專利名稱：掩模盒、搬送裝置、曝光裝置、掩模搬送方法及器件制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及收納掩模的掩模盒、搬送收納于該掩模盒中的掩模的搬送裝置、曝光 裝置、掩模搬送方法以及器件制造方法。
背景技術(shù)：
以往，掩模被以收納于掩模盒中的狀態(tài)由無人搬送車搬送至曝光裝置的附近，例 如，利用設(shè)于無人搬送車上的搬送用臂，在保持收納于掩模盒中的狀態(tài)下轉(zhuǎn)交到曝光裝置 內(nèi)的給定的位置。放置于該給定的位置的掩模，在保持收納于掩模盒中的狀態(tài)下，利用設(shè) 于曝光裝置內(nèi)的搬送裝置中的搬送用臂搬送至掩模庫(kù)而保管(參照日本專利申請(qǐng)公開 2005-243770 號(hào))。但是，近年來的液晶顯示器件制造用掩模的大型化十分明顯，與之相伴掩模的重 量也逐漸變大。從確保搬送用臂的強(qiáng)度等方面考慮，利用搬送用臂來搬送相關(guān)掩模的做法 逐漸變得困難起來。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于上述問題而完成的，本發(fā)明的目的在于，提供能夠可靠地搬送具有 大的重量的掩模的掩模盒、搬送裝置、曝光裝置、掩模搬送方法以及器件制造方法。本發(fā)明的掩模盒是收納掩模的掩模盒，其特征在于，在與載放該掩模盒的外部裝 置的接觸部具備加強(qiáng)構(gòu)件，上述加強(qiáng)構(gòu)件具有與上述掩模的負(fù)荷對(duì)應(yīng)的強(qiáng)度。本發(fā)明的搬送裝置是搬送掩模的搬送裝置，其特征在于，具備盒支承部，其支承收 納了上述掩模的本發(fā)明的掩模盒的上述加強(qiáng)構(gòu)件，并且抑制在與該加強(qiáng)構(gòu)件之間產(chǎn)生的摩 擦。另外，本發(fā)明的曝光裝置的特征在于，具備本發(fā)明的搬送裝置、在感光基板上形 成使用上述搬送裝置搬送的掩模(M)中設(shè)置的圖案的投影像的投影光學(xué)系統(tǒng)。本發(fā)明的掩模搬送方法包括第一工序，利用本發(fā)明的第一搬送裝置將收納于本 發(fā)明的掩模盒中的掩模搬送至本發(fā)明的第二搬送裝置；第二工序，將上述掩模盒從上述第 一搬送裝置的上述盒支承部上滑行移動(dòng)到上述第二搬送裝置具備的上述升降移動(dòng)機(jī)構(gòu)的 上述盒支承部上；第三工序，使上述升降移動(dòng)機(jī)構(gòu)的上述盒支承部上升到具有上述盒支承 部的保管部的高度；第四工序，使上述掩模盒從上述升降移動(dòng)機(jī)構(gòu)的上述盒支承部上滑行 移動(dòng)到上述保管部的上述盒支承部上。本發(fā)明的掩模搬送方法包括第一工序，利用搬送車將收納于本發(fā)明的掩模盒中 的掩模搬送至本發(fā)明的搬送裝置；第二工序，將上述掩模盒從上述搬送車轉(zhuǎn)交到上述搬送 裝置具備的上述轉(zhuǎn)交部的上述盒支承部上；第三工序，使上述掩模盒從上述轉(zhuǎn)交部的上述 盒支承部上滑行移動(dòng)到上述搬送裝置具備的上述升降移動(dòng)機(jī)構(gòu)的上述盒支承部上；第四工 序，使上述升降移動(dòng)機(jī)構(gòu)的上述盒支承部上升到具有上述盒支承部的保管部的高度；第五工序，使上述掩模盒從上述升降移動(dòng)機(jī)構(gòu)的上述盒支承部上滑行移動(dòng)到上述保管部的上述 盒支承部上。本發(fā)明的器件制造方法的特征在于，包括曝光工序，使用本發(fā)明的曝光裝置，將 設(shè)于掩模中的圖案的投影像向感光基板轉(zhuǎn)??；顯影工序，將轉(zhuǎn)印了上述投影像的上述感光 基板顯影，在上述感光基板上形成與上述投影像對(duì)應(yīng)的形狀的掩模層；加工工序，夾隔著上 述掩模層加工上述感光基板。根據(jù)本發(fā)明的掩模盒、搬送裝置、曝光裝置、掩模搬送方法以及器件制造方法，能 夠可靠地搬送具有大的重量的掩模。


