專利名稱：：信息記錄媒體用玻璃基板、信息記錄媒體用玻璃基板的制造方法及信息記錄媒體的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及信息記錄媒體用玻璃基板及其制造方法以及信息記錄媒體，所述信息記錄媒體用玻璃基板用于信息記錄媒體，該信息記錄媒體具有利用了磁、光、光磁等屬性的記錄層。
背景技術(shù)：
：具有利用磁、光、光磁等屬性的記錄層的信息記錄媒體中，代表性的有磁盤(pán)。作為磁盤(pán)用基板以往廣泛使用鋁基板。但近年來(lái)伴隨記錄密度提高要求磁頭浮起量降低，使用玻璃基板作為磁盤(pán)用基板的比例增多，該玻璃基板與鋁基板相比表面平滑性優(yōu)異且表面缺陷少，能夠?qū)崿F(xiàn)降低磁頭的浮起量。這種磁盤(pán)等信息記錄媒體用玻璃基板的制造方法中，為了提高玻璃基板的耐沖擊性和耐振性，防止沖擊和振動(dòng)引起的基板破損，一般是在玻璃基板表面實(shí)施化學(xué)強(qiáng)化處理，對(duì)玻璃基板進(jìn)行強(qiáng)化?；瘜W(xué)強(qiáng)化處理通常通過(guò)離子交換法進(jìn)行，具體是將玻璃基板浸放在化學(xué)強(qiáng)化處理液中，以化學(xué)強(qiáng)化處理液中的K+等離子對(duì)玻璃基板表層的Na+等離子進(jìn)行離子交換，由此在玻璃基板的表面形成壓縮應(yīng)力層。化學(xué)強(qiáng)化處理后為了除去化學(xué)強(qiáng)化處理液引起的浸蝕和微細(xì)的傷痕等確保必要的平滑性，多數(shù)場(chǎng)合是對(duì)被化學(xué)強(qiáng)化處理的表面進(jìn)行研磨加工。但是該研磨加工致使玻璃基板表面形成的壓縮應(yīng)力層的一部分被除去，這樣破壞了玻璃基板表面和反面的應(yīng)力平衡，玻璃基板翹起平坦度劣化，存在問(wèn)題。為了防止上述平坦度的劣化，有一種磁性記錄媒體用玻璃基板被提案，其中，使化學(xué)強(qiáng)化處理后的研磨帶來(lái)的玻璃基板厚度方向的減少量，單面大于Q^m小于等于0.4mm(參照例如專利文獻(xiàn)1)。專利文獻(xiàn)1:特開(kāi)平11—268932號(hào)公報(bào)但是，即使化學(xué)強(qiáng)化處理后的研磨引起的玻璃基板厚度方向的減少量在上述專利文獻(xiàn)1中記載的范圍，為了防止玻璃基板平坦度的劣化還必須使玻璃基板的表面和反面的減少量嚴(yán)密一致，而為此需要大量的勞力和時(shí)間，導(dǎo)致制造成本上升，存在問(wèn)題。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明鑒于上述技術(shù)課題，以提供一種信息記錄媒體用玻璃基板、該信息記錄媒體用玻璃基板的制造方法以及釆用該信息記錄媒體用玻璃基板的信息記錄媒體為目的，該信息記錄媒體用玻璃基板能夠在兼?zhèn)涓邚?qiáng)度高平坦度的同時(shí)以低成本進(jìn)行制造。為了解決上述課題，本發(fā)明具有以下特征。1.一種信息記錄媒體用玻璃基板，是具有中心孔的圓板狀玻璃基板，成分中至少含有Na20，外周端面及內(nèi)周端面上具有用含K"離子的化學(xué)強(qiáng)化處理液作了化學(xué)強(qiáng)化的區(qū)域，信息記錄媒體用玻璃基板的特征在于，所述玻璃基板的外周端面及內(nèi)周端面的所述被化學(xué)強(qiáng)化了的區(qū)域中的所述玻璃基板厚度方向中央的離子濃度，在以K+離子濃度的最大值為W1，K+離子濃度為最大之位置上的Na+離子濃度為W2，所述玻璃基板沒(méi)有被化學(xué)強(qiáng)化的區(qū)域中的K+離子濃度為W3時(shí)，為O.(W1—W3)/W2S5。2.—種信息記錄媒體用玻璃基板，是具有中心孔的圓板狀玻璃基板，成分中至少含有Na20，外周端面及內(nèi)周端面上具有用含K+離子的化學(xué)強(qiáng)化處理液作了化學(xué)強(qiáng)化的區(qū)域，信息記錄媒體用玻璃基板的特征在于，所述玻璃基板的外周端面及內(nèi)周端面的所述被化學(xué)強(qiáng)化了的區(qū)域中的所述玻璃基板厚度方向中央的離子濃度，在以K+離子濃度的最大值為W1,K+離子濃度為最大之位置上的Na+離子濃度為W2，所述玻璃基板沒(méi)有被化學(xué)強(qiáng)化的區(qū)域中的K+離子濃度為W3時(shí)，為1S(W1—W3)/W2S5。