專利名稱：光盤裝置、串擾校正方法和集成電路的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種在光點跨越軌道時，對泄漏到聚焦誤差信號的跟蹤誤 差信號成分進行校正，并降低光盤裝置的耗電和提高聚焦控制的穩(wěn)定性的
光盤裝置、串擾(crosstalk)校正方法和集成電路。
背景技術：
近年來，作為高密度，大容量的記錄介質，DVD—ROM、DVD—RAM、 DVD士R、 DVD士RW得到開發(fā)。除了上述的光盤外，作為以記錄高清晰 影像等為目的更大容量的記錄介質，藍光光盤(blu-mydisc)等光盤得到 開發(fā)。
在光盤裝置中，在光盤聚光的光點跨越軌道時，會產生軌道跨越信號 (跟蹤誤差信號(下面稱為"TE"信號)泄漏到聚焦誤差信號(下面稱為 "FE信號")的光學串擾。若產生光學串擾，則光點會產生抖動，在該 抖動較大的情況下，會產生散焦。
在光盤裝置中，在進行聚焦誤差信號的檢測中，較多采用非點像差法。 非點像差法是一種如下所述的方法將受光元件的受光面分成4部分，在 被分割成4部分的受光面中，將在對角線上配置的2個受光面作為一組， 對光強度信號進行相加(對各個以配置在對角線上的2個受光面構成的組 進行光強度信號的加法運算，求取與各個組對應的這2個加法運算信號。)， 從這2個加法運算信號的差檢測出聚焦誤差信號。
在這樣的非點像差法中，例如，在受光元件的安裝位置偏離了相對于 光軸的光盤的軌道的切線方向的情況下，由于泄漏到2個加法運算信號的 軌道跨越成分(光學串擾)不能成為相同的量，所以泄漏到2個加法運算 信號的軌道跨越成分不能相互抵消，在聚焦誤差信號中出現(xiàn)軌道跨越成 分。若在該聚焦誤差信號出現(xiàn)的軌道跨越成分較大，在光盤裝置中，會產生散焦。因此，需要校正光學串擾。
在現(xiàn)有的光盤裝置中采用在尋道(seek)中等跟蹤控制停止的情況下， 對光學串擾進行校正的方法。對此，利用圖29進行說明。在圖29表示了 現(xiàn)有的光盤裝置600的構成圖。光盤裝置600主要由如下構成用于從光 盤102再生信息或將信息記錄在光盤102的光頭(主要由光源104、耦接 透鏡(coupling lens) 106、偏振光分束器108、偏振板110、會聚透鏡 (converging lens) 112、聚光透鏡114和受光元件116構成)、聚焦誤差 檢測部2901、聚焦控制部2902、垂直移動部140、跟蹤誤差檢測部2904、 跟蹤控制部2905、水平移動部142、和光學串擾校正部2911)。
在圖29中，聚焦誤差檢測部2901通過受光元件116從來自光盤的反 射光中檢測聚焦誤差信號，并輸出。聚焦控制部2902根據(jù)聚焦誤差檢測 部2901的輸出，產生控制信號以使光點在光盤上的的聚光狀態(tài)大致保持 恒定，通過該控制信號驅動垂直移動部140，執(zhí)行聚焦控制。跟蹤誤差檢 測部2904通過受光元件116從來自光盤的反射光檢測跟蹤誤差信號，并 輸出。跟蹤控制部2905根據(jù)跟蹤誤差檢測部2904的輸出，產生控制信號 以使光點的位置在自光盤的軌道中心大致恒定的范圍內，通過該控制信號 驅動水平移動部142，執(zhí)行跟蹤控制。在光點跨越軌道時，在從受光元件 116向跟蹤誤差檢測部2904的路徑到受光元件116向聚焦誤差檢測部2901 的路徑上，產生光學串擾。在圖29的2910表示的部分的構成，等價地表 示該狀態(tài)。由于該光學串擾，從跟蹤誤差信號向聚焦誤差信號，泄漏相當 于光學串擾的信號(光學的泄漏信號)。
光學串擾校正部2911由系數(shù)器2908和加法器2912構成，對從聚焦 誤差檢測部2901輸出的聚焦誤差信號進行電校正，以減少因光學串擾而 產生的光學的泄漏信號成分。系數(shù)器2908將跟蹤誤差信號作為輸入信號， 將用于減少因光學串擾而產生的光學的泄漏信號成分的增益值與跟蹤誤 差信號相乘，輸出到加法器2912。加法器2912通過相加來自聚焦誤差檢 測部2901的輸出和來自系數(shù)器2908的輸出，將減少了因光學串擾而產生 的光學的泄漏信號成分的聚焦誤差信號輸出到聚焦控制部2902。
由此，在光盤裝置600中，可以實現(xiàn)降低光學串擾的影響的聚焦控制。
關于該聚焦誤差信號的校正，例如，具有如下技術求出跟蹤停止時的泄漏到聚焦誤差信號的跟蹤誤差信號的泄漏量，在尋道時，從聚焦誤差
信號減去根據(jù)該求得的泄漏量進行水平(level)調整后的跟蹤誤差信號(例
如，參照專利文獻l)。
另外，關于該聚焦誤差信號的校正，以往也采用過如下技術將在岸
臺(land)和溝槽(groove)各不相同的聚焦偏置量，分別在岸臺和溝槽 進行校正(例如，參照專利文獻2)。
也有用差動非點像差法代替非點像差法來進行聚焦誤差信號的校正 的技術。在該差動非點像差法中，利用3個光束，通過取由受光面被分成 4部分的受光元件作成的第1聚焦誤差信號(通過第1光束獲得的聚焦誤 差信號)和包含與第1聚焦誤差信號中的光學串擾反相的光學串擾的第2 聚焦誤差信號(通過第2光束獲得的聚焦誤差信號和通過第3光束獲得的 聚焦誤差信號的和信號)的和來使光學串擾降低。由此，可以防止由于光 學串擾而產生的光學的泄漏信號成分泄漏到聚焦誤差信號。
專利文獻l:特開2001—67682號公報(第2頁)
專利文獻2:特開平8 —180429號公報
但是，根據(jù)上述技術，由于對象是跟蹤控制停止的情況，所以，在跟 蹤控制開啟時，由于軌道的曲折(蛇行)成分等會產生偏離軌道(off-tmck) 的狀態(tài)，在聚焦誤差信號中產生光學串擾的情況下，在光盤裝置中，存在 耗電增加，聚焦控制變得不穩(wěn)定的問題點。
另外，根據(jù)上述技術，由于沒有考慮由跟蹤誤差信號的調制系數(shù)的變 化引起的光學串擾的變化，所以，例如，在光盤裝置中存在如下問題在 岸臺和溝槽的至少一方進行記錄 再生的情況下，無法適當?shù)匦Ｕ鈱W串 擾，存在耗電增加，聚焦控制變得不穩(wěn)定。
另外，根據(jù)上述技術，在具有2個以上可記錄，再生的層的光盤進行 記錄/再生時，由于沒有考慮因各層的跟蹤誤差信號的調制度(modulation depth)的差異等而引起的光學串擾量的差異，所以在將相同的校正值應用 于所有的層情況下，無法適當?shù)匦Ｕ鈱W串擾，在光盤裝置中，存在耗電 增加，聚焦控制變得不穩(wěn)定的問題點。
另外，根據(jù)上述技術，在再生來自光盤的信息中和向光盤記錄信息中， 對檢測聚焦誤差信號的光受光元件的聚焦誤差信號的對比度(contrast)發(fā)
ii生變化，與此相伴泄漏到聚焦誤差信號的跟蹤誤差信號的成分發(fā)生變化的
情況下，例如，在聚焦誤差信號的偏置量、球面像差量或徑向傾斜(radial tilt)量發(fā)生變化的情況下，無法適當?shù)匦Ｕ鈱W串擾，在光盤裝置中，存 在耗電增加，聚焦控制變得不穩(wěn)定的問題點。
另外，在從聚焦驅動向跟蹤驅動存在機械串擾(圖30的3001為等價 地表示其的部分)情況下，形成如圖30中的箭頭線R3003表示的往聚焦 控制系的局部磁滯回線，存在聚焦控制系的動作變得不穩(wěn)定的問題。
另外，在上述的技術中，例如，在光盤裝置的激光光源使用藍色激光 的情況下，由于不能將藍色激光的輸出能量提升到光盤裝置所需要的激光 能量上，所以，需要提升光頭的光利用效率。因此，在以藍色激光作為激 光光源的光盤裝置中，難以采用如差動非點像差法那樣分割利用光的檢測 方法來降低光學串擾的影響。
進而，在上述技術中，根據(jù)跟蹤停止時的FE信號的振幅決定用于校 正的增益值，將該增益值與TE信號相乘，將和增益值相乘后的TE信號 和FE信號相加，由此來對由于串擾而泄漏到FE信號的TE信號成分進行 校正。在上述技術中，在跟蹤開啟時，也使用在跟蹤停止時確定的增益值， 來校正因光學串擾而泄漏到FE信號的TE信號成分，在該方法中，跟蹤 開啟時的校正并非最佳。
對此，利用圖29和圖31進行說明。圖31 (a)是TE信號波形的一 個例子。圖31 (b)是泄漏到FE信號的TE信號成分的信號波形的一個例 子。在圖31 (a) 、 (b)均為橫軸表示時間(橫軸的變量作為0，設為與 時間對應的角度)，縱軸表示振幅。圖31(a)表示設聚焦誤差信號為A "sin0 的情況下的信號波形，圖31 (b)表示設聚焦誤差信號中的跟蹤誤差信號 的泄漏成分為B sin (0+cO的情況下的信號波形。并且，將圖29的系 數(shù)器的增益值設為G。對于這種情況在下面進行說明。
用于跟蹤停止時的水平調整(校正)的增益值G按照使系數(shù)器2908 的輸出G A sM和由于光學串擾泄漏到FE信號的信號成分B sin (0 + a)相加后的信號(下面稱為"加法運算信號")即(B"sin + + G*A，sin"的振幅值成為最小的方式求得。展開該加法運算信號f") 如(數(shù)學式l)。數(shù)學式1
，)=5 sin(6> + a) + sin P
=(5 cos a + G/4) sin P + 5 sin a cos 6
根據(jù)(數(shù)學式l)，加法運算信號的振幅值Amp通過(數(shù)學式2)求得。
數(shù)學式2
v4wp = "y(^6cosa + G/4)2 + (5 sin a)2
=V爿2(G + ^cosa")2 +52(1-cos2 a)
根據(jù)(數(shù)學式2)，使加法運算信號的振幅值Amp最小的增益值G， 如(數(shù)學式3)求得。
數(shù)學式3
G = —5cosa//4
若將由(數(shù)學式3)求得的增益值G設定在系數(shù)器2908中，由于可 以有效地減少跟蹤停止時的FE信號中的TE信號的泄漏成分，所以，在 光盤裝置中，可以降低光學串擾的影響。
但是，在光盤裝置中，在跟蹤開啟時，軌道上點(on-tmck point)附 近的FE信號的行為十分重要。即通過求取FE信號的振幅的斜率和TE信 號振幅的斜率相同這樣的光學校正量G，可以最佳地校正光學串擾。用于 跟蹤開啟時的水平調整(校正)的增益值G，按照使系數(shù)器2908的輸出 G A sin0的0的微分值(斜率)和因光學串擾而泄漏到FE信號的信號 成分B' sin (0+a)的0的微分值(gradient,斜率)相加后的信號，即 加法運算信號(B sin "+o;) +G A sin"的0的微分值成為最小的 方式求得。該加法運算信號的微分值f (P)成為(數(shù)學式4)。數(shù)學式4
