層疊結(jié)構(gòu)空間光調(diào)制器缺陷檢測(cè)中掩膜的提取方法及系統(tǒng)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明設(shè)計(jì)層疊結(jié)構(gòu)空間光調(diào)制器的缺陷檢測(cè)領(lǐng)域，具體涉及一種層疊結(jié)構(gòu)空間光調(diào)制器缺陷檢測(cè)中掩膜的提取方法及系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]空間光調(diào)制器是一種利用信號(hào)在時(shí)間或空間上控制光源的振幅、相位或偏振狀態(tài)等傳播狀態(tài)，以便有效地利用光的固有速度、并行性和互連能力的器件。1968年，美國(guó)RCA公司發(fā)明了世界上第一臺(tái)液晶顯示屏幕一一電尋LC-SCM。197 I年，美國(guó)休斯公司J.D.Margerum等人研制出了第一臺(tái)透射式液晶光調(diào)制器，從此空間光調(diào)制器得到廣泛應(yīng)用。同年，瑞士羅切公司的W.He If rich和Schadt發(fā)現(xiàn)了扭曲絲狀液晶場(chǎng)效應(yīng)，使得液晶顯示技術(shù)迅速發(fā)展。
[0003]空間光調(diào)制器是現(xiàn)代光信息處理系統(tǒng)中一個(gè)非常關(guān)鍵的器件，它性能的好壞直接決定了系統(tǒng)的處理能力?？臻g光調(diào)制器以其分辨率高、信息存儲(chǔ)量大被廣泛地應(yīng)用于軍事、醫(yī)療、工業(yè)生產(chǎn)等領(lǐng)域。在人們的日常生活中，最常見(jiàn)的就是層疊結(jié)構(gòu)的空間光調(diào)制器。層疊結(jié)構(gòu)空間光調(diào)制器以其結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、體積小、質(zhì)量輕等特點(diǎn)廣受人們的歡迎，最常見(jiàn)的莫過(guò)于液晶屏了。
[0004]在工業(yè)生產(chǎn)中，廠商往往需要對(duì)層疊結(jié)構(gòu)空間光調(diào)制器進(jìn)行缺陷檢測(cè)以確保層疊結(jié)構(gòu)空間光調(diào)制器能夠?qū)崿F(xiàn)其功能。然而，層疊結(jié)構(gòu)空間光調(diào)制器往往有多個(gè)部分組成。以智能手機(jī)上的液晶面板為例，一般而言它由背光源、上下兩層偏光片、上下兩層玻璃基板、ITO透明導(dǎo)電層、薄膜晶體管、液晶分子層、濾光片以及框膠等構(gòu)成。能夠準(zhǔn)確地檢測(cè)出缺陷的位置對(duì)于廠家節(jié)省成本、追究責(zé)任等具有非常大的現(xiàn)實(shí)意義。
[0005]然而，層疊結(jié)構(gòu)空間光調(diào)制器的表面往往會(huì)有一層掩膜，生產(chǎn)人員需要根據(jù)掩膜上的信息正確分辨出層疊結(jié)構(gòu)空間光調(diào)制器的方向，同時(shí)掩膜還能在運(yùn)輸?shù)倪^(guò)程中起到保護(hù)的作用。為了防止灰塵污染、劃傷等，在缺陷檢測(cè)的過(guò)程中，廠商們往往會(huì)選擇帶著掩膜直接進(jìn)行缺陷檢測(cè)，因而如何進(jìn)行掩膜的自動(dòng)提取對(duì)與提高缺陷檢測(cè)的正確率以及速度，對(duì)于提尚生廣效率、減少生廣成本意義重大。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明旨在至少解決上述技術(shù)問(wèn)題之一。
[0007]為此，本發(fā)明的第一個(gè)目的在于提出一種層疊結(jié)構(gòu)空間光調(diào)制器缺陷檢測(cè)中掩膜的提取方法。
[0008]本發(fā)明的第二個(gè)目的在于提出一種層疊結(jié)構(gòu)空間光調(diào)制器缺陷檢測(cè)中掩膜的提取系統(tǒng)。
[0009]為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的實(shí)施例公開(kāi)了一種層疊結(jié)構(gòu)空間光調(diào)制器缺陷檢測(cè)中掩膜的提取方法，包括以下步驟:S1:獲取空間光調(diào)制器在預(yù)設(shè)波長(zhǎng)范圍下照射形成的圖像;S2:對(duì)所述圖像進(jìn)行二值化處理得到掩膜標(biāo)識(shí);S3:對(duì)所述圖像進(jìn)行膨脹腐蝕，得到所述掩膜標(biāo)識(shí)的區(qū)域。
[0010]根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的層疊結(jié)構(gòu)空間光調(diào)制器缺陷檢測(cè)中掩膜的提取方法，提高空間光調(diào)制器缺陷檢測(cè)的正確率和效率，提高空間光調(diào)制器的生產(chǎn)效率、降低生產(chǎn)成本。
[0011]另外，根據(jù)本發(fā)明上述實(shí)施例的層疊結(jié)構(gòu)空間光調(diào)制器缺陷檢測(cè)中掩膜的提取方法，還可以具有如下附加的技術(shù)特征:
[0012]進(jìn)一步地，在步驟S3中，所述膨脹腐蝕是通過(guò)上位機(jī)的軟件實(shí)現(xiàn)的。
[0013]為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的實(shí)施例公開(kāi)了一種層疊結(jié)構(gòu)空間光調(diào)制器缺陷檢測(cè)中掩膜的提取系統(tǒng)，包括:光源，用于提供預(yù)設(shè)范圍的波長(zhǎng)照射空間光調(diào)制器；圖像采集裝置，用于采集所述光源照射所述空間光調(diào)制器形成的圖像;二值化處理模塊，用于對(duì)所述圖像進(jìn)行而治化處理得到掩膜標(biāo)識(shí)；以及上位機(jī)，用于通過(guò)軟件對(duì)所述圖像進(jìn)行膨脹腐蝕得到所述掩膜標(biāo)識(shí)的區(qū)域。
