專利名稱：光記錄材料、光記錄媒體及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及由光的照射進(jìn)行信息記錄的光記錄媒體中所使用的光記錄材料和光記錄媒體及其制造方法。
背景技術(shù)：
作為光記錄媒體來說，通常向記錄層照射激光、利用記錄層的形狀變化、磁區(qū)變化、相變化等來記錄信息。作為這樣的光記錄媒體來說，例如有使用有機(jī)色素的追記型光記錄媒體，作為CD-R(追記型袖珍光盤)和DVD-R(追記型數(shù)字視頻光盤)被廣泛普及。
近年來，對于這樣的光記錄媒體，正在進(jìn)一步謀求高密度化。作為高密度化的一環(huán)，記錄及再現(xiàn)波長的短波化正在進(jìn)展著。例如，CD-R現(xiàn)有的記錄及再現(xiàn)波長是780nm，但在下一代的CD-R和DVD-R中，記錄及再現(xiàn)波長被短波化到635～680nm。作為在這樣的短波區(qū)域使用的光記錄媒體，設(shè)置含有菁色素、金屬偶氮色素等有機(jī)色素的記錄層(例如，參閱專利文獻(xiàn)1、2)。
特開平6-320869號公報(bào)[專利文獻(xiàn)2]特開平9-58123號公報(bào)一方面進(jìn)行上述的高密度化，另一方面在研討以更高的速度進(jìn)行向光記錄媒體記錄信息的技術(shù)。就高速化來說，例如，在將光記錄媒體的旋轉(zhuǎn)速度高速化的同時(shí)，通過提高照射的激光功率是可以實(shí)現(xiàn)的。此時(shí)，對于光記錄媒體，要求其具有在靈敏度、高速響應(yīng)性以及即使由于高功率激光照射引起的高溫條件下也可以形成正確的記錄凹坑的能力。
但是，在上述現(xiàn)有的光記錄媒體情況下，由于激光照射使溫度一上升，在記錄層形成的記錄凹坑的形狀就容易產(chǎn)生大大地偏離目標(biāo)的凹坑形狀的現(xiàn)象。另外，現(xiàn)有的光記錄媒體，在靈敏度和高速響應(yīng)性方面，不能說已經(jīng)充分了。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明鑒于上述這樣的實(shí)際情況而提出的，其目的在于提供一種在高溫條件下能夠形成正確的記錄凹坑、靈敏度和高速響應(yīng)性優(yōu)異的光記錄材料、光記錄媒體及其制造方法。
本發(fā)明人，為了達(dá)到上述目的而進(jìn)行了深刻研討，結(jié)果發(fā)現(xiàn)首先，在高溫條件下，記錄凹坑的偏離現(xiàn)象起因于記錄層所含的有機(jī)色素的熱分解。即，由于一部分有機(jī)色素?zé)岱纸?、氣化，產(chǎn)生氛圍的氣壓變化，因?yàn)閴毫Τ浞志徍椭?，下一個(gè)記錄凹坑被形成，所以形成的記錄凹坑大大地偏離目標(biāo)凹坑形狀。這里，產(chǎn)生氣體的主要成分，不是由于有機(jī)色素母體的分解而產(chǎn)生的，而是由于結(jié)合于有機(jī)色素母體的分子量小的有機(jī)基或該有機(jī)基的一部分解離而產(chǎn)生的。
使用沒有這樣的有機(jī)基的有機(jī)色素，能夠抑制氣體的產(chǎn)生。但是，因?yàn)楹杏袡C(jī)色素的記錄層，通常由涂敷法形成，所以沒有有機(jī)基的有機(jī)色素變得溶解性不充分，可以說是不實(shí)用的。
于是，本發(fā)明人基于上述發(fā)現(xiàn)，進(jìn)一步反復(fù)研討，結(jié)果發(fā)現(xiàn)在記錄層中含有具有特定結(jié)構(gòu)的有機(jī)色素，可以解決上述課題，由此完成了本發(fā)明。
即，本發(fā)明的光記錄材料，是通過光的照射能夠進(jìn)行信息記錄的光記錄媒體中所使用的光記錄材料，其特征在于含有有機(jī)色素，該有機(jī)色素包括有機(jī)色素母體；通過單鍵結(jié)合于該有機(jī)色素母體上的1個(gè)以上的在規(guī)定位置上分支為碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基和氫原子以外的官能基的碳原子數(shù)為7以上的分支狀有機(jī)基和/或2個(gè)以上的該分支狀有機(jī)基以外的碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基。
另外，本發(fā)明的光記錄媒體是能夠通過光照射記錄信息的光記錄媒體，其特征在于它具備記錄層，該記錄層含有有機(jī)色素，該有機(jī)色素包括有機(jī)色素母體；通過單鍵結(jié)合于該有機(jī)色素母體上的1個(gè)以上的在規(guī)定位置上分支為碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基和氫原子以外的官能基的碳原子數(shù)為7以上的分支狀有機(jī)基和/或2個(gè)以上的該分支狀有機(jī)基以外的碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基。
根據(jù)本發(fā)明，使記錄層中含有上述特定的有機(jī)色素，可以充分抑制高溫條件下的由熱分解而產(chǎn)生的氣體及隨之的壓力變動(dòng)。另外，本發(fā)明的有機(jī)色素，因?yàn)榫哂刑荚訑?shù)為5以上的有機(jī)基，所以不損害它在形成記錄層所使用的涂敷液中的溶解性。因而，利用本發(fā)明的光記錄媒體，即使由高功率激光照射進(jìn)行信息記錄時(shí)，也能夠在可以形成正確的記錄凹坑的同時(shí)、實(shí)現(xiàn)高水平的靈敏度及高速響應(yīng)性。
另外，本發(fā)明中所說的所謂有機(jī)色素母體，指的是顯示出作為色素的特性的結(jié)構(gòu)單元，作為其優(yōu)選的例子，可以列舉從下述通式(1)～(4)中分別除去R1～R10的殘基。
在本發(fā)明中，有機(jī)色素優(yōu)選是在比有機(jī)色素母體的分解開始溫度低的溫度下、碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基進(jìn)行解離的有機(jī)色素。使用具有這樣的結(jié)構(gòu)的有機(jī)色素，可以有效地抑制伴隨于氣體產(chǎn)生的壓力變動(dòng)。
另外，本發(fā)明的有機(jī)色素，優(yōu)選具有用下述通式(1)～(4)之中的任一個(gè)表示的結(jié)構(gòu)。
式(1)中，Q1和Q2可以相同、也可以不相同，分別表示也可以具有縮合環(huán)的含氮雜環(huán)，n表示0～3的整數(shù)，R1和R2可以相同、也可以不相同，分別表示在規(guī)定位置上分支為碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基和氫原子以外的官能基的碳原子數(shù)為7以上的分支狀有機(jī)基或上述分支狀有機(jī)基以外的碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基，a和b可以相同、也可以不相同、分別表示整數(shù)，a個(gè)R1和b個(gè)R2含有上述分支狀有機(jī)基時(shí)、a和b之和是1以上，a個(gè)R1和b個(gè)R2不含上述分支狀有機(jī)基時(shí)、a和b之和是2以上。

式(2)中，Q3和Q4可以相同、也可以不相同，分別表示構(gòu)成芳香族環(huán)的原子群，X表示碳原子、氮原子、氧原子或硫原子，Y1表示羥基、羧基或磺酸基，R3和R4可以相同、也可以不相同，分別表示在規(guī)定位置上分支為碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基和氫原子以外的官能基的碳原子數(shù)為7以上的分支狀有機(jī)基或上述分支狀有機(jī)基以外的碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基，c和d可以相同、也可以不相同、分別表示整數(shù)，c個(gè)R3和d個(gè)R4含有上述分支狀有機(jī)基時(shí)、c和d之和是1以上，c個(gè)R3和d個(gè)R4不含上述分支狀有機(jī)基時(shí)、c和d之和是2以上。