/' (e)=丄[g si一 ++ 04 sin 0}
對于f (們的值成為0的增益值G，設f'W) =0，通過(數(shù)學式5) 求得G。數(shù)學式5
/' (6 )=丄{5 sin(6> + a) +sin夕} = 0 丄5 si一 + a)=丄(-sin 6>)
G = —5(cos a — sin " tan P) /爿
在(數(shù)學式5)，存在著(數(shù)學式3)中沒有的2項，在這部分的軌 道上點(0附近)中，增益值G的計算精度變高。
若將通過(數(shù)學式5)求得的增益值設定在系數(shù)器2908中，由于可以 有效地減少跟蹤開啟時的FE信號中的TE信號的泄漏成分，所以，在光 盤裝置中，可以高效率地降低在跟蹤開啟時的特別是在軌道上點附近的光 學串擾的影響。
另外，如由(數(shù)學式3)和(數(shù)學式5)可知，F(xiàn)E信號和TE信號的 泄漏成分為同相的情況(a=0)下，在跟蹤停止時最佳的校正量和在跟蹤 開啟時最佳的校正量成為G=_B/A，變得一致，在不是同相的情況下， 在跟蹤開啟時使用和跟蹤停止時相同的校正量則無法最佳地校正光學串 擾，在光盤裝置中，產生消耗電流的增加，聚焦控制缺少穩(wěn)定性的問題。
進而，根據(jù)上述技術，在岸臺和溝槽的軌道的能效比(dutymtio)不 同的情況下，跟蹤誤差信號的斜率在各個軌道中不相同。因此，在需要軌 道極性的切換的情況下，需要調整分別適于岸臺和溝槽的光學串擾的校正 值，若不進行這樣的調整，就會產生消耗電流的增加，聚焦控制缺少穩(wěn)定 性的問題。
進而，在上述技術中，關于聚焦誤差信號的校正，在盤為多層的情況 下，也可以通過同一方法進行校正。由于盤的制造上的偏差，基于各層在 軌道間距存在偏差的情況下，為了進行最佳的校正，需要與各層對應地調 整校正量，在上述技術中，若不進行這樣的調整，在光盤裝置中，產生消 耗電流的增加，聚焦控制缺少穩(wěn)定性的問題。
進而，根據(jù)上述的技術，由于不進行基于聚焦誤差信號的偏置量、激 光器的球面像差量或頭傾斜量的調整，所以不能進行最佳的校正，在光盤 裝置中，產生消耗電流的增加、聚焦控制缺少穩(wěn)定性的問題。

發(fā)明內容
本發(fā)明鑒于上述問題而提出的，其目的在于在光盤裝置中不論在跟蹤 停止時還是跟蹤開啟時，抑制光盤裝置的耗電的增加，提高聚焦控制的穩(wěn) 定性。
另外，本發(fā)明目的在于實現(xiàn)一種用于該光盤裝置的串擾校正方法和集 成電路。
第1發(fā)明是一種光盤裝置，在具有由岸臺和溝槽構成的軌道的光盤進 行信息的記錄再生，所述光盤裝置具有聚焦誤差檢測部、跟蹤誤差檢測 部、光學串擾校正量決定部、乘法器、加法器、聚焦控制部和跟蹤控制部。 聚焦誤差檢測部從在光盤聚光的點的反射光中檢測聚焦誤差信號，并輸出 聚焦誤差信號。跟蹤誤差檢測部從反射光中檢測跟蹤誤差信號，并輸出跟 蹤誤差信號。光學串擾校正量決定部在點跨越軌道時，根據(jù)在來自光盤的 反射光中產生的從跟蹤誤差信號向聚焦誤差信號的光學串擾，決定用于校 正跟蹤誤差檢測部的輸出的校正量。乘法器將跟蹤誤差檢測部的輸出和光 學串擾校正量決定部所決定的校正量相乘。加法器將聚焦誤差檢測部的輸 出和乘法器的輸出相加。聚焦控制部根據(jù)加法器的輸出對點的聚焦進行控 制。跟蹤控制部根據(jù)跟蹤誤差檢測部的輸出進行跟蹤控制。
在本光盤裝置中，通過光學串擾校正量決定部在點跨越軌道時，根據(jù)
在來自光盤的反射光中產生的從TE信號向FE信號的光學串擾，決定用 于校正跟蹤誤差檢測部的輸出的校正量，將該決定的校正量和跟蹤誤差檢 測部的輸出相乘，和聚焦誤差檢測部的輸出相加。并且，由于由聚焦控制 部根據(jù)加法運算的結果執(zhí)行聚焦控制，所以，可以有效地減少因光學串擾 而泄漏到FE信號的TE信號成分。其結果，可以提高光盤裝置中的聚焦 控制的穩(wěn)定性，可以減少光盤裝置的耗電。
第2發(fā)明以第1發(fā)明為基礎，其光學串擾校正量決定部根據(jù)由跟蹤誤 差信號泄漏到在聚焦誤差信號的信號成分的微分值，決定用于校正跟蹤誤 差檢測部的輸出的校正量。
在本光盤裝置中，由于由光學串擾校正量決定部根據(jù)從跟蹤誤差信號 泄漏到聚焦誤差信號的信號成分的微分值，決定用于校正跟蹤誤差檢測部
15的輸出的校正量，所以，在從TE信號泄漏到在FE信號的信號成分的振
幅值較小的情況下，也可以以較高的精度進行光學串擾的校正。因此，在 本光盤裝置中，即使在跟蹤開啟狀態(tài)的情況下，也可以進行高精度的光學
串擾校正。在跟蹤開啟狀態(tài)(軌道上點附近)的情況下，由于從TE信號 泄漏到FE信號的信號成分的振幅值較小，所以根據(jù)振幅值決定進行光學 串擾校正的校正量，根據(jù)該校正量進行光學串擾校正，則精度較低。因此， 在本光盤裝置中，根據(jù)從TE信號泄漏到FE信號的信號成分的微分值來 決定進行光學串擾校正的校正量，由此，在跟蹤開啟狀態(tài)(軌道上點附近) 也可以執(zhí)行精度較高的光學串擾校正。另外，"微分值"是包括差分值(斜 率值)的概念，例如，包括取在以一定周期間隔采樣的信號值間的差分(斜 率)的值的概念。
第3發(fā)明以第1或第2發(fā)明為基礎，光學串擾校正量決定部在執(zhí)行點 的聚焦控制而不執(zhí)行點的跟蹤控制的情況下，根據(jù)從跟蹤誤差信號泄漏到 聚焦誤差信號的信號成分的振幅值，決定用于校正跟蹤誤差檢測部的輸出 的校正量的粗略校正量。而且，光學串擾校正量決定部在執(zhí)行點的聚焦控 制并執(zhí)行點的跟蹤控制的情況下，根據(jù)從跟蹤誤差信號泄漏到聚焦誤差信 號的信號成分的微分量，決定用于校正跟蹤誤差檢測部的輸出的校正量的 精確校正量。
在本光盤裝置中，通過在求概略校正值后求精確校正量，來決定用于 進行校正光學串擾校正的校正量，所以可以在短時間內正確地決定用于進 行光學串擾校正的校正量。
第4發(fā)明以第3發(fā)明未基礎，還具有對跟蹤控制部的輸出附加擾動信 號的擾動附加部。擾動附加部，在執(zhí)行跟蹤控制的情況下，附加具有跟蹤 控制和聚焦控制的頻帶外的頻率和振幅的擾動信號。光學串擾校正量決定 部根據(jù)因附加擾動信號而產生的、從跟蹤誤差信號泄漏到聚焦誤差信號的 信號成分，決定用于校正跟蹤誤差檢測部的輸出的校正量的精確校正量。
在本光盤裝置中，在執(zhí)行跟蹤控制的情況中，由擾動附加部附加具有 跟蹤控制和聚焦控制的頻帶外的頻率和振幅的擾動信號，所以，可以高效 率地決定精確校正量。另外，作為擾動信號，由于使用具有跟蹤控制和聚 焦控制的頻帶外的頻率和振幅的信號，所以不會對跟蹤控制和聚焦控制帶來影響，可以決定精確校正量。
第5發(fā)明以第1到第4發(fā)明中的任意一項為基礎，還具有跟蹤極性決 定部，其將進行跟蹤控制的對象決定為軌道的岸臺和溝槽的某一方。光學 串擾校正量決定部根據(jù)跟蹤極性決定部的輸出，設定校正量。
由此，由于可以抑制因在光盤的軌道的岸臺/溝槽的跟蹤誤差信號的調 制度的變化引起的校正值的偏差，所以，可以減少光盤裝置的耗電和提高 聚焦控制的穩(wěn)定性。
第6發(fā)明以第5發(fā)明為基礎，光學串擾校正量決定部在岸臺和溝槽的
至少任意的一方中，求取校正量。
第7發(fā)明以第5發(fā)明為基礎，光學串擾校正量決定部根據(jù)岸臺的校正 量，決定溝槽的校正量。
由此，由于不需要用另一種方法決定溝槽的校正量，所以，可以高效 率地根據(jù)岸臺的校正量決定溝槽的校正量。
第8發(fā)明以第5發(fā)明為基礎，光學串擾校正量決定部根據(jù)溝槽的校正 量，決定岸臺的校正量。
由此，由于不需要另外決定岸臺的校正量，所以，可以高效率地根據(jù) 溝槽的校正量決定岸臺的校正量。
第9發(fā)明以第1到第4發(fā)明中的任意一項為基礎，光盤具有2個以上 的可記錄/再生的層；還具有使點從任意的層向其他的層移動的層間移動 部；和決定使點聚光的層的層決定部。光學串擾校正量決定部根據(jù)層決定 部的輸出，設定校正量。
由此，對于由多層構成的光盤，也可以由本光盤裝置適當?shù)剡M行光學 串擾校正。
第10發(fā)明以第9發(fā)明為基礎，光學串擾校正量決定部在光盤的各層 中，求取校正量。
由此，對于由多層構成的光盤，也可以執(zhí)行考慮了層間的差異的光學 串擾校正。
第11發(fā)明以第9發(fā)明為基礎，光學串擾校正量決定部根據(jù)任意層的 校正量，決定其他的層的校正量。
由此，可以高效率地決定其他層的校正量。第12發(fā)明以第1到第4發(fā)明中的任意一項為基礎，還具有偏置決 定部，其決定和聚焦誤差檢測機構部的輸出相加的偏置值；和偏置加法器，
其將聚焦誤差檢測部的輸出和偏置決定部所決定的偏置值相加。加法器將 偏置加法器的輸出和乘法器的輸出相加。光學串擾校正量決定部根據(jù)偏置 決定部所決定的偏置值，設定校正量。
由此，可以根據(jù)偏置由本光盤裝置適當?shù)貓?zhí)行光學串擾校正。
第13發(fā)明以第12發(fā)明為基礎，光學串擾校正量決定部根據(jù)偏置決定 部所決定的任意的偏置值的校正量，決定其他的偏置值的校正量。 由此，可以高效率地決定其他偏置值的校正量。
第14發(fā)明以第12發(fā)明為基礎，光學串擾校正量決定部在偏置值由A
成為B的情況下，重新計算偏置值為B時的校正量。
由此，可以對應偏置值的變化，適當?shù)貓?zhí)行光學串擾的校正。
第15的發(fā)明以第1到第4發(fā)明中的任意一項為基礎，還具有球面
像差檢測部，其檢測在光盤上的點中產生的球面像差校正量；和球面像差
校正部，其根據(jù)球面像差檢測部所檢測出的球面像差校正量，校正球面像 差。光學串擾校正量決定部根據(jù)球面像差檢測部所檢測出的球面像差校正 量，設定校正量。
