專利名稱：磁記錄媒體的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及在盤狀基體的一面或兩面上形成了具有借助于同心圓狀或螺旋狀的分離用槽而相互分離的多個磁道的環(huán)狀的數(shù)據(jù)記錄區(qū)域的離散式磁道型的磁記錄媒體。
背景技術(shù)：
近年，作為可以高密度記錄的記錄媒體，開發(fā)了在盤狀基體上形成了具有借助于同心圓狀的多個槽而相互磁分離的多個數(shù)據(jù)記錄用磁道(以下，也簡單地稱為“磁道”)的數(shù)據(jù)記錄區(qū)域的離散式磁道型的磁記錄媒體(作為一例，特開平4-310621號公報所公開的磁記錄媒體)。這種離散式磁道型的磁記錄媒體(以下，也稱為“離散式磁道媒體”)，例如搭載在HDD(磁盤驅(qū)動器)上，然后經(jīng)由記錄再生用磁頭(以下，也稱為“磁頭”)磁記錄各種記錄數(shù)據(jù)。這時，在該離散式磁道媒體中，通過各磁道之間的槽，避免由磁頭的遺漏磁場引起的實效記錄磁道寬度的無用的擴大。另外，在該離散式磁道媒體中，減少了對于相鄰磁道的記錄數(shù)據(jù)的記錄、和記錄在相鄰磁道上的記錄數(shù)據(jù)的再生(串音)的發(fā)生。因而，由于可以縮小各磁道的形成間距(以下，也稱為“磁道間距”)，故可以將記錄數(shù)據(jù)用高密度來記錄。
另一方面，在搭載了這種離散式磁道媒體(例如圖7所示的離散式磁道媒體51)的HDD中，在數(shù)據(jù)的記錄再生時，馬達用高速使離散式磁道媒體51旋轉(zhuǎn)，例如伺服機構(gòu)，如圖8所示，使它的中心部位于形成在盤狀基體52上的數(shù)據(jù)記錄區(qū)域53內(nèi)的任意的磁道62上，然后將磁頭71沿著離散式磁道媒體51的半徑方向移動(伺服控制)。這時，由于離散式磁道媒體51的高速旋轉(zhuǎn)，在磁頭71和離散式磁道媒體51(數(shù)據(jù)記錄區(qū)域53)之間產(chǎn)生氣流，因此磁頭71因該氣流產(chǎn)生的升力而浮起。其結(jié)果，便可以使離散式磁道媒體51和磁頭71以相互非接觸的方式移動(旋轉(zhuǎn))。
專利文獻1特開平4-310621號公報(第2-3頁)發(fā)明者們探討這種以往的離散式磁道媒體51的結(jié)果，發(fā)現(xiàn)了以下的問題點。即，在這種離散式磁道媒體51中，如圖7所示，由于沒有形成槽61(參照圖8)的外側(cè)區(qū)域54以及內(nèi)側(cè)區(qū)域55分別位于盤狀基體52上的數(shù)據(jù)記錄區(qū)域53的外側(cè)以及內(nèi)側(cè)，因此產(chǎn)生了由兩者引起的不良狀況。具體地說，如圖9所示，例如當對位于數(shù)據(jù)記錄區(qū)域53內(nèi)的最外側(cè)的磁道62A進行數(shù)據(jù)的記錄再生時，必須使磁頭71的中心部位于該磁道62A上，因此比磁頭71的中心部更靠近外側(cè)的部位突出到外側(cè)區(qū)域54側(cè)。
這時，如圖9所示，由磁頭71的外側(cè)的部位和外側(cè)區(qū)域54夾著的空間的體積，比由磁頭71的內(nèi)側(cè)的部位和數(shù)據(jù)記錄區(qū)域53夾著的空間的體積小沒有形成槽61的部分的量。在此，上述作用于磁頭71的升力，存在磁頭71和離散式磁道媒體51之間的空氣的量，即由兩者夾著的空間的體積越小升力就越大的傾向。因此，如該圖所示，在磁頭71相對于離散式磁道媒體51的表面平行的狀態(tài)下，施加在磁頭71的外側(cè)的部位上的升力F5便大于施加在磁頭71的內(nèi)側(cè)的部位上的升力F6。其結(jié)果，如圖10所示，磁頭71被傾斜為由磁頭71的外側(cè)的部位和外側(cè)區(qū)域54夾著的空間的體積與由磁頭71的內(nèi)側(cè)的部位和數(shù)據(jù)記錄區(qū)域53夾著的空間的體積變?yōu)橄嗟鹊臓顟B(tài)(即升力F5和升力F6相等的狀態(tài))。因而，如該圖所示，在該離散式磁道媒體51中，存在有可能因磁頭71被傾斜而接觸離散式磁道媒體51(數(shù)據(jù)記錄區(qū)域53)的表面的問題點。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是為了解決上述的問題點而實施的，其主要目的在于提供能夠防止記錄再生時與記錄再生用磁頭接觸的磁記錄媒體。
