專(zhuān)利名稱(chēng)：像差校正裝置、光學(xué)裝置及光學(xué)頭裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及校正光的像差的像差校正裝置、光學(xué)裝置及進(jìn)行光記錄介質(zhì)(以下， 稱(chēng)為“光盤(pán)”。)的記錄及/或重放(以下，簡(jiǎn)稱(chēng)為“記錄重放”。)的光學(xué)頭裝置。
背景技術(shù)：
在光學(xué)頭裝置中，為了進(jìn)行光盤(pán)的記錄重放，而使各波長(zhǎng)的光會(huì)聚至衍射極限附近。為了得到接近衍射極限的會(huì)聚點(diǎn)，需要使光學(xué)系統(tǒng)的像差為小的值。因此，對(duì)于光學(xué)頭裝置中使用的各光學(xué)部件的像差要求嚴(yán)格的精度，并且對(duì)于各部件的配置位置，在組裝工序中也要求嚴(yán)格的精度。在光盤(pán)的像差中存在由于光學(xué)部件的精度、組裝時(shí)的配置位置的誤差所引起的光學(xué)系統(tǒng)的光軸的偏離、相對(duì)于光盤(pán)的俯仰(傾斜)產(chǎn)生的像散、彗形像差。這些像差即使在具有同一光學(xué)設(shè)計(jì)的光學(xué)頭裝置中，因制造工序中產(chǎn)生的各種要因而在各個(gè)光學(xué)頭裝置中成為不同的值。為了抑制此種像差的個(gè)體差，而需要提高光學(xué)部件的精度及進(jìn)行精密的組裝。作為光盤(pán)的規(guī)格，廣泛使用有波長(zhǎng)785nm且數(shù)值孔徑(NA) 0. 45的⑶、波長(zhǎng)660nm 且ΝΑΟ. 6的DVD、波長(zhǎng)405nm且ΝΑΟ. 85的“Blu_ray”(注冊(cè)商標(biāo)以下稱(chēng)為BD)之類(lèi)的多種規(guī)格。通常，在使用BD用等的高NA的物鏡時(shí)，與使用DVD用或CD用等的NA的物鏡的情況相比，需要更高精度地制造光學(xué)部件及進(jìn)行組裝。另外，為了進(jìn)行不同的規(guī)格的光盤(pán)的記錄重放，而使用將多個(gè)物鏡設(shè)置在一個(gè)透鏡座上的結(jié)構(gòu)，但此種情況下，由于在調(diào)整一個(gè)光學(xué)系統(tǒng)時(shí)將物鏡座的位置大致固定，因此在調(diào)整其他光學(xué)系統(tǒng)時(shí)，需要在物鏡的位置調(diào)節(jié)無(wú)法充分進(jìn)行的狀態(tài)下進(jìn)行組裝。例如，此種情況下，由于在其他光學(xué)系統(tǒng)中產(chǎn)生光軸的偏離，當(dāng)聚光于光盤(pán)時(shí)有時(shí)會(huì)產(chǎn)生規(guī)格外的像差。為了抑制此種像差，提出有一種具備對(duì)液晶施加電壓而使入射的光的相位變化的液晶面板以校正光學(xué)頭裝置的組裝工序中產(chǎn)生的像差的像差校正裝置(專(zhuān)利文獻(xiàn)1)。另外，除此之外，作為進(jìn)行光學(xué)系統(tǒng)中產(chǎn)生的彗形像差的校正的像差校正裝置，提出有一種像差校正裝置，其通過(guò)使具有彼此互補(bǔ)的曲面的一對(duì)透光基板的單方的透光基板的位置沿與光軸垂直的方向移動(dòng)調(diào)節(jié)ΔΧ的距離，而產(chǎn)生具有與光學(xué)系統(tǒng)中產(chǎn)生的彗形像差相反的符號(hào)的彗形像差成分，從而對(duì)像差進(jìn)行校正(專(zhuān)利文獻(xiàn)2)。專(zhuān)利文獻(xiàn)1 日本國(guó)特開(kāi)2000-67453號(hào)公報(bào)專(zhuān)利文獻(xiàn)2 日本國(guó)專(zhuān)利第3666632號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容
然而，專(zhuān)利文獻(xiàn)1所記載的相位校正裝置在將包含進(jìn)行像差校正的液晶面板在內(nèi)的光學(xué)頭裝置的位置固定而校正一定量的像差時(shí)，總是需要施加特定的電壓而保持液晶的取向。因此，必須在光學(xué)部件中裝入用于驅(qū)動(dòng)液晶元件的電配線(xiàn)及驅(qū)動(dòng)電路，從而存在光學(xué)系統(tǒng)大型化的問(wèn)題，或者為了將像差校正量保持為恒定而必須總是供給穩(wěn)定的電壓，從而存在為了實(shí)現(xiàn)供給電壓的穩(wěn)定化而使驅(qū)動(dòng)電路變得復(fù)雜的問(wèn)題。而且，驅(qū)動(dòng)液晶時(shí)，由于溫度變化引起的折射率變動(dòng)較大，因此存在可靠性缺乏的問(wèn)題。因此，雖然也能夠裝入對(duì)溫度變化進(jìn)行補(bǔ)償?shù)碾娐?，但由于在外部需要溫度傳感器，因此存在成本增大、電路?fù)雜化的問(wèn)題。另外，專(zhuān)利文獻(xiàn)2所記載的相位校正裝置使一方的透光基板僅沿X方向移動(dòng)距離 Δχ，此外，由于在移動(dòng)時(shí)將計(jì)算的像差成分量中的ΔΧ的平方以上的高次項(xiàng)忽略，因此在組裝后的光學(xué)頭裝置的光學(xué)部件的光軸的偏離、傾斜較大時(shí)，像差成分量中的高次項(xiàng)的成分量也增大而不能忽略。并且，存在產(chǎn)生不能校正的像差由此導(dǎo)致光學(xué)頭裝置的聚光特性劣化的問(wèn)題。此外，在光學(xué)頭裝置的組裝時(shí)產(chǎn)生的像差的種類(lèi)的一種是像散，為了得到良好的聚光特性也必須抑制該像散成分，但關(guān)于像散的校正并未說(shuō)明。本發(fā)明鑒于以上的問(wèn)題而作出，提供一種像差校正裝置，具備對(duì)入射的光的相位進(jìn)行調(diào)制的像差校正元件；及能夠使所述像差校正元件沿與所述入射的光的光軸正交的方向移動(dòng)的位置調(diào)整部，其中，所述像差校正元件配置有使透過(guò)的光的相位根據(jù)同相的所述入射的光透過(guò)的位置而不同的第一像差校正板和第二像差校正板，并具有使透過(guò)所述像差校正元件的所述光成為同相的所述第一像差校正板和所述第二像差校正板的配置作為基準(zhǔn)配置，在所述基準(zhǔn)配置中，設(shè)與所述光軸交叉的所述第一像差校正板上的點(diǎn)為點(diǎn)Oa、與所述光軸交叉的所述第二像差校正板上的點(diǎn)為點(diǎn)Ob時(shí)，所述位置調(diào)整部具有能夠使所述第一像差校正板和所述第二像差校正板沿與所述光軸正交的方向移動(dòng)且使所述點(diǎn)Oa和所述點(diǎn) Ob從所述基準(zhǔn)配置相互向相反方向移動(dòng)的機(jī)構(gòu)，及/或能夠使所述第一像差校正板和所述第二像差校正板以所述點(diǎn)Oa及所述點(diǎn)Ob為中心從所述基準(zhǔn)配置相互向相反方向以相同角度旋轉(zhuǎn)移動(dòng)的機(jī)構(gòu)。另外，提供一種上述的像差校正裝置，其中，所述像差校正元件是相對(duì)于所述入射的光產(chǎn)生像散的像散校正元件，將所述第一像差校正板作為第一像散校正板并將所述第二像差校正板作為第二像散校正板，設(shè)向所述第一像散校正板入射的光的有效直徑為D1、向所述第二像散校正板入射的光的有效直徑為D2、D2ZiD1為有效直徑比k時(shí)，所述第一像散校正板具有如下的曲面的形狀或具有階梯狀地近似于曲面的形狀，該曲面是在與所述光軸正交的X-Y平面上以所述點(diǎn)Oa為原點(diǎn)，作為透過(guò)所述點(diǎn)Oa的所述光的相位與透過(guò)所述第一像散校正板的任意位置(x，y)的所述光的相位之差的相位差的分布函數(shù)f1T(x，y)為f1T (χ, y) = ax3+bxy2+tAx+tBy,a/b =-l/3(a、b、tAJB 為系數(shù))的曲面，所述第二像散校正板具有如下的曲面的形狀或具有階梯狀地近似于曲面的形狀，該曲面是在與所述光軸正交的X-Y平面上以所述點(diǎn)Ob為原點(diǎn)，作為透過(guò)所述點(diǎn)Ob 的所述光的相位與透過(guò)所述第二像散校正板的任意位置(X，y)的所述光的相位之差的相位差的分布函為g1T(x, y) = -f1T(x/k, y/k)的曲面，所述位置調(diào)整部具有能夠使所述第一像散校正板從所述基準(zhǔn)配置沿X軸移動(dòng)距離&，且能夠使所述第二像散校正板從所述基準(zhǔn)配置向與所述第一像散校正板的移動(dòng)方向相反的方向移動(dòng)距離的機(jī)構(gòu)。
另外，提供一種上述的像差校正裝置，其中，所述像差校正元件是相對(duì)于所述入射的光產(chǎn)生像散的像散校正元件，將所述第一像差校正板作為第一像散校正板并將所述第二像差校正板作為第二像散校正板，設(shè)向所述第一像散校正板入射的光的有效直徑為D1、向所述第二像散校正板入射的光的有效直徑為D2、D2ZiD1為有效直徑比k時(shí)，所述第一像散校正板具有如下的形狀，該形狀是在與所述光軸正交的X-Y平面上以所述點(diǎn)Oa為原點(diǎn)，作為透過(guò)所述點(diǎn)Oa的所述光的相位與透過(guò)所述第一像散校正板的任意位置(X，y)的所述光的相位之差的相位差的分布函數(shù)f;(X，y)為fu(x, y) = AU (χ)(Α為系數(shù)，U(x)是在χ彡0時(shí)為1、在1<0時(shí)為0的階梯函數(shù))的形狀，所述第二像散校正板具有如下的形狀，該形狀是在與所述光軸正交的X-Y 平面上以所述點(diǎn)Ob為原點(diǎn)，作為透過(guò)所述點(diǎn)Ob的所述光的相位與透過(guò)所述第二像散校正板的任意位置(X，y)的所述光的相位之差的相位差的分布函數(shù)&(X，y)為gu(x, y) = -fu(x/k, y/k)的形狀，所述位置調(diào)整部具有能夠使所述第一像散校正板從所述基準(zhǔn)配置沿X軸移動(dòng)距離&，且能夠使所述第二像散校正板從所述基準(zhǔn)配置向與所述第一像散校正板的移動(dòng)方向相反的方向移動(dòng)距離的機(jī)構(gòu)。另外，提供一種上述的像差校正裝置，其中，所述像差校正元件是相對(duì)于所述入射的光產(chǎn)生像散的像散校正元件，將所述第一像差校正板作為第一像散校正板并將所述第二像差校正板作為第二像散校正板，設(shè)向所述第一像散校正板入射的光的有效直徑為D1、向所述第二像散校正板入射的光的有效直徑為D2、D2ZiD1為有效直徑比k時(shí)，所述第一像散校正板具有如下的曲面的形狀或具有階梯狀地近似于曲面的形狀，該曲面是在與所述光軸正交的X-Y平面上以所述點(diǎn)Oa為原點(diǎn)，作為透過(guò)所述點(diǎn)Oa的所述光的相位與透過(guò)所述第一像散校正板的任意位置(x，y)的所述光的相位之差的相位差的分布函數(shù)f7T(x，y)為f7T(x,y) = Dx3+tAx+tBy(D、tA、tB 為系數(shù))的曲面，所述第二像散校正板具有如下的曲面的形狀或具有階梯狀地近似于曲面的形狀，該曲面是在與所述光軸正交的X-Y平面上以所述點(diǎn)Ob為原點(diǎn)，作為透過(guò)所述點(diǎn)Ob 的所述光的相位與透過(guò)所述第二像散校正板的任意位置(X，y)的所述光的相位之差的相位差的分布函為g7T (χ, y) = -f7T (x/k，y/k)的曲面，所述位置調(diào)整部具有能夠使所述第一像散校正板從所述基準(zhǔn)配置沿X軸移動(dòng)距離&，且能夠使所述第二像散校正板從所述基準(zhǔn)配置向與所述第一像散校正板的移動(dòng)方向相反的方向移動(dòng)距離的機(jī)構(gòu)。另外，提供一種上述的像差校正裝置，其中，所述相位調(diào)整部具有能夠使所述像散校正元件以所述光軸為中心從所述基準(zhǔn)配置沿與所述光軸正交的方向在0° 90°的范圍內(nèi)旋轉(zhuǎn)移動(dòng)的機(jī)構(gòu)。另外，提供一種上述的像差校正裝置，其中，所述位置調(diào)整部具有能夠使所述第一像散校正板從所述基準(zhǔn)配置沿Y軸移動(dòng)距離知,且能夠使所述第二像散校正板向與所述第一像散校正板的移動(dòng)方向相反的方向移動(dòng)距離kxytl的機(jī)構(gòu)。
另外，提供一種上述的像差校正裝置，其中，所述像差校正裝置具有兩個(gè)所述像散校正元件，分別設(shè)兩個(gè)所述像散校正元件為第一像散校正元件、第二像散校正元件時(shí)，所述第一像散校正元件包括所述第一像散校正板和所述第二像散校正板，所述第二像散校正元件包括與所述第一像散校正板為相同結(jié)構(gòu)的第三像散校正板和與所述第二像散校正板為相同結(jié)構(gòu)的第四像散校正板，設(shè)向所述第三像散校正板入射的光的有效直徑為D3、向所述第四像散校正板入射的光的有效直徑為D4、D4/D3為有效直徑比k’，所述第二像散校正元件配置成在以所述光軸為中心沿與所述光軸正交的X-Y平面旋轉(zhuǎn)了(mX45)°的配置下相對(duì)于所述第一像散校正元件具有相同的相位差的分布(m為1、3、5、7中的任一個(gè))，所述位置調(diào)整部具有能夠使所述第三像散校正板從所述基準(zhǔn)配置沿相對(duì)于X軸成所述(mX45)°的角度的方向移動(dòng)距離&’，且能夠使所述第四像散校正板從所述基準(zhǔn)配置向與所述第三像散校正板的移動(dòng)方向相反的方向移動(dòng)距離k’ Xx0'的機(jī)構(gòu)。另外，提供一種上述的像差校正裝置，其中，所述像差校正裝置具有作為所述像散校正元件的第一像散校正元件和不同于所述像散校正元件的第二像散校正元件，所述第一像散校正元件包括所述第一像散校正板和所述第二像散校正板，所述第二像散校正元件配置有具有使相位根據(jù)同相的所述入射的光透過(guò)的位置而不同的分布的第三像散校正板和第四像散校正板，設(shè)向所述第三像散校正板入射的光的有效直徑為D3、向所述第四像散校正板入射的光的有效直徑為D4、D4/D3為有效直徑比k’，具有使透過(guò)所述第二像散校正元件的所述光成為同相的所述第一像散校正板和所述第二像散校正板的配置作為基準(zhǔn)配置，在所述基準(zhǔn)配置中，設(shè)與所述光軸交叉的所述第三像散校正板上的點(diǎn)為點(diǎn)0d、與所述光軸交叉的所述第四像散校正板上的點(diǎn)為點(diǎn)Oe時(shí)，所述第三像散校正板具有如下的曲面的形狀或具有階梯狀地近似于曲面的形狀，該曲面是在與所述光軸正交的X-Y平面上以所述點(diǎn)Od為原點(diǎn)，作為透過(guò)所述點(diǎn)Od的所述光的相位與透過(guò)所述第三像散校正板的任意位置(x，y)的所述光的相位之差的相位差的分布函數(shù)f2T(x，y)為f2T(x7y) = Ax2y+tAx+tBy(A、tA、tB 為系數(shù))的曲面，所述第四像散校正板具有如下的曲面的形狀或具有階梯狀地近似于曲面的形狀，該曲面是在與所述光軸正交的X-Y平面上以所述點(diǎn)Oe為原點(diǎn)，作為透過(guò)所述點(diǎn)Oe 的所述光的相位與透過(guò)所述第四像散校正板的任意位置(χ，y)的所述光的相位之差的相位差的分布函數(shù)&&，7)為g2T(x, y) = -f2T(x/k, y/k)的曲面，所述位置調(diào)整部具有能夠使所述第三像散校正板從所述基準(zhǔn)配置沿X軸移動(dòng)距，且能夠使所述第四像散校正板從所述基準(zhǔn)配置向與所述第三像散校正板的移動(dòng)方向相反的方向移動(dòng)距離k’ Xx0'的機(jī)構(gòu)。