專利名稱：溶液體積測(cè)量裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種溶液體積測(cè)量裝置及其容器，尤其涉及一種可精確測(cè)量出溶液體積的溶液體積測(cè)量裝置及其容器。
背景技術(shù)：
隨著半導(dǎo)體制造技術(shù)的進(jìn)步，晶片表面的圖案愈來愈精密，因此晶片表面的清潔對(duì)于晶片制造過程中的成品率影響極為重大。目前常用到的濕式清洗法，是利用化學(xué)溶液進(jìn)行晶片表面的清洗。不同的化學(xué)溶液，對(duì)于晶片的去除功效不同。例如美國(guó)無(wú)線電公司(Radio Corporation of America，RCA)所開發(fā)，用以清洗晶片的RCA清洗機(jī)臺(tái)中，包括由硫酸(H2SO4)、過氧化氫(H2O2)配置成的硫酸及過氧化氫混合溶液(sulfuric acid peroxide-water mixture，SPM)，用以去除有機(jī)污染物；由氫氟酸(HF)、過氧化氫配置成的稀釋氫氟酸溶液(dilute hydrofluoric acid，DHF)，用以清除晶片表面的氧化硅；由氨水(NH4OH)、過氧化氫、水所配制而成的氨水、過氧化氫及水混合溶液(ammoniahydroxide-hydrogen peroxide-water mixture，APM)，用以清除微粒子，并可去除有機(jī)物及金屬污染物；由鹽酸(HCl)、過氧化氫、水所配制成的鹽酸、過氧化氫及水混和溶液(hydrochloric acid-hydrogen peroxide-water mixture，HPM)，主要用以清除金屬污染物。
不論是哪一種清洗溶液，皆有賴于精準(zhǔn)的配制，才能達(dá)到最佳的清洗效果。由于清洗溶液的原料大多為酸性或堿性溶液，無(wú)法用一般的方式測(cè)量溶液體積進(jìn)行配制。目前最為普遍的方式是采用一種氮?dú)飧叨葌鞲衅?N2levelsensor)進(jìn)行容器內(nèi)溶液高度的測(cè)量，進(jìn)一步推算溶液的體積進(jìn)行溶液配制。因此若能將液面高度測(cè)量得愈準(zhǔn)確，清洗溶液的配制精確度就愈高，清洗的效果愈佳。
然而，目前用以儲(chǔ)存溶液的容器采用方形的底部，且放置在一有高度限制的密閉殼體內(nèi)。因此如何在有限的空間內(nèi)存放溶液，同時(shí)又能夠?qū)θ芤后w積測(cè)量的精準(zhǔn)度加以提升，是當(dāng)今刻不容緩的待解決問題。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，本發(fā)明的目的就是提供一種溶液體積測(cè)量裝置及其容器。藉由儲(chǔ)存容器的改良，可以精確地測(cè)量出溶液的體積。
根據(jù)本發(fā)明的目的，提出一種溶液體積測(cè)量裝置，包括一密閉圓筒容器、一管路、一壓力感測(cè)單元及一控制單元。密閉圓筒容器用以儲(chǔ)存一溶液，并具有一圓形底部。管路以與圓形底部垂直的方式，將管路的一端置入溶液中，并將一氣體由管路的另一端灌入管路中。壓力感測(cè)單元與管路連接，用以感測(cè)氣體在溶液中的壓力，并據(jù)以輸出一壓力感測(cè)信號(hào)?？刂茊卧c壓力感測(cè)單元電連接，用以接收壓力感測(cè)信號(hào)，并據(jù)以決定溶液在密閉圓筒容器中的液面高度值。
根據(jù)本發(fā)明的另一目的，提出一種溶液體積測(cè)量裝置，包括一密閉柱狀容器、一管路、一壓力感測(cè)單元以及一控制單元。密閉柱狀容器具有一正方形底面及一圓筒狀容置槽，圓柱狀容置槽用以儲(chǔ)存一溶液。圓筒狀容置槽具有一圓形底部，圓形底部的直徑小于正方形底面的邊長(zhǎng)。管路以與圓形底部垂直的方式，將管路的一端置入溶液中，并將一氣體由管路的另一端灌入管路中。壓力感測(cè)單元與管路連接，用以感測(cè)氣體在溶液中的壓力，并據(jù)以輸出一壓力感測(cè)信號(hào)?？刂茊卧c壓力感測(cè)單元電連接，用以接收該壓力感測(cè)信號(hào)，并據(jù)以決定溶液在密閉柱狀容器中的液面高度值。
為讓本發(fā)明的上述目的、特征、和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，下文特舉一優(yōu)選實(shí)施例，并配合附圖，作詳細(xì)說明如下。