本發(fā)明的磁記錄媒體，在盤狀基體的至少一面上形成具有借助于同心圓狀或螺旋狀的分離用槽而相互分離的多個磁道的環(huán)狀的數(shù)據(jù)記錄區(qū)域，在相對于上述至少一面上的上述數(shù)據(jù)記錄區(qū)域位于外側(cè)的外側(cè)區(qū)域，以及相對于該至少一面上的上述數(shù)據(jù)記錄區(qū)域位于內(nèi)側(cè)的內(nèi)側(cè)區(qū)域中的至少一方上，實施了可以調(diào)整施加在記錄再生用磁頭上的升力的升力調(diào)整用加工。再者，在本發(fā)明的離散式磁道型的磁記錄媒體中，不只是具有由形成為同心圓狀的多個槽或形成為螺旋狀的槽將相鄰的數(shù)據(jù)記錄用的磁道(磁性體部)相互磁分離的數(shù)據(jù)記錄區(qū)域的磁記錄媒體，還包括將數(shù)據(jù)記錄區(qū)域區(qū)分成篩網(wǎng)狀或點狀(將各數(shù)據(jù)記錄用的磁道在其縱向上也磁分離成多個)而形成的數(shù)據(jù)記錄部(磁性體部)孤立成島狀(小島狀)的、所謂的圖形媒體。
這時，最好在上述外側(cè)區(qū)域以及上述內(nèi)側(cè)區(qū)域的至少一方的全部區(qū)域或大致全部區(qū)域上實施上述升力調(diào)整用加工。
另外，最好以至少與位于最接近上述外側(cè)區(qū)域和上述內(nèi)側(cè)區(qū)域中的任意一方的、上述磁道上的上述記錄再生用磁頭的、突出到這一方側(cè)的突出長度相同寬度，在與上述數(shù)據(jù)記錄區(qū)域相鄰的該任意一方內(nèi)的環(huán)狀的區(qū)域上，實施上述升力調(diào)整用加工。再者，也可以在上述外側(cè)區(qū)域的環(huán)狀的區(qū)域，和上述內(nèi)側(cè)區(qū)域的環(huán)狀的區(qū)域這兩者上實施上述升力調(diào)整用加工。
進而，最好作為上述升力調(diào)整用加工而加工形成與上述分離用槽形狀相同或大致相同的、被形成為同心圓狀或螺旋狀的升力調(diào)整用槽。
根據(jù)本發(fā)明的磁記錄媒體，通過在外側(cè)區(qū)域和內(nèi)側(cè)區(qū)域的至少一方上實施了可以調(diào)整升力的升力調(diào)整用加工，例如即使在記錄再生用磁頭位于處于數(shù)據(jù)記錄區(qū)域的最外側(cè)的磁道上或處于最內(nèi)側(cè)的磁道上，而使其外側(cè)的部位(或內(nèi)側(cè)的部位)突出到數(shù)據(jù)記錄區(qū)域的外側(cè)(或內(nèi)側(cè))，也可以將由突出的部位和外側(cè)區(qū)域(或內(nèi)側(cè)區(qū)域)夾著的空間的體積，和由沒有突出的部位和數(shù)據(jù)記錄區(qū)域夾著的空間的體積維持在彼此相同或大致相同的狀態(tài)。因而，可以將施加在記錄再生用磁頭的突出的部位上的升力，和施加在沒有突出的部位上的升力維持在彼此相同或大致相同的狀態(tài)，故可以使記錄再生用磁頭相對于磁記錄媒體平行或大致平行地(水平或大致水平地)浮起。其結(jié)果，可以有效地防止在記錄再生時記錄再生用磁頭傾斜而接觸磁記錄媒體的情況。
進而，根據(jù)本發(fā)明的磁記錄媒體，通過在外側(cè)區(qū)域以及內(nèi)側(cè)區(qū)域的至少一方的全部區(qū)域或大致全部區(qū)域上實施了升力調(diào)整用加工，無論突出到數(shù)據(jù)記錄區(qū)域的外側(cè)(或內(nèi)側(cè))的記錄再生用磁頭的突出長度是多少，都可以將由突出的部位和外側(cè)區(qū)域(或內(nèi)側(cè)區(qū)域)夾著的空間的體積，和由沒有突出的部位和數(shù)據(jù)記錄區(qū)域夾著的空間的體積維持在彼此相同或大致相同的狀態(tài)。因而，對于具備尺寸(寬度)不同的記錄再生用磁頭的各種記錄再生裝置，都可以搭載能夠有效地防止與記錄再生用磁頭的接觸的磁記錄媒體。