3.上述1或2中記載的信息記錄媒體用玻璃基板，其特征在于，所述K+離子濃度為最大的位置，是在離開(kāi)所述玻璃基板外周端面及內(nèi)周端面的內(nèi)部。4.上述1至3的任何一項(xiàng)中記載的信息記錄媒體用玻璃基板，其特征在于，所述玻璃基板的成分中含有NazO和Li20。5.—種信息記錄媒體用玻璃基板的制造方法，包括化學(xué)強(qiáng)化工序，該化學(xué)強(qiáng)化工序是用含K+離子的化學(xué)強(qiáng)化處理液，化學(xué)強(qiáng)化具有中心孔的圓板狀的、成分中至少含有Na20的玻璃基板作，信息記錄媒體用玻璃基板制造方法的特征在于，所述化學(xué)強(qiáng)化工序使得所述玻璃基板的外周端面及內(nèi)周端面的所述被化學(xué)強(qiáng)化了的區(qū)域中的所述玻璃基板厚度方向中央的離子濃度，在以K+離子濃度的最大值為W1，K+離子濃度為最大之位置上的Na+離子濃度為W2，所述玻璃基板沒(méi)有被化學(xué)強(qiáng)化的區(qū)域中的K+離子濃度為W3時(shí)，為O.(W1—W3)/W2^5。6.—種信息記錄媒體用玻璃基板的制造方法，包括化學(xué)強(qiáng)化工序，該化學(xué)強(qiáng)化工序是用含K+離子的化學(xué)強(qiáng)化處理液，化學(xué)強(qiáng)化具有中心孔的圓板狀的、成分中至少含有N&20的玻璃基板，信息記錄媒體用玻璃基板制造方法的特征在于，所述化學(xué)強(qiáng)化工序使得所述玻璃基板的外周端面及內(nèi)周端面的所述被化學(xué)強(qiáng)化了的區(qū)域中的所述玻璃基板厚度方向中央的離子濃度，在以K+離子濃度的最大值為W1，K+離子濃度為最大之位置上的Na+離子濃度為\￥2，所述玻璃基板沒(méi)有被化學(xué)強(qiáng)化的區(qū)域中的K+離子濃度為W3時(shí)，為1S(W1—W3)/W2S5。7.上述5或6中記載的信息記錄媒體用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述K+離子濃度為最大的位置，是在離開(kāi)所述玻璃基板的外周端面及內(nèi)周端面的內(nèi)部。8.—種信息記錄媒體，其特征在于，在上述1至4的任何一項(xiàng)中記載的信息記錄媒體用玻璃基板上至少形成記錄層。9.上述8中記載的信息記錄媒體，其特征在于，所述記錄層是磁性層。根據(jù)本發(fā)明，通過(guò)使玻璃基板的外周端面及內(nèi)周端面的被化學(xué)強(qiáng)化了的區(qū)域的K+離子濃度和Na+離子濃度在所定范圍，這樣能夠保持玻璃基板外周端面及內(nèi)周端面的應(yīng)力平衡，所以能夠提供能夠在兼?zhèn)涓邚?qiáng)度和高平坦度的同時(shí)以低成本制造的信息記錄媒體用玻璃基板、該信息記錄媒體用玻璃基板的制造方法，以及采用了該信息記錄媒體用玻璃基板的信息記錄媒體。圖1:本發(fā)明實(shí)施方式的玻璃基板10的外周端面附近的截面放大圖，上述對(duì)應(yīng)位置的離開(kāi)玻璃基板外周端面的距離與離子濃度的關(guān)系示意曲線。圖2:本發(fā)明另一實(shí)施方式的玻璃基板10b的外周端面附近的截面放大圖，上述對(duì)應(yīng)位置的離開(kāi)玻璃基板外周端面的距離與離子濃度的關(guān)系示意曲線。圖3:本發(fā)明的信息記錄媒體用玻璃基板的一例示意圖。圖4:本發(fā)明的信息記錄媒體用玻璃基板的另一例示意圖。圖5:實(shí)施例采用的圓環(huán)彎曲試驗(yàn)機(jī)20的模式圖。符號(hào)說(shuō)明10、10a、10b玻璃基板11、11a、lib表面12、12a、12b反面13中心孔14外周端面15內(nèi)周端面16、17去角部18被化學(xué)強(qiáng)化了的區(qū)域19沒(méi)有被化學(xué)強(qiáng)化的區(qū)域具體實(shí)施例方式以下參照附圖詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施方式。[信息記錄媒體用玻璃基板]圖3是本發(fā)明信息記錄媒體用玻璃基板的一例示意圖。圖3(a)是立體3(b)是截面圖。玻璃基板10是具有中心孔13的圓板狀玻璃基板，具有為形成了記錄層的面的表面11以及反面12。