式(3)中，Q5和Q6可以相同、也可以不相同，分別表示構(gòu)成芳香族環(huán)的原子群，Y2和Y3可以相同、也可以不相同，分別表示羥基、羧基或磺酸基，R5和R6可以相同、也可以不相同，分別表示在規(guī)定位置上分支為碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基和氫原子以外的官能基的碳原子數(shù)為7以上的分支狀有機(jī)基或上述分支狀有機(jī)基以外的碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基，e和f可以相同、也可以不相同、分別表示整數(shù)，e個(gè)R5和f個(gè)R6含有上述分支狀有機(jī)基時(shí)、e和f之和是1以上，e個(gè)R5和f個(gè)R6不含上述分支狀有機(jī)基時(shí)、e和f之和是2以上。
式(4)中，Q7、Q8、Q9和Q10可以相同、也可以不相同，分別表示構(gòu)成芳香族環(huán)的原子群，R7、R8、R9和R10可以相同、也可以不相同，分別表示在規(guī)定位置上分支為碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基和氫原子以外的官能基的碳原子數(shù)為7以上的分支狀有機(jī)基或上述分支狀有機(jī)基以外的碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基，g、h、i和j可以相同、也可以不相同、分別表示整數(shù)，g個(gè)R7、h個(gè)R8、i個(gè)R9和j個(gè)R10含有上述分支狀有機(jī)基時(shí)、g、h、i和j之和是1以上，g個(gè)R7、h個(gè)R8、i個(gè)R9和j個(gè)R10不含上述分支狀有機(jī)基時(shí)、g、h、i和j之和是2以上。
另外，本發(fā)明的有機(jī)色素所具有的碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基，優(yōu)選是選自芳基、芳烷基、烷芳基、環(huán)烷基、烷基環(huán)烷基、環(huán)烷基烷基和從金剛烷中除去1個(gè)氫原子的殘基中的一種。使用具備這樣有機(jī)基的有機(jī)色素，可以有效地抑制伴隨氣體產(chǎn)生的壓力變動(dòng)。另外，上述的有機(jī)基都是具有環(huán)結(jié)構(gòu)的物質(zhì)，使用具有這樣有機(jī)基的有機(jī)色素，因?yàn)槌浞值匾种齐S著碳原子數(shù)增加的有機(jī)色素熔點(diǎn)的擴(kuò)大化，所以可以進(jìn)一步提高靈敏度和高速響應(yīng)性。
另外，在本發(fā)明中優(yōu)選為，有機(jī)色素具有用上述通式(1)表示的結(jié)構(gòu)，光記錄材料或光記錄媒體的記錄層還含有偶氮化合物與金屬的螯合化合物。由于用通式(1)表示的有機(jī)色素和上述螯合化合物的同時(shí)使用，所以可以有效地抑制起因于有機(jī)色素氧化劣化的再現(xiàn)劣化。
另外，本發(fā)明的光記錄媒體的制造方法，其特征在于，包括準(zhǔn)備有機(jī)色素的第1工序，該有機(jī)色素含有有機(jī)色素母體和通過單鍵結(jié)合于該有機(jī)色素母體上的1個(gè)以上的在規(guī)定位置分支為碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基和氫原子以外的官能基的碳原子數(shù)為7以上的分支狀有機(jī)基和/或2個(gè)以上的該分支狀有機(jī)基以外的碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基；調(diào)制含有該有機(jī)色素的涂敷液的第2工序；和，在被處理物體上涂敷該涂敷液從而形成記錄層的第3工序。
根據(jù)上述制造方法，可以在高溫條件下形成正確的記錄凹坑，可以容易而確實(shí)地得到靈敏度和高速響應(yīng)性優(yōu)異的本發(fā)明的光記錄媒體。
在本發(fā)明的制造方法的第2工序中，優(yōu)選為，選定在比有機(jī)色素母體的分解開始溫度低的溫度下、碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)色素解離的有機(jī)色素。由此，在所得到的光記錄媒體中，可以更確實(shí)地防止由于氣體產(chǎn)生而引起的壓力變動(dòng)。
發(fā)明的效果根據(jù)本發(fā)明，提供一種可以在高溫條件下形成正確的記錄凹坑、能夠容易而確實(shí)地得到靈敏度和高速響應(yīng)性優(yōu)異的光記錄媒體及其光記錄媒體的制造方法。特別是在使記錄速度高速化時(shí)，可以實(shí)現(xiàn)與現(xiàn)有的光記錄媒體相比優(yōu)異的光記錄媒體。


圖1是表示本發(fā)明的有機(jī)色素的DSC曲線圖的一個(gè)例子的圖。
圖2是表示本發(fā)明的光記錄媒體的光記錄盤的優(yōu)選的一個(gè)實(shí)施方式的部分剖面圖。
圖3是表示本發(fā)明的光記錄媒體的光記錄盤的優(yōu)選的一個(gè)實(shí)施方式的部分剖面圖。
符號說明1、10光記錄盤，2、12、22基板，3、13、23記錄層，4、14、24反射層，5、15、25保護(hù)層，23、123、223槽，50粘合劑層。
具體實(shí)施例方式
以下，根據(jù)情況、參照附圖，對本發(fā)明優(yōu)選的實(shí)施方式進(jìn)行說明。
(有機(jī)色素)本發(fā)明的有機(jī)色素含有有機(jī)色素母體；通過單鍵結(jié)合于該有機(jī)色素母體上的1個(gè)以上的在規(guī)定位置上分支為碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基和氫原子以外的官能基的碳原子數(shù)為7以上的分支狀有機(jī)基和/或2個(gè)以上的該分支狀有機(jī)基以外的碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基。
有機(jī)色素母體優(yōu)選具有菁型結(jié)構(gòu)、酞菁型結(jié)構(gòu)、偶氮型結(jié)構(gòu)和甲撐吡咯型結(jié)構(gòu)。其中，菁型結(jié)構(gòu)具有通過次甲基鏈結(jié)合兩個(gè)雜環(huán)的結(jié)構(gòu)。另外，偶氮型結(jié)構(gòu)具有通過偶氮基結(jié)合兩個(gè)雜環(huán)的結(jié)構(gòu)。作為這些結(jié)構(gòu)所含的雜環(huán)來說，可以列舉假吲哚環(huán)、4，5-苯并假吲哚環(huán)、硒唑啉環(huán)、吡啶環(huán)、噻唑啉環(huán)、苯并噻唑啉環(huán)、噁唑啉環(huán)、苯并噁唑啉環(huán)、喹啉環(huán)、咪唑啉環(huán)、吡嗪環(huán)、吡咯環(huán)等。