由此，可以適當?shù)剡M行考慮球面像差的光學串擾校正。
第16發(fā)明以第15發(fā)明為基礎，光學串擾校正量決定部根據(jù)球面像差
檢測部所檢測出的任意的球面像差校正量的校正量，決定球面像差檢測部
所檢測出的其他的球面像差校正量的校正量。
由此，可以高效率地決定其他的球面像差校正量的校正量。
第17發(fā)明以第15發(fā)明為基礎，光學串擾校正量決定部在球面像差檢
測部所檢測出的球面像差校正量由A成為B的情況下，重新計算球面像
差校正量為B時的校正量。
由此，可以對應球面像差量的變化，適當?shù)貓?zhí)行光學串擾的校正。 第18的發(fā)明以第1到第4發(fā)明中的任意一項為基礎，還具有徑向
傾斜檢測部，其檢測光盤的徑向傾斜量；和徑向傾斜校正部，其根據(jù)徑向
傾斜檢測部所決定的徑向傾斜量，校正徑向傾斜量。光學串擾校正量決定 部根據(jù)徑向傾斜檢測部所檢測出的徑向傾斜量，設定校正量。由此，可以根據(jù)徑向傾斜量，由本光盤裝置適當?shù)貓?zhí)行光學串擾校正。 第19發(fā)明以第18發(fā)明為基礎，光學串擾校正量決定部根據(jù)徑向傾斜
檢測部所檢測出的任意的徑向傾斜量的校正量，決定徑向傾斜檢測部所檢
測出的其他的徑向傾斜量的校正量。
由此，可以高效率地決定其他的徑向傾斜量的校正量。
第20發(fā)明以第18發(fā)明為基礎，光學串擾校正量決定部在徑向傾斜檢 測部所檢測出的徑向傾斜量由A成為B的情況下，決定徑向傾斜量為B 時的校正量。
由此，可以根據(jù)徑向傾斜量的變化適當?shù)貓?zhí)行光學串擾校正。
第21發(fā)明是一種串擾校正方法，用于在具有由岸臺和溝槽構成的軌 道的光盤進行信息的記錄再生的光盤裝置，所述串擾校正方法包括聚焦 誤差檢測步驟、跟蹤誤差檢測步驟、光學串擾校正量決定步驟、乘法運算 步驟、加法運算步驟、聚焦控制步驟和跟蹤控制步驟。聚焦誤差檢測步驟 中，從在光盤聚光的點的反射光中檢測聚焦誤差信號，并輸出聚焦誤差信 號。跟蹤誤差檢測步驟中，從反射光中檢測跟蹤誤差信號，并輸出跟蹤誤 差信號。光學串擾校正量決定步驟，在點跨越軌道時，根據(jù)在來自光盤的 反射光中產生的從跟蹤誤差信號向聚焦誤差信號的光學串擾，決定用于校 正跟蹤誤差檢測部的輸出的校正量。乘法運算步驟中，將跟蹤誤差檢測部 的輸出和光學串擾校正量決定部所決定的校正量相乘。加法運算步驟中， 將聚焦誤差檢測部的輸出和乘法器的輸出相加。聚焦控制步驟中，根據(jù)加 法器的輸出對點的聚焦進行控制。跟蹤控制步驟中，根據(jù)跟蹤誤差檢測部 的輸出進行跟蹤控制。
本串擾校正方法可以產生和第1發(fā)明相同的效果。
第22發(fā)明是一種串擾校正方法，在具有由岸臺/溝槽構成的軌道的光 盤中，在光盤聚光的點跨越軌道時，根據(jù)是岸臺/溝槽中的哪一個，設定對 來自光盤的反射光中產生的由跟蹤誤差信號向聚焦誤差信號的光學串擾 進行校正的校正量；將表示軌道與在光盤聚光的點之間的偏移的跟蹤誤差 信號和校正量相乘，將乘法運算結果和表示點在光盤的會聚狀態(tài)的聚焦誤 差信號相加。
本串擾校正方法可以產生和第1發(fā)明相同的效果。由此，由于可以抑制因光盤的軌道的岸臺/溝槽的跟蹤誤差信號的調制 度的變化引起的校正值的偏差，所以，通過將本校正方法在光盤裝置使用， 可以減少光盤裝置的耗電和提高聚焦控制的穩(wěn)定性。
第23發(fā)明以第22發(fā)明為基礎，在岸臺和溝槽的至少任意的一方中，
求取校正量。
第24發(fā)明以第22發(fā)明為基礎，根據(jù)岸臺的校正量，決定溝槽的校正 第25發(fā)明以第22發(fā)明為基礎，根據(jù)溝槽的校正量，決定岸臺的校正
第26發(fā)明是一種串擾校正方法，在光點跨越光盤的軌道時，根據(jù)是 光盤的層的哪一層，設定對來自光盤的反射光中產生的從跟蹤誤差信號向 聚焦誤差信號的光學串擾進行校正的校正量；將表示軌道與在光盤聚光的 光點之間的偏移的跟蹤誤差信號和校正量相乘，將乘法運算結果和表示光 點在光盤的會聚狀態(tài)的聚焦誤差信號相加。
由此，對由多層構成的光盤也可以執(zhí)行考慮層間的差異的光學串擾校正。
第27發(fā)明以第26發(fā)明為基礎，在光盤的各層中，求取校正量。 第28發(fā)明以第26發(fā)明為基礎，根據(jù)任意的層的校正量，決定其他的 層的校正量。
第29發(fā)明是一種串擾校正方法，在光點跨越光盤的軌道時，根據(jù)對 聚焦誤差信號的偏置值，設定對來自光盤的反射光中產生的從跟蹤誤差信 號向聚焦誤差信號的光學串擾進行校正的校正量；將表示軌道與在光盤聚 光的光點之間的偏移的跟蹤誤差信號和校正量相乘，將乘法運算結果和表 示光點在光盤的會聚狀態(tài)的聚焦誤差信號相加。
由此，可以根據(jù)偏置值適當?shù)貓?zhí)行光學串擾校正。
第30發(fā)明以第29發(fā)明為基礎，根據(jù)偏置值在任意的情況下的校正量， 決定偏置值在其他的情況下的校正量。
第31發(fā)明以第29發(fā)明為基礎，在偏置值由A成為B的情況下，重 新計算偏置值為B時的校正量。
第32發(fā)明是一種串擾校正方法，在光點跨越光盤的軌道時，根據(jù)對在光盤上的光點中產生的球面像差進行校正的球面像差校正量，設定對來 自光盤的反射光中產生的從跟蹤誤差信號向聚焦誤差信號的光學串擾進
行校正的校正量；將表示軌道與在光盤聚光的光點之間的偏移的跟蹤誤差
信號和校正量相乘，將乘法運算結果和表示向點在光盤的會聚狀態(tài)的聚焦 誤差信號相加。
第33發(fā)明以第32發(fā)明為基礎，根據(jù)球面像差校正量在任意的情況下 的校正量，求取球面像差校正量在其他情況下的校正量。
第34發(fā)明以第32發(fā)明為基礎，在球面像差校正量由A成為B的情 況下，重新計算球面像差校正量為B時的校正量。
第35發(fā)明是一種串擾校正方法，在光點跨越光盤的軌道時，根據(jù)對 在光盤中產生的徑向傾斜量進行校正的徑向傾斜校正量，設定對來自光盤 的反射光中產生的從跟蹤誤差信號向聚焦誤差信號的光學串擾進行校正 的校正量；將表示軌道與在光盤聚光的點之間的偏移的跟蹤誤差信號和校 正量相乘，將乘法運算結果和表示光點在光盤的會聚狀態(tài)的聚焦誤差信號 相加。
由此，可以根據(jù)徑向傾斜量適當?shù)貓?zhí)行光學串擾校正。 第36發(fā)明以第35發(fā)明為基礎，根據(jù)徑向傾斜校正量在任意情況下的 校正量，決定徑向傾斜校正量在其他的情況下的校正量。
第37發(fā)明以第35發(fā)明為基礎，在徑向傾斜校正量由A成為B的情 況下，重新計算徑向傾斜校正量為B時的校正量。
第38發(fā)明是一種集成電路，用于在具有由岸臺和溝槽構成的軌道的 光盤進行信息的記錄再生的光盤裝置，所述集成電路具有聚焦誤差檢測 部、跟蹤誤差檢測部、光學串擾校正量決定部、乘法器、加法器、聚焦控 制部和跟蹤控制部。聚焦誤差檢測部從在光盤聚光的點的反射光中檢測聚 焦誤差信號，并輸出聚焦誤差信號。跟蹤誤差檢測部從反射光中檢測跟蹤 誤差信號，并輸出跟蹤誤差信號。光學串擾校正量決定部在點跨越軌道時， 根據(jù)在來自光盤的反射光中產生的從跟蹤誤差信號向聚焦誤差信號的光 學串擾，決定用于校正跟蹤誤差檢測部的輸出的校正量。乘法器將跟蹤誤 差檢測部的輸出和光學串擾校正量決定部所決定的校正量相乘。加法器將 聚焦誤差檢測部的輸出和乘法器的輸出相加。聚焦控制部根據(jù)加法器的輸
21出對點的聚焦進行控制。跟蹤控制部根據(jù)跟蹤誤差檢測部的輸出進行跟蹤 控制。
本集成電路產生和第1發(fā)明相同的效果。
根據(jù)本發(fā)明，不論在跟蹤停止時還在跟蹤開啟時，根據(jù)岸臺/溝槽、層、 聚焦偏置量、球面像差量或徑向傾斜量來設定光學串擾校正量，從而可以 適當?shù)匦Ｕ鈱W串擾。由此，可減少光盤裝置的耗電和提高聚焦控制的穩(wěn) 定性。
另外，可以實現(xiàn)在光盤裝置使用的串擾校正方法和集成電路。


圖1是表示本發(fā)明的實施方式1中的光盤裝置的圖。
圖2是表示本發(fā)明的實施方式1到實施方式5中作為對象的光盤的圖。 圖3是表示本發(fā)明的實施方式1到實施方式5中的光學串擾測定的例 子的圖。
圖4是表示本發(fā)明的實施方式1中的光學串擾校正量設定部1的圖。 圖5是本發(fā)明的實施方式1中的流程圖。
圖6是表示本發(fā)明的實施方式1中的光學串擾校正量設定部2的圖。
圖7是本發(fā)明的實施方式1中的流程圖。
圖8是表示本發(fā)明的實施方式2中的光盤裝置的圖。
圖9是表示本發(fā)明的實施方式2中的光學串擾校正量設定部1的圖。
圖10是本發(fā)明的實施方式2中的流程圖。
圖11是表示本發(fā)明的實施方式2中的光學串擾校正量設定部2的圖。
圖12是本發(fā)明的實施方式2的流程圖。
圖13是表示本發(fā)明的實施方式3中的光盤裝置的圖。
圖14是表示本發(fā)明的實施方式3中的光學串擾校正量設定部1的圖。
圖15是本發(fā)明實施方式3中的流程圖。
圖16是表示本發(fā)明的實施方式3中的光學串擾校正量設定部2的圖。
圖17是本發(fā)明的實施方式3中的流程圖。
圖18是表示本發(fā)明的實施方式4中的光盤裝置的圖。
圖19是表示本發(fā)明的實施方式4中的光學串擾校正量設定部1的圖。圖20是本發(fā)明的實施方式4中的流程圖。
圖21是表示本發(fā)明的實施方式4中的光學串擾校正量設定部2的圖。
圖22是本發(fā)明的實施方式4中的流程圖。
圖23是表示本發(fā)明的實施方式5中的光盤裝置的圖。
圖24是表示本發(fā)明的實施方式5中的徑向傾斜檢測部的圖。
圖25是表示本發(fā)明的實施方式5中的光學串擾校正量設定部1的圖。
圖26是本發(fā)明的實施方式5中的流程圖。
圖27是表示本發(fā)明的實施方式5中的光學串擾校正量設定部2的圖。
圖28是表示本發(fā)明的實施方式5中的流程圖2的圖。
圖29是表示現(xiàn)有的光盤裝置中的光學串擾校正部的圖。
圖30是具有光學串擾和機械串擾的光盤裝置的框圖。
圖31是TE信號波形和泄漏到FE信號的TE信號成分的信號波形的