另外，提供一種像差校正裝置，具備對(duì)入射的光的相位進(jìn)行調(diào)制的像差校正元件；及能夠使所述像差校正元件沿與所述入射的光的光軸正交的方向移動(dòng)的位置調(diào)整部， 其中，所述像差校正元件配置有使透過(guò)的光的相位根據(jù)同相的所述入射的光透過(guò)的位置而不同的第一像散校正板和第二像散校正板，設(shè)向所述第一像散校正板入射的光的有效直徑為D1、向所述第二像散校正板入射的光的有效直徑為DyD2ZD1為有效直徑比k，具有使透過(guò)所述像差校正元件的所述光成為同相的所述第一像散校正板和所述第二像散校正板的配置作為基準(zhǔn)配置，在所述基準(zhǔn)配置中，設(shè)與所述光軸交叉的所述第一像散校正板上的點(diǎn)為點(diǎn)Oa、與所述光軸交叉的所述第二像散校正板上的點(diǎn)為點(diǎn)Ob時(shí)，所述第一像散校正板具有如下的曲面的形狀或具有階梯狀地近似于曲面的形狀，該曲面是在與所述光軸正交的X-Y 平面上以所述點(diǎn)Oa為原點(diǎn)，作為透過(guò)所述點(diǎn)Oa的所述光的相位與透過(guò)所述第一像散校正板的任意位置(x，y)的所述光的相位之差的相位差的分布函數(shù)f1T(x，y)為f1T (χ, y) = ax3+bxy2+tAx+tBy,a/b =-l/3(a、b、tAJB 為系數(shù))的曲面，所述第二像散校正板具有如下的曲面的形狀或具有階梯狀地近似于曲面的形狀，該曲面是在與所述光軸正交的X-Y平面上以所述點(diǎn)Ob為原點(diǎn)，作為透過(guò)所述點(diǎn)Ob 的所述光的相位與透過(guò)所述第二像散校正板的任意位置(X，y)的所述光的相位之差的相位差的分布函為g1T (χ, y) = -f1T (x/k，y/k)的曲面，所述位置調(diào)整部具有能夠使所述第一像散校正板和所述第二像散校正板中的任一方沿與所述光軸正交的方向移動(dòng)且沿X軸方向及Y軸方向移動(dòng)的機(jī)構(gòu)。另外，提供一種像差校正裝置，具備對(duì)入射的光的相位進(jìn)行調(diào)制的像差校正元件；及能夠使所述像差校正元件沿與所述入射的光的光軸正交的方向移動(dòng)的位置調(diào)整部， 其中，所述像差校正元件配置有使透過(guò)的光的相位根據(jù)同相的所述入射的光透過(guò)的位置而不同的第一像散校正板和第二像散校正板，設(shè)向所述第一像散校正板入射的光的有效直徑為D1、向所述第二像散校正板入射的光的有效直徑為DyD2ZD1為有效直徑比k，具有使透過(guò)所述像差校正元件的所述光成為同相的所述第一像散校正板和所述第二像散校正板的配置作為基準(zhǔn)配置，在所述基準(zhǔn)配置中，設(shè)與所述光軸交叉的所述第一像散校正板上的點(diǎn)為點(diǎn)Oa、與所述光軸交叉的所述第二像散校正板上的點(diǎn)為點(diǎn)Ob時(shí)，所述第一像散校正板具有如下的曲面的形狀或具有階梯狀地近似于曲面的形狀，該曲面是在與所述光軸正交的X-Y 平面上以所述點(diǎn)Oa為原點(diǎn)，作為透過(guò)所述點(diǎn)Oa的所述光的相位與透過(guò)所述第一像散校正板的任意位置(x，y)的所述光的相位之差的相位差的分布函數(shù)f7T(x，y)為f7T(x,y) = Dx3+tAx+tBy(D、tA、tB 為系數(shù))的曲面，所述第二像散校正板具有如下的曲面的形狀或具有階梯狀地近似于曲面的形狀，該曲面是在與所述光軸正交的X-Y平面上以所述點(diǎn)Ob為原點(diǎn)，作為透過(guò)所述點(diǎn)Ob 的所述光的相位與透過(guò)所述第二像散校正板的任意位置(X，y)的所述光的相位之差的相位差的分布函為g7T(x, y) = -f7T(x/k, y/k)的曲面，所述位置調(diào)整部具有能夠使所述第一像散校正板和所述第二像散校正板中的任一方沿與所述光軸正交的方向移動(dòng)且沿X軸方向移動(dòng)的機(jī)構(gòu)。另外，提供一種像差校正裝置，具備對(duì)入射的光的相位進(jìn)行調(diào)制的像差校正元件；及能夠使所述像差校正元件沿與所述入射的光的光軸正交的方向移動(dòng)的位置調(diào)整部， 其中，所述像差校正元件配置有使透過(guò)的光的相位根據(jù)同相的所述入射的光透過(guò)的位置而不同的第一像散校正板和第二像散校正板，設(shè)向所述第一像散校正板入射的光的有效直徑為D1、向所述第二像散校正板入射的光的有效直徑為DyD2ZD1為有效直徑比k，具有使透過(guò)所述像差校正元件的所述光成為同相的所述第一像散校正板和所述第二像散校正板的配置作為基準(zhǔn)配置，在所述基準(zhǔn)配置中，設(shè)與所述光軸交叉的所述第一像散校正板上的點(diǎn)為點(diǎn)Oa、與所述光軸交叉的所述第二像散校正板上的點(diǎn)為點(diǎn)Ob時(shí)，所述第一像散校正板具有如下的曲面的形狀或具有階梯狀地近似于曲面的形狀，該曲面是在與所述光軸正交的X-Y 平面上以所述點(diǎn)Oa為原點(diǎn)，作為透過(guò)所述點(diǎn)Oa的所述光的相位與透過(guò)所述第一像散校正板的任意位置(x，y)的所述光的相位之差的相位差的分布函數(shù)f8T(x，y)為f8T(x,y) = Ex2y+Fx2+tAx+tBy伍、？、、、、為系數(shù))的曲面，所述第二像散校正板具有如下的曲面的形狀或具有階梯狀地近似于曲面的形狀，該曲面是在與所述光軸正交的X-Y平面上以所述點(diǎn)Ob為原點(diǎn)，作為透過(guò)所述點(diǎn)Ob 的所述光的相位與透過(guò)所述第二像散校正板的任意位置(X，y)的所述光的相位之差的相位差的分布函數(shù)^^⑴一為g8T(x, y) = -f8T(x/k, y/k)的曲面，所述位置調(diào)整部具有能夠使所述第一像散校正板和所述第二像散校正板中的任一方沿與所述光軸正交的方向移動(dòng)且沿X軸方向移動(dòng)的機(jī)構(gòu)。另外，提供一種像差校正裝置，具備對(duì)入射的光的相位進(jìn)行調(diào)制的像差校正元件；及能夠使所述像差校正元件沿與所述入射的光的光軸正交的方向移動(dòng)的位置調(diào)整部， 其中，所述像差校正元件配置有使透過(guò)的光的相位根據(jù)同相的所述入射的光透過(guò)的位置而不同的第一彗形像差校正板和第二彗形像差校正板，設(shè)向所述第一彗形像差校正板入射的光的有效直徑為D1、向所述第二彗形像差校正板入射的光的有效直徑為D2、D2ZiD1為有效直徑比k，具有使透過(guò)所述像差校正元件的所述光成為同相的所述第一彗形像差校正板和所述第二彗形像差校正板的配置作為基準(zhǔn)配置，在所述基準(zhǔn)配置中，設(shè)與所述光軸交叉的所述第一彗形像差校正板上的點(diǎn)為點(diǎn)Oa、與所述光軸交叉的所述第二彗形像差校正板上的點(diǎn)為點(diǎn)Ob時(shí)，所述第一彗形像差校正板具有如下的曲面的形狀或具有階梯狀地近似于曲面的形狀，該曲面是在與所述光軸正交的X-Y平面上以所述點(diǎn)Oa為原點(diǎn)，作為透過(guò)所述點(diǎn)Oa的所述光的相位與透過(guò)所述第一彗形像差校正板的任意位置(χ，y)的所述光的相位之差的相位差的分布函數(shù)f8T(x，y)為f9T (χ, y) = Gx2 (x2+Hy2) +Jx2+tAx+tBy(G、H、J、tAJB 為系數(shù))的曲面，所述第二彗形像差校正板具有如下的曲面的形狀或具有階梯狀地近似于曲面的形狀，該曲面是在與所述光軸正交的X-Y平面上以所述點(diǎn)Ob為原點(diǎn)，作為透過(guò)所述點(diǎn)Ob的所述光的相位與透過(guò)所述第二彗形像差校正板的任意位置(X，y)的所述光的相位之差的相位差的分布函數(shù)^3t (x，y)為g9T (χ, y) = -f9T (x/k，y/k)的曲面，所述位置調(diào)整部具有能夠使所述第一彗形像差校正板和所述第二彗形像差校正板中的任一方沿與所述光軸正交的方向移動(dòng)且沿X軸方向移動(dòng)的機(jī)構(gòu)。另外，提供一種上述的像差校正裝置，其中，所述像差校正元件由具有樹(shù)脂的材料構(gòu)成。另外，提供一種上述的像差校正裝置，其中，所述樹(shù)脂是使包含含氟單體的樹(shù)脂單體硬化而成的材料。另外，提供一種上述的像差校正裝置，其中，所述入射的光包含波長(zhǎng)λ工的光和波長(zhǎng)λ 2 ( λ工興λ 2)的光，所述像差校正元件相對(duì)于所述波長(zhǎng)λ工的光和所述波長(zhǎng)λ 2的光中的任一方的光具有所述相位差的分布，且相對(duì)于另一方的光不產(chǎn)生所述相位差。另外，提供一種上述的像差校正裝置，其中，所述像差校正元件包含第一像差校正部和第二像差校正部，設(shè)所述第一像差校正部相對(duì)于所述波長(zhǎng)λ工的折射率為Ii1 ( λ》、 所述第二像差校正部相對(duì)于所述波長(zhǎng)X1的折射率為Ii2U1K所述第一像差校正部相對(duì)于所述波長(zhǎng)λ 2的折射率為Il1 (λ 2)、所述第二像差校正部相對(duì)于所述波長(zhǎng)λ 2的折射率為 η2(λ2)時(shí)，Ill(X1)與 I12(X1)相等且 ηι(λ2)與112(入2)不同，或 Ii1U2)與 η2(λ2)相等且 Ii1 ( λ j)與 η2(λ i)不同。另外，提供一種光學(xué)裝置，配置有透鏡，并且在向所述透鏡入射的光的光路中配置有上述記載的的像差校正裝置，所述透鏡沿與所述光軸正交的方向位移且沿Y軸方向位移。另外，提供一種光學(xué)頭裝置，具備光源；將從所述光源出射的光會(huì)聚在光盤(pán)的信息記錄面上的物鏡；及檢測(cè)由所述光盤(pán)的信息記錄面反射的信號(hào)光的光檢測(cè)器，其中，在所述光源與所述物鏡之間的光路中配置有上述記載的像差校正裝置。發(fā)明效果根據(jù)本發(fā)明，不使用包含能夠通過(guò)施加的電壓而改變光學(xué)特性的液晶的元件，因此不需要用于驅(qū)動(dòng)液晶的電配線(xiàn)及電路，而且，能夠不產(chǎn)生高次的像差成分而校正在光學(xué)頭裝置等光學(xué)裝置的組裝時(shí)產(chǎn)生的彗形像差或像散，因此能得到廉價(jià)且可靠性高的相位校正裝置及光學(xué)頭裝置。


圖1 (a)及1 (b)是表示像差校正裝置的基本結(jié)構(gòu)的示意圖。圖2是表示與光軸正交的平面的極坐標(biāo)的圖。圖3(a)是第一實(shí)施方式的像散校正裝置的示意圖，圖3(b)及(c)是第一像散校正板及第二像散校正板的俯視示意圖。圖4是說(shuō)明像差校正板的厚度和以同相入射并出射的光的相位差的示意圖。圖5 (a)及5(b)是表示將第一像散校正板的曲面形成為階梯形狀的例子的剖面示意圖。圖6(a) 6(c)是使第一實(shí)施方式的像散校正元件移動(dòng)時(shí)的示意圖。圖7是說(shuō)明第一實(shí)施方式的像散校正元件的平面位置的俯視示意圖。圖8 (a)及8(b)是表示使包含俯仰成分的第一像散校正板的曲面近似為階梯形狀的例子的剖面示意圖。圖9(a)是第二實(shí)施方式的像差校正裝置的示意圖，圖9(b)是表示第一像散校正元件與第二像散校正元件的位置關(guān)系的俯視示意圖。圖10(a)是第三實(shí)施方式的像差校正裝置的示意圖，圖10(b)是表示構(gòu)成第二像散校正元件的第一像散校正板與第二像散校正板的位置關(guān)系的剖面示意圖。圖11 (a)是第四實(shí)施方式的像差校正裝置的示意圖，圖11 (b)是表示像散校正元件的位置關(guān)系的俯視示意圖。圖12(a)是第五實(shí)施方式的像差校正裝置的示意圖，圖12(b)是表示像散校正元件的位置關(guān)系的俯視示意圖。圖13是第六實(shí)施方式及第七實(shí)施方式的像差校正裝置的示意圖。圖14是第八實(shí)施方式的像差校正裝置的示意圖。圖15是第九實(shí)施方式的非像差校正裝置的示意圖。圖16是第十實(shí)施方式的像差校正裝置的示意圖。圖17是表示第十實(shí)施方式的構(gòu)成像差校正板的第一相位調(diào)整部和第二相位調(diào)整部的折射率的波長(zhǎng)依賴(lài)性的坐標(biāo)圖。圖18是表示光學(xué)頭裝置的示意圖。圖19是表示具有兩個(gè)光學(xué)系統(tǒng)的光學(xué)頭裝置的示意圖。圖20是表示光學(xué)頭裝置的示意圖。圖21是表示光學(xué)頭裝置的示意圖。圖22 (a) 22 (c)是表示實(shí)施例1 3中的相對(duì)于位移量(Xtl)的各種像差的坐標(biāo)圖。圖23(a) 23(c)是表示實(shí)施例4中的相對(duì)于位移量( ，y0)的各種像差的坐標(biāo)圖。圖M (a) M(C)是表示實(shí)施例5中的相對(duì)于位移量(xQ，y0)的各種像差的坐標(biāo)圖。圖25是表示實(shí)施例6中的相對(duì)于位移量(Xtl)的各種像差的坐標(biāo)圖。圖沈是表示實(shí)施例7中的相對(duì)于位移量(Xtl)的各種像差的坐標(biāo)圖。圖27是表示實(shí)施例8中的相對(duì)于位移量(Xtl)的各種像差的坐標(biāo)圖。圖28是表示實(shí)施例9中的相對(duì)于位移量(Xtl)的各種像差的坐標(biāo)圖。圖四是表示比較例中的相對(duì)于位移量(Xtl)的各種像差的坐標(biāo)圖。