[0014]根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的層疊結(jié)構(gòu)空間光調(diào)制器缺陷檢測(cè)中掩膜的提取系統(tǒng)，提高空間光調(diào)制器缺陷檢測(cè)的正確率和效率，提高空間光調(diào)制器的生產(chǎn)效率、降低生產(chǎn)成本。
[0015]本發(fā)明的附加方面和優(yōu)點(diǎn)將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過(guò)本發(fā)明的實(shí)踐了解到。
【附圖說(shuō)明】
[0016]本發(fā)明的上述和/或附加的方面和優(yōu)點(diǎn)從結(jié)合下面附圖對(duì)實(shí)施例的描述中將變得明顯和容易理解，其中:
[0017]圖1是本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的層疊結(jié)構(gòu)空間光調(diào)制器缺陷檢測(cè)中掩膜的提取方法的流程圖；
[0018]圖2是本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的被測(cè)物體的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0019]圖3是本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的層疊結(jié)構(gòu)空間光調(diào)制器在白色背光源所成像的灰度圖像；
[0020]圖4是本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例對(duì)圖3進(jìn)行二值化處理后的示意圖；
[0021]圖5是本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例對(duì)圖4經(jīng)過(guò)膨脹腐蝕提取出掩膜標(biāo)識(shí)區(qū)域后的示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0022]下面詳細(xì)描述本發(fā)明的實(shí)施例，所述實(shí)施例的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類似的標(biāo)號(hào)表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過(guò)參考附圖描述的實(shí)施例是示例性的，僅用于解釋本發(fā)明，而不能理解為對(duì)本發(fā)明的限制。
[0023]在本發(fā)明的描述中，需要理解的是，術(shù)語(yǔ)“中心”、“縱向”、“橫向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底”、“內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本發(fā)明和簡(jiǎn)化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對(duì)本發(fā)明的限制。此外，術(shù)語(yǔ)“第一”、“第二”僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示相對(duì)重要性。
[0024]在本發(fā)明的描述中，需要說(shuō)明的是，除非另有明確的規(guī)定和限定，術(shù)語(yǔ)“安裝”、“相連”、“連接”應(yīng)做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接;可以是機(jī)械連接，也可以是電連接;可以是直接相連，也可以通過(guò)中間媒介間接相連，可以是兩個(gè)元件內(nèi)部的連通。對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以具體情況理解上述術(shù)語(yǔ)在本發(fā)明中的具體含義。
[0025]參照下面的描述和附圖，將清楚本發(fā)明的實(shí)施例的這些和其他方面。在這些描述和附圖中，具體公開(kāi)了本發(fā)明的實(shí)施例中的一些特定實(shí)施方式，來(lái)表示實(shí)施本發(fā)明的實(shí)施例的原理的一些方式，但是應(yīng)當(dāng)理解，本發(fā)明的實(shí)施例的范圍不受此限制。相反，本發(fā)明的實(shí)施例包括落入所附加權(quán)利要求書的精神和內(nèi)涵范圍內(nèi)的所有變化、修改和等同物。
[0026]以下結(jié)合附圖描述根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的層疊結(jié)構(gòu)空間光調(diào)制器缺陷檢測(cè)中掩膜的提取方法及系統(tǒng)。
[0027]請(qǐng)參考圖1，一種層疊結(jié)構(gòu)空間光調(diào)制器缺陷檢測(cè)中掩膜的提取方法，包括以下步驟:
[0028]S1:獲取空間光調(diào)制器在預(yù)設(shè)波長(zhǎng)范圍下照射形成的圖像。
[0029]S2:對(duì)圖像進(jìn)行二值化處理得到掩膜標(biāo)識(shí)。
[0030]S3:對(duì)圖像進(jìn)行膨脹腐蝕，得到所述掩膜標(biāo)識(shí)的區(qū)域。