在上述的有機(jī)色素母體中，通過單鍵結(jié)合1個(gè)以上的在規(guī)定位置上分支為碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基和氫原子以外的官能基的碳原子數(shù)為7以上的分支狀有機(jī)基和/或2個(gè)以上的該分支狀有機(jī)基以外的碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基。碳原子數(shù)為7以上的分支狀有機(jī)基和碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基，除了碳原子和氫原子以外，還可以含有氮原子、氧原子、硫原子、鹵原子等。作為碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基來說，可以列舉烷基、烷氧基、酰基、烷氨基、芳基、芳烷基、烷芳基、環(huán)烷基、烷基環(huán)烷基、從金剛烷中除去1個(gè)氫原子的殘基以及在這些有機(jī)基上進(jìn)行鹵基取代而成的物質(zhì)等。其中，優(yōu)選苯基、萘基等芳基、芳烷基、烷芳基、環(huán)烷基、烷基環(huán)烷基以及從金剛烷中除去1個(gè)氫原子的殘基。另外，作為分支狀有機(jī)基來說，可以列舉在規(guī)定位置上分支為上述的碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基和其氫原子以外的官能基的分支有機(jī)基。作為氫原子以外的官能基來說，可以是碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基、或者也可以是甲基、乙基等碳原子數(shù)不到5的有機(jī)基，還可以是氨基等不含碳原子的官能基。另外，分支狀有機(jī)基的分支位置，除了仲碳原子或叔碳原子以外，也可以是叔氮原子等。
在1個(gè)以上的碳原子數(shù)為7以上的分支狀有機(jī)基結(jié)合于有機(jī)色素母體上的情況下，分支狀有機(jī)基的總碳原子數(shù)為，優(yōu)選是13以上、更優(yōu)選是13～21。另外，分支狀有機(jī)基所具有的碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基的碳原子數(shù)為，優(yōu)選是6以上、更優(yōu)選是6～20。此時(shí)，在有機(jī)色素母體上，也可以再結(jié)合碳原子數(shù)為7以上的分支狀有機(jī)基以外的碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基。
另外，在2個(gè)以上的碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基結(jié)合于有機(jī)色素母體上的情況下，各有機(jī)基的碳原子數(shù)為，優(yōu)選是6以上、更優(yōu)選是6～20。此時(shí)，在有機(jī)色素母體上，也可以再結(jié)合碳原子數(shù)為7以上的分支狀有機(jī)基。
在碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基和有機(jī)色素母體或碳原子數(shù)為7以上的有機(jī)基的主鏈之間的鍵，除了可以是碳—碳鍵之外，也可以是碳—氮、碳—氧鍵等，但優(yōu)選為，在比所述有機(jī)色素母體的分解開始溫度低的溫度下，碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基發(fā)生解離。使用具有這樣結(jié)構(gòu)的有機(jī)色素，可以有效地抑制伴隨氣體產(chǎn)生的壓力變動(dòng)。
上述有機(jī)色素的熱分解特性，可以由加熱重量減分析(TG)、差示熱分析(DTA)等進(jìn)行評價(jià)。圖1是表示有機(jī)色素的TG曲線及DTA曲線的一個(gè)例子的圖。在圖1中，曲線A是TG曲線、曲線B是DTA曲線，都是相關(guān)于用后述的式(47)表示的有機(jī)色素。如圖1所示，可以確認(rèn)在TG曲線的210～270℃區(qū)域開始重量減少。通過搜集、分析在該溫度區(qū)域產(chǎn)生的分解物，就可以確認(rèn)與碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基相對應(yīng)的分解物。
作為本發(fā)明的有機(jī)色素的優(yōu)選例來說，可以列舉具有用下述通式(1)表示的結(jié)構(gòu)的菁化合物。
通式(1)中，Q1和Q2可以相同、也可以不相同，分別表示也可以具有縮合環(huán)的含氮雜環(huán)。含氮雜環(huán)，除了氮原子以外、還可以含有氧原子、硫原子等。作為這樣的含氮雜環(huán)來說，可以列舉假吲哚環(huán)、4，5-苯并假吲哚環(huán)、硒唑啉環(huán)、吡啶環(huán)、噻唑啉環(huán)、苯并噻唑啉環(huán)、噁唑啉環(huán)、苯并噁唑啉環(huán)、喹啉環(huán)、咪唑啉環(huán)、吡嗪環(huán)、吡咯環(huán)等，其中優(yōu)選假吲哚環(huán)、4，5-苯并假吲哚環(huán)、噻唑啉環(huán)、噁唑啉環(huán)、喹啉環(huán)等。另外，在Q1和Q2上，也可以結(jié)合R1和R2以外的取代基。例如，在構(gòu)成含氮雜環(huán)的碳原子上，也可以結(jié)合鹵基、硝基。另外，在構(gòu)成含氮雜環(huán)的氮原子上，也可以結(jié)合烷基等。而且，在與R1和R2所結(jié)合的原子相同的原子上，還可以結(jié)合碳原子數(shù)為不到5的有機(jī)基。
另外，通式(1)中的n表示0～3的整數(shù)。次甲基鏈的結(jié)構(gòu)，根據(jù)記錄-再現(xiàn)光的波長適當(dāng)選定。例如，記錄-再現(xiàn)光在770～830nm的波長區(qū)域時(shí)，優(yōu)選為五次甲基(n＝3)、在630～685nm的波長區(qū)域時(shí)、優(yōu)選為三次甲基(n＝2)。
通式(1)中的R1和R2可以相同、也可以不相同，分別表示在規(guī)定位置上分支為碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基和氫原子以外的官能基的分支狀有機(jī)基或該分支狀有機(jī)基以外的碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基。
另外，a和b可以相同、也可以不相同、分別表示整數(shù)。a個(gè)R1和b個(gè)R2含有上述特定的分支狀有機(jī)基時(shí)、a和b之和是1以上。另外，a個(gè)R1和b個(gè)R2不含分支狀有機(jī)基時(shí)，即，a個(gè)R1和b個(gè)R2、全部是上述特定的分支狀有機(jī)基以外的碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基時(shí)、a和b之和是2以上。
用通式(1)表示的有機(jī)色素，可以作為與規(guī)定的平衡離子(優(yōu)選為PF6-、BF4-、ClO4-等)的鹽來使用?；蛘撸部梢宰鳛橛猛ㄊ?1)表示的有機(jī)色素和金屬偶氮色素(偶氮化合物和金屬的螯合化合物)的鹽形成色素來使用。
另外，作為本發(fā)明的有機(jī)色素的優(yōu)選例，可以列舉用下述通式(2)或(3)表示的偶氮化合物。
通式(2)中的Q3和Q4以及通式(3)中的Q5和Q6，分別表示構(gòu)成芳香族環(huán)的原子群。作為這樣的芳香族環(huán)來說，可以列舉苯環(huán)、萘環(huán)等。在含有Q3～Q6而構(gòu)成的芳香族環(huán)中，也可以分別結(jié)合R3～R6以外的取代基。例如，在構(gòu)成芳香族環(huán)的碳原子上，也可以結(jié)合鹵基、硝基等。另外，在與R3～R6所結(jié)合的原子相同的原子上，也可以結(jié)合碳原子數(shù)不到5的有機(jī)基。