具體實(shí)施例方式(第一實(shí)施方式)圖1 (a)是表示本發(fā)明的像差校正裝置100的基本結(jié)構(gòu)的示意圖，包含第一像差校正板111和第二像差校正板112、以及位置調(diào)整部120而構(gòu)成。第一像差校正板111和第二像差校正板112平行配置，位置調(diào)整部120具備使第一像差校正板111和第二像差校正板112沿平行方向移動(dòng)的機(jī)構(gòu)。而且，將第一像差校正板111和第二像差校正板112總稱(chēng)為像差校正元件110。而且，在圖1(a)中，光沿Z方向前進(jìn)而透過(guò)像差校正元件110，像差校正元件110能夠通過(guò)位置調(diào)整部而與X-Y面平行地移動(dòng)。具體而言，位置調(diào)整部120具備使第一像差校正板111及第二像差校正板112例如與X方向及/或Y方向平行移動(dòng)的機(jī)構(gòu)，或具備使其以入射的光的光軸(Z方向)為中心而旋轉(zhuǎn)移動(dòng)的機(jī)構(gòu)。在此種位置調(diào)整部120中，既可以具備例如測(cè)微器那樣能夠通過(guò)手動(dòng)調(diào)節(jié)的結(jié)構(gòu)，也可以具備如致動(dòng)器那樣通過(guò)電動(dòng)機(jī)驅(qū)動(dòng)而能夠電氣性地控制第一像差校正板111及第二像差校正板112的位置調(diào)整的結(jié)構(gòu)。而且，位置調(diào)整部120也可以為了易于使第一像差校正板111及第二像差校正板112平行移動(dòng)，而含有專(zhuān)用的座。這些功能能夠在以下的實(shí)施方式中適用。另外，圖1 (a)的像差校正裝置100表示第一像差校正板111和第二像差校正板 112相鄰配置的結(jié)構(gòu)，但并不局限于此。圖1(b)是表示與像差校正裝置100不同的像差校正裝置130的結(jié)構(gòu)的示意圖，表示在第一像差校正板141與第二像差校正板142之間配置有光學(xué)元件160的光學(xué)系統(tǒng)。此時(shí)，在使第一像差校正板141沿與光軸垂直的方向移動(dòng)的第一位置調(diào)整部151和使第二像差校正板142沿與光軸垂直的方向移動(dòng)的第二位置調(diào)整部152分離配置的情況下，也將第一位置調(diào)整部151與第二位置調(diào)整部152合起來(lái)作為位置調(diào)整部150。需要說(shuō)明的是，如后所述，像差校正板為三個(gè)以上且它們不相鄰而相互分離配置在光路中的情況下，將具有調(diào)整這些像差校正板的位置的功能的部件總稱(chēng)為位置調(diào)整部。此外，在后述的其他實(shí)施方式中，例如配置兩個(gè)像差校正板而僅使一張移動(dòng)時(shí)，也可以配置僅使移動(dòng)的像差校正板進(jìn)行移動(dòng)的位置調(diào)整部。在此，像差校正板既可以獨(dú)立處于光路中，也可以例如層疊于其他光學(xué)元件并與層疊后的光學(xué)元件一起移動(dòng)。這種情況下，只要是即使沿與光軸垂直的方向移動(dòng)，層疊有像差校正板的光學(xué)元件自身的光學(xué)特性也不較大變化的情況，就優(yōu)選。此外，圖1(b)的像差校正裝置130表示了光沿Z方向前進(jìn)且沿與光軸(Z方向)垂直的X-Y平面移動(dòng)的情況，但并不局限于此。例如，在第一像差校正板141與第二像差校正板142之間的光路中配置使光偏轉(zhuǎn)90°的上升棱鏡時(shí)，移動(dòng)的方向例如也可以是Y-Z平面的方向與X-Y平面的方向形成的組合。而且，雖然設(shè)定為與光軸垂直的方向，但并不局限于此，也可以相對(duì)于與光軸垂直的方向傾斜地配置，這種情況下，在折射率不同的界面上產(chǎn)生的反射光相對(duì)于光學(xué)系統(tǒng)不成為雜散光，在這一點(diǎn)上優(yōu)選。如此，使像差校正板相對(duì)于與光軸垂直的方向傾斜地配置時(shí)，以能夠良好地進(jìn)行像差的校正的方式設(shè)計(jì)像差校正板即可。另外，在光學(xué)元件160具有透鏡作用而具有改變透過(guò)的光的有效直徑的功能時(shí)， 也可以考慮例如如下組合在圖1(b)的第一像差校正板141中光的有效直徑發(fā)散而前進(jìn)， 并通過(guò)光學(xué)元件160以光的有效直徑不改變的平行光前進(jìn)。這種情況下，進(jìn)行考慮到向這些像差校正板入射的光的有效直徑的設(shè)計(jì)即可。以下，說(shuō)明在光學(xué)系統(tǒng)中配置有像差校正裝置的情況，多個(gè)像差校正板相鄰配置，向各個(gè)像差校正板入射的光的光軸為相同方向(Z 方向)，且光的有效直徑沿前進(jìn)的方向變寬/變窄的發(fā)散/收斂可以忽略，即在向這些像差校正板入射的光的有效直徑相等。需要說(shuō)明的是，有效直徑是指如下圓區(qū)域的直徑，即在與光軸垂直的平面中設(shè)與光軸相交的點(diǎn)的光強(qiáng)度為1時(shí)，以高斯分布近似的光強(qiáng)度為Ι/e2以上的圓區(qū)域。接下來(lái)，說(shuō)明在光學(xué)系統(tǒng)中產(chǎn)生的像散及彗形像差。圖2是表示包含像散及彗形像差在內(nèi)的與光的光軸正交的平面的示意圖，并認(rèn)為點(diǎn)P為光軸(光的中心)。需要說(shuō)明的是，設(shè)光軸方向?yàn)閆方向，與其正交的平面為X-Y平面。此時(shí)，考慮以點(diǎn)P為原點(diǎn)的極坐標(biāo)， 設(shè)相對(duì)于點(diǎn)P在X-Y平面上的任意的點(diǎn)為點(diǎn)P’，P-P’的距離為P，并且，以X軸為基準(zhǔn)與線(xiàn)段P-P’所成的角度為Θ。而且，角度θ以X軸為基準(zhǔn)而設(shè)逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)的方向?yàn)檎?。此時(shí)，根據(jù)透過(guò)X-Y平面的各位置的相位的差而產(chǎn)生像散及彗形像差。尤其是以透過(guò)點(diǎn)P的光的相位為基準(zhǔn)，并考慮與透過(guò)各位置(P，θ )的相位之差(=相位差)時(shí)，若設(shè)極坐標(biāo)中的像散的函數(shù)為A( P，Θ )，則以χ方向及Y方向?yàn)檩S而對(duì)稱(chēng)產(chǎn)生的像散具有Α(ρ , θ ) oc p2(2cos2 θ-ι)…(la)
的關(guān)系。而且，以θ =45°及θ = 135°方向?yàn)檩S而對(duì)稱(chēng)產(chǎn)生的像散具有Α(ρ , θ) OC P 2Sin θ · cos θ ... (lb)的關(guān)系。同樣地，以透過(guò)點(diǎn)P的光的相位為基準(zhǔn)，設(shè)極坐標(biāo)中的彗形像差的函數(shù)為C(P， θ )時(shí)，以X方向?yàn)檩S而產(chǎn)生的彗形像差具有C(P，θ ) oc (3 P 3-2 P ) cos θ ... (2a)的關(guān)系。而且，以Y方向?yàn)檩S而產(chǎn)生的彗形像差具有C(P，θ ) oc (3 ρ 3-2 P ) sin θ ... (2b)的關(guān)系。本發(fā)明的像差校正裝置100通過(guò)使第一像差校正板111及第二像差校正板112沿與光軸正交的方向移動(dòng)，而產(chǎn)生與式(la)、式(lb)、式Qa)或式Qb)對(duì)應(yīng)的相位差的分布。并且，通過(guò)該相位差的分布而使在其他光學(xué)系統(tǒng)中產(chǎn)生的像散、彗形像差相抵，從而對(duì)像差進(jìn)行校正。例如，在其他光學(xué)系統(tǒng)中產(chǎn)生4p2(2cos2e-l)的像散時(shí)，在像差校正裝置 100中產(chǎn)生-4 92(2(0829-1)的像散而使其相抵即可。首先，在第一實(shí)施方式中，說(shuō)明對(duì)因構(gòu)成光學(xué)頭裝置的各光學(xué)部件的組裝調(diào)節(jié)而產(chǎn)生的像差中的、尤其是光學(xué)部件偏離光軸方向配置時(shí)產(chǎn)生的像散進(jìn)行校正的像差校正裝置。圖3(a)是表示作為圖1(a)的像差校正裝置100，尤其是用于對(duì)像散進(jìn)行校正的像差校正裝置200的示意圖。像差校正裝置200包括由第一像散校正板211和第二像散校正板212構(gòu)成的像散校正元件210;及位置調(diào)整部220。而且，圖3 (b)、圖3 (c)分別表示第一像散校正板211、第二像散校正板212的俯視示意圖。另外，第一像散校正板211、第二像散校正板212具有X-Y平面的厚度(Z方向) 不同的分布而構(gòu)成。需要說(shuō)明的是，兩個(gè)像散校正板的外緣的形狀并不局限于圖3(b)、圖 3(c)所示的四邊形，只要是包含光入射而應(yīng)進(jìn)行像差校正的全部區(qū)域(有效區(qū)域)的形狀， 就沒(méi)有特別限制。而且，如果兩個(gè)像散校正板相對(duì)于入射的光透明，就能夠使用樹(shù)脂板、樹(shù)脂薄膜、玻璃或石英玻璃等各種材料。此外，兩個(gè)像散校正板并不局限于在光學(xué)上示出各向同性的各向同性材料，也可以由顯示出雙折射性的雙折射性材料構(gòu)成，而且，各個(gè)像散校正板還可以由具有相互不同的折射率的材料構(gòu)成。而且，例如，還可以使用具有折射率的波長(zhǎng)依賴(lài)性(波長(zhǎng)分散特性)的材料、在波長(zhǎng)X1的光中產(chǎn)生相位差的分布且在波長(zhǎng)λ2的光 (A1^ λ2)中不產(chǎn)生相位差的材料，例如使用顏料或染料、多層膜來(lái)形成。這種情況下，例如由與相對(duì)于λ 2的光的折射率相等的折射率的其他材料中的兩種材料構(gòu)成即可。以下， 為了簡(jiǎn)便，說(shuō)明都由具有折射率1的各向同性材料構(gòu)成的情況。需要說(shuō)明的是，這些結(jié)構(gòu)在以下的實(shí)施方式中能夠適用。接下來(lái)，說(shuō)明透過(guò)的光相對(duì)于向像散校正元件210入射的光的相位的關(guān)系。相對(duì)于從點(diǎn)Oa側(cè)的面以同相入射的光，圖3(a)所示的第一像散校正板211使透過(guò)的光具有與第一像散校正板211的厚度相應(yīng)的相位的分布。同樣地，相對(duì)于從點(diǎn)Ob側(cè)的面以同相入射的光，第二像散校正板212使透過(guò)的光具有與第二像散校正板212的厚度相應(yīng)的相位的分布。 而且，在圖3(a)中，示出第一像散校正板211、第二像散校正板212的光的入射側(cè)都為平坦的面的配置，但并不局限于此，只要能得到后述那樣的相位差的分布，則也可以是兩個(gè)像散校正板的平坦的面或曲面以相互面對(duì)的方式配置。
第一像散校正板211的點(diǎn)Oa及點(diǎn)0a’是處于第一像散校正板211的兩個(gè)面上的點(diǎn)， 所有的點(diǎn)都存在于X-Y平面的一條法線(xiàn)上。同樣地，第二像散校正板212的點(diǎn)Ob及點(diǎn)0b’是處于第二像散校正板212的兩個(gè)面上的點(diǎn)，所有的點(diǎn)都存在于X-Y平面的一條法線(xiàn)上。而且，如圖3(b)及圖3(c)所示，點(diǎn)Oa及點(diǎn)Ob分別位于中心部，設(shè)X-Y平面上的(正交)坐標(biāo) (x，y) = (0，0)。圖4是表示具有厚度的分布的包含第一像散校正板211的點(diǎn)Oa及點(diǎn)0a’在內(nèi)的剖面作為例子的圖，是用于說(shuō)明透過(guò)的光的相位的示意圖。在此，設(shè)波長(zhǎng)λ的光從包含點(diǎn)Oa 的X-Y平面的法線(xiàn)方向(Ζ方向)以同相入射。而且，線(xiàn)段oa-oa’相當(dāng)于厚度Cl1，線(xiàn)段0。-0?！?相當(dāng)于厚度Φ d2)，在此，考慮透過(guò)它們的光的相位差Δφ。第一像散校正板211的折射率為ns且處于光的透過(guò)側(cè)的介質(zhì)的折射率為nA時(shí)，如圖4所示，在第一像散校正板211中， 透過(guò)厚度Cl1的位置的光路長(zhǎng)度與透過(guò)厚度d2的位置的光路長(zhǎng)度之差(=光路長(zhǎng)度差)成為(Cl1-Cl2) · (ns_nA)。因此，相位差Δφ可由
Δφ=2π · (drd2) · (ns-nA)^[rad] ...(3a)表示。需要說(shuō)明的是，光的透過(guò)側(cè)的介質(zhì)為空氣時(shí)，nA= 1，因此上述式(3a)可由
Δφ=2π · (drd2) · (ns-l)/X[rad]…(3b)表示。另外，設(shè)透過(guò)第一像散校正板211的X-Y平面上的(正交)坐標(biāo)的原點(diǎn)即點(diǎn)Oa的光與在X-Y平面上的任意位置(x，y)沿Z方向透過(guò)的光的相位差的關(guān)系為由fiO^y)表示的函數(shù)。此時(shí)，第一像散校正板211構(gòu)成為，相位差的分布A(Xd)為f\(x，y) = ax3+bxy2— (4a)(其中，a/b=-1/3)。例如，以折射率~的材料構(gòu)成第一像散校正板211時(shí)，以滿(mǎn)足式Ga)的方式基于式(3a)或式(3b)而提供厚度的分布。即，將式(3a)或式(3b)的d2作為與坐標(biāo)(x，y) 對(duì)應(yīng)的厚度的變量，而提供各個(gè)坐標(biāo)的厚度即可。需要說(shuō)明的是，a及b的值是提供相位差的大小的系數(shù)，如后所述，能夠通過(guò)位移量( )的大小來(lái)決定校正的像散的大小。另外，厚度的分布既可以以具有滿(mǎn)足例如式Ga)的物理性的曲面的方式提供，也可以以用具有高低差的方式近似上述的式Ga)而使截面成為階梯形狀的方式提供。作為提供物理性的曲面的方法，能夠使用切削加工、電子射線(xiàn)加工、光刻、注塑成型等。在此截面為階梯形狀是指，例如將與由式Ga)提供的分布對(duì)應(yīng)的第一像散校正板211的曲面的形狀中的最大的差距(高度)分成N個(gè)的多個(gè)范圍，并使進(jìn)入一個(gè)范圍的高度(厚度)近似為同一高度(厚度)。此時(shí)，也能夠形成使階梯數(shù)為N的形狀，能夠從N = 2以上近似，優(yōu)選N =4以上，若N = 8以上，則接近曲面形狀，因此更優(yōu)選。另外，除此以外作為提供物理性的曲面的方法，也可以使用在平面基板上涂敷樹(shù)脂單體，以具有凹凸的模具基板夾入樹(shù)脂單體后，利用紫外線(xiàn)等使其硬化，而使模具基板脫模的方法；或向使平面基板與模具基板對(duì)置而形成的空隙注入樹(shù)脂單體的方法。為了產(chǎn)生脫模性而可以對(duì)模具基板實(shí)施脫模處理，但使用包含含氟單體的材料作為樹(shù)脂時(shí)，不需要對(duì)模具基板的脫模處理，因此優(yōu)選。