專利名稱：磁盤驅(qū)動或其類似裝置所用磁頭負環(huán)境氣壓滑動器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及磁性存貯裝置或磁盤驅(qū)動裝置的元件，尤其屬于一種保證在磁盤的各磁道上有穩(wěn)定浮動高度的磁性空氣支承滑動器。
磁盤驅(qū)動器廣泛地用于工作站、個人計算機、膝上型或其它計算機系統(tǒng)以存貯適合于用戶的大量數(shù)據(jù)。通常，磁盤驅(qū)動器包括一由轉(zhuǎn)軸電機旋轉(zhuǎn)的磁盤。磁盤的表面分成環(huán)繞磁盤延伸的一系列數(shù)據(jù)磁道。在磁盤的表面上每個數(shù)據(jù)磁道能以磁轉(zhuǎn)換的方式存貯數(shù)據(jù)。
一個交互作用的元件，如磁轉(zhuǎn)換器被用于感知磁轉(zhuǎn)換以讀出數(shù)據(jù)，或是在磁盤的表面產(chǎn)生一引起磁轉(zhuǎn)換的電流，以寫入數(shù)據(jù)。磁轉(zhuǎn)換器是裝在一磁頭內(nèi)，并包括一讀/寫間隙，該間隙包含有與磁盤的磁性表面有適宜的交互作用位置的轉(zhuǎn)換器有源元件。
磁頭是由一旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)器固定，并且是由該調(diào)節(jié)器選擇性定位在磁盤的預(yù)選數(shù)據(jù)道上方，隨著轉(zhuǎn)換器下方磁盤的旋轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)換器能夠從磁盤的預(yù)選磁道中讀出數(shù)據(jù)或?qū)懭霐?shù)據(jù)。
在現(xiàn)代的磁盤驅(qū)動器中，用一種比較堅固或是硬的磁盤作為磁性介質(zhì)。磁頭包括形成一空氣支承表面的滑動器，由于磁盤的旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的氣流，該空氣支承表面使轉(zhuǎn)換器浮動在磁盤表面的數(shù)據(jù)道上方。因此，在磁盤驅(qū)動器正常工作期間，轉(zhuǎn)換器實際上不與磁盤表面接觸。轉(zhuǎn)換器在磁盤表面上方浮動的距離被稱作“浮動高度”。在磁盤表面上方一浮動高度工作的一種較好的磁頭結(jié)構(gòu)是橫斷等壓(TPC)磁頭。當前的磁盤驅(qū)動器設(shè)計用一TPC磁頭尋道以限制浮動高度為磁盤表面上方大致2微英寸。磁頭和磁盤表面之間的任何接觸可能損壞磁盤或磁頭。因此，在磁盤正在旋轉(zhuǎn)時，每當調(diào)節(jié)器使轉(zhuǎn)換器在數(shù)據(jù)道的上方定位，就要保持足夠的浮動高度，這一點很重要。
人們的通常目的是要實現(xiàn)一個總體浮動高度，它使轉(zhuǎn)換器的讀/寫間隙盡可能靠近磁盤表面，不管調(diào)節(jié)器的徑向位置如何，浮動高度均保持在一相同水平。轉(zhuǎn)換器的有源讀/寫間隙越是接近磁盤的表面，在磁盤表面代表數(shù)據(jù)的磁轉(zhuǎn)換通過轉(zhuǎn)換器所產(chǎn)生的電信號越強。使數(shù)據(jù)信號盡可能地強，以保證磁盤驅(qū)動器的可靠電性能，這樣作，通?？偸怯幸娴?。