另外，根據(jù)本發(fā)明的磁記錄媒體，通過以至少與突出到數(shù)據(jù)記錄區(qū)域的外側(cè)區(qū)域和內(nèi)側(cè)區(qū)域中任意一方側(cè)的記錄再生用磁頭的突出長度相同的寬度，在與數(shù)據(jù)記錄區(qū)域相鄰的該任意一方內(nèi)的環(huán)狀的區(qū)域上，實施升力調(diào)整用加工，可以將實施升力調(diào)整用加工的區(qū)域按照記錄再生裝置中的記錄再生用磁頭的尺寸規(guī)定在所需最小限，因此可以縮小升力調(diào)整用加工時所用的例如壓模(鑄型)的加工面積。因此，可以將壓模的加工成本降低，其結(jié)果，也可以降低磁記錄媒體的制造成本。另外，通過在外側(cè)區(qū)域的環(huán)狀的區(qū)域，和內(nèi)側(cè)區(qū)域的環(huán)狀的區(qū)域這兩者上實施升力調(diào)整用加工，即便在對于數(shù)據(jù)記錄區(qū)域的任意的部位進行記錄再生處理之際，都可以更有效地防止記錄再生用磁頭傾斜而接觸磁記錄媒體的情況。
另外，根據(jù)本發(fā)明的磁記錄媒體，作為升力調(diào)整用加工而加工形成與分離用槽形狀相同或大致相同、并且被形成為同心圓狀或螺旋狀的升力調(diào)整用槽，例如，在制作用于形成分離用槽以及升力調(diào)整用槽的形成時所使用的抗蝕圖形的壓模(鑄型)時，可以用相同的條件加工與分離用槽相對應(yīng)的凹部(或凸部)和與升力調(diào)整用槽相對應(yīng)的凹部(或凸部)。因而，可以與分離用槽同樣地將升力調(diào)整用槽形成為正確的形狀。


圖1是對本發(fā)明的實施形態(tài)的離散式磁道媒體1實行記錄再生處理的狀態(tài)的平面圖。
圖2是對離散式磁道媒體1實行記錄再生處理的狀態(tài)的剖面圖。
圖3是展示采用搭載了本發(fā)明的實施形態(tài)的離散式磁道媒體1的HDD的磁頭71的浮起高度試驗，以及作為比較例采用搭載了以往的離散式磁道媒體51的HDD的磁頭71的浮起高度試驗的試驗結(jié)果的試驗結(jié)果圖。
圖4是展示其他的實施形態(tài)的離散式磁道媒體1A的構(gòu)成的剖面圖。
圖5是展示又一其他的實施形態(tài)的離散式磁道媒體1B的構(gòu)成的平面圖。
圖6是展示再一其他的實施形態(tài)的離散式磁道媒體1C的構(gòu)成的剖面圖。
圖7是對以往的離散式磁道媒體51實行記錄再生處理的狀態(tài)的平面圖。
圖8是對以往的離散式磁道媒體51實行記錄再生處理的狀態(tài)的剖面圖。
圖9是使磁頭71位于以往的離散式磁道媒體51的磁道62A上時的剖面圖。
圖10是對以往的離散式磁道媒體51的磁道62A實行記錄再生處理的狀態(tài)的剖面圖。
標號說明1、1A、1B、1C 離散式磁道媒體2 盤狀基體 3 數(shù)據(jù)記錄區(qū)域4 外側(cè)區(qū)域 5 內(nèi)側(cè)區(qū)域21、23、31 槽22 磁道32 孔71 磁頭
F1～F4 升力具體實施方式
以下，參照附圖對本發(fā)明的磁記錄媒體的優(yōu)選實施形態(tài)進行說明。
圖1所示的離散式磁道型的磁記錄媒體(以下也稱為“離散式磁道媒體”)1，是本發(fā)明的磁記錄媒體的一例，例如，通過在盤狀基體2的表面(至少一面)上形成數(shù)據(jù)記錄區(qū)域3、外側(cè)區(qū)域4以及內(nèi)側(cè)區(qū)域5的方式構(gòu)成。這時，離散式磁道媒體1，例如搭載在HDD(圖未示)上，然后一邊被HDD的馬達高速旋轉(zhuǎn)，一邊對經(jīng)由HDD的磁頭71(參照圖1)輸入的各種記錄數(shù)據(jù)進行磁記錄。
盤狀基體2，如圖1所示，例如由玻璃形成為圓板狀。這時，盤狀基體2，其外徑L1例如被規(guī)定為21.6mm。另外，盤狀基體2的中心部形成有其徑L2例如為6.0mm的中心孔11(使馬達的旋轉(zhuǎn)軸插通的孔)。數(shù)據(jù)記錄區(qū)域3可以記錄各種數(shù)據(jù)的區(qū)域，如圖2所示，具有借助于多個槽(分離用槽)21、21..而相互分離的多個數(shù)據(jù)記錄用的磁道22、22..。這時，槽21、21..，以盤狀基體2的中心為中心形成同心圓狀并且具有一定的間距(等間隔)。另外，數(shù)據(jù)記錄區(qū)域3，如圖1所示，被規(guī)定成其內(nèi)徑L3例如是8.0mm、其外徑L4例如是20.6mm的環(huán)狀。再者，為了便于理解本發(fā)明，在圖1中，用與實際的各區(qū)域3～5彼此的比例不同的比例圖示各區(qū)域3～5。另外，在圖2中，將槽21、磁道22以及后述的槽23用比實際的大小夸張一點的尺寸圖示。