除含氟單體以外，也可以是包含含氟界面活性劑及含氟聚合物的樹(shù)脂。需要說(shuō)明的是，以下列舉有能夠使用的樹(shù)脂單體。樹(shù)脂單體只要是具有聚合性基團(tuán)的單體即可，并未特別限定，優(yōu)選具有丙烯?；蚓哂屑谆；膯误w，具有乙烯基的單體，具有烯丙基的單體或具有環(huán)氧乙烷基的單體，更優(yōu)選具有丙烯?；蚣谆；膯误w。主成分單體中的聚合性基團(tuán)的數(shù)目?jī)?yōu)選1 4個(gè)，更優(yōu)選1或2個(gè)，特別優(yōu)選1個(gè)。具有聚合性基團(tuán)的單體優(yōu)選(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸酯，(甲基)丙烯酰胺、乙烯醚、乙烯酯、烯丙醚、烯丙酯、或苯乙烯類(lèi)化合物，尤其優(yōu)選(甲基)丙烯酸酯。其中， 在本說(shuō)明書(shū)中，將丙烯酸和甲基烯酸總稱(chēng)為(甲基)丙烯酸，將丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯總稱(chēng)為(甲基)丙烯酸酯，將丙烯酰胺和甲基丙烯酰胺總稱(chēng)為(甲基)丙烯酰胺。作為(甲基)丙烯酸酯的具體例子，列舉有下述的化合物。列舉有(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸芐基酯、(甲基)丙烯酸硬脂基酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸-2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯、 (甲基)丙烯酸甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸四氫糠基酯、(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸-2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸-2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸N，N- 二乙氨基乙酯、(甲基)丙烯酸N，N- 二甲氨基乙酯、(甲基)丙烯酸二甲氨基乙酯、甲基金剛烷基(甲基)丙烯酸酯、乙基金剛烷基(甲基)丙烯酸酯、羥基金剛烷基(甲基)丙烯酸酯、金剛烷基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯等的一(甲基)丙烯酸酯( 7 ( 乂夕)7夕丨J l· 一卜)。另外，列舉有1，3_ 丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，4_ 丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、 1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚氧乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等的二(甲基)丙烯酸酯(^ (J夕)7々 1J > 一卜)。并且，還列舉有具有四個(gè)以上的二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等聚合性基團(tuán)的(甲基)丙烯酸酯。作為乙烯醚的具體例子，列舉有乙基乙烯醚、丙基乙烯醚、異丁基乙烯醚、2-乙基己基乙烯醚、環(huán)己基乙烯醚等的烷基乙烯醚、4-羥基丁基乙烯醚等的(羥基烷基)乙烯。作為乙烯酯的具體例子，列舉有乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、(異)丁酸乙烯酯、戊酸乙烯酯、環(huán)己羧酸乙烯酯、苯甲酸乙烯酯等乙烯酯。作為烯丙醚的具體例子，列舉有乙基烯丙醚、丙基烯丙醚、(異)丁基芳醚、環(huán)己基烯丙醚等烷基烯丙醚。具有環(huán)氧乙烷基的單體列舉有具有環(huán)氧基的單體，具有氧雜環(huán)丁烷基(才#七夕 >基)的單體，具有唑啉基(才# 7、/ >J > )的單體。含氟單體只要是具有聚合性基團(tuán)的含氟單體即可，并無(wú)特別限定，優(yōu)選具有丙烯?；蚣谆；暮鷨误w，具有乙烯基的含氟單體，具有氟代乙烯基的含氟單體，具有烯丙基的含氟單體，或具有環(huán)氧乙烷基的含氟單體。含氟單體中的聚合性基團(tuán)的數(shù)目?jī)?yōu)選1 4個(gè)，更優(yōu)選1或2個(gè)，特別優(yōu)選1個(gè)。另外，含氟單體優(yōu)選(A)式CF2 = CR1-Q-CR2 = CH2所表示的化合物(其中，R1及R2分別獨(dú)立地表示氫原子、氟原子、碳原子數(shù)1 3的烷基、或碳原子數(shù)1 3的氟代烷基，Q為氧原子、由式-NR3_(R3表示氫原子、碳原子數(shù)1 6的烷基、烷基羰基或甲苯磺酰基。)表示的基團(tuán)、 或表示也可以具有官能基的2價(jià)有機(jī)基團(tuán)。以下同樣)，(B)式(CH2 = CXC00)nRF所表示的化合物(其中，η表示1 4的整數(shù)，X表示氫原子、氟原子、甲基或三氟代甲基，RF表示碳原子數(shù)1 30的η價(jià)含氟有機(jī)基團(tuán)。需要說(shuō)明的是，η為2 4時(shí)，多個(gè)X可以相同，也可以不同。)。由式CF2 = CR1-Q-CR2 = CH2表示的化合物中的Q為2價(jià)有機(jī)基團(tuán)時(shí)，是從亞甲、二亞甲、三亞甲、四亞甲、氧亞甲基(才矢* 乂 f > > )、氧聯(lián)二甲基(才矢*夕乂 f > > )、氧聯(lián)三甲基(才矢*卜乂 f > > )及二(氧亞甲基)(夕才矢* 乂 f > > )構(gòu)成的組選擇的基團(tuán)為主鏈且該主鏈中的氫原子由從氟原子、羥基、碳原子數(shù)1 6的烷基、碳數(shù)1 6的羥基烷基、在碳原子-碳原子之間插入有醚性氧原子的碳數(shù)1 6的羥基烷基選擇的基團(tuán)取代后的基團(tuán)，且優(yōu)選該基中的形成碳原子-氫原子鍵的氫原子的1個(gè)以上為由氟原子取代后的基團(tuán)。其中，尤其優(yōu)選-CF2C(CF3) (OH) CH2-, -CF2C(CF3) (OH) -、-CF2C(CF3) (OCH2OCH3) CH2-、-CH2CH(CH2C(CF3)2 (OH) CH2-、或-CH2CH(CH2C(CF3) 0H)-。其中，基團(tuán)的方向表示左側(cè)與 CF2 = CR1-鍵合。作為由式CF2 = CR1-Q-CR2 = CH2表示的化合物的具體例子，列舉有CF2 = CFCH2CH (C (CF3) 20H) CH2CH = CH2，CF2 = CFCH2CH (C (CF3) 20H) CH = CH2，CF2 = CFCH2CH (C (CF3) 20H) CH2CH2CH = CH2，CF2 = CFCH2CH (CH2C (CF3) 20H) CH2CH2CH = CH2，CF2 = CFCH2C (CH3) (CH2SO2F) 2CH2CH = CH2，CF2 = CFCF2C (CF3) (OCH2OCH2) CH2CH = CH2,CF2 = CFCF2C (CF3) (OH) CH = CH2,CF2 = CFCF2C (CF3) (OH) CH2CH = CH2,CF2 = CFCF2C (CF3) (OCH2OCH2CF3) CH2CH = CH2,CF2 = CFCF2C (CF3) (OCH2OCH3) CH2CH = CH2,CF2 = CFOCF2CF (0 (CF2) 30C2H5) CH2CH = CH2，CF2 = CFOCF2CF (OCF2CF2CH2NH2) CH2CH = CH2，CF2 = CFOCF2CF (0 (CF2) 3CN) CH = CH2，CF2 = CFOCF2CF (OCF2CF2SO2F) CH2CH = CH2， CF2 = CFOCF2CF (0 (CF2) 3P0 (OC2H5) 2) CH2CH = CH2,CF2 = CFOCF2CF (OCF2CF2SO2F) CH2CH = CH2。由式(CH2 = CXC00)nRF所表示的化合物中的η優(yōu)選為1或2。X優(yōu)選氫原子或甲基。Rf的碳數(shù)尤其優(yōu)選為4 對(duì)。η為1時(shí)，Rf是1價(jià)含氟有機(jī)基團(tuán)。1價(jià)含氟有機(jī)基團(tuán)優(yōu)選可以在碳原子_碳原子之間插入醚性氧原子的具有聚氟代烷基的1價(jià)含氟有機(jī)基團(tuán)。作為此種1價(jià)含氟有機(jī)基團(tuán)， 尤其優(yōu)選由式-(CH2)fXVso2NR4(CH2)flR^或-(C = 0)NR4(CH2)flRF1 表示的基團(tuán)(其中，Π 表示1 3的整數(shù)，Rfi表示碳原子數(shù)4 16的可以在碳原子-碳原子之間插入醚性氧原子的聚氟代烷基，R4表示氫原子、甲基、或乙基。)。作為聚氟代烷基基團(tuán)(Rn)，優(yōu)選全氟代烷基(《> 7 >才π τ· > >基)，尤其優(yōu)選直鏈全氟代烷基。
η為2時(shí)，Rf是2價(jià)含氟有機(jī)基團(tuán)。2價(jià)含氟有機(jī)基團(tuán)優(yōu)選可以在碳原子-碳原子之間插入醚性氧原子的聚氟代亞烷基，特別優(yōu)選由式-(CH2) f2RF2 (CH2) f3表示的基團(tuán)(其中， f2及f3分別表示1 3的整數(shù)，Rf2表示碳原子數(shù)4 16的可以在碳原子-碳原子之間插入醚性氧原子的聚氟代亞烷基。)。作為聚氟代亞烷基(Rf2)，優(yōu)選全氟代亞烷基(
>才口 7 > >基)，特別優(yōu)選直鏈全氟代亞烷基、及在碳原子-碳原子之間插入醚性氧原子且在側(cè)鏈具有三氟代甲基的全氟代含氧亞烷基。另外，作為由式(CH2 = CXC00)nRF表示的化合物的具體例子，列舉有CH2 = CHCOO2 (CH2) 2 (CF2) 8F,CH2 = CHCOO2 (CH2) 2 (CF2) 6F,CH2 = C (CH3) COO2 (CH2) 2 (CF2) 8F,CH2 = C (CH3) COO2 (CH2) 2 (CF2) 6F,CH2 = CHC00CH2 (CF2) 7F,CH2 = C (CH3) COOCH2 (CF2) 7F,CH2 = CHC00CH2CF2CF2H,CH2 = CHC00CH2 (CF2CF2) 4H,CH2 = C (CH3) C00CH2CF2CF2H,CH2 = C (CH3) COOCH2 (CF2CF2) 4H,CH2 = CHC00CH2CF20CF2CF20CF3,CH2 = CHC00CH2CF20 (CF2CF2O) 3CF3，CH2 = C (CH3) C00CH2CF20CF2CF20CF3，CH2 = C (CH3) COOCH2CF2O (CF2CF2O) 3CF3， CH2 = CHC00CH2 (CF3) 0 (CF2CF (CF3) 0) 2 (CF2) 3CF,CH2 = C (CH3) COOCH2CF (CF3) 0 (CF2CF (CF3) 0) 2 (CF2) 3CF,CH2 = CHC00CH2CF20 (CF2CF2O) 6CF2CH20C0CH = CH2,CH2 = C (CH3) COOCH2CF2O (CF2CF2O) 6CF2CH20C0C (CH3) = CH2，CH2 = CHC00CH2 (CF2) 4CH20C0CH = CH2,CH2 = C (CH3) COOCH2 (CF2) 4CH20C0C (CH3) = CH2。另外，含氟界面活性劑優(yōu)選氟含有量為10 70質(zhì)量％的含氟界面活性劑，特別優(yōu)選氟含有量為20 40質(zhì)量％的含氟界面活性劑。含氟界面活性劑既可以是水溶性也可以是脂溶性。含氟界面活性劑優(yōu)選陰離子性含氟界面活性劑、陽(yáng)離子性含氟界面活性劑、兩性含氟界面活性劑或非離子性含氟界面活性劑。從分散性良好的觀點(diǎn)出發(fā)，特別優(yōu)選非離子性含氟界面活性劑。陰離子性含氟界面活性劑優(yōu)選聚氟代烷基羧酸鹽、聚氟代烷基磷酸酯、或聚氟代烷基磺酸鹽。作為所述界面活性劑的具體例子，列舉有Surflon S-Ill (商品名，清美化學(xué)社制)，F(xiàn)luorad FC-143 (商品名，3M 社制)、MEGAFACE F-120 (商品名，DAINIPPON INK AND CHMICALS INCORPORATED 制)等。陽(yáng)離子性含氟界面活性劑優(yōu)選聚氟代烷基羧酸鹽的三甲基銨鹽或聚氟代烷基磺酰胺的三甲基銨鹽。作為所述界面活性劑的具體例子，列舉有Surflon S-121(商品名，清美化學(xué)社制)、FluoradFC-134 (商品名，3M 社制)、MEGAFACE F-450 (商品名，DAINIPPON INK AND CHMICALS INCORPORATED 制)等。兩性含氟界面活性劑優(yōu)選聚氟代烷基甜菜堿。作為所述界面活性劑的具體例子， 列舉有Surflon S-132 (商品名，清美化學(xué)社制)、Fluorad FX-172 (商品名，3M社制)等。非離子性含氟界面活性劑列舉有聚氟代烷基氧化胺、或聚氟代烷基·亞烷基氧化物加成物、或包含基于具有氟代烷基的單體的單體單元的低聚物或聚合物等。作為氟代烷基，優(yōu)選前期聚氟代烷基(Rn)。非離子性含氟界面活性劑優(yōu)選包含基于具有氟代烷基的單體的單體單元的低聚物或聚合物(質(zhì)量平均分子量為1000 8000)。具有氟代烷基的單體優(yōu)選氟代(甲基)丙烯酸酯，特別優(yōu)選氟代烷基(甲基)丙烯酸酯。作為氟代烷基(甲基)丙烯酸酯，優(yōu)選由所述式(CH2 = CXCOO)i1Rf表示的化合物中的η為1且X為氫原子或甲基的化合物。另外，作為所述非離子性含氟界面活性劑的具體例子，列舉有Surflon S_145(商品名，清美化學(xué)社制)、Surflon S-393 (商品名，清美化學(xué)社制)、Surflon KH-40 (商品名， 清美化學(xué)社制)、Fluorad FC-170 (商品名，3M社制),Fluorad FC-430 (商品名，3M社制)、 MEGAFACE F-444(商品名，DAINIPPON INK AND CHMICALS INCORPORATED 制)、MEGAFACE F-479(商品名，DAINIPPON INK AND CHMICALS INCORPORATED 制)等。含氟聚合物列舉有使由式CF2 = CR1-Q-CR2 = CH2表示的化合物聚合而得到的含氟聚合物，使CF2 = CF2與CH2 = CH0C0CH3共聚而得到的含氟聚合物。