專利名稱：射頻激勵(lì)氣體激光源的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種激光源，尤其涉及一種用于帶有具有任何構(gòu)造的 光腔的所謂射頻激勵(lì)激光源的結(jié)構(gòu)。具體地，本發(fā)明涉及一種射頻激 勵(lì)氣體激光器，優(yōu)選C02氣體激光器。
背景技術(shù)：
在氣體激光源的許多構(gòu)造當(dāng)中，開發(fā)出了這樣的激光器，其中氣 體(典型地為主要基于C02的混合物)被包含于在彼此相距特定距離
布置的兩個(gè)伸長(zhǎng)的、相互平行的矩形板材或板之間限定的腔中。兩個(gè) 板形成聯(lián)接到射頻發(fā)生器的兩個(gè)電極，以在包含于介入兩個(gè)板材之間 的空間中的氣體中產(chǎn)生輝光放電。在形成電極的兩個(gè)板材的端部布置 有反射鏡，所述反射鏡限定共振腔。反射鏡中的一個(gè)被設(shè)計(jì)成從共振 腔提取在腔內(nèi)部生成的激光束。
由電極和由限定共振腔的反射鏡形成的系統(tǒng)容納在密封室的內(nèi) 部，所述密封室使包含氣體的容積與外部環(huán)境隔絕。含氣體室通常為 圓柱形或棱柱形室，帶有承載反射鏡的兩個(gè)前壁，并且除了反射鏡和 電極以外，在其中布置有電極冷卻系統(tǒng)。
例如在WO-A-9415384中和在美國(guó)專利n.5.123.028、 n.5.131.003、 n.5.131.004、 n.5.140馬中和在其他同族專利中，以及在美國(guó)專利 n.5.661.746、 5.894.493、 4.787.090、 4.438.514中公開了該類型的激光源。
這些已知的激光器存在的缺陷是需要在包含電極和反射鏡的室的 壁中有密封的穿通以用于將電力供應(yīng)給電極和冷卻劑。這導(dǎo)致特別復(fù) 雜和昂貴的構(gòu)造，這也容易產(chǎn)生操作缺陷和故障，例如由于穿通密封 件之一的故障。EP-A-275023描述了一種板式激光器，其中第一和第二電極中的 一個(gè)設(shè)在帶有U形截面的盒狀結(jié)構(gòu)上并且另一個(gè)設(shè)在所述結(jié)構(gòu)的蓋 上。然而，并未說(shuō)明如何封閉氣體包含在其中的容積。在該公開文獻(xiàn) 中，以極其示意性和簡(jiǎn)單的方式描述了實(shí)施例。盒狀結(jié)構(gòu)具有用于電 力的穿通并且在離電極的相對(duì)表面(在其間產(chǎn)生放電)一段距離處， 僅僅通過(guò)在該結(jié)構(gòu)的厚度中產(chǎn)生的管道在結(jié)構(gòu)的一側(cè)獲得冷卻。
EP-A-305893描述了一種板式激光器，帶有通過(guò)合適的墊片以特 定相互距離保持的扁平層狀電極，并且在其內(nèi)部通過(guò)形成于電極的厚 度內(nèi)部的管道提供冷卻系統(tǒng)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一個(gè)目標(biāo)是提供一種射頻激勵(lì)氣體激光器，其帶有完全 或部分克服現(xiàn)有技術(shù)的激光源的缺陷的結(jié)構(gòu)。
根據(jù)一個(gè)方面，在一個(gè)實(shí)施例中本發(fā)明提出了一種用于射頻激勵(lì) 激光器的結(jié)構(gòu)，其生產(chǎn)特別簡(jiǎn)單并且可靠，并且其解決了共振腔與外 部環(huán)境隔絕相關(guān)的問(wèn)題。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，提供了一種射頻激勵(lì)氣體激光源，其 結(jié)構(gòu)被構(gòu)造為使得電極形成包含氣體的密封外殼的兩個(gè)部分的一體部 件并且反射鏡和電極容納在其中。所述外殼的兩個(gè)部分是導(dǎo)電的并且 彼此電絕緣。