外周端面14及內(nèi)周端面15上分別設(shè)去角部16及17。另外玻璃基板IO上有沒(méi)有被化學(xué)強(qiáng)化的區(qū)域19和被化學(xué)強(qiáng)化了的區(qū)域18。所謂被化學(xué)強(qiáng)化了的區(qū)域18，是通過(guò)將玻璃基板浸在被加熱了的化學(xué)強(qiáng)化處理液中，玻璃基板成分的Na+離子的至少一部分被離子半徑大于它的K+離子置換了的區(qū)域，由于離子半徑不同產(chǎn)生變形，被化學(xué)強(qiáng)化了的區(qū)域18中產(chǎn)生壓縮應(yīng)力，玻璃基板被強(qiáng)化。圖4是本發(fā)明信息記錄媒體用玻璃基板的另一例示意圖。圖4(a)是使化學(xué)強(qiáng)化處理后的研磨量為較大情況時(shí)玻璃基板10a的截面示意圖，圖4(b)是使化學(xué)強(qiáng)化處理后的研磨量為更大情況時(shí)玻璃基板10b的截面示意圖。圖4(a)中的玻璃基板10a由于研磨表面lla及反面12a，表面lla及反面12a上留有的被化學(xué)強(qiáng)化了的區(qū)域的深度，比外周端面14及內(nèi)周端面15上留有的被化學(xué)強(qiáng)化了的區(qū)域的深度淺。圖4(b)中的玻璃基板10b因?yàn)楸砻鎙la及反面12a的研磨量更大，所以表面llb及反面12b上直接露出沒(méi)有被化學(xué)強(qiáng)化的區(qū)域19，被化學(xué)強(qiáng)化的區(qū)域18只存在于外周端面14及內(nèi)周端面15。如上所述，本發(fā)明的信息記錄媒體用玻璃基板，對(duì)表面及反面是否留有被化學(xué)強(qiáng)化了的區(qū)域或被化學(xué)強(qiáng)化了的區(qū)域的深度等沒(méi)有特別限定，只要至少在外周端面及內(nèi)周端面存在被化學(xué)強(qiáng)化了的區(qū)域即可。被化學(xué)強(qiáng)化了的區(qū)域中，不僅僅是玻璃基板成分的Na+離子被K+離子置換，在作為玻璃基板的成分并且含有Li+離子的情況時(shí)，也可以是L1+離子被!^3+離子和K+離子置換。作為玻璃基板的材料，只要是成份中至少含有Na20，浸在含有K+離子的化學(xué)強(qiáng)化處理液中時(shí)能夠離子交換的玻璃，沒(méi)有特殊限定。可以使用例如以Si02、Na20、CaO為主要成分的蘇打石灰玻璃；以Si02、A1203、R20(R=K、Na、Li)為主要成分的水合硅酸鋁玻璃；硼硅酸鹽玻璃；Li20—Si02系玻璃；Li20—A1203—Si02系玻璃；R'0—A1203—Si02系玻璃(R，=Mg、Ca、Sr、Ba)等。其中，水合硅酸鋁玻璃和硼硅酸鹽玻璃因?yàn)槟蜎_擊性和耐振性優(yōu)異尤其優(yōu)選。另外，從化學(xué)強(qiáng)化時(shí)能夠效率較高地進(jìn)行離子交換之觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選使用成分中含有Na20和L120的玻璃。對(duì)玻璃基板的大小沒(méi)有限定。可以采用例如外徑為2.5英寸、1.8英寸、l英寸、0.8英寸等各種大小的玻璃基板。另外對(duì)玻璃基板的厚度也沒(méi)有限定?？梢允褂美?mm、lmm、0.63mm等各種厚度的玻璃基板。本發(fā)明者為了解決化學(xué)強(qiáng)化處理后玻璃基板的平坦度惡化之上述課題，進(jìn)行了銳意檢討，發(fā)現(xiàn)玻璃基板外周端面及內(nèi)周端面的應(yīng)力大大影響玻璃基板的平坦度。并且進(jìn)行繼續(xù)檢討的結(jié)果發(fā)現(xiàn)通過(guò)使外周端面及內(nèi)周端面被強(qiáng)化處理了的區(qū)域中的K+離子濃度及Na+離子濃度在所定范圍，則能夠防止玻璃基板的平坦度惡化。具體如下，通過(guò)使玻璃基板的外周端面及內(nèi)周端面被化學(xué)強(qiáng)化了的區(qū)域中的玻璃基板厚度方向中央的離子濃度，在以K+離子濃度的最大值為W1，K+離子濃度為最大之位置上的Na+離子濃度為W2,玻璃基板沒(méi)有被化學(xué)強(qiáng)化的區(qū)域中的K+離子濃度為W3時(shí)，滿足0.1《(W1—W3)/W2《5，較優(yōu)選滿足1《(W1—W3)/W2《5，這樣玻璃基板外周端面及內(nèi)周端面的應(yīng)力平衡，能夠防止玻璃基板的平坦度惡化。