滑動器通常所遇到的一個問題是在磁盤的各磁道上方浮動高度隨調(diào)節(jié)器的徑向位置而變化。因此，某些數(shù)據(jù)道上的浮動高度大于其它的數(shù)據(jù)道。因此，在所有的數(shù)據(jù)道上，數(shù)據(jù)信號并非都是足夠強的。為了改進滑動器浮動高度的穩(wěn)定性已給出了幾種設(shè)計。
例如具有“雙體船”(catamaran)構(gòu)形的兩條軌道的上述TPC滑動器。沿支承表面的每一側(cè)邊緣給出橫斷等壓線，對于每個支承面，有一滑動器的斜交角(即，滑動器軸(由調(diào)節(jié)器徑向位置確定)和磁盤切線速度間的角)在支承面的等壓線上產(chǎn)生增壓，其與來自磁盤的氣流相抵并使其離開這個氣流向支承面的等壓線附近擴展。
在某些其它已知滑動器設(shè)計中，在面對旋轉(zhuǎn)磁盤的滑動器面上設(shè)有凹槽，使在運轉(zhuǎn)當中在滑動器部分和磁盤之間提供負環(huán)境氣壓(即低于1個大氣壓)，它將滑動器拉向旋轉(zhuǎn)磁盤。某種程度上，負環(huán)境氣壓的作用抵消滑動器趨于自磁盤表面抬高磁頭的操作。最終結(jié)果是使整個浮動高度得到更嚴密而強烈的控制，理想地阻止浮動高度的變化。
在另一種滑動器設(shè)計中，在空氣支承面上設(shè)置有人字形斷口或凹槽，它使局部環(huán)境、中心凹槽和滑動器的外部區(qū)域之間能夠有空氣流動。這樣作，實現(xiàn)了在滑動器滾軸方面的改進。在另一種雙體船構(gòu)形的滑動器設(shè)計中，每個空氣支承面朝向滑動器的中心部分做得較窄，以保持在磁盤表面上方的每個斜交角接近一恒定的空氣支承面。
因此需要一種滑動器結(jié)構(gòu)，不論調(diào)節(jié)器的徑向位置如何，它都改善了整個磁盤數(shù)據(jù)道上方浮動高度變化的控制。同時也需要一種減小滑動器滾軸角的滑動器結(jié)構(gòu)。
本發(fā)明的負環(huán)境氣壓的滑動器滿足了這些和其它方面的要求。本滑動器包括自滑動器導(dǎo)邊沿滑動器底面延伸至滑動器后沿的第一和第二軌道?；瑒悠鞯牡酌媸敲鎸πD(zhuǎn)磁盤的面。本領(lǐng)域的專業(yè)人員將意識到如果滑動器裝在旋轉(zhuǎn)磁盤下面的一根臂上它的底面朝上，而如果它被裝在旋轉(zhuǎn)磁盤上方的一根臂上則它的底面朝下。
第一和第二軌道各自包括一個以一角度自導(dǎo)邊向滑動器的側(cè)面延伸的腿區(qū)、一個以一角度自滑動器側(cè)面朝滑動器的后沿延伸的足區(qū)，及在滑動器的側(cè)面連接足區(qū)與腿區(qū)的一膝區(qū)?？拷谝缓偷诙壍栏鱾€腿區(qū)的側(cè)面設(shè)置第一和第二腿凹槽。在滑動器底面上靠近第一和第二軌道各個足區(qū)的側(cè)面設(shè)置第一和第二足區(qū)凹槽。在第一和第二軌道的腿、膝和足區(qū)之間的滑動器底面上設(shè)置一中心凹槽。
第一和第二軌道可以具有一大致相等的均勻高度，同時，第一和第二腿凹槽、第一和第二足凹槽和中心凹槽可以具有大致相等的均勻深度。
在本發(fā)明的一項替代實施例中，至少設(shè)置一條自滑動器導(dǎo)邊向滑動器后沿延伸的尾部，并將中心凹槽至少分成二部分。這樣做，就避免了壓力移向滑動器的一側(cè)。
如常規(guī)的滑動器那樣，在滑動器的導(dǎo)邊可以設(shè)置一斜坡，用于引導(dǎo)空氣流向滑動器的底面。同樣，還可設(shè)置一自滑動器的一個側(cè)面延伸至滑動器的相反一個側(cè)面的前端部分。該前端部分和一個或多個尾部具有與第一和第二軌道一致的均勻高度。