圖1繪示本發(fā)明實(shí)施例一的溶液體積測(cè)量裝置的示意圖；以及圖2繪示本發(fā)明實(shí)施例二的溶液體積測(cè)量裝置的示意圖。
主要組件符號(hào)說明10、20溶液體積測(cè)量裝置100、200密閉圓筒容器110、210溶液102、207圓形底部
120、220管路140、240壓力感測(cè)單元160、260控制單元180、280殼體182、282容置空間202正方形底面205圓筒狀容置槽具體實(shí)施方式
實(shí)施例一請(qǐng)參照?qǐng)D1，其繪示本發(fā)明實(shí)施例一的溶液體積測(cè)量裝置的示意圖。溶液體積測(cè)量裝置10包括一密閉圓筒容器100，用以儲(chǔ)存一溶液110，并具有一圓形底部102。同時(shí)本密閉圓筒容器100置放于一具有限制高度的殼體180里，有限的容置空間182當(dāng)中。比起傳統(tǒng)采用方形底部的儲(chǔ)存容器，采用與方形底部的邊長(zhǎng)相同的直徑的圓形底部102，可以增加儲(chǔ)存溶液110的液面高度的變化程度，進(jìn)而增加溶液體積測(cè)量的精確度。管路120以與圓形底部102垂直的方式，將管路120的一端置入溶液110中，并將一氣體例如一氮?dú)釴2由管路120的另一端灌入管路120中。壓力感測(cè)單元140與管路120連接，用以感測(cè)氮?dú)釴2在溶液110中的壓力，并據(jù)以輸出一壓力感測(cè)信號(hào)P?？刂茊卧?60與壓力感測(cè)單元140電連接，用以接收壓力感測(cè)信號(hào)P，并據(jù)以決定溶液110在密閉圓筒容器100中的液面高度值h。配合圓形底部102的面積，可以計(jì)算出溶液110的體積，可用以進(jìn)行其它溶液的配制。
本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員，可知本發(fā)明并不限于上述實(shí)施例。例如，儲(chǔ)存的溶液110可以是酸性溶液及堿性溶液，例如硫酸、過氧化氫、氫氟酸、氨水、鹽酸等等。管路120優(yōu)選采用特氟隆(Teflon)材料，可以防止被腐蝕。密閉圓筒容器100中儲(chǔ)存的溶液110，可以應(yīng)用于一RCA清洗機(jī)臺(tái)中，進(jìn)行各式清洗溶液的配制，例如用以去除有機(jī)污染物的SPM溶液、用以清除晶片表面的氧化硅的DHF溶液、用以清除微粒子的APM溶液，以及主要用以清除金屬污染物的HPM溶液等等。而配制而成的清洗溶液，用于清洗待清洗的晶片。此外，本發(fā)明所提出的密閉圓筒容器100，也可用于晶片蝕刻機(jī)臺(tái)之中，可以精確地配制出蝕刻溶液，用以蝕刻待蝕刻的晶片。而壓力感測(cè)單元140當(dāng)中，優(yōu)選包括多個(gè)用以感測(cè)不同高度的氮?dú)飧叨葌鞲衅?N2level sensor)，可以精確地感測(cè)出不同高度的液面。傳感器數(shù)量愈多，對(duì)液面變化感測(cè)的靈敏度愈高。
實(shí)施例二本實(shí)施例與實(shí)施例一的主要不同之處，在于容器的形態(tài)。請(qǐng)參照?qǐng)D2，其繪示本發(fā)明實(shí)施例二的溶液體積測(cè)量裝置的示意圖。密閉柱狀容器200，具有正方形底面202，但是其內(nèi)部為一圓筒容置槽205。圓筒狀容置槽205具有一圓形底部207，其直徑小于正方形底面202的邊長(zhǎng)。因此在殼體280的容置空間282與圖1的殼體180的容置空間182相比大小不變的情況下，將容器的內(nèi)部容置槽的底部改成圓形，也可增加液面高度變化的程度。因此進(jìn)而增加體積測(cè)量的精確度，以配制出比例精確的溶液。本實(shí)施例的容器底面雖以正方形為例，但也可為其它形狀。只要容器能夠放入容置空間282，且其內(nèi)槽具有圓形底部，皆不脫離本發(fā)明的范圍。
本發(fā)明上述實(shí)施例所揭露的溶液體積測(cè)量裝置及其容器，藉由改變儲(chǔ)存容器底部的方式，在有限的容置空間內(nèi)提高液面高度的變化程度。因此可提高壓力感測(cè)組件的靈敏度，增加溶液體積測(cè)量的精確度。