通過(guò)該方案氣體包含在其中的密封外殼由形成電極的相同部件形 成或者外部容器或外殼不再是必要的，使得不必制造用于給射頻發(fā)生 器供電和用于冷卻電極的管道的穿通(feedthrough )絕緣子。
在一個(gè)實(shí)施例中，通過(guò)電絕緣元件獲得形成外殼的兩個(gè)部分的電 絕緣。在一個(gè)實(shí)施例中，該絕緣元件由陶瓷、石英、玻璃或優(yōu)選剛性 并且容易加工(例如通過(guò)從板材進(jìn)行激光切割)的另一種合適的材料 制造。在一個(gè)實(shí)施例中，絕緣元件具有平行于兩個(gè)電極延伸的伸長(zhǎng)矩 形框架的形狀，所述兩個(gè)電極在形狀上也是伸長(zhǎng)的。
在一個(gè)實(shí)施例中，矩形框架圍繞兩個(gè)電極中的一個(gè)延伸，兩個(gè)電極中的一個(gè)被構(gòu)造為限定激光源的外殼的兩個(gè)部分中的一個(gè)的擴(kuò)展 部。
在一個(gè)實(shí)施例中，外殼為盒狀，帶有基本棱柱形主體和蓋。第一 電極設(shè)在蓋上并且第二電極設(shè)在盒狀主體上。
在一個(gè)實(shí)施例中，外殼具有伸長(zhǎng)棱柱形狀，限定共振腔的反射鏡 布置在其末端。
在一個(gè)實(shí)施例中，外殼以沿基本平行于電極的縱向延長(zhǎng)線的方向 伸長(zhǎng)的盒狀延伸并且反射鏡布置在外殼的末端部分。
在一個(gè)實(shí)施例中，外殼包括伸長(zhǎng)棱柱形主體，中空擴(kuò)展部從所述 主體的底部朝著內(nèi)部延伸，其中腔可從外部進(jìn)入并且面對(duì)外殼的內(nèi)部 的所述底部的表面限定兩個(gè)電極中的一個(gè)的表面。在一個(gè)實(shí)施例中， 所述主體由帶有在平面圖中優(yōu)選為矩形的伸長(zhǎng)擴(kuò)展部的蓋閉合。蓋可 以具有周邊凸緣。優(yōu)選地，所述周邊凸緣與棱柱形或盒狀主體的邊緣 配合并且采用框架的形狀的電絕緣元件被插入所述邊緣和凸緣之間。 有利地，密封墊圏可以設(shè)在絕緣元件的兩個(gè)相對(duì)面上。
在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，蓋具有面對(duì)外殼的內(nèi)部并且限定兩個(gè)電極 中的另一個(gè)的擴(kuò)展部。面對(duì)外殼的內(nèi)部的該擴(kuò)展部的底部的表面布置 在相對(duì)電極的前面，并且因此限定在其內(nèi)部在氣體中產(chǎn)生放電的容積。 優(yōu)選地，形成于蓋上的擴(kuò)展部也是中空的并且朝著外部敞開。
在本發(fā)明的 一個(gè)特別有利的實(shí)施例中，在形成激光源的兩個(gè)相對(duì) 電極的一個(gè)或優(yōu)選兩個(gè)中空擴(kuò)展部中，容納有通過(guò)管道形成的冷卻回 路，所述管道完全布置在包含氣體的腔的外部。這樣，不必提供用于 冷卻管道的穿通。整個(gè)冷卻回路容納在含氣體腔的外部。
在 一 個(gè)特別有利的實(shí)施例中，冷卻管道被成形為延伸到在限定相 應(yīng)電極的壁中挖出的底座內(nèi)部。這樣，通過(guò)將冷卻管道鄰近形成在其 上產(chǎn)生放電的電極的面的內(nèi)表面設(shè)置而獲得了電極的有效冷卻。