在本發(fā)明的另一實施例中滑動器的中心凹槽被加工成具有大致均勻的深度。中心凹槽的均勻深度要選擇成使旋轉(zhuǎn)磁盤的磁道上方滑動器的浮動高度幾乎不受所選擇的均勻深度起伏的影響。此均勻深度可以選擇成使得對于旋轉(zhuǎn)磁盤的所有磁道浮動高度隨凹槽深度的改變接近最小。
本發(fā)明的滑動器結(jié)構(gòu)為磁盤的所有磁道提供了更均勻的浮動高度。增加一條或多條尾部使滑動器滾軸能夠得到更好的控制。


圖1是本發(fā)明滑動器一項實施例的頂視圖。
圖1a和1b是圖1所示滑動器的一項補充實施例的頂視圖，它具有用以控制浮動高度和滾軸角度的一個尾部。
圖1c示出了根據(jù)本發(fā)明的實施例，分別具有一個和兩個控制浮動高度和滾軸角度的尾部的常規(guī)雙體船構(gòu)形滑動器的頂視圖。
圖2是沿圖1的a-a線的側(cè)視圖。
圖3是滑動器定位于磁盤最內(nèi)磁道上方的一裝配頂視圖。
圖4是滑動器定位于磁盤中間磁道上方的一裝配頂視圖。
圖5是滑動器定位于磁盤最外磁道上方的一裝配頂視圖。
圖6是滑動器浮動高度與凹槽深的關(guān)系曲線。
圖1和圖2給出了本發(fā)明負環(huán)境氣壓的滑動器的一典型實施例。滑動器1包括在滑動器1的導(dǎo)邊的一斜坡3，它引導(dǎo)空氣在滑動器1下面流動。在這個實施例中，滑動器1和斜坡3的寬度是60密耳(即，0.06英寸)，斜坡3的長和深是8密耳。斜坡3可以引入到一前端部分4。沿著滑動器的長度設(shè)置兩條軌道5、7，它與已知技術(shù)的雙體船構(gòu)形明顯不同。軌道5、7各含三個主要部分腿部5a、7a；膝部5b、7b；及足部5c、7c。在這個實施例中，前端部分4和滑動器1的軌道5、7的所有部分5a-c、7a-c是處于相同的高度(例如，在這個實施例中，滑動器的高度是17密耳)。
在滑動器中設(shè)置了幾個凹槽部分11-15。在這個實施例中，所有凹槽11-15具有同樣的深度(例如，自第一和第二軌道5、7的頂部測量的凹槽區(qū)的深度大致為150微英寸)。由于軌道的腿部和足部，中心凹槽11有一近似鉆石的形狀。腿凹槽12、13位于腿區(qū)5a、7a的外面。足凹槽14、15位于足區(qū)5c、7c的外面。
如已有技術(shù)那樣，一個磁頭(圖1-2中未示出)接近足區(qū)5c(在圖1中用“有效軌道”表示)連接在滑動器1的背后。
本發(fā)明滑動器的運行與圖3-5所示相對應(yīng)。當磁盤17旋轉(zhuǎn)時，空氣經(jīng)滑動器1的斜坡3引導(dǎo)流向滑動器下面。應(yīng)認識到當磁盤17開始旋轉(zhuǎn)時，斜坡3也促使滑動器1的快速上升。空氣被壓至滑動器的軌道5、7之下，使滑動器1(因而也使磁頭)離開磁盤17的表面。在凹槽區(qū)11-15中，空氣發(fā)展為負環(huán)境氣壓，產(chǎn)生一吸力使滑動器(從而也使磁頭)被拉向旋轉(zhuǎn)的磁盤。