一個例子。
圖32是擾動信號、TE信號和FE信號的一個例子。
圖33是表示增益值Ga和光學串擾量之間的關系的圖表。
符號的說明
100、 200、 300、 400、 500 —光盤裝置，102_光盤、104—光源，106 一耦接透鏡，108 —偏振光分束器，IIO —偏振板，112 —會聚透鏡， 114一聚光透鏡，116 —受光元件，118 —聚焦誤差檢測部，120—跟蹤 誤差檢測部，124 —光學串擾校正量運算部，126 —加法器，128_乘 法器，130 —極性切換部，132 —跟蹤控制部，136 —校正量切換部， 138 —聚焦控制部，1440 —擾動附加部，140 —擾動生成器，142 —垂 直移動部，144一水平移動部，156 —跟蹤極性決定部，202 —層決定 部，206—層間移動部，302—偏置決定部，306—偏置加法器，404— 球面像差檢測部，402—球面像差校正部，502—徑向傾斜檢測部，504 一徑向傾斜校正部。
具體實施例方式
(實施方式l) <光盤裝置的構成>圖1是表示本發(fā)明的實施方式1中的光盤裝置100的構成的框圖。
本發(fā)明的光盤裝置100具有用于從光盤102再生信息或將信息記錄到 光盤102的光頭(主要由光源104、耦接透鏡106、偏振光分束器108、偏 振板IIO、會聚透鏡112、聚光透鏡114和受光元件116構成)
光盤102是可以通過光束進行存取(access)的信息介質。光盤102 具有由岸臺和溝槽構成的軌道，從岸臺和溝槽的至少一方再生信息，另外 向岸臺和溝槽中的至少一方記錄信息。另夕卜，光盤102，如圖2 (A)所示
那樣可記錄/再生的層可以只有一個層1002，也可以如圖2 (B)所示那樣 有兩個層即層1004和層1006，或者也可以有3個以上的層。例如，光盤 102可以是DVD—ROM或DVD—RAM、 DVD—R、 DVD+R、 DVD— RW或DVD+RW，可以是紅外光源用的光盤或藍色光源用的光盤。
光源104是射出擴散光的元件。例如，可以是半導體激光、紅外光源、 紅色光源和藍色光源。光源104射出的光束通過耦合透鏡106成為平行光 后，通過偏振光分束器108被反射，穿過偏振板110，通過會聚透鏡112 被會聚。并且，通過會聚后的光束，形成光點以使在光盤的垂直方向具有 聚焦點。
來自光盤102的反射光穿過會聚透鏡112、偏振板110、偏振光分束 器108，通過聚光透鏡114被輸入到受光元件116。受光元件116的輸出 被輸入到聚焦誤差檢測部118和跟蹤誤差檢測部120。聚焦誤差檢測部118 的輸出被輸入到光學串擾校正量運算部124和加法器126。跟蹤誤差檢測 部120的輸出被輸入到光學串擾校正量運算部124、乘法器128和極性切 換部130。極性切換部130的輸出被輸入到跟蹤控制部132。光學串擾校 正量運算部124的輸出被輸入到校正量切換部136。校正量切換部136的 輸出被輸入到乘法器128。乘法器128的輸出是將跟蹤誤差檢測部120的 輸出和校正量切換部136的輸出相乘，被輸入到加法器126。加法器126 將聚焦誤差檢測部118的輸出和乘法器128的輸出相加，將其輸入到聚焦 控制部138輸入。聚焦控制部138的輸出被輸入到垂直移動部140。跟蹤 控制部132的輸出通過擾動附加部1440，被輸入到水平移動部142。跟蹤 極性決定部156的輸出被輸入到極性切換部130、光學串擾校正量運算部 124和校正量切換部136。另外，擾動附加部1440包括生成擾動信號的擾動生成器144;和將
擾動生成器144的輸出和跟蹤控制部132的輸出相加并輸出到水平移動部 142的加法器1441。
另外，光學串擾校正量運算部124和校正量切換部構成光學串擾校正 量決定部1000。
受光元件116被分割成多個元件，例如分割成2部分或4部分，輸出 與各元件的受光光量對應的信號。
聚焦誤差檢測部118檢測出光點與光盤102的記錄/再生層之間的垂直 方向的位置偏移信號(FE信號)，并將其輸出。FE信號的檢測方法，例 如可以利用非點像差法，也可以利用SSD (spot size detection)法。
跟蹤誤差檢測部120檢測出光點與光盤102上的軌道之間的水平方向 的位置偏移信號(TE信號)，并將其輸出。TE信號的檢測方法，例如可 以利用PP (push—pull)法、也可以利用3光束法或位相差法。
光學串擾校正量運算部124在光點跨越光盤102上的軌道時，對從在 來自光盤102的反射光中產生的從跟蹤誤差信號泄漏到聚焦誤差信號的信 號成分(下面稱為"光學串擾")進行測定，決定用于校正光學串擾的校 正量。光學串擾的測定方法例如，如圖3所示，在擾動生成器144產生特 定頻率的正弦波的擾動，對利用擾動強制地產生偏離軌道時的聚焦誤差檢 測部118的輸出的振幅和跟蹤誤差檢測部120的輸出的振幅進行測定。
對此，以下進行說明。
首先，在光盤裝置100中，使聚焦控制成為開啟狀態(tài)，使跟蹤控制成 為停止狀態(tài)，計測FE信號的信號振幅，求取光學串擾的量(下面稱為"光 學串擾量")。根據(jù)該光學串擾量求取光學串擾校正量的近似粗略值Go;。 即這相當于根據(jù)上述的(數(shù)學式3)求取增益值G的操作。
接著，使聚焦控制保持開啟狀態(tài)，使跟蹤控制成為開啟狀態(tài)，在光盤 裝置中，在執(zhí)行跟蹤控制時，通過擾動附加部1440，將具有跟蹤控制和聚 焦控制的頻帶外的頻率和振幅的擾動信號加在跟蹤控制部132的輸出上。 在這樣的狀態(tài)下，根據(jù)TE信號的斜率即微分值(差分值)和FE信號的 斜率即微分值(差分值)求取串擾量，根據(jù)該求得的串擾量求取光學串擾 校正量的精確值Ga'。即這相當于根據(jù)上述(數(shù)學式5)求增益值G的操作。更具體地，利用圖32和圖33進行說明。
在圖32，表示了擾動信號21、 TE信號22和FE信號23。擾動信號 21在聚焦控制狀態(tài)并且是跟蹤控制狀態(tài)時，以矩形波信號來賦予。根據(jù)賦 予的擾動信號21的變化，TE信號和FE信號發(fā)生變化，從擾動信號21即 矩形波信號的上升沿和下降沿起經(jīng)過了大概一定時間(Tm)后，產生位 移最大的點和位移最小的點。設從擾動信號21的上升沿起任意的時刻下 的所述Tm時間后的TE信號的位移值為TEr[n]、 FE信號位移為FEr[n]， 同樣，設從擾動信號21的下降沿起任意的時刻下的所述Tm時間后的TE 信號位移為TEftn]， FE信號位移為FEftn]，則根據(jù)TE信號，影響FE信 號的位移量(光學串擾量)如(數(shù)學式6)所示。數(shù)學式6
光學串擾量二 Z ," +1] — ,"]. (-l)"
這個通過(數(shù)學式6)求得的光學串擾量從算出的符號關系還可以判 斷TE信號和FE信號的相位關系。
接著，對于從如以上求得的光學串擾量來算出光學串擾校正量的精確 值Gce'的方法，利用圖33進行說明。
圖33是橫軸取用于決定光學串擾校正量的增益值Go;，縱軸取光學串 擾量(以下略記為Crs)的圖表。在圖33的24所示的直線是用于求取決 定光學串擾校正量的增益值的近似線，在25所示的點是第1測定點，在 26所示的點是第2測定點。
對增益值Ga賦予不會導致過度校正的適當?shù)某跏贾?，按照光學串擾 量Crs在(數(shù)學式6)表示的計測方法進行測定。
由于已經(jīng)明確Ga和Crs具有一次線性關系，根據(jù)作為初期值賦予Gce 來測定的第1測定點25利用近似線24可以容易地求得Crs為0 (零)的 Ga。由于將Crs為O(零)的Go!設為光學串擾校正量的精確值Go!'，所以 可以決定光學串擾校正量。
如圖4所示，校正量切換部136主要由校正量輸入切換部146、岸臺 校正量保存部148、溝槽校正量保存部150和校正量輸出切換部152構成。 校正量輸入切換部146根據(jù)跟蹤極性決定部156的輸出，來選擇將從光學
26串擾校正量運算部24輸入的校正量輸入到岸臺校正量保存部148還是輸 入到溝槽校正量保存部。岸臺校正量保存部148保存跟蹤極性決定部156 的輸出在岸臺的光學串擾校正量，并保持該輸出。溝槽校正量保存部150 保存跟蹤極性決定部156的輸出在溝槽的光學串擾校正量，并保持該輸出。 校正量輸出切換部152根據(jù)跟蹤極性決定部156的輸出，來選擇向乘法器 128的輸出。
聚焦控制部138根據(jù)輸入的信號，生成控制信號，以使光點在光盤102 的聚光狀態(tài)大致恒定。作為聚焦控制部138，例如可以利用相位補償濾光鏡。
極性切換部130根據(jù)跟蹤極性決定部156的輸出，使跟蹤誤差信號的 極性翻轉(切換)。例如，在來自跟蹤極性決定部156的輸出是岸臺的情 況下，由極性切換部130將跟蹤誤差檢測部120的輸出翻轉，在溝槽的情 況下，極性切換部130不將跟蹤誤差檢測部120的輸出翻轉。
跟蹤控制部132根據(jù)輸入的信號，生成控制信號，以使光點在光盤102 上的距軌道中心大致一定的范圍內進行掃描。作為跟蹤控制部132例如可 以利用相位補償濾光鏡。
垂直移動部140使會聚透鏡112相對于光盤102在垂直方向上移動。 作為垂直移動部140，例如可以利用執(zhí)行機構(actuator)。
水平移動部142使會聚透鏡112相對于光盤102在水平方向上上移動。 作為水平移動部142，例如可利用執(zhí)行機構。
跟蹤極性決定部156決定跟蹤極性是岸臺還是溝槽。
<光盤裝置的動作〉
在以上的構成中，參照圖5，對于實施方式1所涉及的光盤裝置100 的動作進行說明。圖5是關于根據(jù)實施方式1所涉及的岸臺/溝槽來切換光 學串擾校正量的動作的流程圖。
在該校正量切換控制中，光盤裝置IOO首先通過光學串擾補量正運算 部124，利用所述方法決定串擾的校正量(S100)。根據(jù)跟蹤極性決定部 156的輸出，對跟蹤極性是岸臺還是溝槽進行判斷(S102)。在跟蹤極性 是岸臺的情況下，操作校正量輸入切換部146 (S104)，將決定的校正量 保存于岸臺校正量保存部148 (S106)。在跟蹤極性是溝槽的情況下，將決定的校正量保存于溝槽校正量保存部150 (S108)。