外側(cè)區(qū)域4，如圖1所示，是相對于盤狀基體2的表面上的數(shù)據(jù)記錄區(qū)域3位于外側(cè)的區(qū)域，被規(guī)定為其寬度L5是0.5mm(盤狀基體2的外徑L1(21.6mm)，和數(shù)據(jù)記錄區(qū)域3的外徑L4(20.6mm)的差的1/2)的環(huán)狀的區(qū)域。這時，在外側(cè)區(qū)域4上，如圖2所示，與槽21形狀相同的多個槽(升力調(diào)整用槽)23、23..以同心圓狀并且與槽21間距相同的方式在其全部區(qū)域形成(實施了槽加工(升力調(diào)整用槽))。另外，外側(cè)區(qū)域4，如后述那樣，具有在對于離散式磁道媒體1的記錄數(shù)據(jù)的記錄再生時，當使磁頭71位于處于外側(cè)的(接近外側(cè)區(qū)域4)磁道22(例如該圖所示的磁道22A)上從而磁頭71的一部分突出到外側(cè)區(qū)域4側(cè)之際，調(diào)整施加在磁頭71上的升力的功能。
內(nèi)側(cè)區(qū)域5，如圖1所示，是相對于盤狀基體2的表面上的數(shù)據(jù)記錄區(qū)域3位于內(nèi)側(cè)的區(qū)域，被規(guī)定為其寬度L6是1.0mm(數(shù)據(jù)記錄區(qū)域3的內(nèi)徑L3(8.0mm)，和盤狀基體2的中心孔11的徑L2(6.0mm)的差的1/2)的環(huán)狀的區(qū)域。這時，在內(nèi)側(cè)區(qū)域5上，如圖2所示，與槽21形狀相同的多個槽23、23..以同心圓狀并且與槽21間距相同的方式跨越其全部區(qū)域而形成(實施了槽加工(升力調(diào)整用槽))。另外，內(nèi)側(cè)區(qū)域5，如后述那樣，具有在對于離散式磁道媒體1的記錄數(shù)據(jù)的記錄再生時，當使磁頭71位于處于內(nèi)側(cè)的(接近內(nèi)側(cè)區(qū)域5)磁道22(例如該圖所示的磁道22B)上從而磁頭71的一部分突出到內(nèi)側(cè)區(qū)域5側(cè)之際，調(diào)整施加在磁頭71上的升力的功能。再者，搭載了盤狀基體2的上述HDD中的磁頭71，如圖1所示，被規(guī)定為其寬度L7是1.0mm、其長度(沿著磁道22的長度)L8是1.235mm。
在此，槽21、23，作為一例，通過將抗蝕圖形作為掩模使用的氧等離子處理或蝕刻處理等形成。具體地說，在盤狀基體2的表面上形成薄膜狀的磁性層，在其之上形成作為掩模層的金屬層。進而，在其之上涂覆抗蝕劑材料從而形成抗蝕劑層。其次，將具有與槽21、23的形狀相對應(yīng)的凸部的壓模(模具)，用推壓刻印法將壓模的凹凸形狀轉(zhuǎn)印到抗蝕劑層上，從而形成抗蝕圖形。接著，在用氧等離子處理除去殘留在抗蝕劑層的凹部內(nèi)的抗蝕劑材料之后，將該抗蝕圖形作為掩模進行蝕刻處理，從而形成金屬圖形。接著，將該金屬圖形作為掩模使用并進行蝕刻處理。由此，磁性層的與壓模的凸部相對應(yīng)的部位被削去，從而形成槽21、23。再者，槽21、23的形成方法，不限于上述的方法，例如代替刻印法，可以采用利用電子束蝕刻法形成抗蝕圖形的方法等各種方法。
其次，對相對于例如搭載在HDD上的離散式磁道媒體1的記錄數(shù)據(jù)的記錄再生時的動作，以在離散式磁道媒體1以及磁頭71上發(fā)生的情況為中心，參照附圖來說明。
在搭載了該離散式磁道媒體1的HDD(圖未示)中，在數(shù)據(jù)的記錄再生時，圖外的馬達用高速使離散式磁道媒體1旋轉(zhuǎn)。另外，圖外的伺服機構(gòu)，通過將磁頭71沿著離散式磁道媒體1的半徑方向移動(伺服控制)，使磁頭71位于數(shù)據(jù)記錄區(qū)域3的例如中央部的磁道22上。這時，伺服機構(gòu)，以使磁頭71的寬方向(離散式磁道媒體1的半徑方向)的中心與該磁道22相對的方式控制磁頭71的移動(在磁道上)。另一方面，由于離散式磁道媒體1的高速旋轉(zhuǎn)，在磁頭71和離散式磁道媒體1(數(shù)據(jù)記錄區(qū)域3)之間產(chǎn)生氣流，因此磁頭71因該氣流產(chǎn)生的升力而向上方浮起。因此，磁頭71和離散式磁道媒體1分離的結(jié)果，是可以實現(xiàn)相對于離散式磁道媒體1在非接觸狀態(tài)下的磁頭71的移動(相對于磁頭71在非接觸狀態(tài)下的離散式磁道媒體1的旋轉(zhuǎn))。