在一個(gè)實(shí)施例中，外殼的兩個(gè)部分中的一個(gè)保持在地電位，而另 一個(gè)與射頻供電系統(tǒng)關(guān)聯(lián)。所述射頻供電系統(tǒng)可以包括一個(gè)或多個(gè)射 頻發(fā)生器，帶有沿著外殼的縱向延長(zhǎng)線相互相鄰的相應(yīng)適配網(wǎng)絡(luò)。平衡感應(yīng)器也沿著激光源的外殼布置。在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中， 平衡感應(yīng)器至少部分容納在形成相應(yīng)電極的擴(kuò)展部的內(nèi)部。這樣不必 在外殼的壁中設(shè)置用于射頻供電的任何穿通。
本發(fā)明的更多有利特征和實(shí)施例在附帶權(quán)利要求中指出并且將在 下面參考本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例更詳細(xì)地進(jìn)行描述。


通過(guò)顯示本發(fā)明的實(shí)際非限定性實(shí)施例的以下描述和附圖將更好
地理解本發(fā)明。尤其是，在圖中
圖1顯示了根據(jù)本發(fā)明的激光源結(jié)構(gòu)的分解圖2顯示了組裝源的側(cè)視圖3顯示了根據(jù)圖2的III-III的平面圖4顯示了根據(jù)圖3的IV-IV的截面；
圖5顯示了根據(jù)圖2的V-V的截面；
圖6顯示了根據(jù)圖2的VI-VI的前視圖7顯示了根據(jù)圖3的VII-VII的橫截面；以及
圖8顯示了分解圖，顯示了平衡感應(yīng)器、適配網(wǎng)絡(luò)和射頻發(fā)生器 組裝在激光源的結(jié)構(gòu)上；
圖9A顯示了在一個(gè)改進(jìn)實(shí)施例中的激光源的結(jié)構(gòu)的縱截面；
圖9B顯示了根據(jù)圖9A的線IXA-IXA的截面；以及
圖IO顯示了根據(jù)圖9的X-X的橫截面。
具體實(shí)施例方式
在圖l-8所示的實(shí)施例中，作為整體由l指示的激光源包括外殼 3，所述外殼包括具有基本矩形平面形狀的第一部分5和具有基本中空 棱柱形狀的第二部分7，在平面圖中第二部分的尺寸與第一部分5基 本相同。
尤其是，在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，部分5包括由帶有通孔ll(特 別參見圖7)的基本矩形的凸緣9限定的周緣，夾緊螺釘13接合到所述通孔中，以將部分5連接到外殼3的相對(duì)部分7。
在凸緣9的伸長(zhǎng)矩形延伸部的內(nèi)部，部分5具有基本帶有伸長(zhǎng)棱 柱形狀的擴(kuò)展部14。擴(kuò)展部14是內(nèi)部中空的并且限定基本以平行六 面體的形狀延伸的空間或腔15，所述腔的底壁由17指示?？臻g或腔 15朝著外部敞開。在面對(duì)腔15的內(nèi)部的底壁17的表面上設(shè)有兩個(gè)平 行凹槽19，例如由銅制造的用于循環(huán)冷卻劑的兩個(gè)管道21容納在所 述凹槽內(nèi)部，如下面更詳細(xì)地所述。每個(gè)管道21 (特別參見圖1) #皮 成形為帶有直線中間部分21A，所述直線中間部分被插入設(shè)在壁17 中的相應(yīng)底座或凹槽19中。直線部分21A通過(guò)彎曲部21B連接到兩 個(gè)末端21C，每個(gè)管道21通過(guò)所述末端連接到未顯示的冷卻回路。