圖1是本發(fā)明實(shí)施方式的玻璃基板IO外周端面附近的放大截面圖，上述對(duì)應(yīng)位置的離開(kāi)玻璃基板外周端面的距離與離子濃度的關(guān)系示意曲線。該曲線表示玻璃基板厚度方向中央的K+離子濃度及Na+離子濃度。圖1的曲線中，離端面距離L2的右側(cè)(玻璃基板的中心側(cè))是沒(méi)有被化學(xué)強(qiáng)化的區(qū)域19，距離L2的左側(cè)(玻璃基板的端面?zhèn)?是被化學(xué)強(qiáng)化了的區(qū)域18。作為玻璃基板10的材料，因?yàn)槭褂贸煞种胁缓琄20的玻璃，所以玻璃基板IO沒(méi)有被化學(xué)強(qiáng)化的區(qū)域19中的K+離子濃度(W3)為0。K+離子濃度在被化學(xué)強(qiáng)化了的區(qū)域18中是隨著接近玻璃基板的端面而慢慢增加?；瘜W(xué)強(qiáng)化處理剛結(jié)束的玻璃基板如曲線所示，K+離子濃度在端面最大。之后由于化學(xué)強(qiáng)化處理后的洗凈等，端面附近的K+離子洗脫減少，如曲線中的實(shí)線所示，K+離子濃度最大(W1)的位置是在離開(kāi)端面Ll距離的內(nèi)部。K+離子濃度可以在端面最大，但是優(yōu)選在離開(kāi)端面的內(nèi)部位置為最大(Wl)。通過(guò)在離開(kāi)端面的內(nèi)部位置為最大(Wl)，這樣能夠抑制過(guò)度的離子擴(kuò)散，表面附近的K+離子分布處于安定狀態(tài)，抑制衰變和溫度引起的變化，常時(shí)維持安定的應(yīng)力分布狀態(tài)，可謂優(yōu)選。作為洗凈液，可以采用純水、離子交換水、離子水、臭氧水、超純水、蒸餾水、雙氧水等周知的洗凈水，還可以采用使用了鹽酸、硫酸、硝酸、乙二酸、醋酸、檸檬酸、氫氟酸等酸類或NaOH、KOH等堿成分的周知的玻璃基板洗凈水溶液。Na+離子濃度在沒(méi)有被化學(xué)強(qiáng)化的區(qū)域19中為一定，但是在被化學(xué)強(qiáng)化了的區(qū)域18中是隨接近玻璃基板端面而慢慢減少，在端面為最小。使K+離子濃度為最大的位置(L1)上的Na+離子濃度為W2。K+離子濃度在端面為最大時(shí)只要使端面的K+離子濃度為W1端面的Na+離子濃度為W2即可。圖1中僅對(duì)玻璃基板10外周端面14附近作了放大圖示'但是玻璃基板10內(nèi)周端面15附近也具有與外周端面14附近相同的離子濃度分布。(Wl—W3)/W2不到0.l時(shí)，玻璃基板中含有的Na+離子與化學(xué)強(qiáng)化處理液中含有的K+離子的離子交換不足，不能得到作為信息記錄媒體用玻璃基板所必需的強(qiáng)度。(W1—W3)/W2在0.1以上不到1時(shí)，端部發(fā)生的壓縮應(yīng)力不充分，有時(shí)不能充分發(fā)揮所需的強(qiáng)度特性，不優(yōu)選。反之(W1—W3)/W2大于5時(shí)，離子交換過(guò)剩，由于外周端面和內(nèi)周端面中存在超過(guò)需要的應(yīng)力，容易引起玻璃基板的平坦度惡化。圖2是本發(fā)明另一實(shí)施方式的玻璃基板10b的外周端面附近的放大截面圖，上述對(duì)應(yīng)位置的離開(kāi)玻璃基板外周端面的距離與離子濃度的關(guān)系示意曲線。玻璃基板10b的表面llb及反面12b沒(méi)有被化學(xué)強(qiáng)化的區(qū)域19直接露出，被化學(xué)強(qiáng)化了的區(qū)域18只存在于外周端面14及內(nèi)周端面15。圖2的曲線表示玻璃基板厚度方向中央的K+離子濃度及Na+離子濃度。圖2的曲線中，離端面距離L2的右側(cè)(玻璃基板的中心側(cè))是沒(méi)有被化學(xué)強(qiáng)化的區(qū)域19，L2的左側(cè)(玻璃基板的端面?zhèn)?是被化學(xué)強(qiáng)化了的區(qū)域18。與圖1的情況不同，作為玻璃基板10b的材料因?yàn)槭褂贸煞种泻蠯2O的玻璃，所以玻璃基板10b沒(méi)有被化學(xué)強(qiáng)化的區(qū)域19中K+離子濃度(W3)不為0，顯示一定值。K+離子濃度在被化學(xué)強(qiáng)化了的區(qū)域18中隨接近玻璃基板端面而慢慢增加，在稍微離開(kāi)端面的內(nèi)部位置(L1)為最大(W1)。