這時，由于在數(shù)據(jù)記錄區(qū)域3上以一定的間距形成有槽21、21..，因此由比磁頭71的寬方向的中心更靠近離散式磁道媒體1的半徑方向的外側(cè)的部位(以下，也簡單地稱為“外側(cè)的部位”)和數(shù)據(jù)記錄區(qū)域3夾著的空間的體積，以及由比磁頭71的寬方向的中心更靠近離散式磁道媒體1的半徑方向的內(nèi)側(cè)的部位(以下，也簡單地稱為“內(nèi)側(cè)的部位”)和數(shù)據(jù)記錄區(qū)域3夾著的空間的體積，彼此大致相等。因而，施加在磁頭71的外側(cè)的部位上的升力，和施加在磁頭71的內(nèi)側(cè)的部位上的升力便大致相等，其結(jié)果，使磁頭71相對于離散式磁道媒體1大致平行地(大致水平地)浮起。
另一方面，例如當在數(shù)據(jù)記錄區(qū)域3的位于最外側(cè)的磁道22(圖2所示的磁道22A)上記錄數(shù)據(jù)時，伺服機構(gòu)，以磁頭71寬方向的中心和磁道22A相對的方式使磁頭71移動而位于磁道上。這時，磁頭71，如圖2中實線所示那樣，其外側(cè)的部位(在該圖中從中心向左側(cè)的部位)突出到外側(cè)區(qū)域4上。因此，磁頭71，如該圖所示，通過如下的方式浮起，即由與外側(cè)區(qū)域4之間的氣流產(chǎn)生的升力F1施加在其外側(cè)的部位上，同時由與數(shù)據(jù)記錄區(qū)域3之間的氣流產(chǎn)生的升力F2施加在其內(nèi)側(cè)的部位(該圖中從中心向右側(cè)的部位)上。這時，由于在外側(cè)區(qū)域4上形成有與槽21形狀相同并且間距相同的槽23、23..，因此由磁頭71的外側(cè)的部位和外側(cè)區(qū)域4夾著的空間的體積，以及由磁頭71的內(nèi)側(cè)的部位和數(shù)據(jù)記錄區(qū)域3夾著的空間的體積，彼此大致相等。因而，施加在其外側(cè)的部位上的升力F1，和施加在其內(nèi)側(cè)的部位上的升力F2便大致相等，因此如該圖所示，磁頭71，與被置于數(shù)據(jù)記錄區(qū)域3的中央部的磁道22上的時候同樣地，相對于離散式磁道媒體1大致平行地浮起。其結(jié)果，可以防止磁頭71傾斜而接觸離散式磁道媒體1(數(shù)據(jù)記錄區(qū)域3)的情況。
另一方面，例如當在數(shù)據(jù)記錄區(qū)域3的位于最內(nèi)側(cè)的磁道22(圖2所示的磁道22B)上記錄數(shù)據(jù)時，伺服機構(gòu)，以磁頭71的寬方向的中心和磁道22B相對的方式使磁頭71移動而位于磁道上。這時，磁頭71，如圖2中虛線所示那樣，其內(nèi)側(cè)的部位(在該圖中從中心向右側(cè)的部位)突出到內(nèi)側(cè)區(qū)域5上。因此，磁頭71，如該圖所示，利用由與內(nèi)側(cè)區(qū)域5之間的氣流產(chǎn)生的升力F3、以及由與數(shù)據(jù)記錄區(qū)域3之間的氣流產(chǎn)生的升力F4浮起。這時，由于在內(nèi)側(cè)區(qū)域5上形成有與槽21形狀相同并且間距相同的槽23、23..，因此由磁頭71的內(nèi)側(cè)的部位和內(nèi)側(cè)區(qū)域5夾著的空間的體積，以及由磁頭71的外側(cè)的部位(在該圖中從中心向左側(cè)的部位)和數(shù)據(jù)記錄區(qū)域3夾著的空間的體積，彼此大致相等。因而，施加在其內(nèi)側(cè)的部位上的升力F3，和施加在其外側(cè)的部位上的升力F4便大致相等，因而如該圖所示，磁頭71，與被置于數(shù)據(jù)記錄區(qū)域3的中央部的磁道22上的時候同樣地，相對于離散式磁道媒體1大致平行地浮起。其結(jié)果，可以防止磁頭71傾斜而接觸離散式磁道媒體1(數(shù)據(jù)記錄區(qū)域3)的情況。
再者，將用規(guī)定的轉(zhuǎn)速使離散式磁道媒體1旋轉(zhuǎn)，然后進行用激光多普勒法測定磁頭71的浮起高度(磁道22的表面和磁頭71的背面的分離距離)的試驗，一面變化離散式磁道媒體1的中心(中心孔11的中心)和磁頭71的寬方向的中心的距離(測定位置)，一面進行多次。另外，對于作為具有沒有實施槽等升力調(diào)整用加工的外側(cè)區(qū)域54以及內(nèi)側(cè)區(qū)域55的比較例的以往的離散式磁道媒體51(參照圖7)，也進行同樣的試驗。