綜上所述，雖然本發(fā)明已以優(yōu)選實(shí)施例揭露如上，然其并非用以限定本發(fā)明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可作各種更動(dòng)與潤(rùn)飾，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍當(dāng)視權(quán)利要求所界定者為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種溶液體積測(cè)量裝置，包括一密閉圓筒容器，用以儲(chǔ)存一溶液，并具有一圓形底部；一管路，以與該圓形底部垂直的方式，將該管路的一端置入該溶液中，并將一氣體由該管路的另一端灌入該管路中；一壓力感測(cè)單元，與該管路連接，用以感測(cè)該氣體在該溶液中的壓力，并據(jù)以輸出一壓力感測(cè)信號(hào)；以及一控制單元，與該壓力感測(cè)單元電連接，用以接收該壓力感測(cè)信號(hào)，并據(jù)以決定該溶液在該密閉圓筒容器中的一液面高度值。
2.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中該氣體包括氮?dú)狻?br> 3.如權(quán)利要求2所述的裝置，其中該壓力感測(cè)單元包括多個(gè)用以感測(cè)不同高度的氮?dú)飧叨葌鞲衅鳌?br> 4.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中該溶液用以配置一清洗溶液，該清洗溶液用以清洗一待清洗晶片。
5.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中該密閉圓筒容器置放于一具有限制高度的一容置空間中，該容置空間位于一殼體內(nèi)，該溶液體積測(cè)量裝置可藉由該壓力感測(cè)單元測(cè)定的該液面高度以及該圓形底部的面積，計(jì)算出該溶液的體積。
6.一種溶液體積測(cè)量裝置，包括一密閉柱狀容器，具有一正方形底面及一圓筒狀容置槽，該圓筒狀容置槽用以儲(chǔ)存一溶液，該圓筒狀容置槽具有一圓形底部，該圓形底部的直徑小于該正方形底面的邊長(zhǎng)；一管路，以與該圓形底部垂直的方式，將該管路的一端置入該溶液中，并將一氣體由該管路的另一端灌入該管路中；一壓力感測(cè)單元，與該管路連接，用以感測(cè)該氣體在該溶液中的壓力，并據(jù)以輸出一壓力感測(cè)信號(hào)；以及一控制單元，與該壓力感測(cè)單元電連接，用以接收該壓力感測(cè)信號(hào)，并據(jù)以決定該溶液在該密閉柱狀容器中的一液面高度值。
7.如權(quán)利要求6所述的裝置，其中該密閉柱狀容器置放于一具有限制高度的一容置空間中，該容置空間位于一殼體內(nèi)，該溶液體積測(cè)量裝置可藉由該壓力感測(cè)單元測(cè)定的該液面高度以及該圓形底部的面積，計(jì)算出該溶液的體積。
8.如權(quán)利要求6所述的裝置，其中該氣體包含一氮?dú)狻?br> 9.如權(quán)利要求8所述的裝置，其中該壓力感測(cè)單元包括多個(gè)用以感測(cè)不同高度的氮?dú)飧叨葌鞲衅鳌?br> 10.如權(quán)利要求6所述的裝置，其中該溶液用以配置一清洗溶液，用以清洗一待清洗晶片。
全文摘要
一種溶液體積測(cè)量裝置，包括一密閉圓筒容器、一管路、一壓力感測(cè)單元及一控制單元。密閉圓筒容器用以儲(chǔ)存一溶液，并具有一圓形底部。管路以與圓形底部垂直的方式，將管路的一端置入溶液中，并將一氣體由管路的另一端灌入管路中。壓力感測(cè)單元與管路連接，用以感測(cè)氣體在溶液中的壓力，并據(jù)以輸出一壓力感測(cè)信號(hào)。控制單元與壓力感測(cè)單元電連接，用以接收壓力感測(cè)信號(hào)，并據(jù)以決定溶液在密閉圓筒容器中的一液面高度值。
文檔編號(hào)H01L21/66GK1952622SQ20051010865
公開日2007年4月25日 申請(qǐng)日期2005年10月18日 優(yōu)先權(quán)日2005年10月18日
發(fā)明者出永川, 彭國(guó)豪, 曾國(guó)邦 申請(qǐng)人:旺宏電子股份有限公司