Na+離子濃度在沒(méi)有被化學(xué)強(qiáng)化的區(qū)域19中為一定，但是在被化學(xué)強(qiáng)化了的區(qū)域18中是隨接近玻璃基板端面而慢慢減少，在端面為最小。使K+離子濃度為最大之位置(L1)上的Na+離子濃度為W2。這種玻璃基板10b的情況也與圖1的玻璃基板10相同，通過(guò)滿足0.1S(W1一W3)/W2^5，較優(yōu)選滿足(W1—W3)/W2S5，這樣玻璃基板外周端面及內(nèi)周端面的應(yīng)力平衡，能夠防止玻璃基板的平坦度惡化。[信息記錄媒體用玻璃基板的制造方法]信息記錄媒體用玻璃基板的制造一般經(jīng)過(guò)坯料制作工序、內(nèi)外周加工工序、研削研磨工序、化學(xué)強(qiáng)化工序、洗凈工序等工序。坯料制作工序是形成作為信息記錄媒體用玻璃基板基礎(chǔ)的坯料，周知的有模壓成型熔融玻璃的制作方法，還有切斷片狀玻璃的制作方法。內(nèi)外周加工工序是穿孔加工中心孔以及為了確保外周端面和內(nèi)周端面的形狀和尺寸精度的研削加工和內(nèi)外周端面的研磨加工等。研削研磨工序是為了使形成記錄層的面滿足平坦度和表面粗細(xì)而進(jìn)行的研削加工和研磨加工。通常大多數(shù)情況下是分粗研削加工、精研削加工、l次研磨加工、2次研磨加工等幾個(gè)階段進(jìn)行?；瘜W(xué)強(qiáng)化工序是將玻璃基板浸在化學(xué)強(qiáng)化處理液中對(duì)玻璃基板進(jìn)行強(qiáng)化。洗凈工序是除去殘留在玻璃基板表面的研磨劑和化學(xué)強(qiáng)處理液等異物。上述一系列工序內(nèi)，本發(fā)明信息記錄媒體用玻璃基板的制造方法主要是在化學(xué)強(qiáng)化工序中具有特征。本發(fā)明中，可以在研削研磨工序完成之后進(jìn)行化學(xué)強(qiáng)化工序，也可以先進(jìn)行化學(xué)強(qiáng)化工序然后進(jìn)行研削研磨工序。另外還可以在研削研磨工序進(jìn)展到某一階段時(shí)進(jìn)行化學(xué)強(qiáng)化工序，然后再進(jìn)行研削研磨工序乘下的工序直至完成。本發(fā)明信息記錄媒體用玻璃基板的制造方法還可以有上述之外的各種工序。例如可以有用來(lái)緩和玻璃基板內(nèi)部變形的退火工序、用來(lái)確認(rèn)玻璃基板強(qiáng)度可靠性的熱休克工序、各種檢查評(píng)價(jià)工序等。[化學(xué)強(qiáng)化工序]化學(xué)強(qiáng)化工序是通過(guò)離子交換法進(jìn)行的，即將玻璃基板浸在被加熱了的化學(xué)強(qiáng)化處理液中，化學(xué)強(qiáng)化處理液中含有的K+離子置換玻璃基板中含有的Na+離子。由于離子半徑不同產(chǎn)生的變形，被離子交換的區(qū)域中發(fā)生壓縮應(yīng)力，玻璃基板的表面被強(qiáng)化。不僅僅是Na+離子與K+離子的離子交換，玻璃基板中含有的Li+離子與化學(xué)強(qiáng)化處理液中含有的Na+離子和K+離子的離子交換也可以并同進(jìn)行。作為化學(xué)強(qiáng)化處理液一般采用含K+離子的熔融鹽或含K+離子和Na+離子的熔融鹽。作為含Na+離子和K+離子的熔融鹽，可以舉出Na和K的硝酸鹽、碳酸鹽、硫酸鹽和它們的混合熔融鹽。其中，從熔點(diǎn)低能夠防止玻璃基板變形之觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選釆用硝酸鹽。尤其優(yōu)選采用硝酸鉀和硝酸鈉以1:350:l范圍的質(zhì)量比率混合的熔融鹽，較優(yōu)選采用以i:13o:i范圍的質(zhì)量比率混合的熔融鹽為好。更優(yōu)選采用以2:ii5:i范圍的質(zhì)量比率混合的熔融鹽為好。如果硝酸鉀和硝酸鈉的混合比率小于下限值5o:i的話，離子交換速度急劇下降難以得到充分的強(qiáng)化層(離子濃度變化的層)。另外如果硝酸鉀和硝酸鈉的混合比率大于上限值l:3的話，Na離子的交換速度過(guò)剩，難以得到所望的離子濃度分布，應(yīng)力過(guò)度發(fā)生變得不安定，平坦度惡化?；瘜W(xué)強(qiáng)化處理液被加熱到比上述成分融解的溫度還要高的高溫。而化學(xué)強(qiáng)化處理液的加熱溫度太高的話，玻璃基板的溫度升得太高，導(dǎo)致玻璃基板變形。因此，優(yōu)選化學(xué)強(qiáng)化處理液的加熱溫度，是低于玻璃基板的玻璃轉(zhuǎn)移點(diǎn)(Tg)的溫度，更優(yōu)選是低于玻璃轉(zhuǎn)移點(diǎn)一5Q。