[0031 ]為使本領(lǐng)域技術(shù)人員進(jìn)一步理解本發(fā)明，將通過(guò)以下實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。
[0032]請(qǐng)參考圖2，在本發(fā)明的實(shí)施例中，被測(cè)物體為智能手機(jī)的液晶屏，一般來(lái)說(shuō)，智能手機(jī)液晶屏有兩層掩膜，分為上層掩膜和下層掩膜，其他液晶層、薄膜晶體管層、玻璃基板層等在此合稱為中間層。
[0033]請(qǐng)參考圖3，通過(guò)用白色背光源對(duì)智能手機(jī)液晶屏進(jìn)行照射，可以看到，左上角有一個(gè)下層掩膜的標(biāo)準(zhǔn)，右上角有一個(gè)上層掩膜的標(biāo)識(shí)，以方便工作人員區(qū)分液晶屏的方向。在缺陷檢測(cè)中，能夠準(zhǔn)確地提取這兩個(gè)標(biāo)識(shí)的大致區(qū)域。
[0034]請(qǐng)參考圖4，對(duì)圖3進(jìn)行二值化處理，使上下兩層的掩膜標(biāo)識(shí)在二值化后更加明顯。
[0035]請(qǐng)參考圖5，利用軟件膨脹腐蝕后，得到的掩膜標(biāo)識(shí)的大致區(qū)域。
[0036]另外，本發(fā)明實(shí)施例的層疊結(jié)構(gòu)空間光調(diào)制器缺陷檢測(cè)中掩膜的提取方法及系統(tǒng)的其它構(gòu)成以及作用對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員而言都是已知的，為了減少冗余，不做贅述。
[0037]在本說(shuō)明書的描述中，參考術(shù)語(yǔ)“一個(gè)實(shí)施例”、“一些實(shí)施例”、“示例”、“具體示例”、或“一些示例”等的描述意指結(jié)合該實(shí)施例或示例描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或者特點(diǎn)包含于本發(fā)明的至少一個(gè)實(shí)施例或示例中。在本說(shuō)明書中，對(duì)上述術(shù)語(yǔ)的示意性表述不一定指的是相同的實(shí)施例或示例。而且，描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或者特點(diǎn)可以在任何的一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例或示例中以合適的方式結(jié)合。
[0038]盡管已經(jīng)示出和描述了本發(fā)明的實(shí)施例，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可以理解:在不脫離本發(fā)明的原理和宗旨的情況下可以對(duì)這些實(shí)施例進(jìn)行多種變化、修改、替換和變型，本發(fā)明的范圍由權(quán)利要求及其等同限定。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種層疊結(jié)構(gòu)空間光調(diào)制器缺陷檢測(cè)中掩膜的提取方法，其特征在于，包括以下步驟: S1:獲取空間光調(diào)制器在預(yù)設(shè)波長(zhǎng)范圍下照射形成的圖像； 52:對(duì)所述圖像進(jìn)行二值化處理得到掩膜標(biāo)識(shí)； 53:對(duì)所述圖像進(jìn)行膨脹腐蝕，得到所述掩膜標(biāo)識(shí)的區(qū)域。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的層疊結(jié)構(gòu)空間光調(diào)制器缺陷檢測(cè)中掩膜的自動(dòng)提取方法，其特征在于，在步驟S3中，所述膨脹腐蝕是通過(guò)上位機(jī)的軟件實(shí)現(xiàn)的。3.—種層疊結(jié)構(gòu)空間光調(diào)制器缺陷檢測(cè)中掩膜的提取系統(tǒng)，其特征在于，包括: 光源，用于提供預(yù)設(shè)范圍的波長(zhǎng)照射空間光調(diào)制器； 圖像采集裝置，用于采集所述光源照射所述空間光調(diào)制器形成的圖像； 二值化處理模塊，用于對(duì)所述圖像進(jìn)行而治化處理得到掩膜標(biāo)識(shí)；以及 上位機(jī)，用于通過(guò)軟件對(duì)所述圖像進(jìn)行膨脹腐蝕得到所述掩膜標(biāo)識(shí)的區(qū)域。
【專利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種層疊結(jié)構(gòu)空間光調(diào)制器缺陷檢測(cè)中掩膜的提取方法及系統(tǒng)，其中方法包括以下步驟：S1：獲取空間光調(diào)制器在預(yù)設(shè)波長(zhǎng)范圍下照射形成的圖像；S2：對(duì)所述圖像進(jìn)行二值化處理得到掩膜標(biāo)識(shí)；S3：對(duì)所述圖像進(jìn)行膨脹腐蝕，得到所述掩膜標(biāo)識(shí)的區(qū)域。本發(fā)明具有如下優(yōu)點(diǎn)：提高空間光調(diào)制器缺陷檢測(cè)的正確率和效率，提高空間光調(diào)制器的生產(chǎn)效率、降低生產(chǎn)成本。
【IPC分類】G02F1/13, G06T7/00
【公開(kāi)號(hào)】CN105678800
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201610152980
【發(fā)明人】戴瓊海, 范靜濤, 熊博
【申請(qǐng)人】清華大學(xué)
【公開(kāi)日】2016年6月15日
【申請(qǐng)日】2016年3月17日