在與底座或凹槽19設(shè)在其中的表面相對(duì)的表面上，壁17被加工 以限定有助于支持輝光放電的表面23，輝光放電形成于表面23與以 下述方式設(shè)在外殼3的部分7中的相對(duì)并平行的表面之間。在一個(gè)可 能的實(shí)施例中，表面23可以被加工以進(jìn)行反射，盡管這不是嚴(yán)格必需 的。
實(shí)質(zhì)上，上述的擴(kuò)展部14形成激光源1的結(jié)構(gòu)所配備的電極對(duì)的 第一電極，并且在所述電極對(duì)之間通過(guò)下述的射頻發(fā)生器產(chǎn)生放電。
外殼3的部分7以儲(chǔ)罐的形式基本被成形為中空平行六面體，帶 有長(zhǎng)側(cè)壁7A、前壁7B和底壁，棱柱形擴(kuò)展部31從所述底壁朝著盒 狀部分7的內(nèi)部延伸。所述擴(kuò)展部的前表面33具有與設(shè)在相對(duì)擴(kuò)展部 14上的表面23基本相同的形狀。表面33以類似于表面23的方式被
以與對(duì)擴(kuò)展部14的設(shè)置相同的方式，部分7的擴(kuò)展部31是內(nèi)部 中空的并且具有朝著外部敞開的腔或空間35，所述腔或空間具有類似 于腔15的伸長(zhǎng)棱柱形狀。該腔由底壁37界定，所述底壁用它的面限 定在外殼3內(nèi)部的前述表面33并且用相對(duì)面限定在外殼3外部的表面 39。以與擴(kuò)展部14的表面17相同的方式，表面39具有兩個(gè)基本直線 底座或凹槽41，基本與管道21形狀相同、也由例如銅制造的冷卻管 道43容納在其中。管道43和管道21兩者可以以不同的數(shù)量被設(shè)置，例如用于容納激光器的共振腔的結(jié)構(gòu)的每個(gè)部分有一個(gè)管道或兩個(gè)以 上管道。
可以使用導(dǎo)熱膠提高冷卻管道與用于容納它們的底座設(shè)在其中的
壁17和37之間的熱連接。管道21、 43在設(shè)在電極的壁中的底座中的 特殊布置允許緊鄰必須除熱的電極的表面采用冷卻劑。
外殼3的兩個(gè)部分5和7相互聯(lián)接并且中間插入電絕緣元件45。 在所示實(shí)施例中，絕緣元件45具有基本伸長(zhǎng)矩形框架的形狀，尺寸近 似對(duì)應(yīng)于外殼3的部分5的凸緣9的形狀。所以框架45具有矩形外緣 45A和矩形內(nèi)緣45B。在所述兩個(gè)基本同心邊緣之間設(shè)有用于螺釘13 的通孔49，所述螺釘接合在沿著部分7的周緣設(shè)置的螺孔51 (圖1 ) 中。這樣，借助于螺釘13，部分5和7可以相互聯(lián)接并且中間插入絕 緣元件45,使得由導(dǎo)電材料例如鋁制造的兩個(gè)部分5和7可以保持在 不同電位。
當(dāng)部分5和7相互聯(lián)接并且插入框架45時(shí)，它們限定用于包含氣
體例如C02或C02與其他氣體的混合物的容積，所述氣體處于足以產(chǎn)
生和保持電極在其中產(chǎn)生輝光放電的壓力。部分5和7的擴(kuò)展部14 和31所形成的電極容納在部分5和7所限定的該容積的內(nèi)部。
這樣，同時(shí)使在其中產(chǎn)生輝光放電的含氣體容積與產(chǎn)生該放電的 電極隔絕的外殼由這些部分5和7形成。為了保證部分5和7所限定 的容積的內(nèi)部與外部之間的改善密封，墊閨55布置在框架45與部分 5和7之間。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，凸緣9具有用于第一墊圏55的帶 有基本矩形擴(kuò)展部和帶有半圓形橫截面的底座9A，所述第一墊圏被壓 靠在框架45的相應(yīng)表面上。第二底座7A沿著部分7的邊緣7D設(shè)置 以容納與第一墊圏形狀相同并且與框架45的相對(duì)表面配合的第二墊 圏55。