C的溫度。外周端面及內(nèi)周端面的K+離子濃度及Na+離子濃度由玻璃基板和化學(xué)強(qiáng)化處理液的種類、化學(xué)強(qiáng)化處理液的溫度、浸放時(shí)間等決定。因此，根據(jù)所采用的玻璃基板和化學(xué)強(qiáng)化處理液的種類，通過(guò)適當(dāng)設(shè)定化學(xué)強(qiáng)化處理液的溫度和浸放時(shí)間，能夠使外周端面及內(nèi)周端面的K+離子濃度及Na+離子濃度在0.1^(W1—W3)/W2^5的范圍，較優(yōu)選是在1^(W1—W3)/W2S5的范圍。通常，化學(xué)強(qiáng)化處理液的溫度越高、浸放時(shí)間越長(zhǎng)，(W1—W3)/W2的值越大，化學(xué)強(qiáng)化處理液的溫度越低、浸放時(shí)間越短，(W1—W3)/W2的值越小。為了防止由于被浸放到加熱了的化學(xué)強(qiáng)化處理液中時(shí)的熱沖擊而發(fā)生的玻璃基板的破碎和微細(xì)的裂縫，可以有預(yù)熱工序，即在浸入化學(xué)強(qiáng)化處理液之前在預(yù)熱槽加熱玻璃基板到所定溫度。[信息記錄媒體]通過(guò)在本發(fā)明的信息記錄媒體用玻璃基板上至少形成記錄層，便能夠得到信息記錄媒體。記錄層沒(méi)有特殊限定，可以采用利用了磁、光、光磁等屬性的各種記錄層，但是尤其適合于采用磁性層作為記錄層的信息記錄媒體(磁盤(pán))的制造u作為磁性層所用的磁性材料沒(méi)有特殊限定，可以適宜選擇采用周知的材料?？梢耘e出例如以Co為主要成分的CoPt、CoCr、CoNi、CoNiCr、CoCrTa、CoPtCr、CoNiPt、CoNiCrPt、CoNiCrTa、CoCrPtTa、CoCrPtSiO等。也可以是用非磁性膜(例如Cr、CrMo、CrV等)分割磁性層的降低了噪音的多層結(jié)構(gòu)。作為磁性層，除了上述Co類材料之外，也可以采用鐵酸鹽類、鐵一稀土族類材料，以及在由Si02、BN等構(gòu)成的非磁性膜中分散了Fe、Co、CoFe、CoNiPt等磁性粒子之構(gòu)造的顆粒等。磁性層可以是面內(nèi)型和垂直型的任何一種。作為磁性膜的形成方法可以采用周知的方法。可以舉出例如噴鍍法、化學(xué)沉積法、旋涂法等?？梢赃M(jìn)一步根據(jù)需要在磁盤(pán)中設(shè)下底層、保護(hù)層、潤(rùn)滑層等。這些層都可以適宜選擇采用周知的材料。作為下底層的材料可以舉出例如Cr、Mo、Ta、Ti、W、V、B、A1、Ni等。作為保護(hù)層的材料，可以舉出例如Cr、Cr合金、C、Zr02、Si02等。作為潤(rùn)滑層可以舉出例如涂布由全氟聚醚(PFPE)等構(gòu)成的液體潤(rùn)滑劑，根據(jù)需要進(jìn)行加熱處理的等。實(shí)施例采用水合硅酸鋁玻璃作為玻璃材料，壓榨成型熔融玻璃制作坯料。經(jīng)內(nèi)外周加工工序和研削研磨工序，做成外徑65mm、內(nèi)徑2Omm、厚度0635mm的玻璃基板。表面粗細(xì)加工成正反都是算術(shù)平均高Ra(JISB0601:2001)為O.40.5nm。平坦度(PV值)正反都不到1um。平坦度的測(cè)定是采用加工成0.1"m以下水準(zhǔn)的平面標(biāo)準(zhǔn)原器，通過(guò)千涉條紋的測(cè)定進(jìn)行。作為化學(xué)強(qiáng)化處理液，準(zhǔn)備了硝酸鉀(KN03)和硝酸鈉(NaN03)的混合熔融鹽?；旌媳仁琴|(zhì)量比l:1?；瘜W(xué)強(qiáng)化處理液的溫度為400°C。將20張玻璃基板裝到搬送夾具上，連同搬送夾具一起浸入化學(xué)強(qiáng)化處理液中。如下表1所示，用從5分鐘到1200分鐘改變浸放時(shí)間之條件進(jìn)行了化學(xué)強(qiáng)化處理。浸放所定時(shí)間之后，連同搬送夾具一起取出玻璃基板，通過(guò)超聲波洗凈機(jī)用純水洗凈殘留的化學(xué)強(qiáng)化處理液，從搬送夾具取出玻璃基板。[離子濃度的測(cè)定]各條件各抽取2張玻璃基板，測(cè)定玻璃基板外周端面及內(nèi)周端面的K+離子濃度及Na+離子濃度分布，求得W1、W2及W3，計(jì)算(W1—W3)/W2值。