接著，判斷岸臺校正量保存部148和溝槽校正量保存部150中是否保 存了校正量，在未保存的情況下，對光學串擾進行測定(S110)，直到保 存為止。該判別是通過在利用(數(shù)學式6)計算的光學串擾量在規(guī)定的范 圍內收斂的情況下，保存該校正量的動作來實現(xiàn)的。另外，在上述內容中， 對于求取岸臺和溝槽的兩方的校正量的情況進行了說明，但是，也可以只 對岸臺或溝槽中的一方求校正量。在這種情況下，在只對岸臺求取校正量 時，在步驟S110中，只要判別岸臺校正量保存部148中是否保存了校正 量即可，而在只對溝槽求取校正量時，在步驟S110中，只要判別溝槽校 正量保存部150中是否保存了校正量即可。
對岸臺校正量保存部148中保存的校正量和溝槽校正量保存部150中 保存的校正量而言，根據(jù)跟蹤極性決定部156的輸出，判斷跟蹤極性是岸 臺還是溝槽(S112)。在跟蹤極性是岸臺的情況下，對校正量輸出切換部 152進行操作(S114)，將岸臺校正量保存部148的校正值輸出到乘法器 128 (S116)。在跟蹤極性是溝槽的情況下，將溝槽校正量保存部150的 校正值輸出到乘法器128 (S116)。并且，反復地進行S112到S116的處 理，直到光盤裝置IOO停止為止(S118)。
另外，校正量切換部136也可以為如圖6所示。在圖6中，標注和圖 4相同的符號，省略說明。校正量變換部154將岸臺校正量保存部148中 保存的岸臺的校正量作為輸入，變換成溝槽的校正量，將變換后的校正量 輸入到溝槽校正量保存部150。另外，校正量變換部154例如對岸臺和溝 槽的跟蹤誤差信號的調制度進行計測，根據(jù)該調制度，進行校正量的變換。
接著，在具有在圖6表示的校正量切換部136的構成中，對實施方式 1所涉及的光盤裝置的動作，參照圖7進行說明。對和圖5相同的部分， 標注和圖5相同的符號，省略說明。
在S106之前對岸臺校正量保存部148未輸入校正量的情況下，通過 校正量變換部154，根據(jù)岸臺的校正量決定溝槽的校正量(S120)，將決 定的溝槽校正量保存于溝槽校正量保存部150 (S122)。
另夕卜，校正量變換部154也可以根據(jù)溝槽校正量保存部150中保存的 校正量，決定岸臺的校正量，將決定的校正量保存于岸臺校正量保存部148。
另外，在圖5、圖7中，也可以調換S100的處理和S102的處理，根 據(jù)跟蹤極性決定部156的輸出，使光學串擾校正量運算部124動作，決定
校正量。
如上所述，根據(jù)實施方式1的光盤裝置100，校正量切換部136根據(jù) 岸臺/溝槽，切換光學串擾的校正值，分別對岸臺/溝槽設定適當?shù)男Ｕ浚?由于可以校正因岸臺/溝槽中跟蹤誤差信號的調制度的差異引起的光學串 擾的差，所以，可以減輕泄漏到從聚焦誤差檢測部118輸出的FE信號的 TE信號成分。其結果，可以減少垂直移動部140的驅動，可以減小光盤 裝置100的耗電。另外，由于可以使在圖30表示的局部磁滯回線(minor loop) R3003的影響變小，所以在光盤裝置100中，可以提高聚焦控制的 穩(wěn)定性。進而，在光盤裝置100具有如圖6所示的校正量切換部136的情 況下，只要僅在一方的軌道極性中，由光學串擾校正量運算部124求取校 正量即可，可以縮短到另一方的軌道極性的校正量決定為止的時間。 (實施方式2)
接著對本發(fā)明的實施方式2進行說明。
<光盤裝置的構成〉
圖8是表示本發(fā)明的實施方式2的光盤裝置200的構成的框圖。另外， 對于和所述實施方式1相同的構成，標注和圖1到圖7相同的符號，省略 說明。光盤102由如圖2 (B)所示的2個層或3個以上的層構成。
在實施方式2所涉及的光盤裝置200中，層決定部202的輸出被輸入 到光學串擾校正量運算部124、校正量切換部136、開關204、層間移動部 206和開關208。開關204根據(jù)層決定部202的輸出，來選擇將加法器126 的輸出是輸入到聚焦控制部138還是輸入到層間移動部206。層間移動部 206的輸出，通過加法器2001，被輸入到垂直移動部140。開關208根據(jù) 層決定部202的輸出。切換跟蹤控制的開啟/停止。
層決定部202根據(jù)再生或尋道等的目標地址，決定將光點在光盤102 的層1004聚光還是在層2006聚光。
層間移動部206根據(jù)層決定部202的輸出，使光點移動到光盤102的 規(guī)定的層。例如可以層間跳躍，也可以將焦點重新拉回到規(guī)定的層。校正量切換部136如圖9所示，包括校正量輸入切換部146;保存 第1層的校正量的第1層用校正量保存部210;保存第2層的校正量的第
2層用校正量保存部212;和校正量輸出切換部152。第1層用校正量保存 部210保存在層決定部202的輸出是第1層的情況下的校正量，并保持。 第2層用校正量保存部212保存在層決定部202的輸出是第2層的情況下 的校正量，并保持。
<光盤裝置的動作〉
在以上的構成中，參照圖10，對實施方式2所涉及的光盤裝置200 的動作進行說明。圖10是關于在光盤裝置200中根據(jù)光盤102的層來切 換光學串擾校正量的動作的流程圖。
在該校正量切換控制中，光盤裝置200首先在光盤102的層1004的 規(guī)定的軌道，進行聚焦控制和跟蹤控制(S200)，由光學串擾校正量124 決定第1層的校正量(S202)，將該校正量輸入到第1層用校正量保存部 210 (S204)。
接著，在層決定部202的輸出從層1004切換到層2006的情況下 (S206)，使開關208斷開(S208)，切斷向跟蹤控制部的輸入，使跟蹤 控制成為停止狀態(tài)。
使跟蹤控制成為停止狀態(tài)后，將開關204切換到層間移動部206側 (S210)，使光點移動到層2006 (S212)。在使光點移動到層2006后， 將開關204切換到聚焦控制部138側(S214)，使開關208接通(S216)， 進行跟蹤控制(使跟蹤控制成為開啟狀態(tài))。
使跟蹤控制成為開啟狀態(tài)后，判別層2006的光學串擾校正量是否被 保存于第2層用校正量保存部212 (S218)。在層2006的光學串擾校正量 未被保存于第2層用校正量保存部212的情況下，由光學串擾校正量運算 部124決定第2層的校正量(S220)，將決定的校正量保存于第2層用校 正量保存部212 (S222)。
根據(jù)層決定部202的輸出來切換校正量輸出切換部152，將保存于第 2層用校正量保存部212的第2層的校正量輸入到乘法器128 (S224)。
另外，在第2層的校正量未被保存于第2層用校正量保存部212的情 況下，從S208到S220的校正量可以是0，也可以是規(guī)定的校正量。另外，在第2層的校正量被保存于第2層用校正量保存部212的情況 下，由校正量輸出切換部152進行的從第1層用校正量保存部210向第2 層用校正量保存部212的切換也可以在S208到S224的任意步驟中進行。
另外，校正量切換部136也可以如圖11所示。在圖11中，對和圖9 相同的構成標注相同的符號，省略說明。校正量變換部154將保存于第1 層用校正量保存部210的第1層的校正量作為輸入，將其變換成第2層的 校正量，將變換后的校正量輸入到第2層用校正量保存部212。另外，校 正量變換部154例如計測層1004和層2006的跟蹤誤差信號的調制度，根 據(jù)該調制度，進行校正量的變換。
接著，在圖11表示的具有校正量切換部136的構成中，對光盤裝置 200的動作參照圖12進行說明。對于和圖10相同的部分，標注和圖10 相同的符號，省略說明。
在S204之前對第1層用校正量保存部210輸入了校正量的情況下， 根據(jù)校正量變換部154決定第2層的校正量(S226)，將決定的第2層校 正量保存于第2層用校正量保存部212 (S228)。
在第2層的校正量在第1層的校正量之前被決定的情況下，也可以通 過校正量變換部將第2層的校正量變換成第1層的校正量，決定第1層的 校正量。
另外，用于對應3個以上層的光盤的情況下光盤裝置200也可以具有 保存各層的校正量的構成部分。
如上所述，根據(jù)光盤裝置200，校正量切換部136根據(jù)層來切換光學 串擾的校正值在各個層設定適當?shù)男Ｕ?，由于可以抑制因各層中的跟?誤差信號的調制度的差異而引起的光學串擾的差，所以，可以減少泄漏到 從聚焦誤差檢測部118輸出的FE信號的TE信號成分。其結果，可以減 少垂直移動部140的驅動，降低光盤裝置的耗電。另外，由于可以減小局 部磁滯回線R3003的影響，所以在光盤裝置200中，可以提高聚焦控制的 穩(wěn)定性。進而，在光盤裝置200具有校正量切換部136的情況下，可以通 過光學串擾校正量運算部124只求取在一個層的校正量，由于可以根據(jù)該 校正量求取其他層的校正量，所以，在求取其他層的校正量的情況下，可 以縮短決定校正量為止的時間。
31(實施方式3)
接著，對本發(fā)明的實施方式3進行說明。
圖13是表示本發(fā)明的實施方式3的光盤裝置300的構成的框圖。另 外，對于和所述的實施方式相同的構成，標注和圖1到圖12相同的符號，
省略說明。
在實施方式3所涉及的光盤裝置300中，受光元件116的輸出被輸入 到聚焦誤差檢測部118、跟蹤誤差檢測部120和偏置決定部302。偏置決 定部302輸出偏置值。輸出的偏置值被輸入到偏置加法器306、光學串擾 校正量運算部124和校正量切換部136。偏置加法器136將聚焦誤差檢測 部118的輸出和偏置值相加，并輸入到加法器126。加法器126的輸出， 將偏置加法器306的輸出和乘法器128的輸出相加的值，將其輸入到聚焦 控制部138。
偏置決定部302按照使從光盤102的再生和向光盤102的記錄確保規(guī) 定的品質的方式，決定在聚焦誤差檢測部118中進行加法運算的偏置值。 規(guī)定的品質是指例如在再生時，再生信號的抖動和再生信號的調制度為最 好的情況下的品質。另外，偏置決定部302進行動作可以以一定時間間隔 進行，也可以以一定溫度間隔進行。