作為由式CF2 = CR1-Q-CR2 =CH2表示的化合物的具體例子，列舉有上述化合物。作為含氟聚合物，優(yōu)選使由式CF2 = CR1-Q-CR2 = CH2表示的化合物聚合而得到的含氟聚合物，特別優(yōu)選R1為氟原子，R2為氫原子，Q為從-CF2C(CF3) (OH)CH2-, -CF2C(CF3) (OH) -、-CF2C (CF3) (OCH2OCH3) CH2-、-CH2CH (CH2C (CF3) 20H) CH2-、或-CH2CH (CH2C (CF3) 20H)-中選擇的基。圖5(a)是作為例子，以階梯數(shù)N = 8近似第一像散校正板211的曲面(虛線(xiàn))后的第一像散校正板211a(實(shí)線(xiàn))的剖面示意圖。在此，在階梯數(shù)N = 8時(shí)，以將在式Ga) 所示的函數(shù)中最大的間隙的大小進(jìn)行7等分時(shí)形成的高低差g的中間的高度為基準(zhǔn)而近似成各階梯。在圖5(a)中，設(shè)最高的位置的階梯為S1、依次為&、&、…時(shí)，例如，在&的位置，使比&高g/2的位置和比&低g/2的位置近似為&的位置即可。而且，在以下的實(shí)施方式的像差校正元件中，也能夠同樣地以使截面成為階梯形狀的方式近似。另外，成為階梯形狀的近似并不局限于圖5(a)的例子。圖5(b)是以與圖5(a)相同的階梯數(shù)N = 8且以不同的階梯形狀近似后的第一像散校正板211b (實(shí)線(xiàn))的剖面示意圖的例子。在此，基于式Ga)所示的函數(shù)確定近似后的最大值及最小值，對(duì)該差距的范圍進(jìn)行分割，具體而言，近似后的最大值低于式Ga)的函數(shù)的最大值，而近似后的最小值高于式Ga)的函數(shù)的最小值。圖5(b)將該近似后的最大值與最小值的差距的大小進(jìn)行7等分，確定設(shè)最高的位置為S1、依次為&、&、…、&這8個(gè)階梯。這種情況下，以S1的高度近似式Ga)的函數(shù)的值大于S1的范圍，以&的高度近似函數(shù)的值比S1小且為&以上的范圍。需要說(shuō)明的是，&近似為比&小的值。如此，也能夠形成為在光軸附近沒(méi)有高低差的階梯形狀。而且，近似方法并不局限于此，也可以是近似后的最大值高于式Ga)的函數(shù)的最大值而近似后的最小值低于式Ga)的函數(shù)的最小值的近似方法，階梯數(shù)也可以不局限于8而適當(dāng)變更。而且，以成為此種階梯形狀的方式進(jìn)行近似的情況并不局限于第一像散校正板211，也能夠適用于第二像散校正板212及第二實(shí)施方式以后的各像差校正板，但以下未特別記載時(shí)，就作為具有曲面的像差校正板進(jìn)行說(shuō)明。接下來(lái)，考慮第二像散校正板212。如圖3(a)所示，第二像散校正板212也與第一像散校正板211同樣地具有沿Z方向透過(guò)的光的相位差(厚度)的分布。而且，在X-Y平面上透過(guò)(正交)坐標(biāo)的原點(diǎn)即點(diǎn)Ob的光與在X-Y平面上的任意位置(X，y)沿Z方向透過(guò)的光的相位差的關(guān)系為由&(x，y)表示的函數(shù)時(shí)，具有提供滿(mǎn)足gl(x, y) = -f^x, y)··· (4b)的關(guān)系的分布的結(jié)構(gòu)。需要說(shuō)明的是，這種情況下，當(dāng)光的入射側(cè)的面都平坦時(shí)， 若使連接第二像散校正板212的點(diǎn)Ob和點(diǎn)0b，的Z方向的線(xiàn)沿軸旋轉(zhuǎn)180°，則具有與第一像散校正板211相同的形狀，因此容易使制造工序簡(jiǎn)易化。另外，雖然以向第一像散校正板211及第二像散校正板212入射的光的有效直徑如上所述都相同的情況為前提進(jìn)行了說(shuō)明，但向各個(gè)像散校正板入射的光的有效直徑不同時(shí)，即，使由向第二像散校正板212入射的光的有效直徑D2相對(duì)于向第一像散校正板211入射的光的有效直徑D1所表示的有效直徑比一般化為k( = D2ZiD1)時(shí)，對(duì)上述的式Gb)進(jìn)行變形，具有提供滿(mǎn)足gl (χ, y) = (x/k, y/k)…0c)的關(guān)系的分布的結(jié)構(gòu)即可。以下為了簡(jiǎn)化說(shuō)明，而以D1 = D2、即有效直徑比k= 1 進(jìn)行說(shuō)明。另外，如圖3 (a)所示，第一像散校正板211的點(diǎn)Oa、點(diǎn)0a’和第二像散校正板212的點(diǎn)0b、點(diǎn)0b’存在于一條Z方向的直線(xiàn)上，以滿(mǎn)足式Gb)的方式配置。此時(shí)，從Z方向入射波長(zhǎng)λ的光時(shí)，透過(guò)像散校正元件210的光由于式Gb)的關(guān)系，而使相位差的分布相抵， 透過(guò)任何位置的光的相位都相等。Wigl(LyHf1O^y) =0，因此光以同相向像散校正元件210入射時(shí)，透過(guò)的光也成為同相。如此，并不局限于像散校正元件210，而將向本發(fā)明的像差校正元件入射的光及透過(guò)的光都成為同相時(shí)的兩個(gè)像差校正板的位置關(guān)系定義為“基準(zhǔn)配置”。如此，例如，構(gòu)成光學(xué)頭裝置的光學(xué)部件在以未發(fā)生像差的理想的狀態(tài)組裝時(shí)，能夠通過(guò)構(gòu)成像散校正元件210的第一像散校正板211和第二像散校正板212而不產(chǎn)生透過(guò)的光的相位差。需要說(shuō)明的是，如下所述，因光學(xué)頭裝置等光學(xué)裝置的組裝而產(chǎn)生像散時(shí)， 能夠通過(guò)使第一像散校正板211和第二像散校正板212的位置變化而校正像差。在此，對(duì)像散進(jìn)行校正具體是指相對(duì)于因組裝而產(chǎn)生的像散成分，通過(guò)像散校正元件210產(chǎn)生其反符號(hào)的像散成分。接下來(lái)，說(shuō)明因光學(xué)頭裝置等光學(xué)裝置的組裝而產(chǎn)生像散時(shí)，對(duì)該像散進(jìn)行校正的第一像散校正板211、第二像散校正板212的位置關(guān)系及其原理。圖6是表示構(gòu)成像散校正元件210的兩個(gè)像散校正板的位置關(guān)系的圖，圖6 (a)是表示與圖3(a)相同配置，即第一像散校正板211的點(diǎn)Oa、點(diǎn)0a’和第二像散校正板212的點(diǎn)0b、點(diǎn)0b，存在于一條Z方向的直線(xiàn)上的位置關(guān)系的圖。這種情況下，如上所述，相對(duì)于透過(guò)的光不產(chǎn)生相位差的分布。 此時(shí)，設(shè)將點(diǎn)Oa、點(diǎn)0a’、點(diǎn)Ob及點(diǎn)0b’連接的直線(xiàn)為直線(xiàn)0-0’，以下，將直線(xiàn)0-0’稱(chēng)為“光軸”。
圖6(b)及圖6(c)是表示使第一像散校正板211和第二像散校正板212沿X軸方向，從光軸(基準(zhǔn)配置)分別位移+Χ(Ι、1。時(shí)的位置關(guān)系的示意圖。即，該位移量的絕對(duì)值相同(=k。l)，兩個(gè)像散校正板從光軸(基準(zhǔn)配置)沿X方向各自的位移量為相反符號(hào)即可。在此，設(shè)以光軸(直線(xiàn)0-0’)為基準(zhǔn)平行偏移+ 的直線(xiàn)為直線(xiàn)α-α ’，設(shè)以光軸(直線(xiàn)0-0’ )為基準(zhǔn)平行偏移- 的直線(xiàn)為直線(xiàn)β ’。并且，此時(shí)，考慮透過(guò)距光軸(基準(zhǔn)配置)具有位移量I X01的像散校正元件210 的光的相位差的分布。圖7是從光透過(guò)一側(cè)表示像散校正元件210的X-Y平面得到的示意圖，設(shè)像散校正元件210與光軸的交點(diǎn)為點(diǎn)P，并設(shè)以該點(diǎn)P為X-Y平面上的原點(diǎn)(x，y)= (0,0)。此時(shí)，以同相向像散校正元件210入射而透過(guò)的光的相位差的分布由上述的式Ga) 及式(4b)，(x-x0，y) +gl (x+x0, y) ( = Ii1 (χ, y)。)= {a (χ-χ0) 3+b (x-x0) y2} - {a (x+x0) 3+b (x+x0) y2}將其展開(kāi)，而且 b = _3a，因此能夠提供hi (χ, y) = -6a(x2-y2)x0_2ax03... (5a)。上述的式(5a)的最后的項(xiàng)是透過(guò)像散校正元件210整個(gè)面的光產(chǎn)生的相位差的偏移，因此可以忽略，設(shè)除去該-2aX(13后的函數(shù)h/ (x,y)為h/ (X，y) = -6a(x2-y2) x0··· (5b)。上述的式(5b)是基于正交坐標(biāo)的相位差的分布，若變換成極坐標(biāo)進(jìn)行表示，則如圖7所示，以點(diǎn)P為原點(diǎn)(0，0)而提供任意的點(diǎn)P’，設(shè)P-P’的距離為P，并設(shè)以X軸為基準(zhǔn)而與線(xiàn)段P-P’所成的角度為θ (逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)的方向?yàn)檎?時(shí)，可以由h/ (P，θ ) =-6a P 2 Ocos2 θ-1) …(5c)提供。S卩，式(5c)能夠與位移量&的大小成比例而產(chǎn)生像散成分。例如，在另一光學(xué)系統(tǒng)產(chǎn)生的像散的分布由基于上述的式(Ia)的像散的關(guān)系式為3 92(2(0829-1)，想要對(duì)基于此的相位差的分布進(jìn)行校正的情況下，在式(5c)中設(shè)定為a = 1時(shí)，以成為位移量^ = 0. 5的方式進(jìn)行調(diào)整，由此，通過(guò)產(chǎn)生-3 P 2 (2cos2 θ -1)的像散，而能夠使通過(guò)光學(xué)系統(tǒng)產(chǎn)生的像散相抵。如此，設(shè)像散校正元件210的移動(dòng)方向?yàn)閄軸方向，但使用像差校正裝置200的光學(xué)系統(tǒng)是具備透鏡(光瞳)可沿與光軸正交的方向移動(dòng)的機(jī)構(gòu)的光學(xué)裝置時(shí)，因?yàn)橐韵碌睦碛桑裆⑿Ｕ?10的移動(dòng)方向設(shè)為與透鏡(光瞳)的移動(dòng)方向正交的方向(這種情況下為Y軸方向)即可。例如，在像散校正元件210與未圖示的透鏡的移動(dòng)方向一致時(shí)，需要使各個(gè)像散校正板的寬度增大將透鏡的最大可移動(dòng)距離和第一像散校正板211、第二像散校正板212的最大位移距離相加后的量。另一方面，透鏡(光瞳)的移動(dòng)方向與像散校正元件210的移動(dòng)方向正交時(shí)，也可以不是分別在一方的方向上具有大的寬度的像散校正板，在像散校正板的位置上存在寬度限制的光學(xué)系統(tǒng)中有效。例如，以光學(xué)頭裝置所使用的物鏡為對(duì)象時(shí)，如上述的說(shuō)明所示，使像散校正元件210能夠在與物鏡的透鏡移動(dòng)方向正交的方向上移動(dòng)即可。
另外，如上述的說(shuō)明所示，像散校正元件210的移動(dòng)方向與透鏡的移動(dòng)方向都相同時(shí)，各個(gè)像散校正板的寬度增大。設(shè)該方向?yàn)閄軸方向時(shí)，曲面的最大值與最小值之差 (=相位差)增大第一像散校正板211及第二像散校正板212的X軸方向的寬度變寬的量。例如，在式Ga)中，考慮使χ可取得的范圍為+1.0，由于寬度增大而χ可取得的范圍為-1.1彡+1.1。此外，簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)，若設(shè)a= 1，y = 0(X軸上的截面)，則在-1. 0 < χ < +1. 0時(shí)，第一像散校正板211的Y軸上的相位差成為2，但在-1. 1 < χ彡+1. 1 時(shí)，第一像散校正板211的Y軸上的相位差約增大為2. 7。即，寬度增大時(shí)，曲面的物理性的高低差也對(duì)應(yīng)于相位差而增大。此時(shí)，例如，如圖5(a)所示，若以階梯形狀近似，則在凹凸的高低差(高度的最大值與最小值之差)較大時(shí)，相鄰的階梯彼此的高低差g也增大，因此相對(duì)于式Ga)的曲面的函數(shù)而產(chǎn)生大的殘留像差。另一方面，透鏡的移動(dòng)方向?yàn)閅方向時(shí)，能夠減小各個(gè)像散校正板的寬度，因此即使在近似為相同階梯數(shù)N的階梯形狀時(shí)，也能夠減小相對(duì)于式Ga)的曲面的函數(shù)產(chǎn)生的殘留像差。另外，除此之外，也可以使式Ga)及式Gb)為相對(duì)于X-Y平面添加了俯仰成分的函數(shù)。在此，設(shè)第一像散校正元件211的俯仰成分的相位差的分布為、(χ，y)，并設(shè)第二像散校正元件212的俯仰成分的分布為t2 (χ, y)時(shí)，具體而言，能夠由tjx，y) = tAx+tBy Gd)t2(x, y) = -t^x, y) ··· (4e)(其中，tA3B為常數(shù))表示。并且，在基于式Ga)的第一像散校正板211的相位差的分布中添加式Gd) 的成分，在基于式Gb)的第二像散校正板212的相位差的分布中添加式Ge)的成分即可。在此，作為第一像散校正元件211，基于Khy)，考慮添加了俯仰成分的相位差的分布而一般化后的函數(shù)f1T(x，y)成為f1T (χ, y) = ax3+bxy2+tAx+tBy··· (4f)a/b = _l/3(a、b、tA3B 為系數(shù))，作為第二像散校正元件212，為基于&(x，y)考慮添加了俯仰成分的相位差的分布而一般化后的函數(shù)(X，y)滿(mǎn)足g1T (χ, y) = -f1T (x，y)…(4g)的曲面或基于所述函數(shù)而近似成階梯狀的形狀。需要說(shuō)明的是，在式Gf)及式 (4g)中，、及、包含0，若tA =、= 0，則分別相當(dāng)于式(4a)及式(4b)。此時(shí)，使包含俯仰成分的第一像散校正元件211和第二像散校正元件212分別移動(dòng)+&、-X0時(shí)，以同相向像散校正元件210入射而透過(guò)的光的相位差的分布具有在式(5a) 中又添加了俯仰成分的相位差分布。并且，俯仰成分的相位差的分布由上述的式Gd)及式 (4e)，利用ti (x-x0, y) +t2 (x+x0, y) ( = ts (χ, y)。)= It1 (χ-χ0)+t2y}_ It1 (x+x0)+t2y}，ts(x，y) = _2tw ^i)提供。