通式(2)中的X表示碳原子、氮原子、氧原子或硫原子。另外，通式(2)中的Y1、以及通式(3)中的Y2及Y3分別表示羥基、羧基或磺酸基(-SO2-R；R表示取代或未取代的烷基或者取代或未取代的芳基)。
通式(2)中的R3和R4、以及通式(3)中的R5和R6，分別表示在規(guī)定位置上分支為碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基和氫原子以外的官能基的碳原子數(shù)為7以上的分支狀有機(jī)基或該分支狀有機(jī)基以外的碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基。另外，通式(2)中的c和d以及通式(3)中的e和f，分別表示整數(shù)。這里，c個(gè)R3和d個(gè)R4含有碳原子數(shù)為7以上的分支狀有機(jī)基時(shí)、c和d之和是2以上，c個(gè)R3和d個(gè)R4不含碳原子數(shù)為7以上的分支狀有機(jī)基時(shí)、c和d之和是1以上。另外，e個(gè)R5和f個(gè)R6含有上述特定的分支狀有機(jī)基時(shí)、e和f之和是1以上、e個(gè)R5和f個(gè)R6不含有上述特定的分支狀有機(jī)基時(shí)、e和f之和是2以上。
另外，作為本發(fā)明的有機(jī)色素的優(yōu)選例來說，可以列舉用下述通式(4)表示的酞菁化合物。
通式(4)中，Q7、Q8、Q9和Q10分別表示構(gòu)成芳香族環(huán)的原子群。作為含有Q7～Q10而構(gòu)成的芳香族環(huán)來說，可以列舉在Q1～Q4的說明中所例示的芳香族環(huán)。
另外，R7、R8、R9和R10，分別表示在規(guī)定位置上碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基和氫原子以外的官能基，g、h、i和j分別表示整數(shù)。g個(gè)R7、h個(gè)R8、i個(gè)R9和j個(gè)R10含有上述特定的分支狀有機(jī)基時(shí)，g、h、i和j之和是1以上，g個(gè)R7、h個(gè)R8、i個(gè)R9和j個(gè)R10不含上述特定的分支狀有機(jī)基時(shí)，g、h、i和j之和是2以上。
在本發(fā)明中，可以單獨(dú)使用以上述通式(1)～(4)表示的有機(jī)色素之中的一種，另外，也可以組合二種以上來使用。在這樣的有機(jī)色素中，優(yōu)選以通式(1)表示的有機(jī)色素，特別優(yōu)選以下述式(5)表示的菁化合物。
通式(5)中的p表示1以上的整數(shù)。另外，R11、R12分別與通式(1)中的R1和R2意義相同，分別表示在規(guī)定位置上分支為碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基和氫原子以外的官能基的碳原子數(shù)為7以上的分支狀有機(jī)基或該分支狀有機(jī)基以外的碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基，R13和R14分別表示在規(guī)定位置上分支為碳原子數(shù)為1～4的有機(jī)基和氫原子以外的官能基的分支狀有機(jī)基或該分支狀有機(jī)基以外的碳原子數(shù)為1～4的有機(jī)基，q、r、s和t分別表示整數(shù)。q個(gè)R11、r個(gè)R12、s個(gè)R13和t個(gè)R14分別含有上述特定的分支狀有機(jī)基時(shí)，q、r、s和t之和是1以上。q個(gè)R11、r個(gè)R12、s個(gè)R13和t個(gè)R14分別不含上述特定的分支狀有機(jī)基時(shí)，q、r、s和t之和是2以上。
另外，在通式(5)表示的菁化合物的情況下，在能夠抑制因熱分解而造成的氣體的產(chǎn)生的限度內(nèi)，也可以在有機(jī)色素母體上結(jié)合R1～R4以外的取代基。例如，q或s是0或1時(shí)，在(R1)q-或(R2)s-所結(jié)合的碳原子上，也可以結(jié)合碳原子數(shù)不到5的有機(jī)基。另外，在假吲哚環(huán)所含有的苯環(huán)上在規(guī)定位置也可以結(jié)合電子供給基或電子吸引基。另外，苯環(huán)所結(jié)合的多個(gè)取代基之間也可以結(jié)合而形成環(huán)。
另外，使用以通式(1)表示的菁化合物的情況下，優(yōu)選同時(shí)使用偶氮化合物和金屬的螯合化合物。
作為構(gòu)成螯合化合物的偶氮化合物來說，優(yōu)選以下述通式(6)～(8)表示的化合物，從能夠以高水平實(shí)現(xiàn)發(fā)光特性和溶解性這兩者的角度出發(fā)，特別優(yōu)選以通式(7)和(8)表示的化合物。

在表示偶氮化合物的通式(6)～(8)中，A1、A2、A3、B1、B2和B3可以相同、也可以不相同，分別表示構(gòu)成芳香族環(huán)的原子群。作為這樣的芳香族環(huán)來說，具體而言，可以列舉苯環(huán)、萘環(huán)等。芳香族環(huán)除了-X1H、-X2H、-X3H、-X4H-Y4、-X5H-Y5或-X6H-Y6以外還可以具有取代基。作為這樣的取代基來說，可以列舉烷基、芳基、芳烷基、酰基、烷氧基、鏈烯基、鹵原子、羥基、羧基、羧酸酯基、磺酸基、磺酸酯基、氨磺酰基、磺酰胺基、氨基甲酰基、氨基、酰胺基、烷基硫代基、烷基甲亞胺基、硝基等。在雜環(huán)相鄰的碳原子上結(jié)合2個(gè)以上取代基時(shí)，取代基之間也可以連接而形成環(huán)。
芳香族環(huán)的取代基之中，作為烷基來說，優(yōu)選總碳原子數(shù)為1～12的烷基。烷基可以是直鏈狀、分支環(huán)狀中的任意一種、也可以是這二種的組合。另外，在烷基上也可以結(jié)合鹵原子、烷氧基等的取代基。
作為芳基來說，可以列舉苯基、甲苯基等。芳基的總碳原子數(shù)優(yōu)選為6～10。芳基可以是取代或未取代的任意一種。
作為酰基來說，可以列舉乙酰基、丙?；?、丁?；取ｕ；目偺荚訑?shù)優(yōu)選為2～5。
作為芳烷基來說，可以列舉芐基、羥基芐基、甲基芐基等。芳烷基的總碳原子數(shù)優(yōu)選為7～10。
作為烷氧基來說，優(yōu)選總碳原子數(shù)為1～4的烷氧基，可以列舉甲氧基、乙氧基、丙氧基、五氟丙氧基等。
作為鏈烯基來說，可以是直鏈狀的、也可以具有分支，具體地說，可以列舉乙烯基、烯丙基、丙烯基、丁烯基、戊烯基等?？偺荚訑?shù)優(yōu)選為2～10。
作為鹵原子來說，可以列舉氟原子、氯原子、溴原子等。
作為羧酸酯基來說，優(yōu)選總碳原子數(shù)為2～10，可以列舉甲氧基羰基、乙氧基羰基、丙氧基羰基、乙酰氧基羰基等。
作為磺酸基來說，優(yōu)選總碳原子數(shù)為是1～10，可以列舉甲基磺酰基、苯磺?；?、乙基磺?；?、正丙基磺酰基等。
作為磺酸酯基來說，優(yōu)選總碳原子數(shù)為是1～10，可以列舉甲氧基磺酰基、乙氧基磺?；⒈趸酋；?、丁氧基磺酰基等。
作為氨磺?；鶃碚f，也可以具有取代基，優(yōu)選總碳原子數(shù)為是0～10，可以列舉氨磺?；?、甲基氨磺?；?、乙基氨磺?；?、正丙基氨磺?；?、異丙基氨磺?；?。
作為磺酰胺基來說，優(yōu)選總碳原子數(shù)為是1～10，可以列舉甲基磺酰胺基、乙基磺酰胺基、正丙基磺酰胺基等。
作為氨基甲?；鶃碚f，也可以具有取代基，優(yōu)選總碳原子數(shù)為是1～10，可以列舉氨基甲?；?、甲基氨基甲?；?、乙基氨基甲酰基、正丙基氨基甲?；?、異丙基氨基甲?；?。