校正量切換部136如圖14所示，由校正量輸入切換部146、第1偏置 的校正量保存部310、第2偏置的校正量保存部312、 、第N偏置 的校正量保存部314和校正量輸出切換部152構成。在第1偏置的校正量 保存部310中保存保持從偏置決定部302輸出的偏置值在第1范圍內的校 正量，在第2偏置的校正量保存部312中保存保持偏置值在規(guī)定的第2范 圍內的校正量，在第N偏置的校正量保存部314保存保持偏置值在規(guī)定的 第N范圍內的校正量。另外，從規(guī)定的第1范圍到規(guī)定的第N范圍分別 取得的偏置值不會重復且在不同的范圍。
<光盤裝置的動作>
在以上的構成中，參照圖15，對光盤裝置300的動作進行說明。圖 15是在光盤裝置300中關于根據(jù)和聚焦誤差信號相加的偏置來切換光學 串擾校正量的動作的流程圖。
在該校正量切換控制中，光盤裝置300首先通過偏置決定部302決定偏置值(S300)。接著，對決定的偏置值在規(guī)定的第1范圍到規(guī)定的第N 范圍中的哪個范圍進行決定(S302)。根據(jù)決定的范圍，切換校正量輸出 切換部152，將校正量輸入到乘法器128 (S304)。另外，各規(guī)定的范圍 的校正量也可以被事先賦予，也可以根據(jù)各范圍的偏置值由光學串擾校正 量運算部124決定。
另外，校正量切換部136也可以是如圖16所示的構成。在圖16中， 對和圖14相同的結構標注和圖14相同的符號，省略說明。校正量變換部 154將在第1偏置值的校正量保存部310中保存的規(guī)定的第1范圍的校正 量作為輸入，根據(jù)該校正量，通過變換求得第2偏置值的校正量保存部312 到第N偏置值的校正量保存部314中保存的各個校正量。并且將通過變換 求得的各個校正量分別輸入到第2偏置的校正量保存部312到第N偏置的 校正量保存部314。另外，校正量變換部154例如在從規(guī)定的第1范圍到 規(guī)定的第N范圍的各種情況下，對跟蹤誤差信號的調制度進行計測，根據(jù) 該調制度，進行校正量的變換。
接著，在圖16表示的具有校正量切換部136的構成中，參照圖17， 對光盤裝置300的動作進行說明。對和圖15相同的部分，標注和圖15相 同的符號，省略說明。
首先，決定偏置值(S306)，對決定的偏置值在規(guī)定的第1范圍到規(guī) 定的第N范圍中的哪個范圍進行決定(S308)。決定范圍后，由光學串擾 校正量運算部124決定校正量(S310)，在第1偏置值的校正量保存部310 到第N偏置值的校正量保存部314內，向和在S310決定的規(guī)定范圍對應 的校正量保存部輸入所決定的校正量(S312)。
接著，根據(jù)在S310決定的校正量，由校正量變換部154對在S310決 定的規(guī)定的范圍以外的規(guī)定的范圍1到規(guī)定的范圍N的校正量進行決定， 向和規(guī)定的范圍對應的校正量保存部輸入由校正量變換部154所決定的校 正量(S314)。
另外，向校正量變換部154的輸入可以是來自第1偏置的校正量保存 部310到第N偏置的校正量保存部314中的至少一個的輸出，校正量變換 部154也可以在輸入的校正量保存部以外的校正量保存部輸出變換后的校另外，圖17的S310的處理也可以在S306的處理和S308的處理之間 進行。
另外，也可以是在從偏置決定部輸出的偏置值發(fā)生變化的情況下，每 次偏置值方式變化，根據(jù)變化后的偏置值，決定第1偏置的校正量保存部 到第N偏置的校正量保存部的至少1個校正量。
如上所述，根據(jù)光盤裝置300，校正量切換部136根據(jù)聚焦誤差信號 的偏置值來切換光學串擾校正量的校正值，對偏置分別設定適當?shù)男Ｕ?量，由于可以抑制因各個偏置值下的跟蹤誤差信號的調制度的差異引起的 光學串擾的差，所以，可以減少泄漏到從聚焦誤差檢測部118輸出的FE 信號的TE信號成分。其結果，可以減少垂直移動部140的驅動，降低光 盤裝置300的耗電。另外，由于可以減小圖30所示的局部磁滯回線R3003 的影響，所以，在光盤裝置300中，可以提高聚焦控制的穩(wěn)定性。進而， 在光盤裝置300具有校正量切換部136的情況下，由于可以通過光學串擾 校正量運算部124，關于偏置值，只要僅僅求取在1個規(guī)定的范圍的校正 量即可，由于基于該校正量可以求得在其他的規(guī)定的范圍的校正量，所以， 在求取在其他的范圍的校正量的情況下，可以縮短到?jīng)Q定校正量為止的時 間。
(實施方式4) 接著，對本發(fā)明的實施方式4進行說明。 <光盤裝置的構成〉
圖18是表示本發(fā)明的實施方式4的光盤裝置400的構成的框圖。另 外，對所述的實施方式相同的構成，標注和圖1到圖17相同的符號，省 略說明。
在實施方式4所涉及的光盤裝置400中，通過偏振光分束器108被反 射的光穿過球面像差校正部402，輸入到偏振板IIO。
受光元件116的輸出被輸入到聚焦誤差檢測部118、跟蹤誤差檢測部 120和球面像差檢測部404。球面像差檢測部404的輸出在球面像差校正 部402、光學串擾校正量運算部124和校正量切換部136輸入。
球面像差校正部402是對在由光盤102和會聚透鏡112聚光后的點之 間產生的球面像差進行校正的光學元件，根據(jù)球面像差檢測部404的輸出
34對球面像差進行校正。作為球面像差校正部402，可以利用例如準直透鏡。 球面像差檢測部404決定球面像差校正量，以使自光盤102的再生和 向光盤102的記錄可以確保規(guī)定的品質。規(guī)定的品質是指例如再生時，再 生信號的抖動和再生信號的調制度為最好的情況下的品質。另外，球面像 差檢測部404進行動作可以以一定的時間間隔進行，也可以以一定的溫度 間隔進行。
校正量切換部136如圖19所示，由校正量輸入切換部146、第1球面 像差的校正量保存部406、第2球面像差的校正量保存部408、第N球面 像差的校正量保存部410和校正量輸出切換部152構成。在第1球面像差 的校正量保存部406中保存保持球面像差在規(guī)定的范圍1的校正量，在第 2球面像差的校正量保存部408中保存保持球面像差在規(guī)定的范圍2的校 正量，在第N球面像差的校正量保存部410中保存保持球面像差在規(guī)定的 范圍N的校正量。各個規(guī)定的范圍1到規(guī)定的范圍N是該取得的球面像 差的值不同的范圍。
<光盤裝置的動作〉
在以上的構成中，參照圖20對光盤裝置400的動作進行說明。圖20 是在光盤裝置400中，關于根據(jù)球面像差來切換光學串擾校正量的動作流 程圖。
在該校正量切換控制中，光盤裝置400首先通過球面像差檢測部404 決定球面像差校正量(S400)。接著對決定的球面像差校正量在規(guī)定的范 圍1到規(guī)定的范圍N中的哪個范圍進行決定(S402)。根據(jù)決定的范圍， 切換校正量輸出切換部152，從被切換目標的校正量保存部輸出的校正量 輸入到乘法器128 (S404)。另外，在各規(guī)定范圍的校正量可以事先被賦 予，也可以根據(jù)各范圍的球面像差由光學串擾校正量運算部124決定。
另外，校正量切換部136也可以是如圖21所示的構成。在圖21中， 對和圖19相同的構成標注和圖19相同的符號，省略說明。校正量變換部 154將第1球面像差的校正量保存部406中保存的第1球面像差的校正量 作為輸入，根據(jù)該校正量，通過變換求得第2球面像差的校正量保存部408 到第N球面像差的校正量保存部410中保存的各個校正量。并且，將通過 變換求得的各個校正量分別輸入到第2球面像差的校正量保存部408到第N球面像差的校正量保存部410。另外，校正量變換部154例如在規(guī)定的 范圍1到規(guī)定的范圍N的各情況下，對跟蹤誤差信號的調制度進行計測， 根據(jù)該調制度，進行校正量的變換。
接著，在具有圖21所示的校正量切換部136的構成中，參照圖22對 光盤裝置400的動作進行說明。對和圖20相同的部分，標注和圖20相同 的符號，省略說明。
首先，決定球面像差校正量(S406)，對決定的球面像差校正量在規(guī) 定的范圍1到規(guī)定的范圍N中的哪個范圍進行決定(S408)。決定范圍后， 由光學串擾校正量運算部124決定校正量(S410)，在第1球面像差的校 正量保存部406到第N球面像差的校正量保存部410內，向和在S410決 定的規(guī)定的范圍對應的校正量保存部輸入所決定的校正量(S412)。
接著，根據(jù)在S410決定的校正量，由校正量變換部154對在S410決 定的規(guī)定的范圍以外的規(guī)定的范圍1到規(guī)定的范圍N的校正量進行決定， 向和規(guī)定的范圍對應的校正量保存部輸入由校正量變換部154所決定的校 正量(S414)。
另外，向校正量變換部154的輸入，也可以是來自第l球面像差的校 正量保存部406到第N球面像差的校正量保存部410的至少一個的輸出， 校正量變換部154也可以在輸入的校正量保存部以外的校正量保存部輸出 變換后的校正量。
另外，圖22的S410的處理也可以在S406的處理和S408的處理之間 進行。
另外，在球面像差發(fā)生變化的情況下，也可以每次球面像差發(fā)生變化 時，根據(jù)變化后的球面像差來決定第1球面像差的校正量保存部到第N球 面像差的校正量保存部中的至少一個校正量。
如上所述，根據(jù)光盤裝置400，校正量切換部136根據(jù)球面像差切換 光學串擾的校正值，針對各球面像差設定適當?shù)男Ｕ浚梢砸种埔蚋鱾€ 球面像差值下的跟蹤誤差信號的調制度的差異引起的光學串擾的差。因 此，可以減少泄漏到從聚焦誤差檢測部118輸出的FE信號的TE信號成 分，可以減少垂直移動部140的驅動，降低光盤裝置400的耗電。另夕卜， 由于可以減小圖30所示的局部磁滯回線R3003的影響，所以，在光盤裝置400中，可以提高聚焦控制的穩(wěn)定性。進而，在光盤裝置具有校正量切
換部136的情況下，只要通過光學串擾校正量運算部124，僅僅求取在1 個規(guī)定的范圍的校正量即可，由于基于該校正量求得在其他的規(guī)定的范圍 的校正量，所以，在求在其他的范圍的校正量的情況下，可以縮短到?jīng)Q定 校正量為止的時間。 (實施方式5)
接著，對本發(fā)明的實施方式5進行說明。
<光盤裝置的構成>