在此，式是在透過(guò)像散校正元件210整個(gè)面的光中產(chǎn)生的相位差的偏移，因此可以忽略，從而第一像散校正板211和第二像散校正板212如式Gg)所示，即使函數(shù)為相互補(bǔ)充的俯仰成分，相位差的分布也不變化。接下來(lái)，對(duì)包含俯仰成分的相位差分布的函數(shù)與近似為階梯形狀的像散校正板的截面形狀的關(guān)系進(jìn)行說(shuō)明。圖8(a)是將y = 0的截面中的基于式Ga)的第一像散校正板211的曲面(虛線(xiàn))以階梯數(shù)N = 4近似后的第一像散校正板211c(實(shí)線(xiàn))的剖面示意圖。并且，圖8(b)是將具有對(duì)圖8(a)的曲面添加了俯仰成分的式Gf)的曲面的第一像散校正板211t的曲面(虛線(xiàn))以階梯數(shù)N = 4近似后的第一像散校正板211d(實(shí)線(xiàn))的剖面示意圖。例如，以階梯形狀近似第一像散校正板211的截面時(shí)，如接近式Ga)那樣，也能夠以增大階梯數(shù)N而減小高低差的方式形成，但通過(guò)提供添加了俯仰成分的式Gf)的曲面， 即使增大階梯數(shù)N，也能夠得到接近曲面的分布。若能夠如此減小曲面與階梯的位置之差， 則也能夠減小因該差而產(chǎn)生的殘留像差。因此，相對(duì)于如圖8(a)所示將不含俯仰成分的曲面以階梯數(shù)N = 4近似后的第一像散校正板211c，將包含俯仰成分的曲面近似后的第一像散校正板211d即使為相同階梯數(shù)的情況下，也能夠進(jìn)一步減小殘留像差，從而能夠?qū)崿F(xiàn)高精度的像差校正。需要說(shuō)明的是，如此包含俯仰成分的相位差的像差校正元件并不局限于像散校正元件210，在后述的第二實(shí)施方式以后的各像差校正元件中也能夠同樣適用。需要說(shuō)明的是，由于設(shè)有效直徑比k = 1，所以說(shuō)明了兩個(gè)像散校正板的位移量都為IXqI的情況，但在有效直徑比k乒1且第一像散校正板211的移動(dòng)距離為+ 時(shí)，以使第二像散校正板212的移動(dòng)距離成為的方式通過(guò)位置調(diào)整部進(jìn)行控制即可。另外，通過(guò)式(5c)的像散的分布，能夠在X-Y平面上使以X方向及Y方向?yàn)檩S而對(duì)稱(chēng)產(chǎn)生的像散相抵，但在X-Y平面上相對(duì)于以處于X方向與Y方向之間的任意的方向?yàn)檩S而對(duì)稱(chēng)產(chǎn)生的像散(例如+45°方向)，使像散校正元件210以圖7的像散校正元件210 的光軸(點(diǎn)P)為中心旋轉(zhuǎn)(+45° )，而使X軸的方向或Y軸的方向與產(chǎn)生的像散的成為對(duì)稱(chēng)的軸一致即可。這種情況下，位置調(diào)整部220除了使第一像散校正板211和第二像散校正板212相互向相反的方向移動(dòng)的機(jī)構(gòu)之外，具有以光軸為中心使像散校正元件210旋轉(zhuǎn)的機(jī)構(gòu)即可。根據(jù)本實(shí)施方式的像差校正裝置，相對(duì)于產(chǎn)生的像散不忽略高次的項(xiàng)，能夠不伴隨大的誤差而可靠地校正像散。(第二實(shí)施方式)圖9 (a)是表示第二實(shí)施方式的像差校正裝置300的示意圖，由第一像散校正元件 310和第二像散校正元件320及位置調(diào)整部330構(gòu)成。而且，第一像散校正元件310和第二像散校正元件320與第一實(shí)施方式的像散校正元件210相同，第二像散校正元件320配置在從第一像散校正元件310以光軸為中心旋轉(zhuǎn)了例如45°的方向上。圖9(b)是表示第一像散校正元件310和第二像散校正元件320的俯視示意圖。構(gòu)成第一像散校正元件310的第一像散校正板311和第二像散校正板312與第一實(shí)施方式的像散校正元件210同樣地可從基準(zhǔn)配置向X方向移動(dòng)，構(gòu)成第二像散校正元件 320的第三像散校正板321和第四像散校正板322可從基準(zhǔn)配置向相對(duì)于X方向成45°的角度的方向移動(dòng)。通過(guò)該結(jié)構(gòu)，能夠利用第一像散校正元件310使在X-Y平面上以X方向及Y方向?yàn)檩S而對(duì)稱(chēng)產(chǎn)生的像散相抵，且能夠利用第二像散校正元件320使在X-Y平面上以相對(duì)于X方向及Y方向成45°的角度的方向?yàn)檩S而對(duì)稱(chēng)產(chǎn)生的像散相抵。由此，通過(guò)進(jìn)行使構(gòu)成第一像散校正元件310的第一像散校正板311與第二像散校正板312的移動(dòng)距離及、構(gòu)成第二像散校正元件320的第三像散校正板321與第四像散校正板322的移動(dòng)距離分別沿直線(xiàn)方向移動(dòng)的調(diào)整，而能夠高精度地對(duì)在X-Y平面上以處于X方向與Y方向之間的任意的方向?yàn)檩S而對(duì)稱(chēng)產(chǎn)生的像散進(jìn)行校正。需要說(shuō)明的是，該角度并不局限于45°，也可以是135°、225°或315°，當(dāng)設(shè)m為1、3、5、7的任一整數(shù)時(shí)，為 (mX45)°即可。如此，通過(guò)本實(shí)施方式的像差校正裝置，相對(duì)于其他光學(xué)系統(tǒng)產(chǎn)生的像散， 能夠不伴隨大的誤差而可靠地對(duì)像散進(jìn)行校正。另外，若向第三像散校正板321及第二像散校正板322入射的光的有效直徑分別為D3、04且04/1)3 = 1^倍，則在一般化時(shí)，對(duì)上述的式Gg)進(jìn)行變形，提供滿(mǎn)足g1T(x，y) = -f1T(x/k，，y/k，)}的關(guān)系的分布的結(jié)構(gòu)即可。而且，第三像散校正板321沿相對(duì)于X軸成(mX45) °的角度的方向的移動(dòng)距離為+χ。’時(shí)，以使第四像散校正板322的移動(dòng)距離成為_(kāi)k’ Xx0'的方式通過(guò)位置調(diào)整部進(jìn)行控制即可。(第三實(shí)施方式)在第二實(shí)施方式中，示出了在X-Y平面上第一像散校正元件310的移動(dòng)方向與第二像散校正元件320的移動(dòng)方向相差(mX45)°的像差校正裝置300的結(jié)構(gòu)，但第三實(shí)施方式的像差校正裝置400中，通過(guò)使兩個(gè)像散校正元件在X-Y平面上沿同一方向移動(dòng)而對(duì)以任意的方向?yàn)檩S而對(duì)稱(chēng)產(chǎn)生的像散進(jìn)行校正。圖10(a)是表示第三實(shí)施方式的像差校正裝置400的示意圖，包括第一像散校正元件310和第二像散校正元件420及位置調(diào)整部430。而且，第一像散校正元件具有與第二實(shí)施方式的第一像散校正元件310相同的結(jié)構(gòu)，在此省略說(shuō)明。接下來(lái)，對(duì)第二像散校正元件420進(jìn)行說(shuō)明。第二像散校正元件420構(gòu)成為，第三像散校正板421和第四像散校正板 422平行配置。而且，圖10(b)是表示第三像散校正板421和第四像散校正板422沿X方向錯(cuò)開(kāi)時(shí)的位置關(guān)系的示意圖。在此，相對(duì)于透過(guò)第三像散校正板421的X-Y平面上的(正交)坐標(biāo)的原點(diǎn)即點(diǎn) Od的光，設(shè)在X-Y平面上的任意位置(X，y)上沿Z方向透過(guò)的光的相位差的關(guān)系為由f2(x， y)表示的函數(shù)。此時(shí)，第三像散校正板421構(gòu)成為，相位差的分布&0^，7)為f2(x，y) = Ax2y'·· (6a)(Α為系數(shù))。需要說(shuō)明的是，A的值為提供相位差的大小的系數(shù)，如后所述，能夠根據(jù)位移量( )的大小決定進(jìn)行校正的像散的大小。另外，關(guān)于上述的式(6a)，與第一實(shí)施方式同樣地考慮到添加了式Gd)的俯仰成分的相位差的分布時(shí)，一般化后的函數(shù)f2T(x，y)為f2T(x，y) = Ax2y+tAx+tBy... (6b)(A、tA、tB 為系數(shù))。而且，、及、包含0，、=、=0時(shí)，相當(dāng)于式(6&)。接下來(lái)，考慮第四像散校正板422。如圖10(b)所示，第四像散校正板422也與第三像散校正板421同樣地具有沿Z方向透過(guò)的光的相位差(厚度)的分布。而且，相對(duì)于在X-Y平面上透過(guò)(正交)坐標(biāo)的原點(diǎn)即點(diǎn)Oe的光，使在X-Y平面上的任意位置(x，y)沿 Z方向透過(guò)的光的相位差的關(guān)系為由&(x，y)表示的函數(shù)時(shí)，具有提供滿(mǎn)足g2T (χ, y) = -f2T (x，y)... (6c)的關(guān)系的分布的結(jié)構(gòu)。
另外，雖然以向第三像散校正板421及第四像散校正板422入射的光的有效直徑如上所述都相同的情況為前提進(jìn)行了說(shuō)明，但在向各個(gè)像散校正板入射的光的有效直徑不同時(shí)，即，由向第四像散校正板422入射的光的有效直徑D4相對(duì)于向第三像散校正板421入射的光的有效直徑D3所表示的有效直徑比一般化為k’ ( = D4/D3)時(shí)，對(duì)上述的式(6c)進(jìn)行變形，具有提供滿(mǎn)足g2T (χ, y) = -f2T (x/k，，y/k，)... (6d)的關(guān)系的分布的結(jié)構(gòu)即可。以下，為了簡(jiǎn)化說(shuō)明，而以設(shè)D3 = D4即有效直徑比k’ =1、而且tA =、= 0即沒(méi)有俯仰成分的情況進(jìn)行說(shuō)明。在此，與第一像散校正元件310同樣地，第二像散校正元件420也從基準(zhǔn)配置使第三像散校正板421及第四像散校正板422分別位移+Xq、iq。同樣地，該位移量的絕對(duì)值相同(=k。|)，兩個(gè)像散校正板從基準(zhǔn)配置沿X方向各自的位移量為相反符號(hào)即可。在此， 設(shè)以光軸(直線(xiàn)0-0’)為基準(zhǔn)平行偏移了+ 的直線(xiàn)為直線(xiàn)CI1-Ci/,并設(shè)以光軸(直線(xiàn) 0-0’)為基準(zhǔn)平行偏移了- 的直線(xiàn)為直線(xiàn) ^-β/。需要說(shuō)明的是，該位移量IxcJ表示任意的值，實(shí)際上并不一定提供與相對(duì)于第一像散校正元件310提供的位移量IxcJ相同的值。并且，此時(shí)，考慮透過(guò)從基準(zhǔn)配置具有位移量IxcJ的第二像散校正元件420的光的相位差的分布，設(shè)與光軸相交的X-Y平面上的原點(diǎn)(X，y) = (0，0)。此時(shí)，以同相向第二像散校正元件420入射而透過(guò)的光的相位差的分布由上述的式(6b)及式(6c)，為f2T (x-x0, y) +g2T (x+x0, y) ( = h2 (χ, y)。)= A (x-x0) 2y-A (x+x0) V，將其展開(kāi)，能夠提供h2 (χ, y) = -4Ax0xy··· (7a)。上述的式(7a)是基于正交坐標(biāo)的相位差的分布，變換成極坐標(biāo)進(jìn)行表示時(shí)，與圖 7的極坐標(biāo)的關(guān)系同樣地，以點(diǎn)P為原點(diǎn)(0，0)而提供任意的點(diǎn)P’，設(shè)P-P’的距離為P，并設(shè)以X軸為基準(zhǔn)而與線(xiàn)段P-P’所成的角度為θ (逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)的方向?yàn)檎?時(shí)，能夠由h2(p , θ ) =-4Ax0P 2sin θ · cos θ ... (7b)提供。S卩，式(7b)能夠與位移量&的大小成比例地產(chǎn)生像散成分。例如，其他光學(xué)系統(tǒng)中產(chǎn)生的像散的分布由基于上述的式(Ib)的像散的關(guān)系式為2 P 2Sin θ ^ose，在式(7b) 中設(shè)定為A = 1時(shí)，通過(guò)以成為位移量& = 0. 5的方式進(jìn)行調(diào)整，而產(chǎn)生-2 P 2Sin θ -cos θ 的像散，從而能夠使θ =45°及θ =135°方向上產(chǎn)生的像散相抵。如此，第三實(shí)施方式的像差校正裝置400僅通過(guò)具備利用位置調(diào)整部430沿X-Y平面的一個(gè)方向(例如X方向) 移動(dòng)的機(jī)構(gòu)，就能夠?qū)σ訶方向或Y方向?yàn)檩S而對(duì)稱(chēng)產(chǎn)生的像散成分及以θ =45°及θ =135°方向?yàn)檩S而對(duì)稱(chēng)產(chǎn)生的像散成分的任一個(gè)進(jìn)行校正，因此其結(jié)果是，能夠高精度地對(duì)沿X-Y面上的任意的方向產(chǎn)生的像散進(jìn)行校正。如此，通過(guò)本實(shí)施方式的像差校正裝置， 相對(duì)于通過(guò)其他光學(xué)系統(tǒng)產(chǎn)生的像散，能夠不伴隨大的誤差而可靠地對(duì)像散進(jìn)行校正。需要說(shuō)明的是，為了簡(jiǎn)便起見(jiàn)，而設(shè)有效直徑比k’ = 1而且兩個(gè)像散校正板的位移量都為IxqI進(jìn)行了說(shuō)明，但有效直徑比k’乒1且第三像散校正板421的移動(dòng)距離為+χ。’ 時(shí)，以使第四像散校正板422的移動(dòng)距離成為_(kāi)kX&’的方式通過(guò)位置調(diào)整部進(jìn)行控制即可。(第四實(shí)施方式)到此為止的實(shí)施方式的像差校正差裝置，說(shuō)明了對(duì)于一個(gè)像差校正板作為位移的參數(shù)向一個(gè)方向的平行移動(dòng)即關(guān)于士 ^進(jìn)行移動(dòng)的方式，但第四實(shí)施方式為對(duì)于一個(gè)像差校正板通過(guò)改變平行移動(dòng)的兩個(gè)方向(X方向、Y方向)而對(duì)像差進(jìn)行校正的方式。而且， 以下說(shuō)明的向兩個(gè)像差校正板入射的光的有效直徑例如設(shè)為DpD2而設(shè)有效直徑比k = D2/ D1時(shí)的各個(gè)像差校正板的分布及從基準(zhǔn)配置向X軸方向或Y軸方向移動(dòng)的距離的考慮方法與第一至第三實(shí)施方式相同，因此在包含第四實(shí)施方式的以下的實(shí)施方式中省略說(shuō)明，說(shuō)明向兩個(gè)像差校正板入射成為相同有效直徑的光的情況(k = 1)。