在一個(gè)可能的實(shí)施例中，在組裝布置中，由面對(duì)部分5和7的內(nèi) 部的擴(kuò)展部形成的電極的相對(duì)平坦表面23和33通過(guò)由絕緣材料制造 的間隔元件61保持在彼此相距恰當(dāng)?shù)木嚯x處，所述間隔元件沿著表面 23和33的邊緣定位在適當(dāng)距離處。然而，這些間隔元件可以被省略并且電極的相對(duì)表面之間的恰當(dāng)相互距離可以通過(guò)以必要的精度制造
絕緣框架45和與絕緣框架接觸的表面來(lái)獲得。
承載限定共振腔的反射鏡65的板63與部分7的相對(duì)面7B關(guān)聯(lián)， 由于激光源的兩個(gè)電極的相對(duì)表面23和33之間的輝光放電在包含在 外殼3中的氣體中產(chǎn)生的光輻射被反射到所述共振腔內(nèi)部。反射鏡65 的形狀是本身已知的類型并且在本文中不進(jìn)行詳細(xì)描述。它可以與所 示的不同并且可與共振腔的其他特性相容的反射鏡的任何形狀可以被 使用。 一般而言，反射鏡配備有用于調(diào)節(jié)它們的傾角的機(jī)構(gòu)并且配備 有用于從共振室的一側(cè)提取光輻射的系統(tǒng)。
形成激光源的相對(duì)電極的兩個(gè)棱柱形擴(kuò)展部14、 31的腔15和35 不僅用于容納冷卻管道21和43，而且(對(duì)于部分7 )容納一個(gè)或多個(gè) 適配網(wǎng)絡(luò)71 (參見圖8)，所述適配網(wǎng)絡(luò)與一個(gè)或多個(gè)射頻發(fā)生器73 關(guān)聯(lián)并且例如沿著擴(kuò)展部14內(nèi)部的腔的縱向延長(zhǎng)線布置。除了適配網(wǎng) 絡(luò)71以外，腔也容納一個(gè)或更多個(gè)平衡感應(yīng)器75。在圖8所示的實(shí) 施例中，提供了幾個(gè)發(fā)生器和幾個(gè)適配網(wǎng)絡(luò)，平衡感應(yīng)器插入成對(duì)的 適配網(wǎng)絡(luò)之間。然而，不同構(gòu)造也是可能的，例如使用單一發(fā)生器和/ 或單一適配網(wǎng)絡(luò)以及平衡感應(yīng)器的不同布置。
從以上描述顯而易見，使用根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，有可能獲得相 對(duì)于外部環(huán)境氣動(dòng)隔絕的容器，在其中產(chǎn)生放電的氣體容納在所述容 器中，而不需要在容器中產(chǎn)生穿通以用于到電極的供電和用于冷卻劑 的循環(huán)。形成限定兩個(gè)電極的兩個(gè)內(nèi)部中空擴(kuò)展部的外殼3的兩個(gè)部 分5和7的形狀允許容納冷卻回路而不用穿過(guò)氣體容器的壁，并且在 該情況下也允許容納與射頻發(fā)生器(一個(gè)或多個(gè))關(guān)聯(lián)的平衡感應(yīng)器 而不用穿過(guò)界定氣體包含在其中的共振腔的壁。
圖9A、 9B和IO顯示了一個(gè)改進(jìn)實(shí)施例，其中獲得了更有效的熱 交換并且因此獲得了除熱。相同的數(shù)字指示與圖l-8的實(shí)施例相同或 等效的部件。