在圖3-5中，所示的滑動器1是裝在一條臂19和一個調(diào)節(jié)器21上，調(diào)節(jié)器21將滑動器1和磁頭定位在所要求的磁道上方。在圖3中，滑動器1被定位在與磁盤17的最內(nèi)磁道接近處。再參照圖1，第一和第二軌道5、7的腿區(qū)5a、7a自滑動器1的前、中部分向外延伸至滑動器的兩個對側(cè)，在那里膝部5b、7b與滑動器的側(cè)面會合。腿區(qū)5a、7a與前區(qū)4構(gòu)成的角度被設(shè)計成與滑動器出現(xiàn)在最內(nèi)磁道時的滑動器斜角大致相同。最內(nèi)磁道也稱為接觸起一停(CSS)區(qū)。在最內(nèi)磁道(后面稱為內(nèi)直徑或“ID”)，磁盤的表面速度是它的最低速度。腿區(qū)5a、7a的定向有助于防止第一和第二軌道5、7下面的氣壓漏向滑動器1的側(cè)面(從而引起滑動器在一低于所要求的高度上浮動)。
參照圖4，滑動器1定位在接近中間磁道處(即，在內(nèi)磁道與外磁道之間平均距離處的磁道)。在中間磁道，斜角近似于0。由于滑動器1的腿區(qū)5a、7a的結(jié)構(gòu)，漏到這些區(qū)側(cè)面的氣壓較大。由于在腿區(qū)5a、7a的泄漏所造成的氣壓下降通過增加磁盤17的表面速度得到補償。滑動器1的浮動高度除足凹槽14、15的作用外，在中間磁道將會達到其最大值，足區(qū)凹槽14、15的作用在于減小滑動器1的加壓區(qū)，因而減小了在第一和第二軌道5、7的足部5c、7c產(chǎn)生的升力。
參照圖5，滑動器1和磁頭被置于最外層磁道上方(后面稱為外直徑或“OD”)。在OD的大斜角引發(fā)大量氣壓向軌道5、7的側(cè)面泄漏。由于滑動器1的腿區(qū)5a、7a的結(jié)構(gòu)，因為較小的凸緣長度，在這些區(qū)產(chǎn)生很小的氣壓?；瑒悠飨旅娴拇蟛糠謿鈮菏窃诨瑒悠?的膝區(qū)5b、7b下面產(chǎn)生的。盡管膝區(qū)下的凸緣區(qū)較小，但是在OD處的高磁盤表面速度使滑動器1的軌道5、7下面產(chǎn)生足夠的氣壓以維持一恒定的浮動高度。
如上所述，凹槽區(qū)11-15產(chǎn)生負環(huán)境氣壓將滑動器拉向磁盤表面。負環(huán)境氣壓主要是在中心凹槽11形成的。腿凹槽12、13為滑動器1提供了附加的滾動穩(wěn)定性。足凹槽14、15減少了滑動器1足區(qū)的有效加壓面積，使它在接近O斜角時不會在磁盤表面上方浮動太高。同時，足凹槽14、15改造了軌道5、7的足區(qū)5c、7c，使當滑動器1處于外磁道時這些區(qū)域與進入的空氣平行。對于這一點，外軌道(即軌道5)的浮動高度已通過滑動器的設(shè)計得到控制。為了控制滑動器滾動(即，最內(nèi)軌道7和最外軌道5的浮動高度差)，能夠按照控制內(nèi)軌道浮動高度的類似方式，對內(nèi)軌道(即軌道7)的形狀進行調(diào)整。
本發(fā)明的另一個實施例如圖1a和圖1b所示?；瑒悠?的中心凹槽11是滑動器中低于環(huán)境氣壓的最大容器。中心凹槽11對于如何穩(wěn)定滑動器1在磁盤17表面上方的浮動高度以及滑動器1的滾動量起到很大作用。作為控制滑動器1浮動高度和滾動的一項附加測量，在中心凹槽11“加進”一個或多個尾部2。在滑動器的生產(chǎn)中，尾部區(qū)是在形成中心凹槽11時，通過腐蝕或除去它們周圍的材料而形成的。
