專利名稱：光學拾取器和磁盤驅動裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及光學拾取器和磁盤驅動裝置。具體地，本發(fā)明涉及 通過使用不是一條直線的任意線段來形成跟蹤》茲體的北4及和南極 之間的邊界從而抑制3艮蹤l喿作和聚焦才喿作中不必要轉矩的生成并 且改善透射特性的4支術領域。
背景技術：
存在將信息信號記錄在諸如光盤和》茲光盤的盤裝記錄介質上 并/人諸如光盤和》茲光盤的盤裝i己錄介質再生4言息信號的》茲盤驅動 裝置。這種磁盤驅動裝置設置有沿盤裝記錄介質的徑向移動以將激 光施加給盤裝記錄介質的光學4合取器。
光學拾取器設置有物鏡驅動裝置，該物鏡驅動裝置包括固定塊 和經由由金屬配線等制成的多個支撐彈簧被固定塊支撐的可移動 塊(例如，參見曰本未審查專利申請7>開第2006-202380號)。
在光學拾取器中，包括用于支持物#;的鏡頭架的可移動塊沿對 應于接近或者遠離盤裝記錄介質的記錄表面的方向的聚焦方向、相 對于固定塊移動，以扭J亍聚焦調節(jié)。此外，可移動塊沿基本上對應于盤裝記錄介質的徑向的跟蹤方向、相對于固定塊移動，以執(zhí)行跟 蹤調節(jié)。使用了上述聚焦調節(jié)和跟蹤調節(jié)，使經由物鏡施加給盤裝 記錄介質的激光點聚集在盤裝記錄介質的記錄磁道上。
設置給光學拾取器的物鏡驅動裝置設置有用于使可移動塊沿 聚焦方向移動的聚焦》茲路和用于4吏可移動塊沿^艮蹤方向移動的iE艮 蹤磁路。聚焦磁路包括聚焦線圈和聚焦磁體。跟蹤磁路包括跟蹤線 圈和S艮蹤》茲體。
在物鏡驅動裝置中，可移動塊和固定塊通過支撐彈簧彼此連 4妄，同時在與聚焦方向和跟蹤方向垂直的切線方向上4皮此遠離。
當光學拾取器沿盤裝記錄介質的徑向移動時，激光透射過在與 鏡頭架面向固定塊的表面相對的表面中形成的光路開口 ，并且入射 在設置在物鏡下方的上反射鏡上。被上反射鏡反射的激光經由物鏡 被施加給盤裝記錄介質的記錄表面。在該過程中，執(zhí)行上述的聚焦 調節(jié)和跟蹤調節(jié)，以^吏經由物4竟施加給盤裝記錄介質的激光點聚集 在盤裝記錄介質的記錄》茲道上。
物4竟驅動裝置包括在切線方向上的物鏡的兩側上i殳置對稱》茲 路的物鏡驅動裝置。在這種類型的物鏡驅動裝置中，有必要在從光 路開口移動的位置處設置一個磁路。因此，可移動塊的厚度(高度)
增大，并且出現(xiàn)使物鏡驅動裝置減小的難題。
同時，物4竟驅動裝置包括"f又在可移動塊的固定塊側i殳置》茲;洛的 另一類型的物鏡驅動裝置。在這種類型的物鏡驅動裝置中，上反射 鏡設置在與設置在可移動塊的固定塊側上的磁路的位置(高度)基 本上相同的高度處。因此，減小了物鏡驅動裝置。然而，包括在可移動塊中的物4竟具有大重量。因此，在4又在可 移動塊的固定塊側上設置有》茲路的物鏡驅動裝置中，有必要在越過
磁路的物鏡的相對側上設置平衡器，以將可移動塊的質心i殳置在磁 路的附近。因此，在僅在可移動塊的固定塊側上設置有》茲路的這種 類型的物鏡驅動裝置中，所設置的平衡器增加了可移動塊的重量， 并且致使可移動塊的移動靈敏度降低。
此外，在^f又在可移動塊的固定塊側上設置有》茲路的這種類型的 物鏡驅動裝置中，沿切線方向順序設置物鏡、磁路以及平衡器。因 此，增加了可移動塊的切線方向的長度，并且高階諧振特性劣化。
鑒于以上所述，存在一種物鏡驅動裝置，其中，可移動塊的質 心被定位成與磁路相比更接近物鏡，從而在減小物鏡驅動裝置的同 時提高了靈敏度和高階諧振特性(參見圖13)。

發(fā)明內容
然而，如圖13所示，在將可移動物鏡的質心定位成與；茲路相 比更接近物鏡處的物鏡驅動裝置中，如果在可移動塊a的各個跟蹤 線圏b中生成沿跟蹤方向作用的推力Ft,則推力Ft的合成力的作 用點P與質心G不匹配。因而，生成繞通過質心G并沿多艮^宗方向 (Z軸)方向延伸的軸作用的轉矩。因此，由于轉矩的生成，出現(xiàn) 了透射特性劣化的問題。
下文將描述繞Z軸作用的轉矩的生成(參見圖14)。由于在各 個S艮蹤》茲體c周圍生成的》茲場J,所以在i 艮蹤線圈b中生成4,力。 在每個5艮蹤》茲體c中，北才及和南才及的兩個{茲才及#^茲化并且#皮定位成 沿跟蹤方向彼此鄰近，其間插入有邊界s?，F(xiàn)在，，i設將在一個跟蹤線圏b中沿跟蹤方向生成的4,力表示 為推力Ftll和Ftl2，而在另一個跟蹤線圈b中沿^艮蹤方向生成的推 力表示為推力Ft21和Ft22。在這種情況下，推力Ftll、 Ftl2、 Ft21 和Ft22的大小和方向取決于^茲場J的強度和方向，因此，它們互不相同。
在跟蹤線圈b中生成的各個推力對應于合成了推力Ftl 1和Ftl2 的合成4,力Ft 13以及合成了推力Ft21和Ft22的合成推力Ft23。沿 跟蹤磁路生成的力對應于合成了合成推力Ftl3和Ft23的合成推力 Ft4。