作為氨基來說，優(yōu)選具有取代基，作為取代氨基來說，特別優(yōu)選二烷基氨基。此時(shí)的二烷基氨基的烷基部分的碳原子數(shù)優(yōu)選為1～12，可以是直鏈狀的，也可以是具有分支的。
作為酰胺基來說，優(yōu)選總碳原子數(shù)為是2～10，可以列舉乙酰胺基、丙酰胺基、丁酰胺基、苯甲酰胺基等。
作為烷基硫代基來說，優(yōu)選總碳原子數(shù)為是1～4，可以列舉甲基硫代基、乙基硫代基、正丙基硫代基、異丙基硫代基等作為烷基甲亞胺基來說，優(yōu)選總碳原子數(shù)為2～5，可以列舉甲基甲亞胺基、乙基甲亞胺基、正丙基甲亞胺基等。
X1、X2和X3表示從具有1個(gè)以上的活性氫原子的官能基中除去1個(gè)活性氫原子的殘基。作為具有1個(gè)以上的活性氫原子的官能基來說，優(yōu)選羥基(-OH)、硫醇基(-SH)、氨基(-NH2)、羧基(-COOH)、酰胺基(-CONH2)、磺酰胺基(-SO2NH2)和磺酸基(-SO3H)，特別優(yōu)選羥基。因此，作為X2來說，優(yōu)選為-O-、-S-、-NH-、-COO-、-CONH-、-SO2NH-、-SO3-，特別優(yōu)選為-O-。
X4、X5和X6表示從具有2個(gè)以上的活性氫原子的官能基中除去2個(gè)活性氫原子的殘基。作為具有2個(gè)以上的活性氫原子的官能基來說，優(yōu)選為氨基(-NH2)、酰胺基(-CONH2)和磺酰胺基(-SO2NH2)，特別優(yōu)選為氨基。因此，作為X1來說，優(yōu)選為-NH-、-CONH-、-SO2NH-，特別優(yōu)選為-NH-。另外，式(2)中的2個(gè)X1和2個(gè)Y1分別可以相同、也可以不相同。
Y4、Y5和Y6分別表示結(jié)合在X4、X5和X6上的取代基。作為Y4～Y6的具體例子來說，可以列舉烷基、芳基、?；?、烷氧基、鹵基、羥基、羧基、羧酸酯基、磺酸基、氨磺?；?、磺酰胺基、氨基甲?；Ⅴ０坊?、氨基、鏈烯基、氰基、硝基、巰基、氰硫基、烷硫基、烷基甲亞胺基、芳烷基等。其中，優(yōu)選為烷基、磺酸基(-SO2-R；R表示取代或未取代的烷基或者取代或未取代的芳基)、酰基(-CO-R；R表示取代或未取代的烷基或者取代或未取代的芳基)?；撬峄王；腞是烷基時(shí)，該烷基的碳原子數(shù)優(yōu)選為1～6。
在用上述通式(6)～(8)表示的偶氮化合物中，優(yōu)選為用通式(7)或(8)表示的化合物，更優(yōu)選為具有用下述通式(9)或(10)表示的結(jié)構(gòu)的化合物。
通式(9)中的X3、X4和Y4、以及通式(10)中的X5、X6、Y5和Y6，分別與通式(7)中的X3、X4和Y4、以及通式(8)中的X5、X6、Y5和Y6意義相同。另外，通式(9)中的R15和R16、以及通式(10)中的R17和R18可以相同也可以不相同，分別表示選自烷基、芳基、?；⑼檠趸?、鏈烯基、鹵原子、羥基、羧基、羧酸酯基、磺酸基、磺酸酯基、氨磺酰基、磺酰胺基、氨基甲?；?、酰胺基、氨基和硝基中的1價(jià)的基，w、x、y和z可以相同也可以不相同、分別表示0～4的整數(shù)。在苯環(huán)鄰接的碳原子上，結(jié)合2個(gè)以上的R15、R16、R17、R18時(shí)，它們也可以連接而形成環(huán)。另外，式(10)中的X5和X6、或Y5和Y6可以相同也可以不相同。
作為本發(fā)明的偶氮化合物的優(yōu)選例來說，更具體地說，可以列舉用下述式(11)～(43)表示的化合物。






另外，作為螯合化合物的金屬(中心金屬)來說，可以列舉鈦、釩、鉻、錳、鐵、鈷、鎳、銅、鋯、鈮、鉬、釕、銠、鈀、銀、鎘、銦、錫、銻、鎢、錸、鋨、銥、鉑、金等，其中優(yōu)選鈷和鎳。
在本發(fā)明中優(yōu)選使用的螯合化合物的情況下，形成了從用通式(6)～(8)表示的偶氮化合物中脫離2個(gè)活性氫原子而成的三齒配體與金屬的配位鍵。例如，由用通式(7)或(8)表示的偶氮化合物與作為金屬的鈷(Co)形成的螯合化合物，如下述通式(44)或(45)所示，每一個(gè)鈷原子配位有2個(gè)三齒配體。

在本發(fā)明中，使用具有上述結(jié)構(gòu)的有機(jī)色素，即使在高溫條件下、也可以充分抑制因熱分解造成的氣體的產(chǎn)生及伴隨于此的環(huán)境氣體的壓力變動(dòng)。而且，還可以提高靈敏度和高速響應(yīng)性，另外，即使在高溫條件下也能夠以高水平維持正確的記錄凹坑的形成，同時(shí)，可以提高耐光性。因此，該有機(jī)色素作為短波化的記錄-再現(xiàn)光所適用的高速應(yīng)對、高可靠性對應(yīng)型的光記錄媒體用有機(jī)色素是非常有用的。另外，有機(jī)色素的折射率，沒有特別限制，但針對于激光波長的復(fù)折射率部分的實(shí)部n優(yōu)選是1.8～2.7、虛部k優(yōu)選是0.01～0.1。另外，有機(jī)色素的熔點(diǎn)，優(yōu)選是180℃。
(光記錄媒體)圖2是表示本發(fā)明的光記錄媒體的光記錄盤的優(yōu)選的一個(gè)實(shí)施方式的部分剖面圖。圖2所示的光記錄盤1是對應(yīng)于CD規(guī)格的追記型光記錄袖珍盤。
光記錄盤1具有在基板2上以記錄層3、反射層4、保護(hù)板這樣的順序進(jìn)行貼合設(shè)置的層疊結(jié)構(gòu)。
基板2是直徑為64～200mm左右、厚為1.2mm左右的盤狀物。為了能夠從基板2的背面?zhèn)?與記錄層3相反的一側(cè))進(jìn)行記錄及再現(xiàn)，優(yōu)選基板2對于記錄光和再現(xiàn)光實(shí)質(zhì)上是透明的，更具體地說，基板2的針對于記錄光和再現(xiàn)光的透過率，優(yōu)選是在88％以上。作為這樣的基板2的材料，優(yōu)選滿足有關(guān)透過率的上述條件的樹脂或玻璃，其中，特別優(yōu)選聚碳酸酯樹脂、丙烯酸酯樹脂、無定型聚乙烯、TPX、聚苯乙烯類樹脂等的熱塑性樹脂。
另外，在基板2的記錄層3形成面上，如圖2所示，形成跟蹤用的槽23。槽23優(yōu)選是螺旋狀的連續(xù)型槽，深0.1～0.25μm、寬0.35～0.60μm、槽間距根據(jù)各盤的規(guī)格來決定。通過將槽制成這樣的結(jié)構(gòu)，不會使槽的反射水平下降，可以得到良好的跟蹤信號。槽23在使用上述樹脂由注塑成形等成形為基板2時(shí)能夠同時(shí)成形，在制造基板2后，由2P法等形成具有槽23的樹脂層、制成基板2和樹脂層的復(fù)合基板也可以。
記錄層3，使用本發(fā)明的有機(jī)色素、即含有有機(jī)色素母體和通過單鍵結(jié)合于該有機(jī)色素母體上的1個(gè)以上的在規(guī)定位置上分支為碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基和氫原子以外的官能基上的碳原子數(shù)為7以上的分支狀有機(jī)基和/或2個(gè)以上的該分支狀有機(jī)基以外的碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基的有機(jī)色素而形成。
記錄層3，可以由在基板2上涂敷含有本發(fā)明有機(jī)色素的涂敷液，根據(jù)需要使涂膜干燥而形成。因?yàn)楸景l(fā)明的有機(jī)色素對極性溶劑顯示出良好的溶解性，所以在涂敷液中能夠使用醇系、溶纖劑系、烷氧基醇系、酮醇系(二丙酮醇等)、酮系(環(huán)己酮等)、氟代醇(2，2，3，3-四氟丙醇等)的溶劑。這些溶劑可以單獨(dú)使用1種、也可以混合2種以上使用?；?是碳酸酯制作的時(shí)候，可以優(yōu)選使用不侵蝕基板的乙基溶纖劑和2，2，3，3-四氟丙醇。也可以適當(dāng)?shù)睾姓澈蟿⒎稚?、穩(wěn)定劑等。這樣的涂敷液中的有機(jī)色素的含量，優(yōu)選是0.05～10wt％。