當滑動器1有一較大斜角時，滑動器1下面氣流的角度也大。這導(dǎo)致氣壓漏向軌道5、7的側(cè)面引起軌道下的氣壓下降，并使氣壓中心偏移。氣壓減小導(dǎo)致降低浮動高度，氣壓中心偏移導(dǎo)致加大滾動角。還有，中心凹槽11的作用在于使一個軌道的浮動高度與其它軌道的尺寸偏差結(jié)合。由于它們的構(gòu)形較窄，尾部2未構(gòu)成一明顯有效的空氣支承面。相反地，尾部2將中心凹槽11分成兩個或多個容積，從而防止中心凹槽11內(nèi)負環(huán)境氣壓的分布全部地向滑動器1的一個側(cè)面轉(zhuǎn)移。通過使尾部2的長度和取向最佳化，能夠控制住吸引力對滑動器1的滾動角的作用。圖1a和圖1b中的虛線表示尾部2可能的取向和長度。還有，尾部2的使用防止了一個軌道的浮動高度和其它軌道尺寸變化的關(guān)聯(lián)。
圖1c示出了具有上面所述尾部4的一常規(guī)雙體船形滑動器。
中心凹槽11的深度對于磁盤的所磁道上方的浮動高度均能產(chǎn)生實質(zhì)影響。在高海拔的環(huán)境中，空氣的壓力和平均自由路程的變化對于浮動高度也有影響。通過選擇合適深度的中心凹槽11，浮動高度值的范圍(即，磁盤所有磁道上方磁頭的最大和最小浮動高度之間的差值)基本上能夠小于典型的雙體船形滑動器。參照圖6，所示曲線沿Y軸表示ID、中間直徑(“MD”)和OD的浮動高度，沿X軸則表示它們的凹槽深度(即，將浮動高度表示為凹槽深度的函數(shù))。在200微英寸典型凹槽深度的情況下，滑動器的浮動高度隨著ID、MD和OD曲線的陡急斜率面下降。這將增大浮動高度對所選凹槽深度和使用滑動器所處海拔高度依賴的敏感性。如果凹槽深度是選在ID、MD和OD曲線的斜率最小處(即，所選的均勻深度，使得對于旋轉(zhuǎn)磁盤的所有磁道來說，浮動高度隨凹槽深度的變化接近最小-所選深度在110-150微英寸的范圍內(nèi))，由于容差和工作高度所產(chǎn)生的滑動器對凹槽深度變化的敏感性被減至最小。使用前述技術(shù)選擇凹槽的另一優(yōu)點是最大地穩(wěn)定了空氣支承，這也有助于減小浮動高度的敏感性。
權(quán)利要求
1.一種使讀/寫磁頭接近于旋轉(zhuǎn)磁盤定位的負環(huán)境氣壓的空氣支承滑動器，其特征在于，所述的滑動器包括沿所述滑動器底面自所述滑動器的一導(dǎo)邊向所述滑動器的后沿延伸的第一和第二軌道，所述滑動器的所述底面面對旋轉(zhuǎn)磁盤，第一和第二軌道各自包括自所述導(dǎo)邊向所述滑動器的一側(cè)面以一角度延伸的腿區(qū)；自所述滑動器的所述側(cè)面向所述滑動器后沿以一角度延伸的足區(qū)；在所述滑動器的側(cè)面連接所述足區(qū)與所述腿區(qū)的一膝區(qū)；位于接近所述第一和第二軌道的所述各腿區(qū)的側(cè)面的第一和第二腿凹槽；位于所述滑動器底面上接近所述第一和第二軌道的所述各足區(qū)的側(cè)面的第一和第二足區(qū)凹槽；及一中心凹槽，設(shè)置在所述第一和第二軌道的所述腿、膝和足區(qū)之間的所述滑動器底面上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的滑動器，其特征在于，所述第一和第二軌道具有大致相等、均勻的高度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的滑動器，其特征在于，所述第一和第二腿凹槽、第一和第二足凹槽及所述中心凹槽具有一大致相等、均勻的深度。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的滑動器，其特征在于，所述第一和第二腿凹槽、第一和第二足凹槽及所述中心凹槽具有一大致相等、均勻的深度。