合成推力Ft4的作用點P位于沿切線方向遠離質心G距離d的 位置處。因此，在可移動塊a中，生成繞Z軸作用的轉矩，該轉矩 的大小對應于質心G和作用點P之間的距離d與合成推力Ft4的乘積。
同時，與上述的繞Z軸作用的轉矩一樣，在物4竟驅動裝置中還 生成繞沿切線方向(X軸)延伸的軸作用的轉矩。當生成繞X軸作 用的轉矩時，還出現(xiàn)了透射特性劣化的問題。
下文中，將描述繞X軸作用的轉矩的生成(參見圖15和圖16)。 X軸沿切線方向延伸并且通過定位在連接跟蹤線圏b的各個中心的 線上的跟蹤磁體c之間的中點。當可移動塊a沿聚焦方向移動時， 可以生成繞X軸作用的4爭頭巨。
當將可移動塊a定位在聚焦方向上的中間位置處(參見圖15) 時，推力Ptl、 Pt2等(在附圖中僅示出Ptl Pt6)和推力Qtl、 Qt2 等(在附圖中僅示出Qtl Qt6)在兩個3艮蹤線圈b之間達到平衡， 其中，以上的推力是由于繞跟蹤磁體c生成的》茲場J而在i^艮蹤線圈 b的各個區(qū)域中生成的。因此，不生成繞X軸作用的轉矩。如果可移動塊a沿聚焦方向移動，如圖16所示，則每個3艮蹤 線圏b的上(或下)端部從面向對應跟蹤》茲體c的位置開始移動。 因此，在兩個i^艮蹤線圈b之間失去了^^力的平tf。結果，4焦力的方 向和大小在兩個3艮蹤線圈b之間變得不同，并且生成了繞X軸作用的轉矩。
鑒于以上所述，才艮據本發(fā)明實施例的光學拾取器和,茲盤驅動裝 置解決上述問題。在光學拾取器和磁盤驅動裝置中，期望能夠抑制 在跟蹤操作和聚焦操作中生成不必要的轉矩并提高透射特性。
為了解決上述問題，根據本發(fā)明實施例的光學拾取器包括沿 安裝在》茲盤臺上的盤裝記錄介質的徑向移動的移動基底，以及i殳置 在移動基底上并且包括物4竟的物4竟驅動裝置。物4竟驅動裝置包括 固定塊、可移動塊、多個支撐彈簧、聚焦磁體、跟蹤磁體、聚焦線 圈和一對^Jf宗線圈。固定塊^皮固定至移動基底?？梢苿訅K包^^物鎮(zhèn): 和支持物鏡的鏡頭架，并且至少沿與接近或者遠離盤裝記錄介質的 記錄表面的方向相對應的聚焦方向和基本上與盤裝記錄介質的徑 向相對應的^^蹤方向相對于固定塊移動。多個支撐彈簧#1配置為連 才妄固定塊和可移動塊。聚焦石茲體4皮配置為4吏可移動塊沿聚焦方向移 動。3艮蹤》茲體#皮配置為4吏可移動塊沿3艮3宗方向移動，并且每個^艮蹤 磁體具有兩個磁極。聚焦線圏被定位成面向聚焦》茲體。這對跟蹤線 圈一皮定位成面向^艮蹤^茲體并且在5艮蹤方向上;f皮此遠離。每個3艮蹤》茲 體的北4及和南才及^皮定〗立成在^艮蹤方向上4皮此鄰近。3艮蹤》茲體的北相> 和南極之間的邊界由不是一條直線的任意線段形成。
因此，在光學拾取器中，抑制在跟蹤操作和聚焦操作中生成不 必要轉矩，并且可以提高透射特性。在上述的光學拾取器中，期望當跟蹤^ 茲體被其在聚焦方向上的中心線平分時，跟蹤》茲體的北極和南才及中的每個相對于中心線具有線對稱形狀。
使用相對于中心線形成為線對稱形狀的北極和南極中的每個，當可移動塊沿聚焦方向移動時，轉矩的抑制狀態(tài)并不隨移動方向而改變。因此，不管移動方向如何，都可以抑制不必要的轉矩。
此外，在上述的光學4合取器中，期望跟蹤萬茲體通過在聚焦方向上連4妻的至少兩個元件形成。
4吏用由在聚焦方向上連4妄的至少兩個元件形成的跟蹤》茲體，復雜邊界部分由元件的連接部分形成。因此，可以容易地形成具有復雜邊界的^艮蹤》茲體。
此外，在上述的光學拾取器中，期望跟蹤磁體的北極和南極之間的邊界由相對于聚焦方向傾斜的兩條連續(xù)直線形成。
利用由相對于聚焦方向傾斜的兩條連續(xù)直線形成的^艮蹤》茲體的北極和南極之間的邊界，簡化了邊界的配置。因此，可以簡單化跟蹤磁體制造。
為了解決上述問題，根據本發(fā)明實施例的磁盤驅動裝置包括磁盤臺，其上安裝盤裝記錄介質；以及光學拾取器，包括沿安裝在》茲盤臺上的盤裝記錄介質的徑向移動的移動基底和設置在移動基底上并且包括物4竟的物4竟驅動裝置，并且^皮配置為經由物4竟將激光施加《會安裝在》茲盤臺上的盤裝記錄介質。物4竟驅動裝置包4舌固定塊、可移動塊、多個支撐彈簧、聚焦磁體、跟蹤磁體、聚焦線圏和一對跟蹤線圈。固定塊固定至移動基底。可移動塊包括物4竟和支持物鏡的鏡頭架，并且至少沿與接近或者遠離盤裝記錄介質的記錄表面的方向相對應的聚焦方向和基本上與盤裝i己錄介質的徑向相對應的3艮蹤方向相對于固定塊移動。多個支撐彈簧^皮配置為連4妾固定塊和可移動塊。聚焦;茲體^皮配置為^f吏可移動塊沿聚焦方向移動。^艮蹤》茲體被配置為使可移動塊沿跟蹤方向移動，并且每個跟蹤》茲體具有兩個》茲極。聚焦線圈^皮定位成面向聚焦》茲體。這對跟蹤線圈^皮定
位成面向跟蹤》茲體并且在跟蹤方向上;^皮此遠離。每個跟蹤,茲體的北才及和南招j皮定^f立成在^艮蹤方向上4皮此鄰近。3艮蹤》茲體的北才及和南核>之間的邊界由不是一條直線的任意線段形成。
因此，在磁盤驅動裝置中，可以抑制在跟蹤操作和聚焦操作中生成不必要的轉矩，并且可以改善透射特性。