K+離子濃度和Na+離子濃度的測(cè)定用飛行時(shí)間型二次離子質(zhì)量分析裝置(TimeofFlight(TOF)—SIMS)進(jìn)行。[平坦度的測(cè)定]接下去，各條件各抽取5張玻璃基板進(jìn)行平坦度(PV值)測(cè)定。平坦度的測(cè)定與化學(xué)強(qiáng)化處理前的基板相同，通過(guò)干涉條紋的測(cè)定進(jìn)行。優(yōu)選平坦度小，若超過(guò)5^m的話作為磁盤(pán)則性能上有問(wèn)題。這里以平坦度5張的平均值在5"m以下的情況為良好(評(píng)價(jià)O)，超過(guò)5Mm的情況為有問(wèn)題(評(píng)價(jià)X)。[用圓環(huán)彎曲強(qiáng)度試驗(yàn)所作的強(qiáng)度測(cè)定]進(jìn)一步各條件各抽取IO張玻璃基板，通過(guò)圓環(huán)彎曲強(qiáng)度試驗(yàn)測(cè)定了玻璃基板的強(qiáng)度)。圖5是本實(shí)施例中采用的圓環(huán)彎曲試驗(yàn)機(jī)20的模式圖。圓環(huán)彎曲試驗(yàn)機(jī)20是在支撐臺(tái)23上放置玻璃基板30，由圓環(huán)狀支撐外周31，在玻璃基板30的內(nèi)周33上放置鐵球22，中介鐵球22通過(guò)加載21對(duì)玻璃基板30的內(nèi)周33施加荷重，進(jìn)行破壞試驗(yàn)。該方法與行業(yè)一般采用的作為硬盤(pán)用信息記錄媒體強(qiáng)度實(shí)驗(yàn)的方法相同。支撐臺(tái)23是內(nèi)徑D二63mm的圓筒形。鐵球22是直徑28.57mm的鐵制球，質(zhì)量l00克左右，該質(zhì)量與加載21施加的荷重相比能夠忽視。鐵球22碰觸玻璃基板30內(nèi)周33施加作用力，對(duì)外周31被支撐臺(tái)23支撐的玻璃基板30施加彎曲應(yīng)力。加載21的壓下速度為0.5mm/分。根據(jù)本發(fā)明者以往的經(jīng)驗(yàn)，破壞強(qiáng)度小于l00N的話，信息記錄媒體用玻璃基板的破碎、缺損等破損引起的成品率降低顯著。因此，這里以測(cè)定的io張玻璃基板的破壞強(qiáng)度全部在l0QN以上的情況為最良好(評(píng)價(jià))、破壞強(qiáng)度在10QN以上的玻璃基板在7張以上的情況為良好(評(píng)價(jià)O)、破壞強(qiáng)度在l00N以上的玻璃基板不到7張的情況為有問(wèn)題(評(píng)價(jià)X)，進(jìn)行了評(píng)價(jià)。[評(píng)價(jià)結(jié)果]表l出示評(píng)價(jià)結(jié)果。綜合判定欄的記號(hào)表示如下。平坦度的評(píng)價(jià)為O、破壞強(qiáng)度的評(píng)價(jià)為的情況。平坦度、破壞強(qiáng)度的評(píng)價(jià)都為O的情況。X-平坦度、破壞強(qiáng)度的評(píng)價(jià)都為X的情況。<table>tableseeoriginaldocumentpage14</column></row><table>確認(rèn)到用玻璃基板的外周端面及內(nèi)周端面的K+離子濃度及Na+離子濃度在0.(W1—W3)/W2^5范圍之條件制作的基板，強(qiáng)度和平坦度都良好，綜合判定結(jié)果為〇或。用(W1—W3)/W2值不到0.1之條件制作的比較例的基板，破壞強(qiáng)度的評(píng)價(jià)為X，用(W1—W3)/W2值超過(guò)5之條件制作的比較例的基板，平坦度的評(píng)價(jià)為X，各情況綜合評(píng)定都為X，不能得到良好的信息記錄媒體用玻璃基板。所作評(píng)價(jià)的所有玻璃基板，洗凈后的K+離子濃度的最大(W1)的位置，在離開(kāi)端部的內(nèi)部位置。權(quán)利要求1.一種信息記錄媒體用玻璃基板，是具有中心孔的圓板狀玻璃基板，成分中至少含有Na2O，外周端面及內(nèi)周端面上具有用含K+離子的化學(xué)強(qiáng)化處理液作了化學(xué)強(qiáng)化的區(qū)域，信息記錄媒體用玻璃基板的特征在于，所述玻璃基板的外周端面及內(nèi)周端面的所述被化學(xué)強(qiáng)化了的區(qū)域中的所述玻璃基板厚度方向中央的離子濃度，在以K+離子濃度的最大值為W1，K+離子濃度為最大之位置上的Na+離子濃度為W2，所述玻璃基板沒(méi)有被化學(xué)強(qiáng)化的區(qū)域中的K+離子濃度為W3時(shí)，為0.1≤(W1-W3)/W2≤5。