另外，作為涂敷液的涂敷方法，能夠采用旋涂法、凹版涂敷法、噴涂法、浸涂法等，其中優(yōu)選旋涂法。另外，使所形成的涂膜干燥時(shí)的溫度，優(yōu)選為40～100℃。另外，調(diào)制涂敷液時(shí)，優(yōu)選預(yù)先選定在比有機(jī)色素母體的分解開始溫度低的溫度下、碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基進(jìn)行解離的有機(jī)色素。
這樣形成的記錄層3的厚度，以干燥膜計(jì)，優(yōu)選為50～300nm。在此范圍以外，反射率下降、進(jìn)行對應(yīng)CD規(guī)格的再現(xiàn)變得困難。
另外，記錄層3的對于記錄光和再現(xiàn)光的衰減系數(shù)(復(fù)折射率的虛部k)，優(yōu)選是0.01～0.10。衰減系數(shù)若大于0.10時(shí)，就有不能得到充分的反射率的傾向。另外，記錄層3的折射率(復(fù)折射率的實(shí)部n)，優(yōu)選是1.8以上。折射率若小于1.8時(shí)，信號的調(diào)制度就有變小的傾向。另外，折射率的上限沒有特別的限制，但出于有機(jī)色素合成上的方便，通常是2.7左右。
記錄層3的衰減系數(shù)和折射率可以根據(jù)以下的順序求出。首先，在規(guī)定的透明基板上，將記錄層設(shè)定為40～100nm左右、制作測定用樣品，接著，可以由測定穿過該測定用樣品的基板的反射率或來自記錄層側(cè)的反射率而求出。此時(shí)，就反射率來說，使用記錄-再現(xiàn)光的波長并且利用鏡面反射(5°左右)來測定。再測定樣品的透過率。然后，根據(jù)這些測定值，根據(jù)例如“共立全書‘光學(xué)’、石黑浩三、第168～178頁”記載的方法，可以算出衰減系數(shù)和折射率。
在記錄層3上，反射層4貼合地設(shè)置在記錄層3上。使用高反射率的金屬或合金，通過進(jìn)行蒸鍍、噴鍍等能夠形成反射層4。作為這樣的金屬或合金，可以列舉金(Au)、銅(Cu)、鋁(Al)、銀(Ag)、AgCu等。這樣形成的反射層4的厚度，優(yōu)選是50～120nm。
在反射層4上，保護(hù)層5貼合地設(shè)置在反射層4上。保護(hù)層5可以是層狀、也可以是片狀，例如，在反射層4上，涂敷含有紫外線固化樹脂等材料的涂敷液，根據(jù)需要，使涂膜干燥而能夠形成。在這樣的涂敷中，能夠使用旋涂法、凹版涂敷法、噴涂法、浸涂法等。這樣形成的保護(hù)層5的厚度，優(yōu)選是0.5～100μm。
在具有上述結(jié)構(gòu)的光記錄盤中進(jìn)行記錄或追記時(shí)，從基板2的背面照射呈脈沖狀地照射具有規(guī)定波長的記錄光，使照射部的光反射率變化。此時(shí)，記錄層吸收光而發(fā)熱，但本實(shí)施方式中，由于使用上述特定的有機(jī)色素，充分地抑制因有機(jī)色素分解造成的氣體的產(chǎn)生以及伴隨于此的壓力變動(dòng)。因此，即使在這樣的高溫條件下，也可以形成正確的記錄凹坑，另外，能夠?qū)崿F(xiàn)高水平的靈敏度和高速響應(yīng)性。
另外，在上述實(shí)施方式中，說明了具備1個(gè)記錄層3光記錄盤，但也可以設(shè)置多層記錄層、使各層含有不同的有機(jī)色素。由此，可以由不同波長的多個(gè)記錄-再現(xiàn)光進(jìn)行信息的記錄及再現(xiàn)。
圖3是表示本發(fā)明的光記錄媒體的光記錄盤的優(yōu)選的一個(gè)實(shí)施方式的部分剖面圖。圖3所示的光記錄盤10是對應(yīng)于DVD規(guī)格的追記型數(shù)字視頻光盤，以波長為635～660nm的短波長光進(jìn)行記錄及再現(xiàn)。
光記錄盤10，是將2個(gè)具有與圖2所示的光記錄盤1同樣結(jié)構(gòu)的光記錄盤以它們的保護(hù)層彼此相對向地用粘合劑貼合而成的。即，就光記錄盤10來說，從其一側(cè)看，具有基板12、記錄層13、反射層14、保護(hù)層15、粘合劑層50、保護(hù)層25、反射層24、記錄層23、基板22以此順序?qū)盈B的結(jié)構(gòu)。
作為粘合劑層50的材料，優(yōu)選使用熱固性樹脂、粘合劑層50的厚度是10至200μm左右。
另外，基板12、22、記錄層13、23、反射層14、24以及保護(hù)層15、25的結(jié)構(gòu)與圖2所示的光記錄盤1相同。另外，此時(shí)的基板12、22各自的厚度是0.6mm左右。另外，基板12的記錄層13形成面和基板23的記錄層24形成面上，分別形成槽123、223，槽123、223深度是60～200nm、寬0.2～0.5μm，槽間距是0.6～1.0μm。另外，記錄層13、23各自的厚度是50～300nm，對635～660nm光的復(fù)折射率是，n＝1.8～2.7、k＝0.01～0.10。
實(shí)施例以下，基于實(shí)施例和比較例進(jìn)一步具體地說明本發(fā)明，但本發(fā)明不受以下的實(shí)施例任何限定。
(實(shí)施例1)首先，準(zhǔn)備在一側(cè)具有預(yù)先槽(深0.18μm、寬0.35μm、槽間距0.74μm)的直徑120mm、厚0.6mm的聚碳酸酯樹脂基板。另一方面，將用下述式(46)表示的有機(jī)色素加入2，2，3，3-四氟丙烯中，其含量為1.0wt％，調(diào)制了記錄層用涂敷液。在上述聚碳酸酯樹脂基板的預(yù)先形成有槽的面上，涂敷所得到的涂敷液，進(jìn)行干燥，形成記錄層(厚度130nm)。接著，在該記錄層上，由噴涂法形成Ag反射層(厚度85nm)，再在Ag反射層上形成紫外線固化的丙烯酸酯樹脂構(gòu)成的透明保護(hù)層(厚度5μm)，得到層疊結(jié)構(gòu)體。制作2片這樣的層疊結(jié)構(gòu)體，將它們的保護(hù)層成為內(nèi)側(cè)地以粘合劑進(jìn)行貼合，得到具有圖3所示結(jié)構(gòu)的光記錄盤。
(實(shí)施例2)除了使用用下述式(47)表示的有機(jī)色素代替用式(46)表示的有機(jī)色素以外，其余與實(shí)施例1同樣，制作光記錄盤。
(實(shí)施例3)除了使用用下述式(48)表示的有機(jī)色素代替用式(46)表示的有機(jī)色素以外，其余與實(shí)施例1同樣，制作光記錄盤。

(實(shí)施例4)除了使用用下述式(49)表示的有機(jī)色素代替用式(46)表示的有機(jī)色素以外，其余與實(shí)施例1同樣，制作光記錄盤。
(實(shí)施例5)除了使用用下述式(50)表示的有機(jī)色素代替用式(46)表示的有機(jī)色素以外，其余與實(shí)施例1同樣，制作光記錄盤。
(實(shí)施例6)除了使用用下述式(51)表示的有機(jī)色素代替用式(46)表示的有機(jī)色素以外，其余與實(shí)施例1同樣，制作光記錄盤。

(實(shí)施例7)除了使用用下述式(52)表示的有機(jī)色素代替用式(46)表示的有機(jī)色素以外，其余與實(shí)施例1同樣，制作光記錄盤。
(實(shí)施例8)除了同時(shí)使用用式(47)表示的有機(jī)色素和用式(20)表示的偶氮化合物與鈷的螯合化合物、代替用式(46)表示的有機(jī)色素以外，其余與實(shí)施例1同樣，制作光記錄盤。
(比較例1)除了使用用下述式(53)表示的有機(jī)色素代替用式(46)表示的有機(jī)色素以外，其余與實(shí)施例1同樣，制作光記錄盤。
(比較例2)除了使用用下述式(54)表示的有機(jī)色素代替用式(46)表示的有機(jī)色素以外，其余與實(shí)施例1同樣，制作光記錄盤。
接著，使用實(shí)施例1～4和比較例1的光記錄盤，由波長為660nm的激光進(jìn)行信息記錄，評價(jià)其再現(xiàn)特性。在本試驗(yàn)中，將記錄速度設(shè)成1倍速度和8倍速度的2個(gè)條件。在評價(jià)各光記錄盤時(shí)，以最佳記錄功率、反射率和顫動(dòng)為指標(biāo)。在表1中表示所得到的結(jié)果。