圖1為磁盤驅動裝置的示意性透視圖，連同圖2 ~圖12說明根據本發(fā)明的優(yōu)選實施例的光學拾取器和磁盤驅動裝置；
圖2為物鏡驅動裝置的放大透視圖3為可移動塊的》文大透一見圖4為示出繞Z軸作用的轉矩的生成的概念圖5為連同圖6—起i兌明繞X軸作用的轉矩的生成并且示出當將可移動塊^皮定位在聚焦方向的中間位置處時所獲得的各個力的方向和大小的和克念圖6為示出當可移動塊已沿聚焦方向移動時獲得的各個力的方向和大小的相克念圖；圖7為示出當在跟蹤磁體中的各個邊界的位置被設置為抑制繞Z軸作用的轉矩和繞X軸作用的轉矩時所生成的轉矩量的曲線圖8為說明當可移動塊已沿聚焦方向移動時跟蹤磁體和跟蹤線圈相對于邊界的位置的概念圖9為示出通過4吏用在圖8中所示的跟蹤》茲體生成的轉矩量的曲線圖10為示出根據第一修改實例的跟蹤磁體的放大后視圖11為示出根據第二修改實例的跟蹤磁體的放大后視圖12為示出根據第三修改實例的跟蹤磁體的放大后視圖13為"i兌明可移動塊的質心和沿^艮蹤方向的移動中所生成的推力的作用點位于現(xiàn)有技術的物鏡驅動裝置中的不同位置處的實例的相X念圖14為用于說明繞Z軸作用的轉矩的生成的概念圖15為用于連同圖16—起i兌明繞X軸作用的轉矩的生成相無念圖，示出了可移動塊位于聚焦方向上的中間位置處的狀態(tài)；以及
圖16為示出可移動塊已沿聚焦方向移動的狀態(tài)的概念圖。
具體實施例方式
下文中，將參照附圖描述根據本發(fā)明的優(yōu)選實施例的光學拾取器和磁盤驅動裝置。f茲盤驅動裝置1 ^皮配置為包括，沒置在外殼2的內部的必要元件和才幾構(參見圖l)。外殼2形成有未示出的》茲盤插入開口。
底盤2a i殳置在外殼2的內部，并且將》茲盤臺3固定至附4妄至底盤2a的主軸電才幾的電才A4由。
底盤2a附4妄有互相平4亍的導軸4，并且支撐通過未示出的進鄉(xiāng)合電機旋轉的導向螺桿5。
光學拾取器6包括移動基底7、設置至移動基底7的必要光學元件和設置在移動基底7上的物鏡驅動裝置8。通過導軸4可滑動;也支撐i殳置至移動基底7的相^j"端部的軸岸、部7a和7b。
將設置至移動基底7的未示出的螺母元件擰到導向螺桿5上。當通過進給電才幾旋轉導向螺桿5時，螺母元件沿4艮據導向螺桿5的旋轉方向的方向移動。從而，光學拾取器6沿安裝在》茲盤臺3上的盤裝i己錄介質100的徑向移動。
物4竟驅動裝置8包括固定塊9和相對于固定塊9移動的可移動塊10 (參見圖2)并且置于移動基底7上(參見圖1 )。固定塊9固定至移動基底7。固定塊9的后表面附4妄有電路4反11 (參見圖2)?？梢苿訅K10被配置為包括附接有必要元件的鏡頭架12 (參見圖2和圖3)。
如圖3所示，鏡頭架12包括沿垂直方向定位的物鏡附接部13、乂人物4竟附4妄部13的后端部向下突出的線圏附4妄部14以及乂人物4竟附才妄部13的右端部和左端部向下突出的4則表面部15。 4竟頭架12包括-向前打開的光3各開口 12a。鏡頭架12的物鏡附接部13包括在其上端部附近的位置處物鏡附接部13的周圍形成的線圏附-接槽13a (參見圖2和圖3)。線圈附*接槽13a附接有第一聚焦線圏16。因此，第一聚焦線圈16的軸方向^J"應于聚焦方向(垂直方向)。
通過鏡頭架12的物鏡附接部13的上表面來附接并且支持物鏡17和18。物4竟17和18在水平方向(3艮蹤方向)上4皮此遠離地i殳置，并且物鏡17和18被設置為與不同類型的盤裝記錄介質100兼容，例如諸如4吏用具有大約780 nm的頻率的激光的CD (光盤)、使用具有大約660 nm的頻率的激光的DVD (數(shù)字通用光盤)和使用具有大約405 nm的頻率的激光的藍光盤。
未示出的上反射鏡設置在物鏡17和18的下方。上反射鏡具有以下功能接收從未示出的光源發(fā)出并通過光路開口 12a入射在上反射4竟上的激光，并且垂直地反射入射在物4竟17和18上的激光。
鏡頭架12的線圏附接部14包括設置至其下端部的多個第一制動器14a (參見圖3)。第一制動器14a在水平方向上4皮此遠離地詔:
置，并且向后突出。
線圈附4妄部14附*接有傾殺牛線圏19、第二聚焦線圈20和3艮蹤線圈21。 ^!夸傾名+線圏19附，接至線圏附4妄部14的后表面以在水平方向上4皮此遠離。傾4牛線圈19的軸方向對應于切線方向(前后方向)。
將第二聚焦線圈20附*接至線圈附^妄部14的后表面以從后側部分地覆蓋傾4斗線圈19。第二聚焦線圏20的軸方向對應于切線方向。
將跟蹤線圏21附接至第二聚焦線圏20的右側和左側。跟蹤線圈21的軸方向7于應于士刀線方向。鏡頭架12的側表面部15包括設置至其各個下端部的多個第二制動器15a (參見圖2和圖3)。第二制動器15a向前突出。
鏡頭架12的線圈附接部14附接有在其右端部和在其左端部上的連接板22。每個連接板22的連接端連接至第一聚焦線圈16、第二聚焦線圏20、 3艮蹤線圏21和傾名牛線圏19的各個端部。例如，通過焊接使連接板22連接至支撐彈簧23的各個前端部。例如，每個支撐彈簧23由導電金屬材料形成為配線形狀。