圖23是表示本發(fā)明的實施方式5的光盤裝置500的構成的框圖。另 外，對和所述的實施方式相同的構成，標注和圖1到圖22相同的符號。 省略說明。
在實施方式5所涉及的光盤裝置中，聚焦控制部138的輸出被輸入到 垂直移動部140和徑向傾斜檢測部502。徑向傾斜檢測部502的輸出被輸 入到徑向傾斜校正部504、光學串擾校正量運算部124和校正量切換部136 (下面，也有時將徑向傾斜略記為"R傾斜")。
徑向傾斜檢測部502檢測在光盤102中產生的徑向傾斜量。例如，如 圖24 (A)所示，對聚焦控制部138的輸出和垂直移動部140的移動量具 有線性關系的情況進行說明。這種情況，如圖24 (B)所示，根據(jù)光盤102 的規(guī)定的半徑位置下的聚焦控制部138的輸出與相對于所述的半徑位置在 光盤102的半徑方向上使會聚透鏡112只移動規(guī)定的距離的半徑位置下的 聚焦控制部138的輸出之差，來求取徑向傾斜量。另外，徑向傾斜檢測部 502進行動作可以以一定時間間隔進行，也可以以一定溫度間隔進行。
徑向傾斜校正部504根據(jù)由徑向傾斜檢測部502檢測出的徑向傾斜量 來校正徑向傾斜量。例如，可以通過徑向傾斜校正部504，使光拾取器整 體傾斜，也可以通過使光拾取器的一部分傾斜來校正徑向傾斜量。
校正量切換部136，如圖25所示，由校正量輸入切換部146、第1R 傾斜的校正量保存部506、第2 R傾斜的校正量保存部508、 、和 第N R傾斜的校正量保存部510和校正量輸出切換部152構成。在第1 R 傾斜的校正量保存部506中保存保持徑向傾斜在規(guī)定范圍1中的校正量 被，在第2R傾斜的校正量保存部508中保存保持徑向傾斜量在規(guī)定的范圍2中的校正量，在第NR傾斜的校正量保存部510中保存保持徑向傾斜 在規(guī)定的范圍N中的校正量。從規(guī)定的范圍1到規(guī)定的范圍N是該取得 的徑向傾斜量不同的范圍。 <光盤裝置的動作〉
在以上的構成中，參照圖26對光盤裝置500的動作進行說明。圖25 是關于在光盤裝置500中根據(jù)徑向傾斜量來切換光學串擾校正量的動作的 流程圖。
在該校正量切換控制中，光盤裝置500首先通過徑向傾斜檢測部502 檢測徑向傾斜(S500)。接著，對檢測出的徑向傾斜在規(guī)定的范圍l到規(guī) 定的范圍N中的哪個進行決定(S502)。根據(jù)決定的范圍，切換校正量輸 出切換部152，將從切換的校正量保存部輸出的校正量輸入到乘法器128 (S504)。另外，在各規(guī)定的范圍的校正量可以被事先賦予，也可以根據(jù) 各范圍的徑向傾斜量由光學串擾校正量運算部124決定。
另外，校正量切換部136也可以是如圖27所示的構成。在圖27中， 對和圖25相同構成賦予和圖25相同的符號，省略說明。校正量變換部154 將第1 R傾斜的校正量保存部506中保存的第1徑向傾斜的校正量作為輸 入，根據(jù)該校正量，通過變換求得第2R傾斜的校正量保存部508到第N R傾斜的校正量保存部510中保存的各個校正量。并且，將通過變換求得 的各個校正量分別輸入到第2 R傾斜的校正量保存部508到第N R傾斜的 校正量保存部510。另外，校正量變換部154例如在規(guī)定的范圍1到規(guī)定 的范圍N的各情況中，對跟蹤誤差信號的調制度進行計測，根據(jù)該調制度， 進行校正量的變換。
接著，在具有圖27表示的校正量切換部136的構成中，參照圖28對 光盤裝置500的動作進行說明。對和圖26相同的部分，標注和圖26相同 的符號，省略說明。
首先，檢測徑向傾斜量(S506)，對檢測出的徑向傾斜量在規(guī)定的范 圍1到規(guī)定的范圍N中的哪個范圍進行決定(S508)。決定范圍后，由光 學串擾校正量運算部124決定校正量(S510)，在第1R傾斜的校正量保 存部506到第N R傾斜的校正量保存部510內，向在S510決定的和規(guī)定 的范圍對應的校正量保存部輸入所決定的校正量(S512)。接著，根據(jù)在S510決定的校正量，由校正量變換部154對在S510決 定的規(guī)定的范圍以外的規(guī)定的范圍1到規(guī)定的范圍N的校正量進行決定， 向和各規(guī)定的范圍對應的校正量保存部輸入由校正量變換部154所決定的 校正量(S514)。
另外，圖26的S510的處理也可以在S506的處理和S508的處理之間進行。
另外，向校正量變換部154的輸入，也可以是來自第1R傾斜的校正 量保存部506到第NR傾斜的校正量保存部510的至少一個的輸出，校正 量變換部154也可以向輸入的校正量保存部以外的校正量保存部輸入變換 后的校正量。
另外，在徑向傾斜發(fā)生變化的情況下，也可以每次徑向傾斜發(fā)生變化 時，根據(jù)變化后的徑向傾斜來決定第1R傾斜的校正量保存部到第NR傾 斜的校正量保存部的至少一個的校正量。
如上所述，根據(jù)光盤裝置500，校正量切換部136根據(jù)徑向傾斜量切 換光學串擾的校正值，設定對于各個徑向傾斜量適當?shù)男Ｕ?，可以抑?因各個徑向傾斜量下的跟蹤誤差信號的調制度的不同而引起的光學串擾 的差。因此，可以減少泄漏到從聚焦誤差檢測部118輸出的FE信號的TE 信號成分，可以減少垂直移動部140的驅動，降低光盤裝置500的耗電。 另外，由于可以減小圖30所示的局部磁滯回線R3003的影響，所以，在 光盤裝置400中，可以提高聚焦控制的穩(wěn)定性。進而，在光盤裝置具有校 正量切換部136的情況下，由于可以通過光學串擾校正量運算部124，只 求在1個規(guī)定的范圍中的校正量，并基于該校正量求得在其他的規(guī)定的范 圍的校正量，所以，在求在其他的范圍的校正量的情況下，可以縮短到?jīng)Q 定校正量為止的時間。 (其他的實施方式)
另外，在所述實施方式中說明的光盤裝置中，各模塊可以通過LSI等 的半導體裝置單獨進行單芯片化，也可以按照包含一部分或全部模塊的方 式進行單芯片化。
另外，在這里，雖然作為LSI，但根據(jù)集成度的不同，也有時分別稱 為IC、系統(tǒng)LSI、大規(guī)模LSI (super LSI)、超大規(guī)模LSI (ultra LSI)。另外，集成電路化的方法不限于LSI,也可以用專用電路或通用處理
器來實現(xiàn)。在LSI制造后，也可以利用可編程的FPGA(FieldProgrammable Gate Array)、可以對LSI內部的電路單元的連接或設定進行重構的可重 構處理器(reconfigurable processor)。
進而，由于半導體技術的進步或派生出其他的技術而代替LSI的集成 電路化的技術登場的話，當然也可以使用該技術進行功能模塊的集成化。 有可能實現(xiàn)生物技術的適應等。
另外，上述實施方式的各處理可以通過硬件來實現(xiàn)，也可以通過軟件 來實現(xiàn)。進而，也可以通過軟硬件的混合處理來實現(xiàn)。
另外，本發(fā)明的具體構成不限于所述的實施方式，在不脫離本發(fā)明的 宗旨的范圍，可以進行各種的變更和修正。
產業(yè)上的利用可行性
本發(fā)明可以使用于具有對如DVD記錄器(recorder)或藍光記錄器的 大容量光盤進行數(shù)字AV信息的記錄再生處理的功能的應用光盤的家用電 器或利用光盤的計算機用存儲設備等。
權利要求
1.一種光盤裝置，在具有由岸臺和溝槽構成的軌道的光盤進行信息的記錄再生，所述光盤裝置具有聚焦誤差檢測部，其從在所述光盤聚光的點的反射光中檢測聚焦誤差信號，并輸出所述聚焦誤差信號；跟蹤誤差檢測部，其從所述反射光中檢測跟蹤誤差信號，并輸出所述跟蹤誤差信號；光學串擾校正量決定部，其在所述點跨越所述軌道時，根據(jù)在來自所述光盤的反射光中產生的從所述跟蹤誤差信號向所述聚焦誤差信號的光學串擾，決定用于校正所述跟蹤誤差檢測部的輸出的校正量；乘法器，其將所述跟蹤誤差檢測部的輸出和所述光學串擾校正量決定部所決定的所述校正量相乘；加法器，其將所述聚焦誤差檢測部的輸出和所述乘法器的輸出相加；聚焦控制部，其根據(jù)所述加法器的輸出對所述點的聚焦進行控制；和跟蹤控制部，其根據(jù)所述跟蹤誤差檢測部的輸出進行跟蹤控制。
2. 根據(jù)權利要求1所述的光盤裝置，其特征在于， 所述光學串擾校正量決定部根據(jù)從所述跟蹤誤差信號泄漏到所述聚焦誤差信號的信號成分的微分值，決定用于校正所述跟蹤誤差檢測部的輸 出的所述校正量。
3. 根據(jù)權利要求1或2所述的光盤裝置，其特征在于， 所述光學串擾校正量決定部在執(zhí)行所述點的聚焦控制而不執(zhí)行所述點的跟蹤控制的情況下，根據(jù)從所述跟蹤誤差信號泄漏到所述聚焦誤差信 號的信號成分的振幅值，決定用于校正所述跟蹤誤差檢測部的輸出的所述 校正量的粗略校正量；在執(zhí)行所述點的聚焦控制并執(zhí)行所述點的跟蹤控制 的情況下，根據(jù)從所述跟蹤誤差信號泄漏到所述聚焦誤差信號的信號成分 的微分量，決定用于校正所述跟蹤誤差檢測部的輸出的所述校正量的精確 校正量。
4. 根據(jù)權利要求3所述的光盤裝置，其特征在于，還具有對所述跟蹤控制部的輸出附加擾動信號的擾動附加部； 所述擾動附加部，在執(zhí)行所述跟蹤控制的情況下，附加具有所述跟蹤 控制和所述聚焦控制的頻帶外的頻率和振幅的擾動信號；所述光學串擾校正量決定部根據(jù)因附加所述擾動信號而產生的、從所 述跟蹤誤差信號泄漏到所述聚焦誤差信號的信號成分，決定用于校正所述 跟蹤誤差檢測部的輸出的所述校正量的所述精確校正量。
5. 根據(jù)權利要求1 4中任意一項所述的光盤裝置，其特征在于， 還具有跟蹤極性決定部，其將進行跟蹤控制的對象決定為所述軌道的所述岸臺和所述溝槽的某一方；所述光學串擾校正量決定部根據(jù)所述跟蹤極性決定部的輸出，設定所 述校正量。
6. 根據(jù)權利要求5所述的光盤裝置，其特征在于， 所述光學串擾校正量決定部在所述岸臺和所述溝槽的至少任意一方中，求取所述校正量。
7. 根據(jù)權利要求5所述的光盤裝置，其特征在于， 所述光學串擾校正量決定部根據(jù)所述岸臺的所述校正量，決定所述溝槽的所述校正量。