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的滑動器，其特征在于，它還包括至少一個尾部，所述尾部自所述滑動器的導(dǎo)邊向所述滑動器的后沿延伸，并將中心凹槽分成至少兩部分。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的滑動器，其特征在于，每個尾部和所述第一和第二軌道具有一大致相等、均勻的高度。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的滑動器，其特征在于，每個尾部以一角度自所述滑動器的導(dǎo)邊延伸。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的滑動器，其特征在于，每個尾部的寬度大體上窄于所述第一和第二軌道中每條軌道的寬度。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的滑動器，其特征在于，腿區(qū)自所述滑動器導(dǎo)邊延伸的角度與滑動器定位在旋轉(zhuǎn)磁盤的最內(nèi)層磁道上時的滑動器斜角大致相等。
10.一種使讀/寫磁頭接近于旋轉(zhuǎn)磁盤定位的負環(huán)境氣壓的空氣支承滑動器，其特征在于，所述滑動器包括在所述滑動器導(dǎo)邊上形成的一斜坡，所述斜坡引導(dǎo)空氣流向所述滑動器的底面，所述滑動器的底面面對旋轉(zhuǎn)磁盤；自所述滑動器的第一側(cè)面向所述滑動器的相對的第二面延伸的一前端部分；自所述滑動器的前端部沿所述滑動器的底面向所述滑動器的后沿延伸的第一和第二軌道，每條所述第一和第二軌道包括自所述導(dǎo)邊向所述滑動器的所述一個側(cè)面以一角度延伸的一腿區(qū)；自所述滑動器的一個所述側(cè)面向所述滑動器的后沿以一角度延伸的一足區(qū)；在所述滑動器的一個所述側(cè)面連接所述足區(qū)與所述腿區(qū)的一膝區(qū)；位于接近所述第一和第二軌道的所述各腿區(qū)側(cè)面的第一和第二腿凹槽；位于所述滑動器底面上接近所述第一和第二軌道的所述各足區(qū)一個側(cè)面的第一和第二足凹槽；一中心凹槽，設(shè)置在所述第一和第二軌道的所述腿、膝和足區(qū)之間的所述滑動器底面上。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的滑動器，其特征在于，所述前端部和所述第一和第二軌道具有大致相等、均勻的高度。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的滑動器，其特征在于，所述第一和第二腿凹槽、第一和第二足凹槽及所述中心凹槽具有大致相等、均勻的深度。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的滑動器，其特征在于，所述第一和第二腿凹槽、第一和第二足凹槽及所述中心凹槽具有大致相等、均勻的深度。
14.根據(jù)權(quán)利要求10所述的滑動器，其特征在于，它還包括至少一個尾部，所述尾部自所述滑動器的導(dǎo)邊向所述滑動器的后沿延伸，并將所述中心凹槽分成至少兩部分。
15.根據(jù)權(quán)利要求10所述的滑動器，其特征在于，每個尾部和所述第一和第二軌道具有大致相等、均勻的高度。
16.根據(jù)權(quán)利要求10所述的滑動器，其特征在于，每個尾部以一角度自所述滑動器的導(dǎo)邊延伸。