圖11 (a)是使用第一實(shí)施方式的像散校正元件210的像差校正裝置720的示意圖，由像散校正元件210和位置調(diào)整部730構(gòu)成。構(gòu)成像散校正元件210的第一像散校正板211和第二像散校正板212的相位分布與第一實(shí)施方式中說(shuō)明的情況相同。并且，位置調(diào)整部730具有使第一像散校正板211和第二像散校正板212不僅沿X方向而且沿Y方向也相互向相反方向移動(dòng)相同距離的機(jī)構(gòu)。在本實(shí)施方式中，通過(guò)使兩個(gè)像散校正板如此在 X-Y平面進(jìn)行二維移動(dòng)，除了以X方向及Y方向?yàn)檩S而對(duì)稱(chēng)產(chǎn)生的像散之外，還能夠?qū)σ驭?=45°及θ = 135°方向?yàn)檩S而對(duì)稱(chēng)產(chǎn)生的像散進(jìn)行校正，關(guān)于其原理在下面進(jìn)行說(shuō)明。圖11(b)是表示使第一像散校正板211和第二像散校正板212沿X軸方向從光軸 (基準(zhǔn)配置)分別位移+xQ、-h，進(jìn)而沿Y軸方向分別位移+yQ、-yQ時(shí)的位置關(guān)系的示意圖。 在此，設(shè)以光軸(直線(xiàn)0-0’)為基準(zhǔn)平行偏移了+ 及的直線(xiàn)為直線(xiàn)α-α ’，并設(shè)以光軸(直線(xiàn)0-0’ )為基準(zhǔn)平行偏移了 - 及-ytl的直線(xiàn)為直線(xiàn)β ’。并且，此時(shí)，考慮透過(guò)距光軸(基準(zhǔn)配置)具有位移量I X01及I y01的像散校正元件210的光的相位差的分布?；趫D7，設(shè)像散校正元件210與光軸的交點(diǎn)為點(diǎn)P，并設(shè)該點(diǎn)P為X-Y平面上的原點(diǎn)(x，y) = (0,0)o此時(shí)，為了簡(jiǎn)便起見(jiàn)，設(shè)像散校正元件210為、 = tB = 0即沒(méi)有俯仰成分時(shí)，以同相向像散校正元件210入射而透過(guò)的光的相位差的分布由上述的式(4f)及式(4g)，為f1T (x-x0, y-y0) +g1T (x+x0, y+y0) ( = h5 (x, y)。)
= -6x0 (x2-y2) +12y0 (xy) -2Χ(13+6 Υ(12 …(8a)
。在此，式(8a)的第三項(xiàng)及第四項(xiàng)是在透過(guò)像散校正元件210整個(gè)面的光中產(chǎn)生的相位差的偏移，因此可以忽略，使除去該后的函數(shù)進(jìn)而形成極坐標(biāo)h5(P，Θ) 時(shí)，成為h5 ( P，θ ) = -6χ0 ρ 2 (2cos2 θ -1) +12y0 P 2sin θ cos θ ... (8b)。在此，式(8b)的第一項(xiàng)相當(dāng)于式(la)，第二項(xiàng)相當(dāng)于式(lb)。因此，關(guān)于以X方向及Y方向?yàn)檩S而對(duì)稱(chēng)產(chǎn)生的像散、及以θ =45°及θ =135°方向?yàn)檩S而對(duì)稱(chēng)產(chǎn)生的像散，通過(guò)使第一像散校正板211及第二像散校正板212分別沿X軸方向及Y軸方向相互向相反方向移動(dòng)相同距離，而能夠可靠地對(duì)所有成分的像散進(jìn)行校正。需要說(shuō)明的是，對(duì)像散校正元件210以沒(méi)有俯仰成分的情況進(jìn)行了說(shuō)明，但第一像散校正板211及第二像散校正板212也可以為分別包含俯仰成分的形狀。
(第五實(shí)施方式)在第五實(shí)施方式中，同樣地使用像散校正元件210，但通過(guò)僅使一方的像散校正板沿X方向及Y方向移動(dòng)，除了以X方向及Y方向?yàn)檩S而對(duì)稱(chēng)產(chǎn)生的像散之外，也能夠?qū)σ?θ =45°及θ = 135°方向?yàn)檩S而對(duì)稱(chēng)產(chǎn)生的像散進(jìn)行校正，其原理如下進(jìn)行說(shuō)明。圖 12(a)是像差校正裝置740的示意圖，包括像散校正元件210和位置調(diào)整部741。構(gòu)成像散校正元件210的第一像散校正板211和第二像散校正板212的相位差的分布與在第一實(shí)施方式中說(shuō)明的情況相同。并且，位置調(diào)整部741具有使第一像散校正板211不僅沿X方向而且沿Y方向移動(dòng)的機(jī)構(gòu)。另外，圖12(b)是表示使第一像散校正板211沿X軸方向從光軸(基準(zhǔn)配置)位移+ ，進(jìn)而沿Y軸方向位移+yo時(shí)的位置關(guān)系的示意圖。在此，設(shè)以光軸(直線(xiàn)0-0’)為基準(zhǔn)平行偏移了 + 及的直線(xiàn)為直線(xiàn)α - α ’。并且，此時(shí)，考慮透過(guò)第一像散校正板211從光軸(基準(zhǔn)配置)形成位移量+ 及 +Y0的像散校正元件210的光的相位差的分布。基于圖7，設(shè)像散校正元件210與光軸的交點(diǎn)為點(diǎn)P，并設(shè)該點(diǎn)P為X-Y平面上的原點(diǎn)(X，y) = (0,0) 0此時(shí)，為了簡(jiǎn)便起見(jiàn)，設(shè)像散校正元件210為tA = tB = 0即沒(méi)有俯仰成分時(shí)，以同相向像散校正元件210入射而透過(guò)的光的相位差的分布由上述的式Gf)及式(4g)，為f1T(x_x0, y_y0)+g1T(x, y) ( = h6(x, y) ο )= -3x0 (x2-y2) +6y0 (xy) + (3x02-3y02) x_6x0y0y-x03+3x0y02··· (9a)。在此，式(9a)的第五項(xiàng)及第六項(xiàng)是在透過(guò)像散校正元件210整個(gè)面的光中產(chǎn)生的相位差的偏移，因此可以忽略，再將除去該后的函數(shù)形成為極坐，θ)。 此時(shí)，將對(duì)像差進(jìn)行校正的光的半徑、例如透過(guò)了像散校正元件210的光向具有某瞳徑的物鏡入射時(shí)該物鏡的光瞳的半徑設(shè)為IV而且設(shè)χ = r0p cos θ ... (9b)y = r0P sin θ ... (9c)時(shí)，可以由h6 ( P，θ ) = -3x0r02 P 2cos2 θ +3y0r02 P 2sin2 θ+ (3 x02 -3 x02) r0 P cos θ -6x0y02r0 P sin θ…(9d)表示。在此，設(shè)光瞳上的光路差函數(shù)為Φ (X，y)、第i號(hào)澤尼克(Zernike)函數(shù)為T(mén)^時(shí)， 第i號(hào)澤尼克系數(shù)Ci由式(IOa)表示。[數(shù)學(xué)式1]
權(quán)利要求
1.一種像差校正裝置，具備對(duì)入射的光的相位進(jìn)行調(diào)制的像差校正元件；及能夠使所述像差校正元件沿與所述入射的光的光軸正交的方向移動(dòng)的位置調(diào)整部，其中，所述像差校正元件配置有使透過(guò)的光的相位根據(jù)同相的所述入射的光透過(guò)的位置而不同的第一像差校正板和第二像差校正板，并具有使透過(guò)所述像差校正元件的所述光成為同相的所述第一像差校正板和所述第二像差校正板的配置作為基準(zhǔn)配置，在所述基準(zhǔn)配置中，設(shè)與所述光軸交叉的所述第一像差校正板上的點(diǎn)為點(diǎn)Oa、與所述光軸交叉的所述第二像差校正板上的點(diǎn)為點(diǎn)Ob時(shí)，所述位置調(diào)整部具有能夠使所述第一像差校正板和所述第二像差校正板沿與所述光軸正交的方向移動(dòng)且使所述點(diǎn)(\和所述點(diǎn)Ob從所述基準(zhǔn)配置相互向相反方向移動(dòng)的機(jī)構(gòu)， 及/或能夠使所述第一像差校正板和所述第二像差校正板以所述點(diǎn)Oa及所述點(diǎn)Ob為中心從所述基準(zhǔn)配置相互向相反方向以相同角度旋轉(zhuǎn)移動(dòng)的機(jī)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的像差校正裝置，其中，所述像差校正元件是相對(duì)于所述入射的光產(chǎn)生像散的像散校正元件，將所述第一像差校正板作為第一像散校正板并將所述第二像差校正板作為第二像散校正板，設(shè)向所述第一像散校正板入射的光的有效直徑為Dp向所述第二像散校正板入射的光的有效直徑為DyD2ZD1為有效直徑比k時(shí)，所述第一像散校正板具有如下的曲面的形狀或具有階梯狀地近似于曲面的形狀，該曲面是在與所述光軸正交的X-Y平面上以所述點(diǎn)Oa為原點(diǎn)，作為透過(guò)所述點(diǎn)Oa的所述光的相位與透過(guò)所述第一像散校正板的任意位置(X，y)的所述光的相位之差的相位差的分布函數(shù) f1T(x，y)為f1T(x，y) = ax3+bxy2+tAx+tBy, a/b = -1/3仏、13、、、、為系數(shù)) 的曲面，所述第二像散校正板具有如下的曲面的形狀或具有階梯狀地近似于曲面的形狀，該曲面是在與所述光軸正交的X-Y平面上以所述點(diǎn)Ob為原點(diǎn)，作為透過(guò)所述點(diǎn)Ob的所述光的相位與透過(guò)所述第二像散校正板的任意位置(χ，y)的所述光的相位之差的相位差的分布函數(shù) g1T(x，y)為g1T(x，y) = -f1T (x/k, y/k) 的曲面，所述位置調(diào)整部具有能夠使所述第一像散校正板從所述基準(zhǔn)配置沿X軸移動(dòng)距離&， 且能夠使所述第二像散校正板從所述基準(zhǔn)配置向與所述第一像散校正板的移動(dòng)方向相反的方向移動(dòng)距離的機(jī)構(gòu)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的像差校正裝置，其中，所述像差校正元件是相對(duì)于所述入射的光產(chǎn)生像散的像散校正元件，將所述第一像差校正板作為第一像散校正板并將所述第二像差校正板作為第二像散校正板，設(shè)向所述第一像散校正板入射的光的有效直徑為Dp向所述第二像散校正板入射的光的有效直徑為D^D2ZD1為有效直徑比k時(shí)，所述第一像散校正板具有如下的形狀，該形狀是在與所述光軸正交的X-Y平面上以所述點(diǎn)Oa為原點(diǎn)，作為透過(guò)所述點(diǎn)Oa的所述光的相位與透過(guò)所述第一像散校正板的任意位置 (x，y)的所述光的相位之差的相位差的分布函數(shù)fu(x，y)為 fu(x,y) =AU (χ)(Α為系數(shù)，U(x)是在χ≥0時(shí)為1、在χ < 0時(shí)為0的階梯函數(shù)) 的形狀，所述第二像散校正板具有如下的形狀，該形狀是在與所述光軸正交的X-Y平面上以所述點(diǎn)Ob為原點(diǎn)，作為透過(guò)所述點(diǎn)Ob的所述光的相位與透過(guò)所述第二像散校正板的任意位置 (x，y)的所述光的相位之差的相位差的分布函數(shù)&(X，y)為 gu(x，y) = -fu(x/k, y/k) 的形狀，所述位置調(diào)整部具有能夠使所述第一像散校正板從所述基準(zhǔn)配置沿X軸移動(dòng)距離&， 且能夠使所述第二像散校正板從所述基準(zhǔn)配置向與所述第一像散校正板的移動(dòng)方向相反的方向移動(dòng)距離的機(jī)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的像差校正裝置，其中，所述像差校正元件是相對(duì)于所述入射的光產(chǎn)生像散的像散校正元件，將所述第一像差校正板作為第一像散校正板并將所述第二像差校正板作為第二像散校正板，設(shè)向所述第一像散校正板入射的光的有效直徑為Dp向所述第二像散校正板入射的光的有效直徑為DyD2ZD1為有效直徑比k時(shí)，所述第一像散校正板具有如下的曲面的形狀或具有階梯狀地近似于曲面的形狀，該曲面是在與所述光軸正交的X-Y平面上以所述點(diǎn)Oa為原點(diǎn)，作為透過(guò)所述點(diǎn)Oa的所述光的相位與透過(guò)所述第一像散校正板的任意位置(X，y)的所述光的相位之差的相位差的分布函數(shù) f7T(x，y)為f7T(x，y) = Dx3+tAx+tBy 、、、、為系數(shù)) 的曲面，所述第二像散校正板具有如下的曲面的形狀或具有階梯狀地近似于曲面的形狀，該曲面是在與所述光軸正交的X-Y平面上以所述點(diǎn)Ob為原點(diǎn)，作為透過(guò)所述點(diǎn)Ob的所述光的相位與透過(guò)所述第二像散校正板的任意位置(χ，y)的所述光的相位之差的相位差的分布函數(shù) g7T (χ y)為g7T(x，y) = -f7T (x/k, y/k) 的曲面，所述位置調(diào)整部具有能夠使所述第一像散校正板從所述基準(zhǔn)配置沿X軸移動(dòng)距離&， 且能夠使所述第二像散校正板從所述基準(zhǔn)配置向與所述第一像散校正板的移動(dòng)方向相反的方向移動(dòng)距離的機(jī)構(gòu)。
5.根據(jù)權(quán)利要求2 4中任一項(xiàng)所述的像差校正裝置，其中，所述相位調(diào)整部具有能夠使所述像散校正元件以所述光軸為中心從所述基準(zhǔn)配置沿與所述光軸正交的方向在0° 90°的范圍內(nèi)旋轉(zhuǎn)移動(dòng)的機(jī)構(gòu)。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的像差校正裝置，其中，所述位置調(diào)整部具有能夠使所述第一像散校正板從所述基準(zhǔn)配置沿Y軸移動(dòng)距離％， 且能夠使所述第二像散校正板向與所述第一像散校正板的移動(dòng)方向相反的方向移動(dòng)距離 kXy0的機(jī)構(gòu)。
7.根據(jù)權(quán)利要求2 4中任一項(xiàng)所述的像差校正裝置，其中， 所述像差校正裝置具有兩個(gè)所述像散校正元件，分別設(shè)兩個(gè)所述像散校正元件為第一像散校正元件、第二像散校正元件時(shí)， 所述第一像散校正元件包括所述第一像散校正板和所述第二像散校正板， 所述第二像散校正元件包括與所述第一像散校正板為相同結(jié)構(gòu)的第三像散校正板和與所述第二像散校正板為相同結(jié)構(gòu)的第四像散校正板，設(shè)向所述第三像散校正板入射的光的有效直徑為D3、向所述第四像散校正板入射的光的有效直徑為D4、D4/D3為有效直徑比k’，所述第二像散校正元件配置成在以所述光軸為中心沿與所述光軸正交的X-Y平面旋轉(zhuǎn)了(mX45)°的配置下相對(duì)于所述第一像散校正元件具有相同的相位差的分布(m為1、 3、5、7中的任一個(gè))，所述位置調(diào)整部具有能夠使所述第三像散校正板從所述基準(zhǔn)配置沿相對(duì)于X軸成所述(mX45)°的角度的方向移動(dòng)距離&’，且能夠使所述第四像散校正板從所述基準(zhǔn)配置向與所述第三像散校正板的移動(dòng)方向相反的方向移動(dòng)距離k’ Xx0'的機(jī)構(gòu)。