8. 根據(jù)權利要求5所述的光盤裝置，其特征在于， 所述光學串擾校正量決定部根據(jù)所述溝槽的所述校正量，決定所述岸臺的所述校正量。
9. 根據(jù)權利要求1 4中任意一項所述的光盤裝置，其特征在于， 所述光盤具有2個以上的可記錄/再生的層；還具有使所述點從任意的所述層向其他的所述層移動的層間移動 部；和決定使所述點聚光的所述層的層決定部；所述光學串擾校正量決定部根據(jù)所述層決定部的輸出，設定所述校正
10. 根據(jù)權利要求9所述的光盤裝置，其特征在于， 所述光學串擾校正量決定部在所述光盤的各層中，求取所述校正量。
11. 根據(jù)權利要求9所述的光盤裝置，其特征在于，所述光學串擾校正量決定部根據(jù)任意的所述層的所述校正量，決定其 他所述層的所述校正量。
12. 根據(jù)權利要求1 4中任意一項所述的光盤裝置，其特征在于，還具有偏置決定部，其決定和所述聚焦誤差檢測機構部的輸出相加的偏置值；和偏置加法器，其將所述聚焦誤差檢測部的輸出和所述偏置決定部所決定的所述偏置值相加；所述加法器將所述偏置加法器的輸出和所述乘法器的輸出相加； 所述光學串擾校正量決定部根據(jù)所述偏置決定部所決定的所述偏置值，設定所述校正量。
13. 根據(jù)權利要求12所述的光盤裝置，其特征在于， 所述光學串擾校正量決定部根據(jù)所述偏置決定部所決定的任意的所述偏置值的所述校正量，決定其他的所述偏置值的所述校正量。
14. 根據(jù)權利要求12所述的光盤裝置，其特征在于， 所述光學串擾校正量決定部在所述偏置值由A成為B的情況下，重新計算所述偏置值為B時的所述校正量。
15. 根據(jù)權利要求1 4中任意一項所述的光盤裝置，其特征在于， 還具有球面像差檢測部，其檢測在所述光盤上的所述點中產生的球面像差校正量；和球面像差校正部，其根據(jù)所述球面像差檢測部所檢測出的所述球面像 差校正量，校正球面像差；所述光學串擾校正量決定部根據(jù)所述球面像差檢測部所檢測出的所 述球面像差校正量，設定所述校正量。
16. 根據(jù)權利要求15所述的光盤裝置，其特征在于，所述光學串擾校正量決定部根據(jù)所述球面像差檢測部所檢測出的任 意的所述球面像差校正量的所述校正量，決定所述球面像差檢測部所檢測 出的其他的所述球面像差校正量的所述校正量。
17. 根據(jù)權利要求15所述的光盤裝置，其特征在于， 所述光學串擾校正量決定部在所述球面像差檢測部所檢測出的所述球面像差校正量由A成為B的情況下，重新計算所述球面像差校正量為B時的所述校正量。
18. 根據(jù)權利要求1 4中任意一項所述的光盤裝置，其特征在于，還具有徑向傾斜檢測部，其檢測所述光盤的徑向傾斜量；和徑向傾斜校正部，其根據(jù)所述徑向傾斜檢測部所決定的所述徑向傾斜量，校正所述徑向傾斜量；所述光學串擾校正量決定部根據(jù)所述徑向傾斜檢測部所檢測出的所 述徑向傾斜量，設定所述校正量。
19. 根據(jù)權利要求18所述的光盤裝置，其特征在于， 所述光學串擾校正量決定部根據(jù)所述徑向傾斜檢測部所檢測出的任意的所述徑向傾斜量的所述校正量，決定所述徑向傾斜檢測部所檢測出的 其他的所述徑向傾斜量的所述校正量。
20. 根據(jù)權利要求18所述的光盤裝置，其特征在于， 所述光學串擾校正量決定部在所述徑向傾斜檢測部所檢測出的所述徑向傾斜量由A成為B的情況下，決定所述徑向傾斜量為B時的所述校
21. —種串擾校正方法，用于在具有由岸臺和溝槽構成的軌道的光盤 進行信息的記錄再生的光盤裝置，所述串擾校正方法包括聚焦誤差檢測步驟，從在所述光盤聚光的點的反射光中檢測聚焦誤差 信號，并輸出所述聚焦誤差信號；跟蹤誤差檢測步驟，從所述反射光中檢測跟蹤誤差信號，并輸出所述 跟蹤誤差信號；光學串擾校正量決定步驟，在所述點跨越所述軌道時，根據(jù)在來自所 述光盤的反射光中產生的從所述跟蹤誤差信號向所述聚焦誤差信號的光 學串擾，決定用于校正所述跟蹤誤差檢測部的輸出的校正量；乘法運算步驟，將所述跟蹤誤差檢測部的輸出和所述光學串擾校正量 決定部所決定的所述校正量相乘；加法運算步驟，將所述聚焦誤差檢測部的輸出和所述乘法器的輸出相加；聚焦控制步驟，根據(jù)所述加法器的輸出對所述點的聚焦進行控制；和 跟蹤控制步驟，根據(jù)所述跟蹤誤差檢測部的輸出進行跟蹤控制。
22. —種串擾校正方法，在具有由岸臺/溝槽構成的軌道的光盤中，在 所述光盤聚光的點跨越所述軌道時，根據(jù)是岸臺/溝槽中的哪一個，設定對 來自所述光盤的反射光中產生的由跟蹤誤差信號向聚焦誤差信號的光學 串擾進行校正的校正量；將表示所述軌道與在所述光盤聚光的所述點之間的偏移的跟蹤誤差 信號和所述校正量相乘，將乘法運算結果和表示所述點在所述光盤的會聚 狀態(tài)的聚焦誤差信號相加。
23. 根據(jù)權利要求22所述的串擾校正方法，其特征在于， 在所述岸臺和所述溝槽的至少任意一方中，求取所述校正量。
24. 根據(jù)權利要求22所述的串擾校正方法，其特征在于， 根據(jù)所述岸臺的所述校正量，決定所述溝槽的所述校正量。
25. 根據(jù)權利要求22所述的串擾校正方法，其特征在于， 根據(jù)所述溝槽的所述校正量，決定所述岸臺的所述校正量。
26. —種串擾校正方法，在光點跨越光盤的軌道時，根據(jù)是所述光盤 的層的哪一層，設定對來自所述光盤的反射光中產生的從跟蹤誤差信號向 聚焦誤差信號的光學串擾進行校正的校正量；將表示所述軌道與在所述光盤聚光的所述光點之間的偏移的跟蹤誤 差信號和所述校正量相乘，將乘法運算結果和表示所述光點在所述光盤的 會聚狀態(tài)的聚焦誤差信號相加。
27. 根據(jù)權利要求26所述的串擾校正方法，其特征在于， 在所述光盤的各層中，求取所述校正量。
28. 根據(jù)權利要求26所述的串擾校正方法，其特征在于， 根據(jù)任意的所述層的所述校正量，決定其他的所述層的所述校正量。
29. —種串擾校正方法，在光點跨越光盤的軌道時，根據(jù)對聚焦誤差 信號的偏置值，設定對來自所述光盤的反射光中產生的從跟蹤誤差信號向 所述聚焦誤差信號的光學串擾進行校正的校正量；將表示所述軌道與在所述光盤聚光的所述光點之間的偏移的跟蹤誤 差信號和所述校正量相乘，將乘法運算結果和表示所述光點在所述光盤的 會聚狀態(tài)的聚焦誤差信號相加。
30. 根據(jù)權利要求29所述的串擾校正裝置，其特征在于，根據(jù)所述偏置值在任意情況下的所述校正量，求取所述偏置值在其他 的情況下的所述校正量。
31. 根據(jù)權利要求29所述的串擾校正方法，其特征在于， 在所述偏置值由A成為B的情況下，重新計算偏置值為B時的校正
32. —種串擾校正方法，在光點跨越光盤的軌道時，根據(jù)對在所述光 盤上的所述光點中產生的球面像差進行校正的球面像差校正量，設定對來 自所述光盤的反射光中產生的從跟蹤誤差信號向聚焦誤差信號的光學串 擾進行校正的校正量；將表示所述軌道與在所述光盤聚光的所述光點之間的偏移的跟蹤誤 差信號和所述校正量相乘，將乘法運算結果和表示向所述點在所述光盤的 會聚狀態(tài)的聚焦誤差信號相加。
33. 根據(jù)權利要求32所述的串擾校正方法，其特征在于， 根據(jù)所述球面像差校正量在任意情況下的所述校正量，求取所述球面像差校正量在其他的情況下的所述校正量。
34. 根據(jù)權利要求32所述的串擾校正方法，其特征在于， 在所述球面像差校正量由A成為B的情況下，重新計算在所述球面像差校正量為B時的校正量。
35. —種串擾校正方法，在光點跨越光盤的軌道時，根據(jù)對在所述光 盤中產生的徑向傾斜量進行校正的徑向傾斜校正量，設定對來自所述光盤 的反射光中產生的從跟蹤誤差信號向聚焦誤差信號的光學串擾進行校正 的校正量；將表示所述軌道與在所述光盤聚光的所述點之間的偏移的跟蹤誤差 信號和所述校正量相乘，將乘法運算結果和表示所述光點在所述光盤的會 聚狀態(tài)的聚焦誤差信號相加。
36. 根據(jù)權利要求35所述的串擾校正方法，其特征在于， 根據(jù)所述徑向傾斜校正量在任意情況下的所述校正量，決定所述徑向傾斜校正量在其他情況下的所述校正量。
37. 根據(jù)權利要求35所述的串擾校正方法，其特征在于， 在所述徑向傾斜校正量由A成為B的情況下，重新計算所述徑向傾斜校正量為B時的校正量。
38. —種集成電路，用于在具有由岸臺和溝槽構成的軌道的光盤進行信息的記錄再生的光盤裝置，所述集成電路具有聚焦誤差檢測部，其從在所述光盤聚光的點的反射光中檢測聚焦誤差信號，并輸出所述聚焦誤差信號；跟蹤誤差檢測部，其從所述反射光中檢測跟蹤誤差信號，并輸出所述 跟蹤誤差信號；光學串擾校正量決定部，其在所述點跨越所述軌道時，根據(jù)在來自所 述光盤的反射光中產生的從所述跟蹤誤差信號向所述聚焦誤差信號的光 學串擾，決定用于校正所述跟蹤誤差檢測部的輸出的校正量；乘法器，其將所述跟蹤誤差檢測部的輸出和所述光學串擾校正量決定 部所決定的所述校正量相乘；加法器，其將所述聚焦誤差檢測部的輸出和所述乘法器的輸出相加； 聚焦控制部，其根據(jù)所述加法器的輸出對所述點的聚焦進行控制；和 跟蹤控制部，其根據(jù)所述跟蹤誤差檢測部的輸出進行跟蹤控制。
全文摘要
在利用非點像差法作為聚焦誤差信號(FE信號)的檢測方式情況下，軌道跨越成分泄漏到FE信號。通過考慮FE信號的檢測方式可以減少泄漏信號，但不能適用于光的利用效率降低的情況。通過光學串擾校正量決定部(1000)，在光點跨越軌道時，根據(jù)在來自光盤(102)的反射光中產生的從TE信號向FE信號的光學串擾，決定用于校正跟蹤誤差檢測部(120)的輸出的校正量，將該決定的校正量和跟蹤誤差檢測部(120)的輸出相乘，和聚焦誤差檢測部(118)的輸出相加。并且，由于根據(jù)加法運算的結果，由聚焦控制部(138)進行聚焦控制，所以，可以有效地減少因光學串擾而泄漏到FE信號中的TE信號成分。
文檔編號G11B7/095GK101553874SQ200680047260
公開日2009年10月7日 申請日期2006年12月13日 優(yōu)先權日2005年12月15日
發(fā)明者大石恭生, 山元猛晴, 山田真一, 高澤稔 申請人:松下電器產業(yè)株式會社