2.—種信息記錄媒體用玻璃基板，是具有中心孔的圓板狀玻璃基板，成分中至少含有Na20，外周端面及內(nèi)周端面上具有用含K+離子的化學(xué)強(qiáng)化處理液作了化學(xué)強(qiáng)化的區(qū)域，信息記錄媒體用玻璃基板的特征在于，所述玻璃基板的外周端面及內(nèi)周端面的所述被化學(xué)強(qiáng)化了的區(qū)域中的所述玻璃基板厚度方向中央的離子濃度，在以K+離子濃度的最大值為W1，K+離子濃度為最大之位置上的Na+離子濃度為W2，所述玻璃基板沒(méi)有被化學(xué)強(qiáng)化的區(qū)域中的K+離子濃度為W3時(shí)，為1S(W1—W3)/W2S5。3.權(quán)利要求l或2中記載的信息記錄媒體用玻璃基板，其特征在于，所述K+離子濃度為最大的位置，是在離開(kāi)所述玻璃基板外周端面及內(nèi)周端面的內(nèi)部。4.權(quán)利要求1至3的任何一項(xiàng)中記載的信息記錄媒體用玻璃基板，其特征在于，所述玻璃基板的成分中含有Na20和Li20。5.—種信息記錄媒體用玻璃基板的制造方法，包括化學(xué)強(qiáng)化工序，該化學(xué)強(qiáng)化工序是用含K+離子的化學(xué)強(qiáng)化處理液，化學(xué)強(qiáng)化具有中心孔的圓板狀的、成分中至少含有N320的玻璃基板作，信息記錄媒體用玻璃基板制造方法的特征在于，所述化學(xué)強(qiáng)化工序使得-所述玻璃基板的外周端面及內(nèi)周端面的所述被化學(xué)強(qiáng)化了的區(qū)域中的所述玻璃基板厚度方向中央的離子濃度，在以K+離子濃度的最大值為W1,K+離子濃度為最大之位置上的Na+離子濃度為W2，所述玻璃基板沒(méi)有被化學(xué)強(qiáng)化的區(qū)域中的K+離子濃度為W3時(shí)，成為0.1S(W1—W3)/W2^5。6.—種信息記錄媒體用玻璃基板的制造方法，包括化學(xué)強(qiáng)化工序，該化學(xué)強(qiáng)化工序是用含K+離子的化學(xué)強(qiáng)化處理液，化學(xué)強(qiáng)化具有中心孔的圓板狀的、成分中至少含有N&20的玻璃基板，信息記錄媒體用玻璃基板制造方法的特征在于，所述化學(xué)強(qiáng)化工序使得所述玻璃基板的外周端面及內(nèi)周端面的所述被化學(xué)強(qiáng)化了的區(qū)域中的所述玻璃基板厚度方向中央的離子濃度，在以K+離子濃度的最大值為W1，K+離子濃度為最大之位置上的Na+離子濃度為W2,所述玻璃基板沒(méi)有被化學(xué)強(qiáng)化的區(qū)域中的K+離子濃度為W3時(shí)，成為1S(W1—W3)/W2S5。7.權(quán)利要求5或6中記載的信息記錄媒體用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述K+離子濃度為最大的位置，是在離開(kāi)所述玻璃基板的外周端面及內(nèi)周端面的內(nèi)部。8.—種信息記錄媒體，其特征在于，在權(quán)利要求1至4的任何一項(xiàng)中記載的信息記錄媒體用玻璃基板上至少形成記錄層。9.權(quán)利要求8中記載的信息記錄媒體，其特征在于，所述記錄層是磁性層。全文摘要本發(fā)明提供一種信息記錄媒體用玻璃基板、該信息記錄媒體用玻璃基板的制造方法以及采用該信息記錄媒體用玻璃基板的信息記錄媒體，其中信息記錄媒體用玻璃基板能夠在兼?zhèn)涓邚?qiáng)度高平坦度的同時(shí)以低成本進(jìn)行制造。該信息記錄媒體用玻璃基板，其玻璃基板的外周端面及內(nèi)周端面的被化學(xué)強(qiáng)化了的區(qū)域中的玻璃基板厚度方向中央的離子濃度，在以K⁺離子濃度的最大值為W1，K⁺離子濃度為最大之位置上的Na⁺離子濃度為W2，玻璃基板沒(méi)有被化學(xué)強(qiáng)化的區(qū)域中的K⁺離子濃度為W3時(shí)，滿足0.1≤(W1-W3)/W2≤5。文檔編號(hào)G11B5/73GK101542603SQ20078004335公開(kāi)日2009年9月23日申請(qǐng)日期2007年11月5日優(yōu)先權(quán)日2006年11月22日發(fā)明者佐佐木賢一,河合秀樹(shù),澤田浩明申請(qǐng)人:柯尼卡美能達(dá)精密光學(xué)株式會(huì)社