例如，通過焊接使附接至固定塊9的電路板11連接至支撐彈簧23的各個后端部。
利用如上所述連4妻至可移動塊10的連4妻才反23和固定塊9的電路板11的支撐彈簧23的相對端部，通過支撐彈簧23使可移動塊10連接至固定塊9并保持在空氣中。
在物鏡驅動裝置8中，經由電路板11、支撐彈簧23和連接板22,將驅動電流從未示出的電源電路施加給第一聚焦線圏16、第二聚焦線圈20、 i 艮蹤線圏21和傾4+線圈19。
在可移動塊10的前側上，i殳置水平方向上^艮長的第一聚焦^茲體24 (參見圖2 )。例如，第一聚焦》茲體24附*接至移動基底7未示出的附4妻部，并且位于第一聚焦線圏16的前面并且在光路開口 12a上。
在移動基底7上，設置由磁性金屬材料形成的石茲軛元件25。磁軛元件25包括沿垂直方向定向的基底部25a和從基底部25a向上突出的》茲輒元件25b?！菲澼m元件25b的前表面附接有第二聚焦》茲體26和跟蹤磁體27。 每個跟蹤磁體27具有在水平方向上彼此鄰近的北極和南極的兩個 f茲才及。第二聚焦^茲體26位于跟蹤》茲體27之間。石茲軛元件25附接-有未示出的傾刮^茲體。
第二聚焦磁體26被定位成面向第二聚焦線圏20。跟蹤磁體27 :故定位成面向跟蹤線圏21。傾斜/磁體被定位成面向傾斜線圈19。
物鏡驅動裝置8可以被配置為不包括專用傾斜i茲體。例如，物 鏡驅動裝置8可以被配置為使第二聚焦磁體26還用作傾斜磁體。 在這種情況下，傾斜線圏19 ^皮定位成面向還用作傾斜/磁體的第二 聚焦磁體26。
第一聚焦線圈16、第二聚焦線圏20、第一聚焦磁體24、第二 聚焦f茲體26和》茲輒元件25構成聚焦》茲路。跟蹤線圏21、跟蹤》茲體 27和i茲專厄元件25構成3艮蹤》茲路。傾殺牛線圈19、傾釗-,茲體和》茲輒元 件25構成傾斜,茲^各。
當乂人未示出的電源電i 各將驅動電流施加至第一聚焦線圈16和 第二聚焦線圈20、跟蹤線圏21或傾斜線圏19時，生成沿根據驅動 電流的方向的方向和通過第一聚焦》茲體24和第二聚焦,茲體26、跟 蹤萬茲體27或傾斜》茲體產生的》茲通量方向作用的力(推力)。結果， 可移動塊10沿聚焦方向、3艮蹤方向或傾殺牛方向移動。
聚焦方向對應于接近或者遠離盤裝記錄介質100的方向(在圖 2所示的方向F)，即，垂直方向。跟蹤方向對應于盤裝記錄介質100 的徑向(在圖2所示的方向TR),即，水平方向。傾殺牛方向對應于 與聚焦方向和5艮蹤方向都垂直的方向(切線方向)，即，在前后方 向上延伸的軸周圍的方向(在圖2中所示的方向TI)。當可移動塊10沿聚焦方向、^艮蹤方向或傾4牛方向移動時，支 撐彈簧23彈性變形。
在如上所述配置的》茲盤驅動裝置1中，當連同主軸電機的旋轉 一起旋轉磁盤臺3時，安裝在》茲盤臺3上的盤裝記錄介質100旋轉。 同時，光學拾取器6沿盤裝記錄介質100的徑向移動，并且在盤裝 記錄介質100上4丸行記錄纟乘作或者再生操作。
在記錄操作或者再生操作中，當向第一聚焦線圈16和第二聚 焦線圏20施加馬區(qū)動電流時，如上所述，物4竟馬區(qū)動裝置8的可移動 J夾10沿圖2所示的聚焦方向F相義于于固定塊9移動。從而，執(zhí)4亍 聚焦調節(jié)，以使經由物4竟17和18施加的激光點聚集在盤裝記錄介 質100的記錄表面上。
在聚焦調節(jié)中，設置給鏡頭架12的第一制動器14a或第二制 動器15a可以與未示出的受控元件4妄觸。因此，當?shù)谝恢苿悠?4a 或第二制動器15a與受控制元件接觸時，調節(jié)可移動塊10在聚焦 方向上不必要的額外移動。
作為可以與第一制動器14a或第二制動器15a接觸的受控元 件，可以使用i殳置給移動基底7的未示出的停止元件。
此外，作為受控元件，還可以4吏用可與第二制動器15a^妄觸的 第一聚焦磁體24或可與第一制動器14a接觸的跟蹤磁體27。使用 第一聚焦^茲體24或者跟蹤》茲體27作為受控元件，專用受控元件就 不必要。因此，減少了元件數(shù)量，并且用于放置受控元件的空間變 得不必要。因此，可以減小物鏡驅動裝置8的尺寸。
當將驅動電流施加鄉(xiāng)合^艮蹤線圏21時，如上所述，物4竟驅動裝 置8的可移動塊10沿圖2所示的3艮蹤方向TR相對于固定塊9移動。從而，執(zhí)行跟蹤調節(jié)以使經由物鏡17和18施加的激光點聚集在盤 裝記錄介質100的記錄石茲道上。
此外，當將驅動電流施加給傾斜線圏19時，如上所述，物鏡 驅動裝置8的可移動塊10沿圖2所示的傾殺牛方向TI相對于固定塊 9移動。從而，^丸行傾斜調節(jié)以^吏經由物鏡17和18所施加的激光 光軸與盤裝記錄介質100的記錄表面垂直。
在物鏡驅動裝置8中，通過跟蹤線圏21、跟蹤/磁體27和/磁軛 元件25構成的3艮蹤^^各〗義i殳置可移動塊10在面向固定塊9的一側。
因此，在物鏡驅動裝置8中，上反射鏡被設置在與設置跟蹤不茲 路的位置基本上相同的位置(高度)處。因此，可以減小物鏡驅動 裝置8。