其結(jié)果，如圖3所示，在以往的離散式磁道媒體51中，與內(nèi)側(cè)區(qū)域55(或其附近)相對應(yīng)的測定位置(例如該圖所示的從中心離開4.0mm～4.6mm的測定位置)以及與外側(cè)區(qū)域54相對應(yīng)的測定位置(例如該圖所示的從中心離開10.4mm～10.8mm的測定位置)上的浮起高度，明顯高于與數(shù)據(jù)記錄區(qū)域53相對應(yīng)的測定位置(例如該圖所示的從中心離開4.8mm～10.2mm的測定位置)上的浮起高度。從該結(jié)果，可以了解在使磁頭71位于處于最外側(cè)的磁道62以及處于最內(nèi)側(cè)的磁道62上的狀態(tài)下，磁頭71傾斜的可能性較高的情況。
另一方面，在該離散式磁道媒體1中，如圖3所示，在與內(nèi)側(cè)區(qū)域5(或其附近)相對應(yīng)的測定位置以及與外側(cè)區(qū)域4相對應(yīng)的測定位置上的浮起高度，和與數(shù)據(jù)記錄區(qū)域3相對應(yīng)的測定位置上的浮起高度之間，沒有產(chǎn)生較大的差異。從以上的結(jié)果可知，由于在外側(cè)區(qū)域4以及內(nèi)側(cè)區(qū)域5上形成了槽23(實施了槽形成加工)，因此即便在使其位于處于最外側(cè)的磁道22A以及處于最內(nèi)側(cè)的磁道22B上的狀態(tài)下，也可以抑制磁頭71的傾斜的情況。
這樣，根據(jù)該離散式磁道媒體1，通過在外側(cè)區(qū)域4以及內(nèi)側(cè)區(qū)域5上分別形成了用于調(diào)整在磁頭71和離散式磁道媒體1之間產(chǎn)生的升力的槽23，例如即便使磁頭71位于處于最外側(cè)的磁道22A上(或處于最內(nèi)側(cè)的磁道22B上)而其外側(cè)的部位(或內(nèi)側(cè)的部位)突出到數(shù)據(jù)記錄區(qū)域3的外側(cè)(或內(nèi)側(cè))，也可以將由突出的部位和外側(cè)區(qū)域4(或內(nèi)側(cè)區(qū)域5)夾著的空間的體積，以及由沒有突出的部位(位于數(shù)據(jù)記錄區(qū)域3上的部位)和數(shù)據(jù)記錄區(qū)域3夾著的空間的體積維持在彼此相同或大致相同的狀態(tài)。因而，可以將施加在磁頭71的突出的部位上的升力，和施加在沒有突出的部位上的升力維持在彼此相同或大致相同的狀態(tài)，故可以使磁頭71相對于離散式磁道媒體1平行或大致平行地(水平或大致水平地)浮起。其結(jié)果，可以有效地防止磁頭71傾斜而接觸離散式磁道媒體1的情況。
另外，根據(jù)該離散式磁道媒體1，通過在外側(cè)區(qū)域4以及內(nèi)側(cè)區(qū)域5的全部區(qū)域上形成了槽23，無論突出到數(shù)據(jù)記錄區(qū)域3的外側(cè)(或內(nèi)側(cè))的磁頭71的突出長度(寬方向的突出長度)是多少，都可以將由突出的部位和外側(cè)區(qū)域4(或內(nèi)側(cè)區(qū)域5)夾著的空間的體積，以及由沒有突出的部位和數(shù)據(jù)記錄區(qū)域3夾著的空間的體積維持在彼此相同或大致相同的狀態(tài)。因而，對于具備尺寸(寬度)不同的磁頭的各種HDD，都可以搭載能夠有效地防止與磁頭71的接觸的離散式磁道媒體1。
進而，根據(jù)該離散式磁道媒體1，通過將槽23形成為與槽21形狀相同并且間距相同的同心圓狀，例如在制作形成槽21、23時所使用的抗蝕圖形用的壓模(模具)時，可以用同樣的條件加工與槽21相對應(yīng)的凹部(或凸部)和與槽23相對應(yīng)的凹部(或凸部)。因而，可以與槽21同樣地將槽23形成為正確的形狀。
再者，本發(fā)明，不限于上述的本發(fā)明的實施形態(tài)。例如，在上述的實施形態(tài)中，以在盤狀基體2的一面上形成了數(shù)據(jù)記錄區(qū)域3、外側(cè)區(qū)域4以及內(nèi)側(cè)區(qū)域5的離散式磁道媒體1為例進行了說明，但也可以在盤狀基體的兩面上形成數(shù)據(jù)記錄區(qū)域3、外側(cè)區(qū)域4以及內(nèi)側(cè)區(qū)域5。另外，在上述的實施形態(tài)中，對在外側(cè)區(qū)域4以及內(nèi)側(cè)區(qū)域5這兩者上形成了槽23(實施了槽加工)的例子進行了說明，但當然也可以只在它們中的任意一方上形成槽23。