在該改進(jìn)實(shí)施例中，兩個(gè)嵌入件71和73分別容納在兩個(gè)腔15 和35內(nèi)部。兩個(gè)嵌入件71、 73具有矩形凸緣71A、 73A，所述矩形凸緣借助于墊圏75、 77形成外部與內(nèi)腔之間的不透液體封閉，所述內(nèi) 腔界定在每個(gè)嵌入件71、 73和嵌入件容納在其中的相應(yīng)腔15、 35的 內(nèi)表面之間。而且，擴(kuò)展部14和31的內(nèi)壁17和37具有凹槽17S和 37S，所述凹槽近似地在壁17和37的整個(gè)縱向延長(zhǎng)線延伸。這些凹槽 由相應(yīng)嵌入件71和73的底壁71B、 73B封閉。這樣，用于循環(huán)冷卻 劑的通道形成，直接形成于形成電極的金屬材料(典型地為鋁)中。 所以，冷卻劑緊鄰源的兩個(gè)電極的相對(duì)表面23和33循環(huán)，從而允許 以最大效率去除氣體中的放電所產(chǎn)生的熱。
冷卻劑通過(guò)布置在腔15和35的端部的成對(duì)連接器81、 83被饋送 到由凹槽17S和37S形成的通道中。凹槽17S、 37S和連接器81、 83 的數(shù)量可以相對(duì)于圖9和10中所示的情況變化。在任何情況下，它將 被選擇為優(yōu)化除熱。
數(shù)字85指示平衡感應(yīng)器75的夾緊螺釘，其穿過(guò)底壁71中的通孔 并且與形成于壁17之下的電極接合。
應(yīng)當(dāng)理解附圖僅僅顯示了通過(guò)本發(fā)明的實(shí)際布置提供的例子，所 述例子可以在形式或布置上變化而不脫離本發(fā)明的基本概念的范圍。 提供附帶權(quán)利要求中的參考數(shù)字是為了便于參考說(shuō)明書和附圖閱讀權(quán) 利要求，而不是限制權(quán)利要求所代表的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種氣體激光器，包括基本相互平行并相對(duì)的一對(duì)電極，在所述一對(duì)電極之間限定包含氣體的容積，所述一對(duì)電極在所述氣體中產(chǎn)生放電；位于所述一對(duì)電極的相對(duì)端處的反射鏡在所述容積中限定共振腔，其特征在于所述一對(duì)電極形成包含所述氣體的密封外殼的兩個(gè)部分的一體部件，并且所述反射鏡和所述電極容納在所述密封外殼中；并且所述外殼的兩個(gè)部分彼此電絕緣。
2. 如權(quán)利要求1所述的激光器，其特征在于在所述兩個(gè)外殼部分 之間布置電絕緣元件。
3. 如權(quán)利要求2所述的激光器，其特征在于所述電絕緣元件具有 基本伸長(zhǎng)矩形框架的形狀。
4. 如權(quán)利要求4所述的激光器，其特征在于所述伸長(zhǎng)矩形框架圍 繞所述電極中的一個(gè)延伸。
5. 如前述權(quán)利要求中的一項(xiàng)或多項(xiàng)所述的激光器，其特征在于所 述第一電極和所述第二電極具有基本伸長(zhǎng)矩形延伸部并且所述第一電 極和所述第二電極中的每個(gè)具有平坦表面，相互平行的所述平坦表面 界定包含氣體的所述容積。
6. 如前述權(quán)利要求中的一項(xiàng)或多項(xiàng)所述的激光器，其特征在于所 述外殼具有基本伸長(zhǎng)棱柱形狀，所述反射鏡布置在外殼的端部。
7. 如前述權(quán)利要求中的一項(xiàng)或多項(xiàng)所述的激光器，其特征在于所 述外殼具有沿基本平行于所述一對(duì)電極的縱向延長(zhǎng)線的方向伸長(zhǎng)的盒 狀延伸部并且所述反射鏡布置在所述外殼的端壁處。
8. 如前述權(quán)利要求中的一項(xiàng)或多項(xiàng)所述的激光器，其特征在于所 述一對(duì)電極由面對(duì)所述外殼的內(nèi)部的擴(kuò)展部形成，所述一對(duì)電極中的 每個(gè)電極由所述外殼的兩個(gè)部分中的一個(gè)承載。