表1

如表1所示，可以確認(rèn)實(shí)施例1～7的光記錄盤的靈敏度和高速響應(yīng)性都優(yōu)異，特別是顫動(dòng)達(dá)到8％以下。
權(quán)利要求
1.一種光記錄材料，它是通過光的照射能夠進(jìn)行信息記錄的光記錄媒體中所使用的光記錄材料，其特征在于含有有機(jī)色素，該有機(jī)色素包括有機(jī)色素母體；通過單鍵結(jié)合于所述有機(jī)色素母體上的1個(gè)以上的在規(guī)定位置上分支為碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基和氫原子以外的官能基的碳原子數(shù)為7以上的分支狀有機(jī)基和/或2個(gè)以上的所述分支狀有機(jī)基以外的碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基。
2.如權(quán)利要求1所述的光記錄材料，其特征在于所述有機(jī)色素，在比所述有機(jī)色素母體的分解開始溫度低的溫度下，所述碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基解離。
3.如權(quán)利要求1所述的光記錄材料，其特征在于所述有機(jī)色素具有用下述通式(1)～(4)之中的任意一個(gè)表示的結(jié)構(gòu) 式(1)中，Q1和Q2可以相同、也可以不相同，分別表示也可以具有縮合環(huán)的含氮雜環(huán)，n表示0～3的整數(shù)，R1和R2可以相同、也可以不相同，分別表示在規(guī)定位置上分支為碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基和氫原子以外的官能基的碳原子數(shù)為7以上的分支狀有機(jī)基或所述分支狀有機(jī)基以外的碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基，a和b可以相同、也可以不相同、分別表示整數(shù)，a個(gè)R1和b個(gè)R2含有所述分支狀有機(jī)基時(shí)、a和b之和是1以上，a個(gè)R1和b個(gè)R2不含所述分支狀有機(jī)基時(shí)、a和b之和是2以上； 式(2)中，Q3和Q4可以相同、也可以不相同，分別表示構(gòu)成芳香族環(huán)的原子群，X表示碳原子、氮原子、氧原子或硫原子，Y1表示羥基、羧基或磺酸基，R3和R4可以相同、也可以不相同，分別表示在規(guī)定位置上分支為碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基和氫原子以外的官能基的碳原子數(shù)為7以上的分支狀有機(jī)基或所述分支狀有機(jī)基以外的碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基，c和d可以相同、也可以不相同、分別表示整數(shù)，c個(gè)R3和d個(gè)R4含有所述分支狀有機(jī)基時(shí)、c和d之和是1以上，c個(gè)R3和d個(gè)R4不含所述分支狀有機(jī)基時(shí)、c和d之和是2以上； 式(3)中，Q5和Q6可以相同、也可以不相同，分別表示構(gòu)成芳香族環(huán)的原子群，Y2和Y3可以相同、也可以不相同，分別表示羥基、羧基或磺酸基，R5和R6可以相同、也可以不相同，分別表示在規(guī)定位置上分支為碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基和氫原子以外的官能基的碳原子數(shù)為7以上的分支狀有機(jī)基或所述分支狀有機(jī)基以外的碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基，e和f可以相同、也可以不相同、分別表示整數(shù)，e個(gè)R5和f個(gè)R6含有所述分支狀有機(jī)基時(shí)、e和f之和是1以上，e個(gè)R5和f個(gè)R6不含所述分支狀有機(jī)基時(shí)、e和f之和是2以上； 式(4)中，Q7、Q8、Q9和Q10可以相同、也可以不相同，分別表示構(gòu)成芳香族環(huán)的原子群，R7、R8、R9和R10可以相同、也可以不相同，分別表示在規(guī)定位置上分支為碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基和氫原子以外的官能基的碳原子數(shù)為7以上的分支狀有機(jī)基或所述分支狀有機(jī)基以外的碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基，g、h、i和j可以相同、也可以不相同、分別表示整數(shù)，g個(gè)R7、h個(gè)R8、i個(gè)R9和j個(gè)R10含有所述分支狀有機(jī)基時(shí)、g、h、i和j之和是1以上，g個(gè)R7、h個(gè)R8、i個(gè)R9和j個(gè)R10不含所述分支狀有機(jī)基時(shí)、g、h、i和j之和是2以上。
4.如權(quán)利要求1所述的光記錄材料，其特征在于所述碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基是選自芳基、芳烷基、烷芳基、環(huán)烷基、烷基環(huán)烷基、環(huán)烷基烷基及從金剛烷中除去1個(gè)氫原子的殘基中的一種。
5.如權(quán)利要求1所述的光記錄材料，其特征在于所述有機(jī)色素具有用下述通式(1)表示的結(jié)構(gòu)，所述光記錄材料還含有偶氮化合物與金屬的螯合化合物， 式(1)中，Q1和Q2可以相同、也可以不相同，分別表示也可以具有縮合環(huán)的含氮雜環(huán)，n表示0～3的整數(shù)，R1和R2可以相同、也可以不相同，分別表示在規(guī)定位置上分支為碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基和氫原子以外的官能基的碳原子數(shù)為7以上的分支狀有機(jī)基或所述分支狀有機(jī)基以外的碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基，a和b可以相同、也可以不相同、分別表示整數(shù)，a個(gè)R1和b個(gè)R2含有所述分支狀有機(jī)基時(shí)、a和b之和是1以上，a個(gè)R1和b個(gè)R2不含所述分支狀有機(jī)基時(shí)、a和b之和是2以上。
6.一種光記錄媒體，通過光的照射能夠進(jìn)行信息記錄，其特征在于具備記錄層，該記錄層含有有機(jī)色素，該有機(jī)色素包括有機(jī)色素母體；通過單鍵結(jié)合于該有機(jī)色素母體上的1個(gè)以上的在規(guī)定位置上分支為碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基和氫原子以外的官能基的碳原子數(shù)為7以上的分支狀有機(jī)基和/或2個(gè)以上的所述分支狀有機(jī)基以外的碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基。
7.如權(quán)利要求6所述的光記錄媒體，其特征在于所述有機(jī)色素，在比所述有機(jī)色素母體的分解開始溫度低的溫度下，碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基解離。