8.根據(jù)權(quán)利要求2 4中任一項(xiàng)所述的像差校正裝置，其中，所述像差校正裝置具有作為所述像散校正元件的第一像散校正元件和不同于所述像散校正元件的第二像散校正元件，所述第一像散校正元件包括所述第一像散校正板和所述第二像散校正板， 所述第二像散校正元件配置有具有使相位根據(jù)同相的所述入射的光透過(guò)的位置而不同的分布的第三像散校正板和第四像散校正板，設(shè)向所述第三像散校正板入射的光的有效直徑為D3、向所述第四像散校正板入射的光的有效直徑為D4、D4/D3為有效直徑比k’，具有使透過(guò)所述第二像散校正元件的所述光成為同相的所述第一像散校正板和所述第二像散校正板的配置作為基準(zhǔn)配置，在所述基準(zhǔn)配置中，設(shè)與所述光軸交叉的所述第三像散校正板上的點(diǎn)為點(diǎn)0d、與所述光軸交叉的所述第四像散校正板上的點(diǎn)為點(diǎn)Oe時(shí)，所述第三像散校正板具有如下的曲面的形狀或具有階梯狀地近似于曲面的形狀，該曲面是在與所述光軸正交的X-Y平面上以所述點(diǎn)Od為原點(diǎn)，作為透過(guò)所述點(diǎn)Od的所述光的相位與透過(guò)所述第三像散校正板的任意位置(X，y)的所述光的相位之差的相位差的分布函數(shù) f2T(x，y)為f2T(x，y) = Ax2y+tAx+1:By (A、tA、tB為系數(shù)) 的曲面，所述第四像散校正板具有如下的曲面的形狀或具有階梯狀地近似于曲面的形狀，該曲面是在與所述光軸正交的X-Y平面上以所述點(diǎn)Oe為原點(diǎn)，作為透過(guò)所述點(diǎn)Oe的所述光的相位與透過(guò)所述第四像散校正板的任意位置(χ，y)的所述光的相位之差的相位差的分布函數(shù)g2U，y)為g2T(x，y) = -f2T (x/k, y/k)的曲面，所述位置調(diào)整部具有能夠使所述第三像散校正板從所述基準(zhǔn)配置沿X軸移動(dòng)距離， 且能夠使所述第四像散校正板從所述基準(zhǔn)配置向與所述第三像散校正板的移動(dòng)方向相反的方向移動(dòng)距離k’ Xx0'的機(jī)構(gòu)。
9.一種像差校正裝置，具備對(duì)入射的光的相位進(jìn)行調(diào)制的像差校正元件；及能夠使所述像差校正元件沿與所述入射的光的光軸正交的方向移動(dòng)的位置調(diào)整部，其中，所述像差校正元件配置有使透過(guò)的光的相位根據(jù)同相的所述入射的光透過(guò)的位置而不同的第一像散校正板和第二像散校正板，設(shè)向所述第一像散校正板入射的光的有效直徑為Dp向所述第二像散校正板入射的光的有效直徑為DyD2ZD1為有效直徑比k，具有使透過(guò)所述像差校正元件的所述光成為同相的所述第一像散校正板和所述第二像散校正板的配置作為基準(zhǔn)配置，在所述基準(zhǔn)配置中，設(shè)與所述光軸交叉的所述第一像散校正板上的點(diǎn)為點(diǎn)Oa、與所述光軸交叉的所述第二像散校正板上的點(diǎn)為點(diǎn)Ob時(shí)，所述第一像散校正板具有如下的曲面的形狀或具有階梯狀地近似于曲面的形狀，該曲面是在與所述光軸正交的X-Y平面上以所述點(diǎn)Oa為原點(diǎn)，作為透過(guò)所述點(diǎn)Oa的所述光的相位與透過(guò)所述第一像散校正板的任意位置(X，y)的所述光的相位之差的相位差的分布函數(shù) f1T(x，y)為f1T(x，y) = ax3+bxy2+tAx+tBy, a/b = -1/3仏、13、、、、為系數(shù)) 的曲面，所述第二像散校正板具有如下的曲面的形狀或具有階梯狀地近似于曲面的形狀，該曲面是在與所述光軸正交的X-Y平面上以所述點(diǎn)Ob為原點(diǎn)，作為透過(guò)所述點(diǎn)Ob的所述光的相位與透過(guò)所述第二像散校正板的任意位置(χ，y)的所述光的相位之差的相位差的分布函數(shù) g1T(x，y)為g1T(x，y) = -f1T (x/k, y/k) 的曲面，所述位置調(diào)整部具有能夠使所述第一像散校正板和所述第二像散校正板中的任一方沿與所述光軸正交的方向移動(dòng)且沿X軸方向及Y軸方向移動(dòng)的機(jī)構(gòu)。
10.一種像差校正裝置，具備對(duì)入射的光的相位進(jìn)行調(diào)制的像差校正元件；及能夠使所述像差校正元件沿與所述入射的光的光軸正交的方向移動(dòng)的位置調(diào)整部，其中，所述像差校正元件配置有使透過(guò)的光的相位根據(jù)同相的所述入射的光透過(guò)的位置而不同的第一像散校正板和第二像散校正板，設(shè)向所述第一像散校正板入射的光的有效直徑為Dp向所述第二像散校正板入射的光的有效直徑為DyD2ZD1為有效直徑比k，具有使透過(guò)所述像差校正元件的所述光成為同相的所述第一像散校正板和所述第二像散校正板的配置作為基準(zhǔn)配置，在所述基準(zhǔn)配置中，設(shè)與所述光軸交叉的所述第一像散校正板上的點(diǎn)為點(diǎn)Oa、與所述光軸交叉的所述第二像散校正板上的點(diǎn)為點(diǎn)Ob時(shí)，所述第一像散校正板具有如下的曲面的形狀或具有階梯狀地近似于曲面的形狀，該曲面是在與所述光軸正交的X-Y平面上以所述點(diǎn)Oa為原點(diǎn)，作為透過(guò)所述點(diǎn)Oa的所述光的相位與透過(guò)所述第一像散校正板的任意位置(χ，y)的所述光的相位之差的相位差的分布函數(shù) f7T(x，y)為f7T(x，y) = Dx3+tAx+tBy 、、、、為系數(shù)) 的曲面，所述第二像散校正板具有如下的曲面的形狀或具有階梯狀地近似于曲面的形狀，該曲面是在與所述光軸正交的X-Y平面上以所述點(diǎn)Ob為原點(diǎn)，作為透過(guò)所述點(diǎn)Ob的所述光的相位與透過(guò)所述第二像散校正板的任意位置(χ，y)的所述光的相位之差的相位差的分布函數(shù) g7T (χ y)為g7T(x，y) = -f7T (x/k, y/k) 的曲面，所述位置調(diào)整部具有能夠使所述第一像散校正板和所述第二像散校正板中的任一方沿與所述光軸正交的方向移動(dòng)且沿X軸方向移動(dòng)的機(jī)構(gòu)。
11. 一種像差校正裝置，具備 對(duì)入射的光的相位進(jìn)行調(diào)制的像差校正元件；及能夠使所述像差校正元件沿與所述入射的光的光軸正交的方向移動(dòng)的位置調(diào)整部，其中，所述像差校正元件配置有使透過(guò)的光的相位根據(jù)同相的所述入射的光透過(guò)的位置而不同的第一像散校正板和第二像散校正板，設(shè)向所述第一像散校正板入射的光的有效直徑為Dp向所述第二像散校正板入射的光的有效直徑為DyD2ZD1為有效直徑比k，具有使透過(guò)所述像差校正元件的所述光成為同相的所述第一像散校正板和所述第二像散校正板的配置作為基準(zhǔn)配置，在所述基準(zhǔn)配置中，設(shè)與所述光軸交叉的所述第一像散校正板上的點(diǎn)為點(diǎn)Oa、與所述光軸交叉的所述第二像散校正板上的點(diǎn)為點(diǎn)Ob時(shí)，所述第一像散校正板具有如下的曲面的形狀或具有階梯狀地近似于曲面的形狀，該曲面是在與所述光軸正交的X-Y平面上以所述點(diǎn)Oa為原點(diǎn)，作為透過(guò)所述點(diǎn)Oa的所述光的相位與透過(guò)所述第一像散校正板的任意位置(χ，y)的所述光的相位之差的相位差的分布函數(shù) f8T(x，y)為f8T U, y) = Ex2y+Fx2+tAx+tBy伍』、、、、為系數(shù)) 的曲面，所述第二像散校正板具有如下的曲面的形狀或具有階梯狀地近似于曲面的形狀，該曲面是在與所述光軸正交的X-Y平面上以所述點(diǎn)Ob為原點(diǎn)，作為透過(guò)所述點(diǎn)Ob的所述光的相位與透過(guò)所述第二像散校正板的任意位置(X，y)的所述光的相位之差的相位差的分布函數(shù) g8T (χ y)為g8T U, y) = -f8T (x/k, y/k) 的曲面，所述位置調(diào)整部具有能夠使所述第一像散校正板和所述第二像散校正板中的任一方沿與所述光軸正交的方向移動(dòng)且沿X軸方向移動(dòng)的機(jī)構(gòu)。
12.—種像差校正裝置，具備對(duì)入射的光的相位進(jìn)行調(diào)制的像差校正元件；及能夠使所述像差校正元件沿與所述入射的光的光軸正交的方向移動(dòng)的位置調(diào)整部，其中，所述像差校正元件配置有使透過(guò)的光的相位根據(jù)同相的所述入射的光透過(guò)的位置而不同的第一彗形像差校正板和第二彗形像差校正板，設(shè)向所述第一彗形像差校正板入射的光的有效直徑為D1、向所述第二彗形像差校正板入射的光的有效直徑為DyD2ZD1為有效直徑比k，具有使透過(guò)所述像差校正元件的所述光成為同相的所述第一彗形像差校正板和所述第二彗形像差校正板的配置作為基準(zhǔn)配置，在所述基準(zhǔn)配置中，設(shè)與所述光軸交叉的所述第一彗形像差校正板上的點(diǎn)為點(diǎn)Oa、與所述光軸交叉的所述第二彗形像差校正板上的點(diǎn)為點(diǎn)Ob時(shí)，所述第一彗形像差校正板具有如下的曲面的形狀或具有階梯狀地近似于曲面的形狀， 該曲面是在與所述光軸正交的X-Y平面上以所述點(diǎn)Oa為原點(diǎn)，作為透過(guò)所述點(diǎn)Oa的所述光的相位與透過(guò)所述第一彗形像差校正板的任意位置(χ，y)的所述光的相位之差的相位差的分布函數(shù)f8T(x，y)為f9T(x，y) = Gx2 (x2+Hy2) +Jx2+tAx+tBy (G、H、J、tA3B 為系數(shù)) 的曲面，所述第二彗形像差校正板具有如下的曲面的形狀或具有階梯狀地近似于曲面的形狀， 該曲面是在與所述光軸正交的X-Y平面上以所述點(diǎn)Ob為原點(diǎn)，作為透過(guò)所述點(diǎn)Ob的所述光的相位與透過(guò)所述第二彗形像差校正板的任意位置(χ，y)的所述光的相位之差的相位差的分布函數(shù)g9T(x，y)為g9T(x，y) = -f9T (x/k, y/k) 的曲面，所述位置調(diào)整部具有能夠使所述第一彗形像差校正板和所述第二彗形像差校正板中的任一方沿與所述光軸正交的方向移動(dòng)且沿X軸方向移動(dòng)的機(jī)構(gòu)。
13.根據(jù)權(quán)利要求1 12中任一項(xiàng)所述的像差校正裝置，其中， 所述像差校正元件由具有樹(shù)脂的材料構(gòu)成。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的像差校正裝置，其中，所述樹(shù)脂是使包含含氟單體的樹(shù)脂單體硬化而成的材料。
15.根據(jù)權(quán)利要求2 14中任一項(xiàng)所述的像差校正裝置，其中，所述入射的光包含波長(zhǎng)λ工的光和波長(zhǎng)λ 2 ( λ工興λ 2)的光，所述像差校正元件相對(duì)于所述波長(zhǎng)X1的光和所述波長(zhǎng)λ 2的光中的任一方的光具有所述相位差的分布，且相對(duì)于另一方的光不產(chǎn)生所述相位差。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的像差校正裝置，其中，所述像差校正元件包含第一像差校正部和第二像差校正部，設(shè)所述第一像差校正部相對(duì)于所述波長(zhǎng)λ工的折射率為Il1 ( λ J、所述第二像差校正部相對(duì)于所述波長(zhǎng)λ工的折射率為η2 ( λ J、所述第一像差校正部相對(duì)于所述波長(zhǎng)λ 2的折射率為Ii1(X2)、所述第二像差校正部相對(duì)于所述波長(zhǎng)入2的折射率為1!2(入2)時(shí)，Ill(X1)與 I12(X1)相等且 ηι(λ2)與112(入2)不同，或 Ii1U2)與 n2U2)相等且 Ii1 U1) 與η2(λ J不同。
17.一種光學(xué)裝置，配置有透鏡，并且在向所述透鏡入射的光的光路中配置有權(quán)利要求2 4、10 12中任一項(xiàng)所述的像差校正裝置，所述透鏡沿與所述光軸正交的方向位移且沿Y軸方向位移。
18.一種光學(xué)頭裝置，具備光源；將從所述光源出射的光會(huì)聚在光盤(pán)的信息記錄面上的物鏡；及檢測(cè)由所述光盤(pán)的信息記錄面反射的信號(hào)光的光檢測(cè)器，其中，在所述光源與所述物鏡之間的光路中配置有權(quán)利要求1 16中任一項(xiàng)所述的像差校正裝置。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種像差校正裝置，具備對(duì)入射的光的相位進(jìn)行調(diào)制的像差校正元件；及能夠使所述像差校正元件沿與所述入射的光的光軸正交的方向移動(dòng)的位置調(diào)整部，其中，所述像差校正元件配置有使透過(guò)的光的相位根據(jù)同相的所述入射的光透過(guò)的位置而不同的第一像差校正板和第二像差校正板，并具有使透過(guò)所述像差校正元件的所述光成為同相的所述第一像差校正板和所述第二像差校正板的配置作為基準(zhǔn)配置，在所述基準(zhǔn)配置中，設(shè)與所述光軸交叉的所述第一像差校正板上的點(diǎn)為點(diǎn)Oa、與所述光軸交叉的所述第二像差校正板上的點(diǎn)為點(diǎn)Ob時(shí)，所述位置調(diào)整部具備能夠使所述第一像差校正板和所述第二像差校正板沿與所述光軸正交的方向移動(dòng)且使所述點(diǎn)Oa和所述點(diǎn)Ob從所述基準(zhǔn)配置相互向相反方向移動(dòng)的機(jī)構(gòu)，及/或能夠使所述第一像差校正板和所述第二像差校正板以所述點(diǎn)Oa及所述點(diǎn)Ob為中心從所述基準(zhǔn)配置相互向相反方向以相同角度旋轉(zhuǎn)移動(dòng)的機(jī)構(gòu)。
文檔編號(hào)G11B7/135GK102203861SQ20098014387
公開(kāi)日2011年9月28日 申請(qǐng)日期2009年10月30日 優(yōu)先權(quán)日2008年10月31日
發(fā)明者宮坂浩司, 村田浩一, 野村琢治 申請(qǐng)人:旭硝子株式會(huì)社