9. 如權(quán)利要求8所述的激光器，其特征在于所述擴(kuò)展部中的每個(gè) 由外殼的相應(yīng)部分以一體件產(chǎn)生。
10. 如權(quán)利要求8或9所述的激光器，其特征在于所述擴(kuò)展部中的至少一個(gè)并且優(yōu)選兩個(gè)是內(nèi)部中空的并且朝著外殼的外部敞開。
11. 如權(quán)利要求IO所述的激光器，其特征在于包括容納在內(nèi)部中空的所述擴(kuò)展部中的冷卻系統(tǒng)。
12. 如權(quán)利要求11所述的激光器，其特征在于所述冷卻系統(tǒng)具有 容納在形成于內(nèi)部中空的所述擴(kuò)展部的、形成所述一對(duì)電極的壁中的 凹槽中的管道。
13. 如權(quán)利要求11所述的激光器，其特征在于所述冷卻系統(tǒng)具有 形成于內(nèi)部中空的所述擴(kuò)展部的形成所述一對(duì)電極的壁中的縱向通 道。
14. 如權(quán)利要求13所述的激光器，其特征在于所述通道具有大于 形成所述一對(duì)電極的壁的一半厚度的深度。
15. 如前述權(quán)利要求中的一項(xiàng)或多項(xiàng)所述的激光器，其特征在于 所述外殼的兩個(gè)部分中的第 一部分具有第 一周緣并且所述外殼的兩個(gè) 部分中的第二部分具有第二周緣，所述第一周緣和所述第二周緣相互 聯(lián)接并且中間插入所述電絕緣元件。
16. 如權(quán)利要求15所述的激光器，其特征在于至少一個(gè)密封墊圏 布置在所述第一周緣和所述第二周緣之間。
17. 如權(quán)利要求15或16所述的激光器，其特征在于包括在所述 第 一周緣與所述電絕緣元件之間的第 一密封墊圏和在所述第二周緣與 所述電絕緣元件之間的第二密封墊圏。
18. 如權(quán)利要求15、 16或17所述的激光器，其特征在于所述第 一周緣圍繞形成所述一對(duì)電極中的第一個(gè)的伸長(zhǎng)矩形擴(kuò)展部。
19. 如權(quán)利要求15-18中的一項(xiàng)或多項(xiàng)所述的激光器，其特征在 于所述第一周緣包括基本伸長(zhǎng)矩形凸緣。
20. 如權(quán)利要求19所述的激光器，其特征在于所述凸緣基本平行 于所述電極。
21. 如權(quán)利要求19或20所述的激光器，其特征在于所述基本伸 長(zhǎng)矩形凸緣圍繞限定所述一對(duì)電極中的第一個(gè)的第一擴(kuò)展部延伸，所 述第一擴(kuò)展部從所述凸緣朝著所述第二外殼部分的內(nèi)部延伸。
22. 如權(quán)利要求21所述的激光器，其特征在于所述外殼的兩個(gè)部 分中的第二個(gè)具有沿著第二周緣聯(lián)接的盒狀主體，并且第二擴(kuò)展部從所述盒狀主體的底部延伸，朝著所迷外殼的第一部分延伸并且限定所 述電極中的第二個(gè)。
23. 如權(quán)利要求22所述的激光器，其特征在于所述第一擴(kuò)展部和 所述第二擴(kuò)展部具有基本伸長(zhǎng)矩形橫截面。
24. 如權(quán)利要求21、 22或23所述的激光器，其特征在于所述第 一擴(kuò)展部是內(nèi)部中空的并且第 一冷卻系統(tǒng)容納在所述第 一擴(kuò)展部的內(nèi) 部。
25. 如權(quán)利要求24所述的激光器，其特征在于所述第一冷卻系統(tǒng) 包括用于循環(huán)冷卻劑的管道。
26. 如權(quán)利要求24或25所述的激光器，其特征在于所述第一擴(kuò) 展部具有在與第一電極相對(duì)的一側(cè)朝著外部環(huán)境敞開的內(nèi)腔。