8.如權(quán)利要求6所述的光記錄媒體，其特征在于所述有機(jī)色素具有用下述通式(1)～(4)之中的任意一個(gè)表示的結(jié)構(gòu) 式(1)中，Q1和Q2可以相同、也可以不相同，分別表示也可以具有縮合環(huán)的含氮雜環(huán)，n表示0～3的整數(shù)，R1和R2可以相同、也可以不相同，分別表示在規(guī)定位置上分支為碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基和氫原子以外的官能基的碳原子數(shù)為7以上的分支狀有機(jī)基或所述分支狀有機(jī)基以外的碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基，a和b可以相同、也可以不相同、分別表示整數(shù)，a個(gè)R1和b個(gè)R2含有所述分支狀有機(jī)基時(shí)、a和b之和是1以上，a個(gè)R1和b個(gè)R2不含所述分支狀有機(jī)基時(shí)、a和b之和是2以上； 式(2)中，Q3和Q4可以相同、也可以不相同，分別表示構(gòu)成芳香族環(huán)的原子群，X表示碳原子、氮原子、氧原子或硫原子，Y1表示羥基、羧基或磺酸基，R3和R4可以相同、也可以不相同，分別表示在規(guī)定位置上分支為碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基和氫原子以外的官能基的碳原子數(shù)為7以上的分支狀有機(jī)基或所述分支狀有機(jī)基以外的碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基，c和d可以相同、也可以不相同、分別表示整數(shù)，c個(gè)R3和d個(gè)R4含有所述分支狀有機(jī)基時(shí)、c和d之和是1以上，c個(gè)R3和d個(gè)R4不含所述分支狀有機(jī)基時(shí)、c和d之和是2以上； 式(3)中，Q5和Q6可以相同、也可以不相同，分別表示構(gòu)成芳香族環(huán)的原子群，Y2和Y3可以相同、也可以不相同，分別表示羥基、羧基或磺酸基，R5和R6可以相同、也可以不相同，分別表示在規(guī)定位置上分支為碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基和氫原子以外的官能基的碳原子數(shù)為7以上的分支狀有機(jī)基或所述分支狀有機(jī)基以外的碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基，e和f可以相同、也可以不相同、分別表示整數(shù)，e個(gè)R5和f個(gè)R6含有所述分支狀有機(jī)基時(shí)、e和f之和是1以上，e個(gè)R5和f個(gè)R6不含所述分支狀有機(jī)基時(shí)、e和f之和是2以上； 式(4)中，Q7、Q8、Q9和Q10可以相同、也可以不相同，分別表示構(gòu)成芳香族環(huán)的原子群，R7、R8、R9和R10可以相同、也可以不相同，分別表示在規(guī)定位置上分支為碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基和氫原子以外的官能基的碳原子數(shù)為7以上的分支狀有機(jī)基或所述分支狀有機(jī)基以外的碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基，g、h、i和j可以相同、也可以不相同、分別表示整數(shù)，g個(gè)R7、h個(gè)R8、i個(gè)R9和j個(gè)R10含有所述分支狀有機(jī)基時(shí)、g、h、i和j之和是1以上，g個(gè)R7、h個(gè)R8、i個(gè)R9和j個(gè)R10不含所述分支狀有機(jī)基時(shí)、g、h、i和j之和是2以上。
9.如權(quán)利要求6所述的光記錄媒體，其特征在于所述碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基是選自芳基、芳烷基、烷芳基、環(huán)烷基、烷基環(huán)烷基、環(huán)烷基烷基及從金剛烷中除去1個(gè)氫原子的殘基中的一種。
10.如權(quán)利要求6所述的光記錄媒體，其特征在于所述有機(jī)色素具有用下述通式(1)表示的結(jié)構(gòu)，所述記錄層還含有偶氮化合物與金屬的螯合化合物， 式(1)中，Q1和Q2可以相同、也可以不相同，分別表示也可以具有縮合環(huán)的含氮雜環(huán)，n表示0～3的整數(shù)，R1和R2可以相同、也可以不相同，分別表示在規(guī)定位置上分支為碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基和氫原子以外的官能基的碳原子數(shù)為7以上的分支狀有機(jī)基或所述分支狀有機(jī)基以外的碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基，a和b可以相同、也可以不相同、分別表示整數(shù)，a個(gè)R1和b個(gè)R2含有所述分支狀有機(jī)基時(shí)、a和b之和是1以上，a個(gè)R1和b個(gè)R2不含所述分支狀有機(jī)基時(shí)、a和b之和是2以上。
11.一種光記錄媒體的制造方法，其特征在于，包括準(zhǔn)備有機(jī)色素的第1工序，該有機(jī)色素含有有機(jī)色素母體和通過單鍵結(jié)合于該有機(jī)色素母體上的1個(gè)以上的在規(guī)定位置分支為碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基和氫原子以外的官能基的碳原子數(shù)為7以上的分支狀有機(jī)基和/或2個(gè)以上的所述分支狀有機(jī)基以外的碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基；調(diào)制含有所述有機(jī)色素的涂敷液的第2工序；和在所述基材上涂敷所述涂敷液從而形成記錄層的第3工序。
12.如權(quán)利要求11所述的光記錄媒體的制造方法，其特征在于在所述第1工序中，選定在比所述有機(jī)色素母體的分解開始溫度低的溫度下所述碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基進(jìn)行解離的有機(jī)色素。
全文摘要
本發(fā)明提供一種在高溫條件下可形成正確的記錄凹坑且靈敏度和高溫響應(yīng)性優(yōu)異的光記錄媒體及其制造方法。在通過光照射而能夠進(jìn)行信息記錄的光記錄媒體(1)中，在基材(2)上設(shè)置含有有機(jī)色素的記錄層(3)，該有機(jī)色素包含有機(jī)色素母體、和通過單鍵結(jié)合于該有機(jī)色素母體上的1個(gè)以上的在規(guī)定位置分支為碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基和氫原子以外的官能基的碳原子數(shù)為7以上的分支狀有機(jī)基和/或2個(gè)以上的該分支狀有機(jī)基以外的碳原子數(shù)為5以上的有機(jī)基。即使照射高功率激光而溫度上升，也能充分地抑制因有機(jī)色素?zé)岱纸庠斐傻臍怏w產(chǎn)生和伴隨于此的壓力變動(dòng)，因此，在高溫條件下可形成正確的記錄凹坑，同時(shí)，能夠?qū)崿F(xiàn)高水平的靈敏度和高速響應(yīng)性。
文檔編號G11B7/247GK1691166SQ20051006640
公開日2005年11月2日 申請日期2005年4月20日 優(yōu)先權(quán)日2004年4月20日
發(fā)明者新海正博, 田辺順志 申請人:Tdk株式會社