此外，沒有在越過if艮蹤^茲路的物4竟17和18的相對側上i殳置用 于在跟蹤磁路附近設置可移動塊10的質心的平卩軒器。因此，可移 動塊10重量較輕。因此，可以提高聚焦調節(jié)、跟蹤調節(jié)和傾斜調 節(jié)的靈敏度。
此外，由于在越過3艮蹤》茲路的物一鏡17和18的相對側上沒有平 衡器，所以可移動塊10在切線方向上的長度沒有增大。因此，可 以改善高階諧振特性。
然而，在物4竟驅動裝置8中，可移動塊10的質心纟皮定位成比 跟蹤》茲if各更4妄近的物4竟17和18。因此，存在的問題在于生成了繞 越過可移動塊10的質心并且沿聚焦方向(Z軸)延伸的軸作用的轉 矩和在可移動塊10在聚焦方向的移動中出現(xiàn)的、繞切線方向(X 軸)延伸的軸作用的轉矩。因此，在物鏡驅動裝置8中，需要抑制繞Z軸作用的轉矩和繞 X軸作用的轉矩的生成。
首先，將對繞Z軸作用的轉矩的生成的抑制進行描述(參見圖 4)。在5艮蹤》茲體27'周圍生成的各個》茲通量J在4立于左側上的3艮蹤 線圈21的左部和右部生成4,力Ftla和Ftlb,而在4立于右側上的5艮 蹤線圈21的左部和右部生成推力Ftra和Ftrb。可以通過調節(jié)合成 了推力Ftla和Ftlb的合成4,力Ftlt的方向和合成了 4,力Ftra和Ftrb 的合成推力Ftrt的方向來抑制繞Z軸作用的轉矩。即，4丸4亍調節(jié)以 使合成推力Ftlt的向量的延長線VI和合成推力Ftrt的向量的延長線 Vr通過Z軸(質心G)。
質心G和支撐彈簧23的反作用力的中心通常匹配，但是由于 設計限制，在某些情況下不匹配。在這種情況下，Z軸通過支撐彈 簧23的反作用力的中心。如果Z軸通過質心G,則可移動塊10執(zhí) 4亍由于繞Z軸作用的轉矩的生成而帶來的動態(tài)扭轉運動。如果Z軸 通過支撐彈簧23的反作用力的中心，則可移動塊IO執(zhí)行由于繞Z 軸作用的轉矩的生成而帶來的靜態(tài)扭轉運動。
為了使延長線VI和Vr通過Z軸，具有兩個》茲才及的每個》茲體27， 被形成為使在跟蹤磁體27'的北極和南極之間的邊界S'z位于相對于 對應跟蹤線圏21的預定位置處。在這種情況下，假設在跟蹤磁體 27'中的邊界S'z為沿垂直方向延伸的直線。
合成推力Ftlt或者Ftrt的方向根據邊界S'z相對于對應跟蹤》茲 體27'的跟蹤方向(Y方向)的位置改變。因此，如果在跟蹤方向 上的預定位置處形成邊界S'z,則可以執(zhí)行調節(jié)，以使合成推力Ftlt 的向量的延長線VI和合成4,力Ftrt的向量的延長線Vr通過Z軸。 例如，如圖4所示，每個跟蹤》茲體27^皮形成為4吏邊界S'z從在相關 技術的跟蹤磁體中設置的邊界Sa沿跟蹤方向(Y方向)向外移動。隨后，將對繞X軸作用的轉矩的生成的抑制進行描述(參見圖 5和圖6)。圖5為示出在可移動塊IO位于在聚焦方向上的中間位 置處的狀態(tài)下，即，可移動塊10沿聚焦方向移動之前的狀態(tài)下各 個力的方向和大小的扭義念圖。圖6為示出在可移動塊10已沿聚焦 方向移動的狀態(tài)下各個力的方向和大小的相克念圖。
在位于左側上的5艮蹤線圏21中，生成合成了在i 艮蹤線圏21的 各個區(qū)域中生成的推力Ftll、 Ftl2、 Ftl3等的合成推力Ftls。在位于 右側上的跟蹤線圏21中，生成合成了在跟蹤線圏21的各個區(qū)域中 生成的推力Ftrl、 Ftr2、 Ftr3等的合成推力Ftrs。如圖6所示，當可 移動塊10沿聚焦方向移動時，每個i^艮蹤線圈21的上(或者下)端 部從面向對應跟蹤磁體27的位置開始移動。因此，尤其是在移動 部分中生成的力的大小和方向會出現(xiàn)變化。因此，在可移動塊10 已沿3艮蹤方向移動的狀態(tài)下，合成4,力Ftls和Ftrs的大小和方向乂人 在可移動塊10沿聚焦方向移動之前的狀態(tài)下的合成推力Ftls和Ftrs 的大小和方向改變。
可以通過調節(jié)合成了在位于左側上的跟蹤線圏21所生成的合 成推力Ftls和在位于右側上的跟蹤線圈21中所生成的合成推力Ftrs 的合成推力Fts的方向來抑制繞X軸作用的轉矩。即，執(zhí)行調節(jié)， 以使合成推力Fts的向量的延長線V通過X軸。合成推力Fts的方 向根據合成推力Ftls和Ftrs的大小和方向改變，其中，合成推力Ftls 和Ftrs的大小和方向4艮據在聚焦方向上的可移動塊10的移動而改 變。因此，必須扭j于調節(jié)以^吏合成4,力Fts的向量的延長線V在可 移動塊10沿聚焦方向上的移動中通過X軸。
為了^f吏延長線V通過X軸，形成具有兩個》茲才及的每個跟蹤萬茲 體27，，以4吏在3艮蹤》茲體27'的北才及和南才及之間的邊界S'x 4皮定位在 相對于對應跟蹤線圈21的預定位置處。在這種情況下，將跟蹤磁 體27'的邊界S'x形成為在垂直方向上延伸的直線。合成推力Fts的方向根據在邊界S'x的跟蹤方向上的位置而改 變。因此，如果邊界S'x形成在跟蹤方向上的預定位置處，則可以 4丸4亍調節(jié)，以4吏合成4,力Fts的向量的延長線V通過X軸。例如， 如圖6所示，形成每個跟蹤磁體27，，以使從在相關^支術的跟蹤》茲 體中設置的邊界Sa沿跟蹤方向(Y方向)向外移動邊界S'x。
圖7為示出當在跟蹤磁體27'中的邊界S'z和S'x的位置被設置
曲線圖。參照^殳置可移動塊IO在聚焦方向上的移動的中間位置(零 高度)，水平軸表示跟蹤磁體27，的高度。垂直軸表示所生成的轉矩
如圖7所示，當將邊界S'z的位置設置為抑制繞Z軸作用的轉 矩時，幾乎不生成繞Z軸作用的l爭矩Ztl。然而，繞X軸作用的壽爭 矩Xtl基本上隨跟蹤磁體27沿跟蹤方向的位置而改變。
同時，當將邊界S'x的位置設置為抑制繞X軸作用的轉矩時， 幾乎不生成繞X軸作用的轉矩Xt2。然而，繞Z軸作用的轉矩Zt2 的生成量4交大。
因此，邊界S'z和邊界S'x分別有效地抑制了繞Z軸作用的轉 矩和繞X軸作用的轉矩。然而，邊界S'z和邊界S'x這兩者都不能 提供同時抑制繞Z軸作用的轉矩和繞X軸作用的轉矩的效果。
因此，在根據本發(fā)明實施例的物鏡驅動裝置8中，跟蹤磁體27 形成有隨后i更置的邊界以同時抑制繞Z軸作用的轉矩和繞X軸作用 的轉矩(參見圖8)。
通過至少兩條直線或者曲線的組合來形成每個if艮if宗i茲體27的 邊界28。例如，通過第一直線,史28a和第二直線萃殳28b來形成邊界頁
28。第一直線l殳28a從其朝下的上端部沿水平方向U艮蹤方向)向 外傾斜。第二直線萃殳28b,人第一直線^殳28a的下端繼續(xù)延伸，并且 沿朝下的水平方向向內傾斜。例如，第一直線段28a和第二直線段 28b之間的連4妾點28c <立于對應5艮蹤》茲體27在垂直方向(聚焦方向) 上的中心處。因此，形成跟蹤/磁體27,以4吏外》茲才及的上半部分區(qū)域 朝上增大而外》茲才及的下半部分區(qū)i或朝下增大。此外，形成-艮蹤》茲體 27,以使內》茲極的上半部分區(qū)域朝上減小而內/P茲才及的下半部分區(qū)域 朝下減小。
繞X軸作用的轉矩受到每個i^艮蹤線圏21在與從面向對應i^艮蹤 磁體27的位置移動的跟蹤線圏21的另一端部相對的端部處生成的 推力的影響。即，當跟蹤線圈21向上移動時，繞X軸作用的轉矩 受到在3艮蹤線圏21的下端部處生成的4,力的影響。同時，當^艮蹤 線圈21向下移動時，繞X軸作用的轉矩受到在跟蹤線圏21的上端 部處生成的推力的影響。將向上移動的i 艮蹤線圏21的下端部和向 下移動的跟蹤線圏21的上端部定位成面向在對應跟蹤/磁體27的垂 直方向上的中心位置。因此，為了抑制繞X軸作用的轉矩，期望位 于跟蹤》茲體27在垂直方向上的中心位置處的邊界28的連4妄點28c 的位置在上述的邊界S'x上或周圍。
因此，在物鏡驅動裝置8中，將在跟蹤i茲體27中的邊界28的 連4姿點28c "i殳置為位于邊界S'x上或周圍。
圖9為示出通過使用每個都具有邊界28的跟蹤》茲體27生成的 轉矩量的曲線圖。通過對可移動塊10在聚焦方向上的移動中的中 間位置(零高度)的參考設置，水平軸表示跟蹤磁體27的高度。 垂直軸表示所生成轉矩量。作為比較數(shù)據，圖9還示出了在圖7中 所示的轉矩，即，當設置邊界S'z的位置時獲得的繞Z軸作用的轉 矩Ztl和繞X軸作用的轉矩Xtl ，以及當設置邊界S'x的位置時獲 得的繞X軸作用的轉矩Xt2和繞Z軸作用的轉矩Zt2。如圖9所示，通過4吏用3艮蹤i"茲體27所生成的繞Z軸作用的轉 矩Zt和繞X軸作用的轉矩Xt的量實際上很低。因此，在光學拾取 器6中， -使用每個均具有邊界28的3艮蹤》茲體27可以抑制兩個不必 要的轉矩，即，在跟蹤操作中和聚焦操作中分別產生的繞Z軸作用 的轉矩和繞X軸作用的轉矩。因此，可以提高透射特性。
此外，在物4竟驅動裝置8中，通過相對于聚焦方向傾在+的兩條 連續(xù)直線來形成在每個跟蹤》茲體27中的北才及和南才及之間的邊界28。 因此，邊界28被簡單配置，并且可以簡化跟蹤磁體27的制造。
下文中，將描述跟蹤磁體的修改實例(參見圖10 ~圖12)。
在根據第一修改實例的每個跟蹤磁體27A中，邊界28A由三 條連續(xù)直線段形成(參見圖10)。
S艮蹤》茲體27A具有在水平方向上^皮此鄰近的北才及和南才及的兩 個萬茲4及。i 艮蹤線圈21、 3艮蹤》茲體27A和》茲輒元件25構成3艮蹤f茲路。
在跟蹤磁體27A中，邊界28A由第一直線段28d、第二直線段 28e和第三直線l殳28f形成。第一直線^殳28d從其朝下的上端沿水 平方向向外傾斜。第二直線段28e從第一直線段28d的下端繼續(xù)延 伸并且沿垂直方向延伸。第三直線,殳28f/人第二直線,殳28e的下端 繼續(xù)延伸，并且沿朝下的水平方向向內傾殺牛。
在邊界28A中，第二直線段28e的中心被定位在跟蹤磁體27A 垂直方向上的中心處。為了抑制繞X軸作用的轉矩，將3艮蹤i茲體 27A的第二直線革殳28e的位置i殳置成位于上述的邊界S'x上或周圍。
在光學拾取器6中，使用每個均具有邊界28A的跟蹤》茲體27A 可以抑制兩個不必要的轉矩，即，在跟蹤操作中和聚焦操作中分別生成繞z軸作用的轉矩和繞x軸作用的轉矩。因此，可以提高透射特性。
在根據第二修改實例的每個跟蹤磁體27B中，邊界28B由五條
連續(xù)直線段形成(參見圖11)。
3艮蹤》茲體27B具有在水平方向上4皮此鄰近的北才及和南才及的兩 個不茲才及。3艮蹤線圈21、 3艮蹤f茲體27B和萬茲輒元件25構成if艮蹤f茲^各。
在跟蹤;茲體27B中，邊界28B由第一直線段28g、第二直線段 28h、第三直線革殳28i、第四直線萃殳28j和第五直線^殳28k形成。第 一直線段28g沿垂直方向延伸。第二直線段28h從第一直線^殳28g 的下端繼續(xù)延伸，并且沿7K平方向延伸。第三直線-險28i乂人第二直 線,殳28h的外端繼續(xù)延伸，并且沿垂直方向延伸。第四直線,殳28j 義人第三直線^殳28i的下端繼續(xù)延伸，并且沿水平方向延伸。第五直 線段28k從第四直線段28j的內端繼續(xù)延伸，并且沿垂直方向延伸。 沿垂直方向延伸的第二直線段28h和第四直線段28j形成在水平方 向上彼此面對的各個位置處。
在邊界28B中，第三直線段28i的中心位于跟蹤》茲體27B在垂 直方向的中心處。為了抑制繞X軸作用的轉矩，將3艮蹤石茲體27B 的第三直線段28i的位置設置在位于上述的邊界S'x上周圍。
在光學拾取器6中，每個均具有邊界28B的跟蹤石茲體27B的使 用可以抑制兩個不必要的轉矩，即，在3艮蹤才喿作中和聚焦操作中分 別生成的繞Z軸作用的轉矩和繞X軸作用的轉矩。因此，可以提高
透射特性。
根據第三修改實例的每個跟蹤》茲體27C由沿垂直方向連接的 三個元件(即，上》茲體29、中間》茲體30和下》茲體31 )形成(參見 圖12)。跟蹤/磁體27C具有沿水平方向4皮此鄰近的北才及和南極的兩個 f茲才及。3艮蹤線圏21、 3艮蹤》茲體27C和》茲輒元件25構成3艮蹤》茲路。
跟蹤磁體27C具有由三條直線^殳形成的邊界28C。邊界28C 由沿垂直方向延伸的第一直線革殳281、第二直線,更28m和第三直線 段28n形成。第一直線段281形成在上》茲體29中。第二直線,殳28m 形成在中間》茲體30中。第三直線l殳28n形成在下》茲體31中。第一 直線^殳281和第三直線^殳28n形成在水平方向上的相同位置處。第 二直線段28m形成在與第 一直線^: 281和第三直線#史28n相比更靠 外的^f立置處。
為了抑制繞X軸作用的轉矩，將跟蹤磁體27C的第二直線段 28m的位置i殳置為位于上述邊界S'x上或周圍。
跟蹤,茲體27C由三個元件(即，分別包括第一直線,殳281、第 二直線革殳28m和第三直線-險28n的上》茲體29、中間》茲體30和下》茲 體31)形成。因此，跟蹤^茲體27C凈皮形成為具有與^艮蹤》茲體27B 的配置類似的配置。即，第一直線段281對應于第一直線段28g， 并且上》茲體29和中間石茲體30之間的部分邊界對應于第二直線賴: 28h。此外，第二直線,殳28m對應于第三直線段28i，并且中間》茲 體30和下》茲體31之間的部分邊界對應于第四直線^殳28j。此外， 第三直線羊殳28n對應于第五直線,殳28k。
因此，通過上》茲體29、中間》茲體30和下萬茲體31將3艮蹤》茲體 27C形成為與跟蹤磁體27B的配置類似的配置。因此，可以容易地 形成具有復雜邊界28c的跟蹤磁體27C。
在光學沖合耳又器6中，每個均具有邊界28C的3艮蹤》茲體27C的 使用可以抑制兩個不必要的轉矩，即，在跟蹤操作中和聚焦:捧作中分別生成的繞z軸作用的轉矩和繞x軸作用的轉矩。因此，可以提
高透射特性。
此外，在光學物鏡驅動裝置8中，當每個跟蹤f茲體27、 27A、 27B或27C ^皮其在聚焦方向上的中心線平分時，跟蹤》茲體27、 27A、 27B或27C的北極和南極中的每個相對于中心線均具有線對稱形 狀。因此，在可移動塊10沿聚焦方向的移動中，轉矩的抑制狀態(tài) 不隨移動方向改變。因此，不管移動方向如4可，都可以抑制不必要 的轉矩。
以上已對每個》茲體27、 27A、 27B或27C中的邊界由多條直線 段形成的實例進行了描述。然而，在跟蹤》茲體中形成邊界的線段不 4又限于直線，還可以為曲線。因此，在3艮蹤i茲體中的邊界可以為多 條直線的組合、多條曲線的組合和多條直線段和曲線段的組合中的 任一個。
此外，已對_沒置兩個物4竟17和18的實例進4亍了以上描述。然 而，物4竟的lt量并不〗又限于兩個，而是可以為一個或大于等于三個
的多個。
