S12和Nb2O5的膜厚比例為1:4，所述的消影層的厚度為450A?500A，可以使得消影效果達到3級。
[0012]例如，在所述的感應電極上設置消影層，所述的消影層的材料為SiNxOy,所述的消影層的厚度為700A?900A，折射率為1.6?1.65，這種方法可以使得消影效果達到I級。
[0013]另外需要在所述的襯底基板周邊設置一圈黑矩陣，以達到遮蓋邊緣走線，防止邊緣走線可視，同時防止邊緣漏光的作用。
[0014]本發(fā)明的實施例還提供了一種觸摸屏制造方法，在襯底基板表面形成一層增強層，所述的增強層用于提高襯底基板的強度，所形成的增強層為透明光阻材料層。
[00?5]例如，所形成的透明光阻材料層的厚度為0.4um?Ium。在所形成的透明光阻材料層上采用高溫鍍膜工藝，溫度范圍為230°C?250°C，形成由氧化銦錫制成的驅動電極和感應電極，在驅動電極和感應電極之間形成一層絕緣層。
[0016]例如，所形成的透明光阻材料層的厚度為Ium?5um。在所形成的透明光阻材料層上采用低溫鍍膜工藝，溫度范圍為30°C?80°C，退火工藝參數(shù)為230?250°C/30mins，形成由氧化銦錫制成的驅動電極和感應電極，在驅動電極和感應電極之間形成一層絕緣層。
[0017]例如，所形成的透明光阻材料層的折射率大于1.67。
[0018]例如，所形成的透明光阻材料層的折射率等于1.5，在所形成的透明光阻材料層和驅動電極層間形成一層消影層。所述的消影層的材料為Si02和Nb205，Si02和M32O5的膜厚比例為1:4。所形成的消影層的厚度為450A?500A。
[0019]例如，當所形成的透明光阻材料層的折射率等于1.5，在所形成的感應電極層上形成一層消影層，所形成的消影層的材料為SiNxOy,所形成的消影層的厚度為700A?900A，所形成的消影層的折射率為1.6?1.65。
[0020]例如，在襯底基板與所述增強層之間采用黃光工藝制備形成的黑矩陣，所形成的黑矩陣位于所述襯底基板的周邊。
[0021]本發(fā)明制作工藝簡單，可實施性強，同時可以有效提高襯底基板以及貼合后觸摸屏的表面強度，大大提高了產品的良率，同時很大程度上改善消影效果。
【附圖說明】
[0022]圖1為本發(fā)明一個實施例的觸摸屏不意圖；
[0023]圖2為本發(fā)明黑矩陣設置于玻璃基板的俯視圖；
[0024]圖3為本發(fā)明另一個實施例的觸摸屏不意圖；
[0025]圖4為本發(fā)明又一個實施例的觸摸屏不意圖；
[0026]圖5為本發(fā)明一個實施例的觸摸屏制作方法流程示意圖；
[0027]圖6為本發(fā)明另一個實施例的觸摸屏制作方法流程示意圖；
[0028]圖7為本發(fā)明又一個實施例的觸摸屏制作方法流程示意圖；
[0029]圖8為本發(fā)明又一個實施例的觸摸屏制作方法流程示意圖。
[0030]附圖標記:
[0031]1-襯底基板；
[0032]2-透明光組材料層；
[0033]3-驅動電極；
[0034]4-絕緣層；
[0035]5-感應電極；
[0036]6-黑矩陣；
[0037]7-消影層。
【具體實施方式】
[0038]為使本領域技術人員更好地理解本發(fā)明的技術方案，下面結合附圖和【具體實施方式】對本發(fā)明作進一步詳細描述。
[0039]本實施例提供一種觸摸屏，如圖1所示，包括襯底基板I，設置于襯底基板表面的增強層，所述的增強層用于提高襯底基板的強度。減小了 ITO鍍膜后造成襯底基板翹曲變形的幾率，使得襯底基板表面的受力狀態(tài)遭到ITO的沖擊和破壞時，增強基板表面強度，從而降低了表面微小裂紋擴展而導致斷裂的可能性。
[0040]例如，所述的增強層為透明光阻材料層2，所述的透明光阻材料層2上設置驅動電極3和感應電極5，以及位于驅動電極和感應電極之間的絕緣層4。
[0041]在襯底基板I上設置透明光阻材料層2，使得襯底基板I的表面的受力狀態(tài)在受到電極層的沖擊和破壞時，可以有效的保護襯底基板I的壓縮應力層的分布狀態(tài)不受變化，從而增加產品表面的強度。
[0042 ] 例如，透明光阻材料層2的厚度范圍為0.4?5um。
[0043]例如，透明光阻材料層2的折射率大于1.67為高折射透明光阻材料層2，該高折射透明光祖材料層具有消影的作用，可以充當消影層的功能，在減少制程的同時達到客戶對消影效果的需求，有效的簡化了工藝流程。
[0044]例如，如圖2所示在所述的襯底基板I周邊設置一圈黑矩陣6，以達到遮蓋邊緣走線，防止邊緣走線可視，同時防止邊緣漏光的作用。
[0045]本發(fā)明提供的另一個實施例，如圖3所示，包括襯底基板1，設置于襯底基板表面的增強層，所述的增強層用于提高襯底基板的強度，所述的增強層為透明光阻材料層2，所述的透明光阻材料層2上設置驅動電極3和感應電極5，以及位于驅動電極和感應電極之間的絕緣層4。具體的，透明光阻材料層2的厚度范圍為0.4?5um。所述的透明光阻材料層2的折射率等于1.5為普通折射率的透明光阻材料，需要在透明光阻材料層2制成后增加消影層，以達到消影的效果。
[0046]例如，在所述的透明光阻材料層和驅動電極間設置消影層7，所述的消影層7的材料為S12和Nb2O5, S12和Nb2O5的膜厚比例為1:4，所述的消影層7的厚度為450A?500A，可以使得消影效果達到3級。
[0047]例如，也可以在透明光阻材料層2制成后增加消影層7，以達到消影的效果，如圖4所示。所述的消影層7的材料為SiNx0y，所述的消影層的厚度為700A?900A，折射率為1.6?1.65，這種方法可以使得消影效果達到I級。
[0048]在所述的襯底基板I周邊設置一圈黑矩陣6，以達到遮蓋邊緣走線，防止邊緣走線可視，同時防止邊緣漏光的作用。
[0049]本發(fā)明提供了一種觸摸屏制作方法的實施例，如圖5所示為該方法的流程示意圖，具體的: