專利名稱：信息記錄再現(xiàn)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及利用光會(huì)聚而成的點(diǎn)光對(duì)磁記錄介質(zhì)記錄和再現(xiàn)各種信息的信息記 錄再現(xiàn)裝置。
背景技術(shù)：
近年來(lái)，伴隨計(jì)算機(jī)設(shè)備中的硬盤等的容量增加，單一記錄面內(nèi)的信息的記錄密 度增加。例如，為了使磁盤每單位面積的記錄容量增大，需要使面記錄密度提高。然而，伴 隨著記錄密度的提高，記錄介質(zhì)上每1比特所占的記錄面積變小。當(dāng)該比特尺寸變小時(shí)，1 比特的信息所具有的能量接近室溫的熱能，會(huì)產(chǎn)生所記錄的信息因?yàn)闊釘_動(dòng)等而反轉(zhuǎn)或消 失等熱退磁的問(wèn)題。一般采用的面內(nèi)記錄方式是以磁化方向朝向記錄介質(zhì)的面內(nèi)方向的形式來(lái)進(jìn)行 磁記錄的方式，但是在該方式下，容易引起因上述熱退磁而導(dǎo)致的記錄信息的消失等。因 此，為了消除這樣的不良情況，正逐步向在垂直于記錄介質(zhì)的方向記錄磁信號(hào)的垂直記錄 方式轉(zhuǎn)移。該方式是對(duì)記錄介質(zhì)利用靠近單磁極的原理來(lái)記錄磁信息的方式。根據(jù)該方式， 記錄磁場(chǎng)朝向與記錄膜大致垂直的方向。關(guān)于利用垂直的磁場(chǎng)記錄的信息，由于在記錄膜 面內(nèi)N極和S極難以形成環(huán)路，所以在能量上容易保持穩(wěn)定。因此，該垂直記錄方式相對(duì)于 面內(nèi)記錄方式抗熱退磁能力變強(qiáng)。但是，近年來(lái)的記錄介質(zhì)為了滿足希望進(jìn)行更大量且高密度信息的記錄再現(xiàn)等需 要，要求進(jìn)一步高密度化。因此，為了將相鄰磁區(qū)之間的影響和熱擾動(dòng)抑制到最小限度，開 始采用矯頑磁力強(qiáng)的材料作為記錄介質(zhì)。因此，即使是上述垂直記錄方式，也很難將信息記 錄在記錄介質(zhì)上。因此，為了消除該不良情況，提供了下述的混合磁記錄方式，即利用光會(huì)聚而成的 點(diǎn)光、或者光會(huì)聚而成的近場(chǎng)光對(duì)磁區(qū)進(jìn)行局部加熱以使矯頑磁力臨時(shí)降低、并在此期間 進(jìn)行寫入。特別是在利用近場(chǎng)光的情況下，能夠處理下述區(qū)域中的光學(xué)信息小于等于以往 光學(xué)系統(tǒng)中成為極限的光的波長(zhǎng)的區(qū)域。因此，能夠?qū)崿F(xiàn)超越現(xiàn)有的光信息記錄再現(xiàn)裝置 等的記錄比特的高密度化。作為基于上述混合磁記錄方式的信息記錄再現(xiàn)裝置，提供有各種類型的信息記錄 再現(xiàn)裝置，作為其中之一，已知有如下的信息記錄再現(xiàn)裝置，該信息記錄再現(xiàn)裝置通過(guò)向近 場(chǎng)光頭供給用于進(jìn)行近場(chǎng)光的生成的光，從而從微小開口生成足夠大的近場(chǎng)光，能夠?qū)崿F(xiàn) 超高分解能的再現(xiàn)記錄、高速記錄再現(xiàn)、高信噪比化。已知有如下結(jié)構(gòu)的該信息記錄再現(xiàn)裝置，該信息記錄再現(xiàn)裝置具有能夠利用音圈 電機(jī)(VCM，Voice Coil Motor)等以樞軸承(pivot bearing)軸為中心進(jìn)行四角擺動(dòng)的驅(qū) 動(dòng)臂(支架(carriage))，在驅(qū)動(dòng)臂的末端部，安裝有具有近場(chǎng)光頭的滑塊。該滑塊例如如 專利文獻(xiàn)1所示地具有單元基板，其與滑塊的ABS (Air Bearing Surface 空氣支承面) 側(cè)的面(浮起面)相反側(cè)的面、即滑塊的上表面接合；光源，其設(shè)于該單元基板；傳播層，其 設(shè)于單元基板的元件形成面上，并且包含從光源放射出的光的光路；以及透鏡部，其設(shè)于該傳播層，用于調(diào)整從光源放射出的光的傳播。對(duì)于上述的信息記錄再現(xiàn)裝置，通過(guò)使驅(qū)動(dòng)臂以樞軸承軸為中心移動(dòng)，從而使滑 塊在盤上掃描，并將滑塊配置于盤上的預(yù)期的位置。然后，通過(guò)使從光源放射出的近場(chǎng)光與 由滑塊產(chǎn)生的記錄磁場(chǎng)協(xié)同作用，從而能夠?qū)⑿畔⒂涗浀奖P中。此外，滑塊的空氣支承面構(gòu) 成為在因盤的起伏等而對(duì)滑塊施加風(fēng)壓時(shí)，以跟隨該風(fēng)壓的方式浮起。專利文獻(xiàn)1 日本特開2007-335027號(hào)公報(bào)然而，在上述現(xiàn)有的信息記錄再現(xiàn)裝置中，由于光源搭載于與滑塊的上表面接合 的單元基板，因此光源產(chǎn)生的熱直接傳導(dǎo)至滑塊，使得滑塊被加熱。當(dāng)滑塊被加熱，則存在 滑塊翹起、或者發(fā)生熱膨脹的可能。上述滑塊的空氣支承面構(gòu)成為在因盤的起伏等對(duì)滑塊 施加風(fēng)壓時(shí)，以跟隨該風(fēng)壓的方式浮起。該空氣支承面在滑塊翹起或因熱膨脹而變形時(shí)，存 在著滑塊的浮起特性發(fā)生變化的問(wèn)題。此外，當(dāng)滑塊被加熱，則存在著對(duì)滑塊的再現(xiàn)元件的 特性等產(chǎn)生影響、無(wú)法高精度且準(zhǔn)確地控制信息的記錄再現(xiàn)的可能。對(duì)此，也考慮將光源配置于離開滑塊的位置，然而在該情況下，用于將從光源射出 的光束向滑塊導(dǎo)入的光波導(dǎo)的布置性又成為問(wèn)題。具體來(lái)說(shuō)，當(dāng)將光波導(dǎo)和電氣布線引繞至滑塊時(shí)，需要分別安裝光波導(dǎo)和電氣布 線，制造效率顯著降低。此外，在將從光源射出的光束引導(dǎo)到滑塊時(shí)，若在從光源到滑塊之間使光波導(dǎo)彎 曲并引繞的話，存在著通過(guò)光波導(dǎo)內(nèi)的光束的導(dǎo)光損失增大、光傳播效率降低的問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明正是考慮到這樣的情況而作出的，其目的在于提供一種信息記錄再 現(xiàn)裝置，該信息記錄再現(xiàn)裝置不僅防止了制造效率的降低，而且能夠抑制由光源產(chǎn)生的熱 的影響，并且能夠使光的傳播效率提高。為了解決上述課題，本發(fā)明提供以下手段。本發(fā)明的信息記錄再現(xiàn)裝置的特征在于，該信息記錄再現(xiàn)裝置具有磁記錄介質(zhì)， 所述磁記錄介質(zhì)向一定方向旋轉(zhuǎn)；光源，所述光源射出用于加熱所述磁記錄介質(zhì)的光束； 樞軸，所述樞軸配置于所述磁記錄介質(zhì)的外側(cè)；支架，所述支架形成為能夠繞所述樞軸轉(zhuǎn) 動(dòng)；滑塊，所述滑塊以與所述磁記錄介質(zhì)的表面對(duì)置的方式支撐于所述支架的末端側(cè)；以 及控制部，所述控制部控制所述滑塊的動(dòng)作，所述滑塊具有使從所述光源射出的光束會(huì)聚 的光學(xué)系統(tǒng)和利用會(huì)聚的所述光束產(chǎn)生點(diǎn)光的點(diǎn)光產(chǎn)生元件，通過(guò)所述點(diǎn)光加熱所述磁記 錄介質(zhì)，并且通過(guò)對(duì)所述磁記錄介質(zhì)施加記錄磁場(chǎng)來(lái)產(chǎn)生磁化反轉(zhuǎn)，使信息記錄于所述磁 記錄介質(zhì)，并且，所述信息記錄再現(xiàn)裝置具有將光波導(dǎo)與多條電氣布線一體地形成的光電 復(fù)合布線，所述光波導(dǎo)將從所述光源射出的光束導(dǎo)入所述滑塊，所述多條電氣布線將所述 滑塊與所述控制部電連接，所述光電復(fù)合布線的末端側(cè)分支為所述光波導(dǎo)和所述電氣布線 并引繞至所述滑塊。在本發(fā)明的信息記錄再現(xiàn)裝置中，通過(guò)使點(diǎn)光與記錄磁場(chǎng)協(xié)同作用的混合磁記錄 方式，能夠?qū)πD(zhuǎn)的光盤等磁記錄介質(zhì)進(jìn)行信息的記錄。首先，使被支撐于吊架的末端的滑 塊沿與磁記錄介質(zhì)的表面平行的方向相對(duì)于磁記錄介質(zhì)移動(dòng)并掃描。由此，能夠使滑塊位 于磁記錄介質(zhì)上的希望的位置。接著，將從光源射出的光束引導(dǎo)至滑塊。并且，被引導(dǎo)到滑塊的光束由光學(xué)系統(tǒng)會(huì)聚。由此，點(diǎn)光產(chǎn)生元件能夠利用會(huì)聚的光束產(chǎn)生點(diǎn)光，另外，該點(diǎn) 光產(chǎn)生元件由光學(xué)的微小開口或形成為納米尺寸的突起部等構(gòu)成。并且，磁記錄介質(zhì)被該點(diǎn)光局部加熱，矯頑磁力臨時(shí)降低。其結(jié)果是，能夠使用滑 塊向記錄介質(zhì)記錄再現(xiàn)各種信息。特別是根據(jù)本發(fā)明的信息記錄再現(xiàn)裝置，由于光波導(dǎo)和電氣布線作為光電復(fù)合布 線一體地形成，因此能夠同時(shí)安裝光波導(dǎo)和電氣布線，能夠防止制造效率的降低。由此，即 使是在將光源配置于從滑塊離開的位置的情況下，也能夠容易地將光電復(fù)合布線向滑塊引 繞，能夠抑制從光源產(chǎn)生的熱的影響。并且，通過(guò)使光電復(fù)合布線在末端側(cè)再分支，能夠以各不相同的路徑將光波導(dǎo)和 電氣布線引繞至滑塊，因此不存在向滑塊的引繞路徑受到限制的情況。即，與將光波導(dǎo)和電 氣布線以一體地形成的狀態(tài)下引繞至滑塊的結(jié)構(gòu)相比，能夠提高光波導(dǎo)和電氣布線的引繞 的自由度，因此能夠?qū)Ω鞑季€選擇最佳的引繞路徑。在該情況下，特別是由于能夠?qū)⒐獠▽?dǎo) 盡可能不彎曲地引繞至滑塊，因此能夠降低通過(guò)光波導(dǎo)內(nèi)的光束的導(dǎo)光損失，能夠維持光 傳播效率。此外，通過(guò)使光波導(dǎo)和電氣布線分支并引繞至滑塊，由光波導(dǎo)和電氣布線作用于 滑塊的力不會(huì)集中，因此防止了對(duì)滑塊的姿勢(shì)控制產(chǎn)生阻礙的情況，對(duì)滑塊的浮起特性、導(dǎo) 引(tracking)的精度等的影響小。此外，本發(fā)明的信息記錄再現(xiàn)裝置的特征在于，從所述光電復(fù)合布線的末端側(cè)到 所述滑塊為止的所述光波導(dǎo)的曲率半徑比所述電氣布線的曲率半徑大。在本發(fā)明的信息記錄再現(xiàn)裝置中，通過(guò)將光波導(dǎo)的曲率半徑設(shè)定得比電氣布線的 曲率半徑大，能夠?qū)⒐獠▽?dǎo)盡可能不彎曲地向滑塊引繞。因此，能夠降低通過(guò)光波導(dǎo)內(nèi)的光 束的導(dǎo)光損失，能夠維持光傳播效率。此外，本發(fā)明的信息記錄再現(xiàn)裝置的特征在于，在所述支架設(shè)有萬(wàn)向架構(gòu)件，該萬(wàn) 向架構(gòu)件將所述滑塊支撐為繞與所述磁記錄介質(zhì)的表面平行且相互正交的兩軸轉(zhuǎn)動(dòng)自如 的狀態(tài)，在所述萬(wàn)向架構(gòu)件設(shè)有舌片部，該舌片部從所述支架的末端側(cè)向基端側(cè)伸出形成 且在該舌片部的周圍具有缺口部，所述滑塊設(shè)于所述舌片部上，所述滑塊在所述支架的末 端側(cè)具有記錄元件和再現(xiàn)元件，所述電氣布線沿所述支架的表面從末端側(cè)引繞至所述滑 塊，所述光波導(dǎo)跨過(guò)所述缺口部從所述支架的基端側(cè)引繞至所述滑塊。在本發(fā)明的信息記錄再現(xiàn)裝置中，由于從支架的末端側(cè)向基端側(cè)伸出形成有舌片 部，因此若將光波導(dǎo)沿支架的表面從末端側(cè)引繞滑塊，則光波導(dǎo)的彎曲增大。對(duì)此，在本發(fā) 明中，通過(guò)使光波導(dǎo)跨過(guò)缺口部從基端側(cè)引繞至滑塊，從而能夠使光波導(dǎo)盡可能不彎曲地 向滑塊引繞。另一方面，由于電氣布線即使彎曲也沒(méi)有問(wèn)題，因此通過(guò)使電氣布線沿支架的 表面從末端側(cè)引繞至滑塊，能夠?qū)㈦姎獠季€相對(duì)于滑塊的記錄元件和再現(xiàn)元件直接連接。根據(jù)本發(fā)明的信息記錄再現(xiàn)裝置，不僅防止了制造效率的降低，而且能夠?qū)⒐庠?離開滑塊地配置，能夠抑制由光源產(chǎn)生的熱的影響，并且能夠使光的傳播效率提高。


圖1是示出本發(fā)明的信息記錄再現(xiàn)裝置的一個(gè)實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)圖。圖2是圖1所示的磁頭萬(wàn)向架組件(Head Gimbal Assembly)的立體圖。
圖3是圖2所示的萬(wàn)向架的俯視圖。圖4是沿圖3的E-E’線的剖視圖。圖5是圖1所示的接線(terminal)基板的俯視圖。圖6是沿圖3的A-A，線的剖視圖。圖7是沿圖3的B-B’線的剖視圖。圖8是第二實(shí)施方式的萬(wàn)向架的俯視圖。圖9是沿圖8的F-F，線的剖視圖。圖10是示出本發(fā)明的信息記錄再現(xiàn)裝置的其他實(shí)施方式的、沿相當(dāng)于圖3的A-A’ 線的剖視圖。圖11是示出本發(fā)明的信息記錄再現(xiàn)裝置的其他實(shí)施方式的、沿相當(dāng)于圖3的A-A’ 線的剖視圖。
具體實(shí)施例方式(第一實(shí)施方式)(信息記錄再現(xiàn)裝置)以下，參照?qǐng)D1至圖7對(duì)本發(fā)明的第一實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。圖1是示出本發(fā)明的 信息記錄再現(xiàn)裝置1的第一實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)圖。另外，本實(shí)施方式的信息記錄再現(xiàn)裝置1 是對(duì)具有垂直記錄層的盤(磁記錄介質(zhì))D以垂直記錄方式進(jìn)行寫入的裝置。如圖1所示，本實(shí)施方式的信息記錄再現(xiàn)裝置1具有支架11 ；激光光源20，其從 支架11的基端側(cè)經(jīng)由光電復(fù)合布線33供給光束；磁頭萬(wàn)向架(HGA) 12，其被支撐于支架11 的末端側(cè)；致動(dòng)器(actUator)6，其使磁頭萬(wàn)向架組件12朝向與盤面Dl (盤D的表面)平行 的XY方向掃描移動(dòng)；主軸電動(dòng)機(jī)7，其使盤D向預(yù)定的方向旋轉(zhuǎn)；控制部5，其對(duì)磁頭萬(wàn)向架 組件12的滑塊2供給根據(jù)信息調(diào)制過(guò)的電流；以及殼體9，其在內(nèi)部收納所述各構(gòu)成部件。殼體9是由鋁等金屬材料構(gòu)成且具有上部開口部的箱形形狀，該殼體9由俯視呈 四邊形形狀的底部9a和在底部9a的周緣相對(duì)于底部9a沿鉛直方向立著設(shè)置的周壁(未 圖示)構(gòu)成。并且，在由周壁包圍的內(nèi)側(cè)，形成有收納上述的各構(gòu)成部件等的凹部。另外， 在圖1中，為了使說(shuō)明容易理解，省略了包圍在殼體9的周圍的周壁。此外，在該殼體9，以閉塞殼體9的開口的方式、能夠裝卸地固定有未圖示的蓋。在 底部9a的大致中心安裝上述主軸電動(dòng)機(jī)7，通過(guò)將中心孔嵌入該主軸電動(dòng)機(jī)7，從而盤D被 裝卸自如地固定。在盤D的外側(cè)、即底部9a的角落部安裝上述致動(dòng)器6。在該致動(dòng)器6安裝支架11， 該支架11能夠以樞軸10為中心相對(duì)于XY方向轉(zhuǎn)動(dòng)。該支架11通過(guò)切削加工(削>9出L·加工)等而一體形成有臂部14和基部15，所 述臂部14從基端部朝向末端部沿盤面Dl延伸設(shè)置，所述基部15經(jīng)由基端部懸臂狀地支撐 臂部14?；?5形成為長(zhǎng)方體形狀，并且被支撐成能夠繞樞軸10轉(zhuǎn)動(dòng)。換句話說(shuō)，基部15 經(jīng)由樞軸10與致動(dòng)器6連結(jié)，該樞軸10成為支架11的旋轉(zhuǎn)中心。臂部14是在基部15的與安裝有致動(dòng)器6的側(cè)面15a相反側(cè)的側(cè)面(角落部的相 反側(cè)的側(cè)面)15b、與基部15的上表面的表面方向(XY方向)平行地延伸的平板狀部件，并且沿基部15的高度方向(Z方向)延伸出三片臂部14。具體來(lái)說(shuō)，臂部14形成為隨著從 基端部朝向末端部而逐漸變細(xì)的錐形形狀，并且以在各臂部14之間夾入盤D的方式進(jìn)行配 置。S卩，臂部14和盤D以交錯(cuò)的方式配置，通過(guò)致動(dòng)器6的驅(qū)動(dòng)，臂部14能夠沿與盤D的 表面平行的方向(XY方向)移動(dòng)。另外，支架11和磁頭萬(wàn)向架組件12在盤D的旋轉(zhuǎn)停止 時(shí)通過(guò)致動(dòng)器6的驅(qū)動(dòng)而從盤D上退開。磁頭萬(wàn)向架組件12為，向具有未圖示的近場(chǎng)光產(chǎn)生元件(點(diǎn)光產(chǎn)生元件)的近場(chǎng) 光頭即滑塊2引導(dǎo)來(lái)自激光光源20的光束從而使近場(chǎng)光(點(diǎn)光)產(chǎn)生、并利用該近場(chǎng)光對(duì) 盤D記錄和再現(xiàn)各種信息的部件。另外，近場(chǎng)光產(chǎn)生元件例如由光學(xué)的微小開口、或者形成 為納米尺寸的突起部等構(gòu)成。圖2是在使滑塊2朝上的狀態(tài)下從滑塊2側(cè)觀察吊架3的立體圖。圖3是在使滑 塊2朝上的狀態(tài)下觀察萬(wàn)向架17的俯視圖。圖4是沿圖3的E-E’線的剖視圖，是在使滑 塊2朝上的狀態(tài)下的吊架3末端的剖視圖。如圖2至圖4所示，本實(shí)施方式的磁頭萬(wàn)向架組件12是起到使上述滑塊2從盤D 浮起的吊架的功能的部件，該磁頭萬(wàn)向架組件12具有滑塊2 ；吊架3，其由金屬性材料形 成為薄的板狀，并且能夠沿與盤面Dl平行的XY方向移動(dòng)；以及萬(wàn)向架構(gòu)件16，其使滑塊2 固定于吊架3的下表面，并使滑塊2為繞與盤面Dl平行且相互正交的兩軸(X軸、Y軸)轉(zhuǎn) 動(dòng)自如的狀態(tài)、即能夠以兩軸為中心扭轉(zhuǎn)。首先，上述滑塊2以配置于盤D和吊架3之間的狀態(tài)隔著后述的萬(wàn)向架17支撐于 吊架3的下表面?；瑝K2具有固定于末端側(cè)的再現(xiàn)元件(未圖示)和與該再現(xiàn)元件相鄰地 固定的記錄元件(未圖示)。此外，滑塊2以中間夾著記錄元件的方式在再現(xiàn)元件的相反側(cè) 具有未圖示的會(huì)聚透鏡(光學(xué)系統(tǒng))，其使從激光光源20射出的光束會(huì)聚；以及上述近場(chǎng) 光產(chǎn)生元件，其利用由該會(huì)聚透鏡會(huì)聚的光束產(chǎn)生近場(chǎng)光。即，再現(xiàn)元件、記錄元件、近場(chǎng)光 產(chǎn)生元件以并列的狀態(tài)配置于滑塊2的末端部。此外，滑塊2的下表面成為與盤面Dl對(duì)置的浮起面加。該浮起面加是利用由旋轉(zhuǎn) 的盤D產(chǎn)生的空氣流的粘性來(lái)產(chǎn)生用于浮起的壓力的面，被稱作空氣支承面(Air Bearing Surface)。具體來(lái)說(shuō)，設(shè)計(jì)成通過(guò)調(diào)整欲使滑塊2離開盤面Dl的正壓力和欲將滑塊2向 盤面Dl拉近的負(fù)壓，從而使滑塊2以最佳的狀態(tài)浮起?；瑝K2通過(guò)該浮起面加從盤面Dl受到浮起的力，并且通過(guò)吊架3受到向盤D側(cè) 按壓的力。并且，滑塊2通過(guò)所述兩者的力的平衡而從盤面Dl浮起。上述吊架3由形成為俯視呈大致四邊形形狀的底座板22和經(jīng)由鉸接板23與底座 板22的末端側(cè)連結(jié)的俯視呈大致三角狀的承載梁M構(gòu)成。底座板22由不銹鋼等厚度薄的金屬材料構(gòu)成，并且在基端側(cè)形成有沿厚度方向 貫通的開口 22a。并且，底座板22通過(guò)該開口 2 被固定于臂部14的末端。在底座板22的 下表面配置有由不銹鋼等金屬材料構(gòu)成的薄板狀的鉸接板23。該鉸接板23是形成于底座 板22的下表面的整個(gè)面范圍的平板狀的部件，其末端部分形成為從底座板22的末端沿底 座板22的長(zhǎng)邊方向延伸的延伸部23a。延伸部23a從鉸接板23的寬度方向兩端部延伸出 兩根，在所述延伸部23a的末端部分，形成有向?qū)挾确较騼?nèi)側(cè)、即向朝著對(duì)方的延伸部23a 的方向?qū)挾葦U(kuò)大的擴(kuò)大部23b。在該擴(kuò)大部23b的上表面連結(jié)承載梁M。承載梁M與底座板22同樣地由不銹鋼等厚度薄的金屬材料構(gòu)成，承載梁M的基端以與底座板22的末端之間具有間隙的狀態(tài)與鉸接板23連結(jié)。由此，吊架3容易以底座 板22和承載梁M之間為中心彎曲而朝向與盤面Dl垂直的Z方向撓曲。在吊架3上設(shè)有彎曲件(flexUre)25。彎曲件25是由不銹鋼等金屬材料構(gòu)成為薄 板狀的部件，通過(guò)形成為薄板狀從而構(gòu)成為能夠沿厚度方向撓曲變形。彎曲件25由以下部 件構(gòu)成萬(wàn)向架17，其固定于承載梁M的末端側(cè)并且外形形成為俯視呈大致五邊形形狀； 以及支撐體18，其形成得比萬(wàn)向架17寬度窄，該支撐體18從萬(wàn)向架17的基端沿吊架3上 延伸。如圖3、圖4所示，萬(wàn)向架17形成為從中間附近開始到末端朝向盤面Dl沿厚度方 向稍稍翹起。并且，以該翹起的末端側(cè)不與承載梁對(duì)接觸的方式，將萬(wàn)向架17從基端側(cè)到 大致中間附近固定于承載梁對(duì)。此外，在該浮起狀態(tài)的萬(wàn)向架17的末端側(cè)形成有周圍被挖通成“口”形狀的缺 口部沈，在被該缺口部沈包圍的部分，形成由連結(jié)部17a懸臂狀地支撐的凸緣部(舌片 部)17b。即，該凸緣部17b通過(guò)連結(jié)部17a從萬(wàn)向架17的末端側(cè)朝向基端側(cè)伸出形成，在 該凸緣部17b的周圍具有缺口部沈。由此，凸緣部17b變得容易沿萬(wàn)向架17的厚度方向撓 曲，以使得僅該凸緣部17b與吊架3的下表面平行的方式進(jìn)行角度調(diào)整。并且，上述滑塊2 載置固定于該凸緣部17b上。即，滑塊2形成為經(jīng)由凸緣部17b懸掛于承載梁M的狀態(tài)。此外，在承載梁對(duì)的末端形成有朝向凸緣部17b和滑塊2的大致中心突出的突起 部19。該突起部19的末端形成為帶有圓度的狀態(tài)。并且，突起部19形成為在滑塊2因 從盤D受到的風(fēng)壓而向承載梁M側(cè)浮起時(shí)，與凸緣部17b的表面(上表面)點(diǎn)接觸。該浮 起的力從突起部19傳遞到承載梁M，起到使該承載梁M撓曲的作用。此外，在因盤D的起 伏等對(duì)滑塊2施加朝向XY方向的風(fēng)壓時(shí)，滑塊2和凸緣部17b以突起部19為中心繞X軸 和Y軸兩軸扭轉(zhuǎn)。由此，能夠吸收由盤D的起伏引起的Z方向的移位(向與盤面Dl大致正 交的方向的移位)，使得滑塊2的姿勢(shì)穩(wěn)定。另外，這些突起部19和具有凸緣部17b的萬(wàn)向 架17構(gòu)成萬(wàn)向架構(gòu)件16。圖2所示的支撐體18是一體形成于萬(wàn)向架17的薄板狀的部件，該支撐體18在吊 架3上朝向臂部14延伸設(shè)置。即，支撐體18構(gòu)成為在吊架3變形時(shí)跟隨吊架3的變形。支 撐體18從臂部14上繞到側(cè)面，并引繞至臂部14的基部15為止。圖5是安裝于支架11的基部15的接線基板30的俯視圖。如圖1、圖5所示，在支架11的基部15的側(cè)面15c配置接線基板30。該接線基板 30是作為對(duì)設(shè)于殼體9的控制部5與滑塊2電連接時(shí)的中繼點(diǎn)的部件，在該接線基板30的 表面形成有各種控制電路(未圖示)?？刂撇?與接線基板30由具有撓性的扁平電纜4電 連接，另一方面，接線基板30與滑塊2由電氣布線31連接。電氣布線31與設(shè)于每個(gè)支架 11的滑塊2的數(shù)量對(duì)應(yīng)地設(shè)有三組，從控制部5經(jīng)由扁平電纜4輸出的信號(hào)經(jīng)由電氣布線 31輸出到滑塊2。此外，在接線基板30上，配置朝向滑塊2的會(huì)聚透鏡供給光束的上述激光光源20。 激光光源20是經(jīng)由扁平電纜4接收從控制部5輸出的信號(hào)、并基于該信號(hào)射出光束的部 件，與設(shè)于各臂部14的滑塊2的數(shù)量對(duì)應(yīng)地沿基部15的高度方向(Z方向)排列有三個(gè)所 述激光光源20。各激光光源20的射出側(cè)與光波導(dǎo)32連接，所述光波導(dǎo)32將由各激光光源 20射出的光束引導(dǎo)至滑塊2的會(huì)聚透鏡。
圖6是沿圖3的A-A，線的剖視圖，圖7是沿圖3的B_B，線的剖視圖。如圖3和圖5至圖7所示，與各滑塊2對(duì)應(yīng)的一根光波導(dǎo)32和一組電氣布線31在 激光光源20和滑塊2之間作為從基端側(cè)到末端一體地形成的光電復(fù)合布線33構(gòu)成。該光 電復(fù)合布線33從接線基板30的表面通過(guò)臂部14的側(cè)面并引繞到臂部14上。具體來(lái)說(shuō)， 光電復(fù)合布線33在臂部14和吊架3上配置于彎曲件25的上述支撐體18 (參照?qǐng)D2)上， 并以中間夾著支撐體18的狀態(tài)引繞至吊架3的末端。這樣，由于光電復(fù)合布線33配置于 能夠撓曲變形的支撐體18上，因此，在滑塊2的姿勢(shì)變化時(shí)、吊架3變形時(shí)等，隨著支撐體 18的姿勢(shì)變化，光電復(fù)合布線33也隨之變形。由此，能夠防止光電復(fù)合布線33的斷線等。構(gòu)成光電復(fù)合布線33的上述光波導(dǎo)32具有芯部35，其厚度形成為例如3 IOym,并且按全反射條件弓I導(dǎo)從激光光源20射出的光束；以及包層34 (clad)，其由折射率 比芯部35的折射率低的材料構(gòu)成且厚度形成為例如數(shù)十μ m,該包層34與芯部35緊密貼 合并封裝芯部35。并且，從激光光源20射出的光束由于芯部35與包層34之間的折射率的 不同而按照全反射條件被引導(dǎo)至滑塊2的會(huì)聚透鏡。另外，記載作為包層34和芯部35使用的材料的組合的一個(gè)例子如下，例如可以考 慮以PMMA (甲基丙烯酸甲酯樹脂)形成厚度為3 10 μ m的芯部35，并以含有氟的聚合物 形成厚度為數(shù)十Pm的包層34。此外，也可以是芯部35和包層34均由環(huán)氧樹脂(例如，芯 部折射率為1.522 1.523，包層折射率為1. 518 1. 519)構(gòu)成，或者均由氟化聚酰亞胺 構(gòu)成。此外，由于芯部35與包層34的折射率差越大則將光束封在芯部35內(nèi)的力越大，因 此，優(yōu)選調(diào)整構(gòu)成芯部35和包層34的樹脂材料的配合等來(lái)增大兩者的折射率差。例如，在 采用氟化聚酰亞胺的情況下，可以通過(guò)調(diào)整氟含量或者通過(guò)同步加速器輻射(Synchrotron Radiation)等的能量照射來(lái)控制折射率。此外，電氣布線31由鋁或銅等構(gòu)成，與芯部35 —起被封在包層34內(nèi)。如圖6和圖7所示，光電復(fù)合布線33在包層34的寬度方向( 平面)的剖視中 心處配置光波導(dǎo)32的芯部35，并從光波導(dǎo)32的兩側(cè)方以?shī)A持光波導(dǎo)32的方式各配置兩根 電氣布線31。S卩，光電復(fù)合布線33以芯部35為中心對(duì)稱地構(gòu)成。這樣，芯部35和電氣布 線31均被包層34封裝，從而構(gòu)成為一體地形成光波導(dǎo)32和電氣布線31的光電復(fù)合布線 33。在此，如圖3所示，光電復(fù)合布線33在吊架3的末端、具體來(lái)說(shuō)是在萬(wàn)向架17的 中間位置分支為電氣布線31和光波導(dǎo)32，從該分支地點(diǎn)C到滑塊2為止的光波導(dǎo)32的曲 率半徑變得比電氣布線31的曲率半徑大。具體來(lái)說(shuō)，光波導(dǎo)32從光電復(fù)合布線33的末端側(cè)的分支地點(diǎn)C沿萬(wàn)向架17的長(zhǎng) 度方向延伸，并跨過(guò)萬(wàn)向架17的缺口部沈直接連接于滑塊2的基端側(cè)。光波導(dǎo)32在光電 復(fù)合布線33的分支地點(diǎn)C離開萬(wàn)向架17的下表面，并隨著從分支地點(diǎn)C向滑塊2的基端 側(cè)、以架設(shè)在凸緣部17b和萬(wàn)向架17之間的方式以稍稍翹起的狀態(tài)延伸。S卩，在萬(wàn)向架17 的下表面，光波導(dǎo)32以大致直線地(曲率半徑大致無(wú)限大)延伸的狀態(tài)引繞至滑塊2的基 端面?zhèn)?。引繞至滑塊2的基端面?zhèn)鹊墓獠▽?dǎo)32在滑塊2內(nèi)經(jīng)由會(huì)聚透鏡與設(shè)于滑塊2的 末端面?zhèn)鹊慕鼒?chǎng)光產(chǎn)生元件連接。另一方面，在分支地點(diǎn)C處，電氣布線31向萬(wàn)向架17的外周部分彎曲，并從萬(wàn)向 架17的外周部分、即缺口部沈的外側(cè)引繞。接著，從缺口部沈的外側(cè)引繞過(guò)的電氣布線31通過(guò)連結(jié)部17a上而與滑塊2的末端面?zhèn)冗B接。即，電氣布線31相對(duì)于設(shè)在滑塊2的末 端面?zhèn)鹊纳鲜鲈佻F(xiàn)元件、記錄元件，從滑塊2的外部直接連接。然而，由于如上所述地從萬(wàn)向架17的末端側(cè)向基端側(cè)伸出形成有凸緣部17b，因 此如果以沿萬(wàn)向架17上從萬(wàn)向架17的末端側(cè)、即缺口部沈的外側(cè)繞入的方式將光波導(dǎo)32 引繞至滑塊2的話，則光波導(dǎo)32的彎曲變大。與此相對(duì)地，在本實(shí)施方式中，通過(guò)從萬(wàn)向架17的基端側(cè)跨過(guò)缺口部沈而將光波 導(dǎo)32引繞至滑塊2，從而能夠?qū)⒐獠▽?dǎo)32直接連接于設(shè)在凸緣部17b上的滑塊2。由此， 能夠以最短距離從光電復(fù)合布線33的分支地點(diǎn)C引繞至滑塊2，能夠?qū)⒐獠▽?dǎo)32盡可能不 彎曲地向滑塊2引繞。另一方面，由于電氣布線31即使彎曲也不會(huì)有問(wèn)題，因此通過(guò)將電 氣布線31從缺口部沈的外側(cè)引繞至滑塊2，能夠?qū)㈦姎獠季€31相對(duì)于滑塊2的記錄元件 和再現(xiàn)元件直接連接。另外，在光電復(fù)合布線33中，通過(guò)使光波導(dǎo)32的構(gòu)成材料采用如上所述的樹脂材 料，能夠通過(guò)半導(dǎo)體工藝(process)制造光電復(fù)合布線33。將該光電復(fù)合布線33形成于彎 曲件25上，并將彎曲件25安裝于吊架3和支架11。對(duì)利用了半導(dǎo)體工藝的本實(shí)施方式的光電復(fù)合布線33的制造方法更為具體地進(jìn) 行說(shuō)明。首先，在滑塊2的配置區(qū)域和缺口部沈的形成區(qū)域預(yù)先涂布由樹脂材料等構(gòu)成的 犧牲層。接著，在作為彎曲件25的板材上以覆蓋犧牲層的方式涂布包層34的構(gòu)成材料后， 通過(guò)光刻技術(shù)等形成圖案。接著，在包層34上通過(guò)濺射法、化學(xué)氣相沉積(CVD)法等使電 氣布線31的構(gòu)成材料成膜，并作為多條電氣布線31形成圖案。然后，在電氣布線31之間、 即包層34的TL平面的中心涂布芯部35的構(gòu)成材料后，形成圖案，并再次涂布包層34的構(gòu) 成材料。然后，通過(guò)形成圖案，從而能夠形成本實(shí)施方式的光電復(fù)合布線33。然后，在通過(guò)蝕刻等將形成于滑塊2的配置區(qū)域和缺口部沈的形成區(qū)域的犧牲層 除去后，利用沖壓加工等沖壓出彎曲件25的形狀。此時(shí)，通過(guò)也沖壓缺口部沈的形成區(qū)域， 從而形成光波導(dǎo)32懸浮在缺口部沈與凸緣部17b之間的狀態(tài)。然后，將形成有光電復(fù)合 布線33的彎曲件25安裝于吊架3和支架11。這樣，借助于以樹脂材料構(gòu)成的包層34使光波導(dǎo)32和電氣布線31 —體地形成， 從而能夠在半導(dǎo)體工藝中一并形成這些部分。并且，通過(guò)利用半導(dǎo)體工藝制造光電復(fù)合布 線33，與分體形成光波導(dǎo)32和電氣布線31的情況相比，從量產(chǎn)的容易度來(lái)看，不僅能夠使 制造效率提高，而且能夠使加工精度提高。此外，能夠?qū)崿F(xiàn)制造成本的降低。接著，對(duì)利用如此構(gòu)成的信息記錄再現(xiàn)裝置1在盤D上記錄和再現(xiàn)各種信息的步 驟在下面進(jìn)行說(shuō)明。首先，驅(qū)動(dòng)主軸電動(dòng)機(jī)7使盤D向預(yù)定方向旋轉(zhuǎn)。接著，使致動(dòng)器6動(dòng)作，使支架 11以樞軸10為旋轉(zhuǎn)中心轉(zhuǎn)動(dòng)，并經(jīng)由支架11使磁頭萬(wàn)向架組件12沿XY方向掃描。由此， 能夠使滑塊2位于盤D上的希望的位置。在此，由于支架11的基部15構(gòu)成為能夠繞樞軸10轉(zhuǎn)動(dòng)，因此臂部14以樞軸10 為旋轉(zhuǎn)中心沿與盤面Dl平行的方向移動(dòng)。此時(shí)，通過(guò)在基部15的接線基板30上設(shè)置激光 光源20，與將激光光源20搭載于滑塊2的情況相比，在滑塊2移動(dòng)時(shí)作用于支架11的力矩 小。因此，能夠維持導(dǎo)引(tracking)的精度。此外，接線基板30是作為將控制部5與滑塊 2電連接時(shí)的中繼點(diǎn)，電氣布線31以接線基板30為基點(diǎn)引繞至滑塊2。S卩，通過(guò)將激光光源20配置于接線基板30上，從而光波導(dǎo)32與電氣布線31的基端部彼此接近，能夠容易地 形成光電復(fù)合布線33。接著，使光束從激光光源20入射至光波導(dǎo)32 (光電復(fù)合布線33)，將光束引導(dǎo)至 滑塊2。在本實(shí)施方式的信息記錄再現(xiàn)裝置1中，向滑塊2的會(huì)聚透鏡供給光束的激光光 源20設(shè)于滑塊2的基部15的接線基板30上。在該情況下，從激光光源20射出的光束被 從光電復(fù)合布線33的芯部35的一端側(cè)導(dǎo)入芯部35內(nèi)，并在芯部35與包層34的邊界反復(fù) 全反射、同時(shí)向滑塊2傳播。此時(shí)，在芯部35內(nèi)傳播的光束在滑塊2內(nèi)由會(huì)聚透鏡會(huì)聚，逐 漸收縮為點(diǎn)的大小。由此，在近場(chǎng)光產(chǎn)生元件的周圍以滲出的方式產(chǎn)生近場(chǎng)光。此外，由于 芯部35以與保持34緊密貼合的狀態(tài)被封裝，因此傳播的光束不會(huì)在途中漏到芯部35的外 部。由此，能夠?qū)?dǎo)入的光束高效地形成為近場(chǎng)光而不浪費(fèi)。此外，入射了近場(chǎng)光的盤D被該近場(chǎng)光局部地加熱而矯頑磁力臨時(shí)降低。另一方 面，通過(guò)控制部5向滑塊2的記錄元件供給電流的話，能夠利用電磁鐵的原理產(chǎn)生相對(duì)于盤 D的垂直方向的記錄磁場(chǎng)。其結(jié)果是，能夠通過(guò)使近場(chǎng)光與由記錄元件產(chǎn)生的記錄磁場(chǎng)協(xié)同 作用的混合磁記錄方式進(jìn)行信息的記錄。與此相對(duì)地，在使記錄于盤D的信息再現(xiàn)的時(shí)候，與記錄元件相鄰地固定的再現(xiàn) 元件受到從盤D漏出的磁場(chǎng)的作用，并且該再現(xiàn)元件的電阻根據(jù)該磁場(chǎng)的大小而改變。因 而，再現(xiàn)元件的電壓變化。由此，控制部5能夠?qū)谋PD漏出的磁場(chǎng)的變化作為電壓的變化 檢測(cè)出。并且，控制部5通過(guò)根據(jù)該電壓的變化進(jìn)行信號(hào)的再現(xiàn)，由此能夠進(jìn)行信息的再 現(xiàn)。這樣，能夠利用滑塊2相對(duì)于盤D記錄和再現(xiàn)各種信息。在此，滑塊2由吊架3支撐并且被以預(yù)定的力向盤D側(cè)按壓。此外，與此同時(shí)，滑 塊2的浮起面加與盤D對(duì)置，因此滑塊2受到由旋轉(zhuǎn)的盤D產(chǎn)生的風(fēng)壓的影響而受到浮起 的力?；瑝K2通過(guò)所述兩者的力的平衡而成為浮置于從盤D上離開的位置的狀態(tài)。此時(shí)，由于滑塊2受到風(fēng)壓并被向吊架3側(cè)推壓，因此，固定滑塊2的萬(wàn)向架17的 凸緣部17b與形成于吊架3的突起部19處于點(diǎn)接觸的狀態(tài)。并且，該浮起的力經(jīng)由突起部 19傳遞到吊架3，并以使該吊架3向與盤面Dl垂直的Z方向撓曲的方式進(jìn)行作用。由此，如 上所述地，滑塊2浮起。另外，由于在吊架3經(jīng)由鉸接板23連結(jié)有底座板22和承載梁對(duì)， 因此吊架3容易以底座板22和承載梁M之間為中心撓曲。此外，滑塊2即使受到因盤D的起伏而產(chǎn)生的風(fēng)壓(朝向XY方向的風(fēng)壓)，也會(huì)經(jīng) 由與萬(wàn)向架構(gòu)件16、即與突起部19的末端點(diǎn)接觸的凸緣部17b而繞XY軸扭轉(zhuǎn)。由此，能夠 吸收由起伏產(chǎn)生的Z方向的移位，能夠使浮起時(shí)的滑塊2的姿勢(shì)穩(wěn)定。這樣，在本實(shí)施方式的信息記錄再現(xiàn)裝置1中，為光波導(dǎo)32與電氣布線31作為光 電復(fù)合布線33 —體地形成的結(jié)構(gòu)。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，由于光波導(dǎo)32與電氣布線31作為光電復(fù)合布線33 —體地形成，因 此能夠同時(shí)安裝光波導(dǎo)32和電氣布線31，能夠防止制造效率的降低。即，即使是在將激光 光源20配置于從滑塊2離開的位置的情況下，也能夠容易地將光電復(fù)合布線33引繞至滑 塊2。此外，由于光波導(dǎo)32與電氣布線31 —體地形成，因此無(wú)需像以往那樣考慮每條布 線的引繞的布局，能夠提高光電復(fù)合布線33的安裝的自由度。由此，由于能夠提高光電復(fù)合布線33的布局性，因此即使是在將激光光源20配置于從滑塊2離開的位置、如上所述接 線基板30上的情況下，也能夠容易地將光電復(fù)合布線33引繞至滑塊2。由此，在光束供給時(shí)從激光光源20產(chǎn)生的熱傳導(dǎo)至滑塊2的可能性極小，能夠抑 制從激光光源20產(chǎn)生的熱的影響。然而，在將激光光源20配置于控制部5的情況下，將光波導(dǎo)設(shè)于扁平電纜4。如果 該扁平電纜4彎曲變形的話，則存在導(dǎo)光損失增大的問(wèn)題。在本實(shí)施方式中，由于將激光光 源20設(shè)于支架11的基部15，因此無(wú)需在扁平電纜4設(shè)置光波導(dǎo)，因此能夠抑制導(dǎo)光損失。進(jìn)而，在本實(shí)施方式中，由于能夠如上所述地提高光電復(fù)合布線33的布局性，因 此光電復(fù)合布線33的彎曲小。由此，能夠降低通過(guò)光電復(fù)合布線33的光波導(dǎo)32內(nèi)的光束 的導(dǎo)光損失，能夠維持光傳播效率。特別是在本實(shí)施方式的信息記錄再現(xiàn)裝置1中，為光電復(fù)合布線33的末端側(cè)分支 為光波導(dǎo)32和電氣布線31并引繞至滑塊2的結(jié)構(gòu)。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，通過(guò)使光電復(fù)合布線33在末端側(cè)再分支，能夠分別以不同的路徑將 光波導(dǎo)32和電氣布線31引繞至滑塊2，因此不存在向滑塊2的引繞路徑受到限制的情況。 即，與將光波導(dǎo)32和電氣布線31以一體地形成的狀態(tài)引繞至滑塊2的結(jié)構(gòu)相比，能夠提高 光波導(dǎo)32和電氣布線31的引繞的自由度，因此能夠?qū)Ω鞑季€(光波導(dǎo)32和電氣布線31) 選擇最佳的引繞路徑。在該情況下，通過(guò)將光波導(dǎo)32的曲率半徑設(shè)定得比電氣布線31的 曲率半徑大，能夠?qū)⒐獠▽?dǎo)32盡可能不彎曲地引繞至滑塊2。由此，能夠降低通過(guò)光波導(dǎo) 32內(nèi)的光束的導(dǎo)光損失，能夠維持光傳播效率。因此，不僅防止了制造效率的降低，而且能夠使激光光源20離開滑塊2而配置，能 夠抑制由激光光源20產(chǎn)生的熱的影響，并且能夠使光的傳播效率提高。并且，能夠防止因 滑塊2的熱膨脹、翹起等的影響而使滑塊2變形。此外，能夠維持滑塊2的再現(xiàn)元件的特性。在此，通過(guò)將芯部35和電氣布線31以同一包層34封裝，與將光波導(dǎo)32和電氣布 線31分體形成的情況相比，能夠縮小芯部35與各電氣布線31之間、各電氣布線31彼此之 間的間隔。此外，由于也無(wú)需對(duì)每個(gè)電氣布線31包覆絕緣材料等，因此能夠?qū)崿F(xiàn)光電復(fù)合 布線33的小型輕量化。此外，由于能夠通過(guò)包層34確保電氣布線31之間的絕緣性，因而 各電氣布線31的引繞變得容易。進(jìn)而，通過(guò)在包層34的剖面的大致中心配置芯部35，并且將電氣布線31以芯部 35為中心地對(duì)稱配置，因此，多條電氣布線31分散在芯部35的兩側(cè)方。由此，與僅將電氣 布線31集中在芯部35的單側(cè)的情況相比，能夠確保電氣布線31的引繞空間，因此能夠提 高各電氣布線31之間的布局性。因此，芯部35和電氣布線31朝滑塊2的連接變得容易， 并且光電復(fù)合布線33對(duì)滑塊2作用的力變得均等。此外，通過(guò)使光波導(dǎo)32和電氣布線31分支地弓I繞至滑塊2，使得光波導(dǎo)32和電氣 布線31對(duì)滑塊2作用的力不會(huì)集中。因此，防止了光電復(fù)合布線33 (光波導(dǎo)32和電氣布線31)妨礙滑塊2的姿勢(shì)控制 的情況，對(duì)滑塊2的浮起特性、導(dǎo)引的精度等的影響小。(第二實(shí)施方式)接著，對(duì)本發(fā)明的第二實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。在本實(shí)施方式中，從光電復(fù)合布線的分 支地點(diǎn)到滑塊之間的光波導(dǎo)32的引繞路徑與上述的第一實(shí)施方式不同。另外，在以下的說(shuō)明中，對(duì)與上述第一實(shí)施方式相同的結(jié)構(gòu)標(biāo)以相同的符號(hào)并省略說(shuō)明。圖8是第二實(shí)施方式的萬(wàn)向架的俯視圖，圖9是沿圖8的F-F’線的剖視圖。如圖8所示，在萬(wàn)向架17和承載梁M形成有沿萬(wàn)向架17和承載梁M的厚度方 向貫通的貫通孔101。該貫通孔101形成得比光電復(fù)合布線33的分支地點(diǎn)C靠萬(wàn)向架17 的末端側(cè)，并且是在使萬(wàn)向架17的貫通孔101和承載梁M重合了狀態(tài)下形成的。此外，在 萬(wàn)向架17的連結(jié)部17a和凸緣部17b的根部部分，形成有沿萬(wàn)向架17的厚度方向貫通的 貫通孔102。在此，從光電復(fù)合布線33的分支地點(diǎn)C分支出的光波導(dǎo)132通過(guò)貫通孔101內(nèi)并 夾著萬(wàn)向架17和承載梁M引繞至滑塊2的相反側(cè)。并且，通過(guò)貫通孔101內(nèi)的光波導(dǎo)132 沿承載梁124的長(zhǎng)邊方向延伸設(shè)置，并插入貫通孔102內(nèi)。插入貫通孔102內(nèi)的光波導(dǎo)132 從滑塊2的浮起面加的相反側(cè)與滑塊2直接連接。即，從光電復(fù)合布線33的分支地點(diǎn)C 分支出的光波導(dǎo)132通過(guò)貫通孔101、102內(nèi)、引繞到滑塊2的浮起面加的相反側(cè)的表面， 由此與滑塊2連接。這樣，根據(jù)本實(shí)施方式，使光波導(dǎo)132通過(guò)貫通孔101、102，從而能夠?qū)⒐獠▽?dǎo)132 直接引繞至滑塊2的末端側(cè)，能夠起到與上述第一實(shí)施方式相同的效果。另外，本發(fā)明的技術(shù)范圍不限于上述的實(shí)施方式，還包括在不脫離本發(fā)明的主旨 的范圍內(nèi)對(duì)上述實(shí)施方式進(jìn)行了各種變更的實(shí)施方式。即，上述實(shí)施方式所舉出的結(jié)構(gòu)等 只不過(guò)是一個(gè)例子，能夠進(jìn)行適當(dāng)變更。例如，如圖10所示，也可以是在光電復(fù)合布線33和彎曲件25之間設(shè)置襯底膜50 的結(jié)構(gòu)。該襯底膜50由聚酰亞胺等具有絕緣性的材料構(gòu)成，由此能夠更為可靠地確保電氣 布線31與彎曲件25之間的絕緣性。此外，在上述實(shí)施方式中，如圖11所示，對(duì)將電氣布線31以光波導(dǎo)32為中心對(duì)稱 地配置的情況進(jìn)行了說(shuō)明，然而電氣布線31和光波導(dǎo)32的布局能夠適當(dāng)設(shè)計(jì)變更。例如， 如圖9所示，也可以從包層34的寬度方向( 平面)的一端側(cè)開始將光波導(dǎo)32與電氣布 線31依次排列地配置。進(jìn)而，在上述的實(shí)施方式中，如圖6所示，對(duì)將光波導(dǎo)32和電氣布線31以相同材 料的包層34封裝的結(jié)構(gòu)進(jìn)行了說(shuō)明，然而只要是將光波導(dǎo)32與電氣布線31 —體地形成， 也可以將芯部35與電氣布線31以互不相同的構(gòu)成材料進(jìn)行封裝。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，由于能夠 利用互不相同的構(gòu)成材料封裝芯部35和電氣布線31，因此能夠自由地選擇最適于用于封 裝芯部35和電氣布線31的條件的構(gòu)成材料。此外，在上述實(shí)施方式中，對(duì)從光電復(fù)合布線33的分支地點(diǎn)C分支出兩根電氣布 線31的結(jié)構(gòu)進(jìn)行了說(shuō)明，然而不限于此，也可以分支出1根或者三根以上電氣布線31。此外，在上述實(shí)施方式中，以使滑塊浮起的氣浮式的信息記錄再現(xiàn)裝置為例進(jìn)行 了說(shuō)明，然而不限于此情況，只要是與盤面對(duì)置配置，使盤與滑塊接觸也可以。即，本發(fā)明的 滑塊也可以是接觸滑動(dòng)式的滑塊。在該情況下，也能夠起到相同的作用效果。此外，在上述實(shí)施方式中，對(duì)僅在臂部的單面?zhèn)仍O(shè)有磁頭萬(wàn)向架組件的結(jié)構(gòu)進(jìn)行 了說(shuō)明，然而也可以是在插入到各盤之間的臂部的兩表面以與各盤對(duì)置的方式分別設(shè)置磁 頭萬(wàn)向架組件的結(jié)構(gòu)。在該情況下，通過(guò)設(shè)于臂部的兩表面?zhèn)鹊拇蓬^萬(wàn)向架組件的各滑塊， 能夠?qū)εc各滑塊對(duì)置的盤面的信息進(jìn)行記錄和再現(xiàn)。即，能夠以一個(gè)臂部對(duì)兩張盤的信息進(jìn)行記錄和再現(xiàn)，因此能夠?qū)崿F(xiàn)信息記錄再現(xiàn)裝置的記錄容量的增加以及裝置的小型化。標(biāo)號(hào)說(shuō)明C 分支地點(diǎn)；D 盤(磁記錄介質(zhì))；Dl 盤面(磁記錄介質(zhì)的表面)；1 信息記錄 再現(xiàn)裝置；2 滑塊；5 控制部；10 樞軸；11 支架(carriage) ；16 萬(wàn)向架構(gòu)件；17b 凸緣 (pad)部(舌片部)；20 激光光源(光源)；26 缺口部；31 電氣布線；32,132 光波導(dǎo)；33 光電復(fù)合布線。
權(quán)利要求
1.一種信息記錄再現(xiàn)裝置，該信息記錄再現(xiàn)裝置具有磁記錄介質(zhì)，所述磁記錄介質(zhì)向一定方向旋轉(zhuǎn)；光源，所述 光源射出用于加熱所述磁記錄介質(zhì)的光束；樞軸，所述樞軸配置于所述磁記錄介質(zhì)的外側(cè)； 支架，所述支架形成為能夠繞所述樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)；滑塊，所述滑塊以與所述磁記錄介質(zhì)的表面對(duì) 置的方式支撐于所述支架的末端側(cè)；以及控制部，所述控制部控制所述滑塊的動(dòng)作，所述滑塊具有使從所述光源射出的光束會(huì)聚的光學(xué)系統(tǒng)和利用會(huì)聚的所述光束產(chǎn)生 點(diǎn)光的點(diǎn)光產(chǎn)生元件，通過(guò)所述點(diǎn)光加熱所述磁記錄介質(zhì)，并且通過(guò)對(duì)所述磁記錄介質(zhì)施加記錄磁場(chǎng)來(lái)產(chǎn)生 磁化反轉(zhuǎn)，使信息記錄于所述磁記錄介質(zhì)，所述信息記錄再現(xiàn)裝置的特征在于，所述信息記錄再現(xiàn)裝置具有將光波導(dǎo)和多條電氣布線一體地形成的光電復(fù)合布線，所 述光波導(dǎo)將從所述光源射出的光束導(dǎo)入所述滑塊，所述多條電氣布線將所述滑塊與所述控 制部電連接，所述光電復(fù)合布線的末端側(cè)分支為所述光波導(dǎo)和所述電氣布線并引繞至所述 滑塊。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的信息記錄再現(xiàn)裝置，其特征在于，從所述光電復(fù)合布線的末端側(cè)到所述滑塊為止的所述光波導(dǎo)的曲率半徑比所述電氣 布線的曲率半徑大。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的信息記錄再現(xiàn)裝置，其特征在于，在所述支架設(shè)有萬(wàn)向架構(gòu)件，該萬(wàn)向架構(gòu)件將所述滑塊支撐為繞與所述磁記錄介質(zhì)的 表面平行且相互正交的兩軸轉(zhuǎn)動(dòng)自如的狀態(tài)，在所述萬(wàn)向架構(gòu)件設(shè)有舌片部，該舌片部從 所述支架的末端側(cè)向基端側(cè)伸出形成，且在該舌片部的周圍具有缺口部，所述滑塊設(shè)于所 述舌片部上，所述滑塊在所述支架的末端側(cè)具有記錄元件和再現(xiàn)元件，所述電氣布線沿所述支架的表面從末端側(cè)引繞至所述滑塊，所述光波導(dǎo)跨過(guò)所述缺口 部從所述支架的基端側(cè)引繞至所述滑塊。
全文摘要
本發(fā)明涉及信息記錄再現(xiàn)裝置，其通過(guò)利用近場(chǎng)光加熱盤并對(duì)盤施加記錄磁場(chǎng)從而產(chǎn)生磁化反轉(zhuǎn)，將信息記錄到盤上。該信息記錄再現(xiàn)裝置具有將光波導(dǎo)(32)與多條電氣布線(31)一體地形成的光電復(fù)合布線(33)，所述光波導(dǎo)(32)將從激光光源射出的光束導(dǎo)入滑塊(2)，所述多條電氣布線(31)將滑塊(3)與控制部電連接。光電復(fù)合布線(33)的末端側(cè)分支為光波導(dǎo)(32)和電氣布線(31)并引繞至滑塊(2)。
文檔編號(hào)G11B5/60GK102047328SQ20098012027
公開日2011年5月4日 申請(qǐng)日期2009年5月19日 優(yōu)先權(quán)日2008年6月2日
發(fā)明者大海學(xué), 平田雅一, 樸馬中, 鈴木瑞明 申請(qǐng)人:精工電子有限公司