27. 如權(quán)利要求26所述的激光器，其特征在于所述第一擴(kuò)展部基 本被成形為具有矩形截面的平行六面體，帶有形成第一電極的伸長(zhǎng)底 座并且在與所述底座相對(duì)的 一側(cè)敞開。
28. 如權(quán)利要求27所述的激光器，其特征在于所述伸長(zhǎng)底座具有 凹槽，所述第一冷卻系統(tǒng)的管道容納在所述凹槽內(nèi)部。
29. 如權(quán)利要求27所述的激光器，其特征在于所述伸長(zhǎng)底座具有 朝著外部閉合的凹槽，從而形成用于循環(huán)所述第一冷卻系統(tǒng)的冷卻劑 的管道。
30. 如權(quán)利要求22 - 29中的一項(xiàng)或多項(xiàng)所述的激光器，其特征在 于所述第二擴(kuò)展部是內(nèi)部中空的并且第二冷卻系統(tǒng)容納在所述第二擴(kuò) 展部的內(nèi)部。
31. 如權(quán)利要求30所述的激光器，其特征在于所述第二冷卻系統(tǒng) 包括用于循環(huán)冷卻劑的管道。
32. 如權(quán)利要求30或31所述的激光器，其特征在于所述第二擴(kuò) 展部具有在與第二電極相對(duì)的一側(cè)朝著外部環(huán)境敞開的內(nèi)腔。
33. 如權(quán)利要求32所述的激光器，其特征在于所述第二擴(kuò)展部基本被成形為具有矩形截面的平行六面體，帶有形成笫二電極的伸長(zhǎng)底 座并且在與所述底座相對(duì)的一側(cè)敞開。
34. 如權(quán)利要求33所述的激光器，其特征在于所述伸長(zhǎng)底座具有 凹槽，所述第二冷卻系統(tǒng)的管道容納在所述凹槽內(nèi)部。
35. 如權(quán)利要求34所述的激光器，其特征在于所述伸長(zhǎng)底座具有 朝著外部閉合的凹槽，從而形成用于循環(huán)所述第一冷卻系統(tǒng)的冷卻劑 的管道。
36. 如權(quán)利要求22 - 35中的一項(xiàng)或多項(xiàng)所述的激光器，其特征在 于所述盒狀主體在基本正交于所述一對(duì)電極的縱向延長(zhǎng)線的壁上承載 所述反射鏡。
37. 如權(quán)利要求11和24- 36中的一項(xiàng)或多項(xiàng)所述的激光器，其 特征在于射頻激勵(lì)系統(tǒng)容納在中空擴(kuò)展部的至少一個(gè)的內(nèi)部。
38. 如權(quán)利要求37所述的激光器，其特征在于所述射頻激勵(lì)系統(tǒng) 包括沿著所述一對(duì)電極的縱向延長(zhǎng)線排列的多個(gè)平衡感應(yīng)器。
39. 如權(quán)利要求37或38所述的激光器，其特征在于所述射頻激 勵(lì)系統(tǒng)包括容納在所述中空擴(kuò)展部中的一個(gè)或多個(gè)適配網(wǎng)絡(luò)。
全文摘要
描述了一種氣體激光器，其包括基本相互平行并相對(duì)的一對(duì)電極(17，37)，在所述電極之間限定包含氣體的容積，所述電極在所述氣體中產(chǎn)生放電。位于所述電極的相對(duì)端反射鏡(65)，在所述容積中被布置為限定共振腔。所述電極形成包含所述氣體的密封外殼(1)的兩個(gè)部分(5，7)的一體部件，并且所述反射鏡和所述電極容納在其中。形成外殼的所述兩個(gè)部分(5，7)彼此電絕緣。
文檔編號(hào)H01S3/0973GK101689743SQ200880022156
公開日2010年3月31日 申請(qǐng)日期2008年6月24日 優(yōu)先權(quán)日2007年6月26日
發(fā)明者A·塞韋里, G·克萊門蒂, L·馬索蒂 申請(qǐng)人:伊爾恩股份公司