17.根據(jù)權(quán)利要求10所述的滑動器，其特征在于，每個尾部的寬度大體上窄于所述第一和第二軌道中每條軌道的寬度。
18.根據(jù)權(quán)利要求10所述的滑動器，其特征在于，腿區(qū)自所述滑動器導(dǎo)邊延伸的角度與滑動器定位在旋轉(zhuǎn)磁盤的最內(nèi)層磁道上時的滑動器斜角大致相等。
19.一種使讀/寫磁頭接近于旋轉(zhuǎn)磁盤定位的負環(huán)境氣壓空氣支承滑動器，其特征在于，所述的滑動器包括在所述滑動器導(dǎo)邊上形成的一斜坡，所述斜坡引導(dǎo)空氣流向所述滑動器的底面，所述滑動器的底面面對旋轉(zhuǎn)磁盤；自所述滑動器的第一側(cè)面向所述滑動器的相對的第二側(cè)面延伸的一前端部分；自所述滑動器的前端部沿所述滑動器的底面向所述滑動器的后沿延伸的第一和第二軌道；位于所述第一和第二軌道之間的所述滑動器底面上的中心凹槽；至少一條尾部，所述尾部自所述滑動器的前端部分向所述滑動器的后沿延伸，并將所述中心凹槽分成至少兩部分。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的滑動器，其特征在于，所述前端部分、每條所述尾部和所述第一和第二軌道具有大致相等、均勻的高度。
21.根據(jù)權(quán)利要求19所述的滑動器，其特征在于，所述中心凹槽具有大致相等、均勻的深度。
22.根據(jù)權(quán)利要求19所述的滑動器，其特征在于，每條尾部以一角度自所述滑動器的導(dǎo)邊延伸。
23.根據(jù)權(quán)利要求19所述的滑動器，其特征在于，每條尾部的寬度大體上窄于所述每條第一和第二軌道的寬度。
24.一種使讀/寫磁頭接近于旋轉(zhuǎn)磁盤定位的負環(huán)境氣壓的空氣支承滑動器的制造方法，其特征在于，所述的方法包括從所述滑動器的導(dǎo)邊到所述滑動器的后沿沿所述滑動器底面形成第一和第二軌道；在所述滑動器的底面上形成一中心凹槽，所述中心凹槽位于所述第一和第二軌道之間，其中所述中心凹槽具有大致均勻的深度，所述均勻深度要選擇成使所述旋轉(zhuǎn)磁盤上方所述滑動器的浮動高度對所述均勻深度的波動最不敏感。
25.根據(jù)權(quán)利要求24所述的滑動器，其特征在于，所述均勻深度要選擇成使浮動高度隨凹槽深度的變化對于旋轉(zhuǎn)磁盤的所有磁道來說幾乎都是最小。
全文摘要
一種使讀/寫磁頭接近于旋轉(zhuǎn)磁盤定位的負環(huán)境氣壓的空氣支承滑動器。它包括沿面對旋轉(zhuǎn)磁盤的滑動器面自導(dǎo)邊向滑動器的后沿延伸的第一和第二軌道。每條軌道有以一角度自導(dǎo)邊向滑動器的側(cè)面延伸的腿區(qū)，以一角度自滑動器側(cè)面向滑動器的后沿延伸的足區(qū)，及在滑動器的側(cè)面連接于足和腿區(qū)之間的膝區(qū)。設(shè)置凹槽使第一和第二軌道成型。中心凹槽為負環(huán)境氣壓提供一空間。中心區(qū)內(nèi)可設(shè)置一條或多條尾部，以防止氣壓完全移向滑動器的一面。此種結(jié)構(gòu)使滑動器在磁盤的全部磁道上有更均勻的浮動高度。
文檔編號G11B21/21GK1169202SQ95196685
公開日1997年12月31日 申請日期1995年12月18日 優(yōu)先權(quán)日1994年12月20日
發(fā)明者埃利斯·特霍·查, 家里·杰里·李 申請人:希捷技術(shù)股份有限公司