另外，在本發(fā)明的實施形態(tài)中，對在外側(cè)區(qū)域4的全部區(qū)域以及內(nèi)側(cè)區(qū)域5的全部區(qū)域上形成了槽23的例子進行了說明，但形成槽23的區(qū)域不限于此。例如，也可以只在規(guī)定為與使磁頭71位于處于最外側(cè)的磁道22A上的狀態(tài)下的突出到數(shù)據(jù)記錄區(qū)域3的外側(cè)的磁頭71的突出長度相同寬度的環(huán)狀的區(qū)域，以及規(guī)定為與使磁頭71位于處于最內(nèi)側(cè)的磁道22B上的狀態(tài)下的突出到數(shù)據(jù)記錄區(qū)域3的內(nèi)側(cè)的磁頭71的突出長度相同寬度的環(huán)狀的區(qū)域中至少一方上形成槽23。即便是該構(gòu)成，也可以將由磁頭71的突出到數(shù)據(jù)記錄區(qū)域3的外側(cè)(或內(nèi)側(cè))的部位和外側(cè)區(qū)域4(或內(nèi)側(cè)區(qū)域5)夾著的空間的體積，以及由沒有突出的部位和數(shù)據(jù)記錄區(qū)域3夾著的空間的體積維持在彼此相同或大致相同的狀態(tài)，因此可以得到與在外側(cè)區(qū)域4以及內(nèi)側(cè)區(qū)域5的全部區(qū)域上形成了槽23的上述的離散式磁道媒體1相同的效果。另外，根據(jù)該構(gòu)成，由于可以將形成槽23的部位按照磁頭71的尺寸規(guī)定在所需最小限，因此在磁道22以及槽23的形成所用的例如壓模(鑄型)的制作時，可以將加工面積減少，因此可以降低壓模的加工成本，其結(jié)果，也可以降低離散式磁道媒體1的加工成本。
進而，在本發(fā)明的實施形態(tài)中，以將槽21、21..形成為同心圓狀的離散式磁道媒體1為例進行了說明，但也可以將本發(fā)明適用于將槽形成為螺旋狀的離散式磁道媒體。這時，代替同心圓狀的槽23，也可以在外側(cè)區(qū)域4以及內(nèi)側(cè)區(qū)域5上形成螺旋狀的槽。另外，在本發(fā)明的實施形態(tài)中，對在外側(cè)區(qū)域4以及內(nèi)側(cè)區(qū)域5上形成與槽21形狀相同并且間距相同的槽23的例子進行了說明，但本發(fā)明不限于此，也可以形成其他形狀的槽。另外，也可以用與槽21不同的間距形成槽23。這時，例如，如圖4所示的離散式磁道媒體1A那樣，也可以在外側(cè)區(qū)域4以及內(nèi)側(cè)區(qū)域5(圖未示)上形成寬度以及深度彼此不同的(在該例中，隨著越靠近外側(cè)，其寬度變得越寬，深度變得越淺)槽31、31..。進而，作為升力調(diào)整用加工，不限于槽加工，如圖5所示的離散式磁道媒體1B那樣，代替槽23，也可以在外側(cè)區(qū)域4以及內(nèi)側(cè)區(qū)域(圖未示)上形成升力調(diào)整用的孔(凹部)32。另外，如圖6所示的離散式磁道媒體1C那樣，外側(cè)區(qū)域4的表面33以及內(nèi)側(cè)區(qū)域的表面(圖未示)也可以用低于磁道22的端面(上面)的方式加工。即，即便使磁頭71位于磁道22A上(或磁道22B上)從而其外側(cè)的部位(或內(nèi)側(cè)的部位)突出到數(shù)據(jù)記錄區(qū)域3的外側(cè)(或內(nèi)側(cè))，通過將由突出的部位和外側(cè)區(qū)域4(或內(nèi)側(cè)區(qū)域5)夾著的空間的體積、由沒有突出的部位(位于數(shù)據(jù)記錄區(qū)域3上的部位)和數(shù)據(jù)記錄區(qū)域3夾著的空間的體積維持在彼此相同或大致相同的狀態(tài)，就可以有效地防止磁頭71傾斜而接觸離散式磁道媒體1的情況。