此外，以上已對當將驅動電流施加給傾斜線圏19時所執(zhí)行的 傾斜調節(jié)的實例進行了描述?？蛇x地，物鏡驅動裝置8可以4皮設置 為不包括專用傾斜磁路并且被配置為使用聚焦磁路或者跟蹤磁路 作為傾斜磁路。例如，如果物鏡驅動裝置8被配置為使用聚焦磁路 作為傾斜磁路，則將沿相反方向流動的驅動電流施加給第一聚焦線 圈16和第二聚焦線圈20。因此，可移動塊10沿如圖2所示的傾釗-方向TI相對于固定塊9移動以執(zhí)行傾斜調節(jié)。
此外，以上已對物鏡驅動裝置8執(zhí)行傾斜調節(jié)以及聚焦調節(jié)和 跟蹤調節(jié)的實例進行了描述?？蛇x地，例如，物4竟驅動裝置8可以凈皮配置為不包括:傾殺牛調節(jié)才幾構并且^皮配置為 <又執(zhí)4于聚焦調節(jié)和3艮
蹤調節(jié)。
在以上描述中，聚焦方向、3艮蹤方向和+刀線方向分別稱作垂直 方向、水平方向和前后方向。然而，為了〗更于i兌明，這些方向用作
實例。因此，聚焦方向、i 艮蹤方向和切線方向并不具體限制為這些方向。
構^又為用于實現(xiàn)本發(fā)明的具體實例。因此，本發(fā)明的4支術范圍不應 被這些實例限制性地說明。本領域的技術人員應理解，根據設計要 求和其他因素，可以有多種修改、組合、再組合和改進，均應包含
在本發(fā)明的權利要求或等同物的范圍之內。
權利要求
1.一種光學拾取器，包括移動基底，沿安裝在磁盤臺上的盤裝記錄介質的徑向移動；以及物鏡驅動裝置，設置在所述移動基底上并且包括物鏡，其中，所述物鏡驅動裝置包括固定塊，固定至所述移動基底，可移動塊，包括所述物鏡和支持所述物鏡的鏡頭架，并且至少沿與接近或遠離所述盤裝記錄介質的記錄表面的方向相對應的聚焦方向和基本上與所述盤裝記錄介質的徑向相對應的跟蹤方向相對于所述固定塊移動，多個支撐彈簧，被配置為連接所述固定塊和所述可移動塊，聚焦磁體，被配置為使所述可移動塊沿所述聚焦方向移動，跟蹤磁體，被配置為使所述可移動塊沿所述跟蹤方向移動，并且每個跟蹤磁體均具有兩個磁極，聚焦線圈，被定位成面向所述聚焦磁體，以及一對跟蹤線圈，被定位成面向所述跟蹤磁體并且在所述跟蹤方向上彼此遠離，其中，每個所述跟蹤磁體的北極和南極被定位成在所述跟蹤方向上彼此鄰近，并且其中，所述跟蹤磁體的所述北極和所述南極之間的邊界由不是一條直線的任意線段形成。
2. 根據權利要求1所述的光學拾取器，其中，當所述跟蹤磁體被其在所述聚焦方向上的中心線 平分時，所述跟蹤》茲體的北極和南極中的每個相對于所述中心 線具有線對稱形狀。
3. 根據權利要求1所述的光學拾取器，其中，所述5艮蹤》茲體由在所述聚焦方向上連4妄的至少兩 個元ff形成。
4. 根據權利要求2所述的光學拾取器，其中，所述跟蹤/磁體的北極和南極之間的所述邊界由相 對于所述聚焦方向傾斜的兩條連續(xù)直線形成。
5. —種》茲盤驅動裝置，包4舌》茲盤臺，其上安裝盤裝記錄介質；以及，光學拾取器，包括沿安裝在所述^茲盤臺上的盤裝記錄 介質的徑向移動的移動基底和i殳置在所述移動基底上并且包 括物4竟的物4竟驅動裝置，并且^皮配置為經由所述物4竟將激光施 加給安裝在所述,茲盤臺上的所述盤裝記錄介質，其中，所述物鏡驅動裝置包括固定塊，固定至所述移動基底，可移動塊，包括所述物4竟和支持所述物鏡的4竟頭架， 并且至少沿與4妄近或遠離所述盤裝記錄介質的記錄表面 的方向相對應的聚焦方向和基本上與所述盤裝記錄介質 的徑向相對應的跟蹤方向相對于所述固定塊移動，多個支撐彈簧，被配置為連接所述固定塊和所述可移 動塊，聚焦^茲體，#1配置為<吏所述可移動塊沿所述聚焦方向 移動，跟蹤磁體，被配置為使所述可移動塊沿所述跟蹤方向 移動，并且每個旦艮蹤》茲體均具有兩個》茲才及，聚焦線圏，^皮定位成面向所述聚焦^茲體，以及一對3艮蹤線圈，凈皮定位成面向所述跟蹤磁體并且在所 述3艮蹤方向上^皮此遠離，其中，每個所述il艮蹤》茲體的北才及和南核j皮定位成在所述3艮蹤方向上;f皮此鄰近，并且其中，所述i 艮蹤》茲體的所述北才及和所述南才及之間的邊界 由不是一條直線的任意線段形成。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種光學拾取器和磁盤驅動裝置，其中，該光學拾取器包括沿安裝在磁盤臺上的盤裝記錄介質的徑向移動的移動基底和設置在基底上并且包括物鏡的物鏡驅動裝置。該驅動裝置包括固定至基底的固定塊；包括物鏡和鏡頭架并且沿聚焦和跟蹤方向移動的可移動塊；連接固定塊和可移動塊的支撐彈簧；使可移動塊沿聚焦方向移動的聚焦磁體；使可移動塊沿跟蹤方向移動并且每個均具有兩個磁極的跟蹤磁體；面向聚焦磁體的聚焦線圈；以及面向跟蹤磁體并且在跟蹤方向上遠離的跟蹤線圈。跟蹤磁體的北極和南極在跟蹤方向上鄰近。磁極之間的邊界由不是一條直線的線段形成。通過本發(fā)明，能夠抑制在跟蹤操作和聚焦操作中生成不必要的轉矩并提高透射特性。
文檔編號G11B7/12GK101604536SQ20091014649
公開日2009年12月16日 申請日期2009年6月9日 優(yōu)先權日2008年6月9日
發(fā)明者早川賢 申請人:索尼株式會社