另外，本發(fā)明還可以適用于在將非磁性材料填入槽21、21..后將其表面平坦化處理(再填充)而制造的離散式磁道媒體。這時，一般來說，由于埋入槽21的非磁性材料和構(gòu)成磁道22的磁性材料的硬度的不同，即便實施了平坦化處理，在數(shù)據(jù)記錄區(qū)域3的表面上還形成(殘存)有少量的凹凸。因此，與用以往例說明的動作同樣地，由于這少量的凹凸，在數(shù)據(jù)記錄區(qū)域3中施加在磁頭71上的升力，和在外側(cè)區(qū)域4(或內(nèi)側(cè)區(qū)域5)中施加在磁頭71上的升力之間產(chǎn)生差。因此，在適用本發(fā)明，而在外側(cè)區(qū)域4以及/或內(nèi)側(cè)區(qū)域5上形成了槽23(或31)之后，通過再填充數(shù)據(jù)記錄區(qū)域3、外側(cè)區(qū)域4以及/或內(nèi)側(cè)區(qū)域5，在這些區(qū)域內(nèi)同樣地形成這少量的凹凸。因而，在該再填充后的離散式磁道媒體中，也可以將在各區(qū)域中施加在磁頭71上的升力維持在彼此相同或大致相同的狀態(tài)，因此可以有效地防止磁頭71傾斜而接觸該離散式磁道媒體的情況。
如以上所述，根據(jù)本發(fā)明的磁記錄媒體，通過在外側(cè)區(qū)域以及內(nèi)側(cè)區(qū)域的至少一方上實施了可以調(diào)整升力的升力調(diào)整用加工，例如即便使記錄再生用磁頭位于處于數(shù)據(jù)記錄區(qū)域的最外側(cè)的磁道上或處于最內(nèi)側(cè)的磁道上，而其外側(cè)的部位(或內(nèi)側(cè)的部位)突出到數(shù)據(jù)記錄區(qū)域的外側(cè)(或內(nèi)側(cè))，也可以將由突出的部位和外側(cè)區(qū)域(或內(nèi)側(cè)區(qū)域)夾著的空間的體積，以及由沒有突出的部位和數(shù)據(jù)記錄區(qū)域夾著的空間的體積維持在彼此相同或大致相同的狀態(tài)。因而，可以將施加在記錄再生用磁頭的突出的部位上的升力，和施加在沒有突出的部位上的升力維持在彼此相同或大致相同的狀態(tài)，故可以使記錄再生用磁頭相對于磁記錄媒體平行或大致平行地(水平或大致水平地)浮起。由此，可以實現(xiàn)在記錄再生時能夠有效地防止與記錄再生用磁頭的接觸的磁記錄媒體。
權(quán)利要求
1.一種離散式磁道型的磁記錄媒體，其中，在盤狀基體的至少一面上形成具有借助于同心圓狀或螺旋狀的分離用槽而相互分離的多個磁道的環(huán)狀的數(shù)據(jù)記錄區(qū)域；在相對于上述至少一面上的上述數(shù)據(jù)記錄區(qū)域位于外側(cè)的外側(cè)區(qū)域，以及相對于該至少一面上的上述數(shù)據(jù)記錄區(qū)域位于內(nèi)側(cè)的內(nèi)側(cè)區(qū)域中的至少一方上，實施了可以調(diào)整施加在記錄再生用磁頭上的升力的升力調(diào)整用加工。
2.如權(quán)利要求1所述的磁記錄媒體，其中，在上述外側(cè)區(qū)域以及上述內(nèi)側(cè)區(qū)域中的至少一方的全部區(qū)域或大致全部區(qū)域上實施了上述升力調(diào)整用加工。
3.如權(quán)利要求1所述的磁記錄媒體，其中，以至少與位于最接近上述外側(cè)區(qū)域和上述內(nèi)側(cè)區(qū)域中的任意一方的上述磁道上的上述記錄再生用磁頭的、突出到該一方側(cè)的突出長度相同的寬度，在與上述數(shù)據(jù)記錄區(qū)域相鄰的該任意一方內(nèi)的環(huán)狀的區(qū)域上，實施了上述升力調(diào)整用加工。
4.如權(quán)利要求1～3的任意一項所述的磁記錄媒體，其中，作為上述升力調(diào)整用加工而加工形成了與上述分離用槽形狀相同或大致相同的、被形成為同心圓狀或螺旋狀的升力調(diào)整用槽。
全文摘要
本發(fā)明能夠防止與記錄再生時的磁頭(71)的接觸。在盤狀基體(2)的至少一面上形成具有借助于同心圓狀的槽(21、21…)而相互分離的多個磁道(22、22…)的環(huán)狀的數(shù)據(jù)記錄區(qū)域(3)，在相對于這一面上的數(shù)據(jù)記錄區(qū)域(3)位于外側(cè)的外側(cè)區(qū)域(4)，以及相對于這一面上的數(shù)據(jù)記錄區(qū)域(3)位于內(nèi)側(cè)的內(nèi)側(cè)區(qū)域(5)中的至少一方上，形成有可以調(diào)整施加在磁頭(71)上的升力F1的槽(23、23…)。
文檔編號G11B5/012GK1826653SQ20048002068
公開日2006年8月30日 申請日期2004年7月9日 優(yōu)先權(quán)日2003年7月17日
發(fā)明者高井充, 服部一博 申請人:Tdk株式會社