圖1是表示第一實(shí)施方式的曝光裝置的概略構(gòu)成的立體圖。圖2是表示第一實(shí)施方式的掩模盒的構(gòu)成的圖。圖3是表示第一實(shí)施方式的搬送車的構(gòu)成的前視圖。圖4是表示第一實(shí)施方式的搬送車的構(gòu)成的俯視圖。圖5是表示第一實(shí)施方式的搬送裝置的構(gòu)成的俯視圖。圖6是表示第一實(shí)施方式的搬送裝置的構(gòu)成的圖。圖7是表示第一實(shí)施方式的掩模庫(kù)的構(gòu)成的圖。圖8是說明第一實(shí)施方式的掩模盒的搬送過程的流程圖。圖9是表示第一實(shí)施方式的搬送車進(jìn)入了曝光室內(nèi)的狀態(tài)的圖。圖10是表示第一實(shí)施方式的搬送車進(jìn)入了曝光室內(nèi)的狀態(tài)的圖。圖11是說明掩模盒的從第一實(shí)施方式的搬送車向搬送裝置的滑行移動(dòng)的圖。圖12是說明掩模盒的從第一實(shí)施方式的搬送車向搬送裝置的滑行移動(dòng)的圖。圖13是表示在第一實(shí)施方式的掩模庫(kù)的收容部中收容了掩模盒的狀態(tài)的圖。圖14是對(duì)從第一實(shí)施方式的搬送車向搬送裝置轉(zhuǎn)交掩模盒時(shí)的搬送車中的掩模 盒的搬入搬出方向的調(diào)整加以說明的圖。圖15是表示第一實(shí)施方式的搬送車的掩模盒的暫時(shí)固定機(jī)構(gòu)的變形例的圖。圖16是表示設(shè)于第二實(shí)施方式的曝光裝置中的掩模盒轉(zhuǎn)交部的構(gòu)成的圖。圖17是說明第二實(shí)施方式的掩模盒的搬送過程的流程圖。圖18是對(duì)掩模盒的從第二實(shí)施方式的搬送裝置向掩模盒轉(zhuǎn)交部的轉(zhuǎn)交加以說明 的圖。圖19是表示第三實(shí)施方式的掩模盒的構(gòu)成的立體圖。圖20是表示設(shè)于第三實(shí)施方式的曝光裝置中的掩模盒轉(zhuǎn)交部的構(gòu)成的圖。圖21是說明第三實(shí)施方式的掩模盒的搬送過程的流程圖。圖22是表示第三實(shí)施方式的承載架的構(gòu)成的圖。圖23是表示第三實(shí)施方式的承載架的指形扣的構(gòu)成的圖。圖24是表示使用了本發(fā)明的曝光裝置的半導(dǎo)體器件的制造方法的流程圖。圖25是表示使用了本發(fā)明的曝光裝置的液晶顯示元件的制造方法的流程圖。
具體實(shí)施例方式下面，參照附圖對(duì)本發(fā)明的掩模盒、搬送裝置、曝光裝置、掩模搬送方法以及器件 制造方法進(jìn)行說明。圖1是表示本發(fā)明的第一實(shí)施方式的曝光裝置EX的概略構(gòu)成圖的圖。 而且，在以下的說明中，將水平面內(nèi)的給定方向設(shè)為X軸方向，將水平面內(nèi)與X軸方向垂直 的方向設(shè)為Y軸方向，將與X軸及Y軸方向垂直的方向(即、鉛垂方向)設(shè)為Z軸方向。曝光裝置EX具備將掩模M的圖案向感光基板P曝光的曝光部S、作為保管收納 有具有大的重量的掩模M的掩模盒C的保管部的掩模庫(kù)LB、將掩模盒C向掩模庫(kù)LB搬送的 搬送裝置HI、將從掩模盒C中取出的掩模M向曝光部S搬送的搬送裝置H2。而且，曝光部 S、掩模庫(kù)LB以及搬送裝置HI、H2被收容于設(shè)定為給定環(huán)境的曝光室CH內(nèi)部，包括搬送裝 置HI、H2的曝光裝置EX整體的動(dòng)作由控制裝置CONT控制。掩模庫(kù)LB設(shè)于設(shè)在曝光室CH中的掩模盒C的搬入搬出口 10(參照?qǐng)D6)上方，具 有收容掩模盒C的多個(gè)收容部65。收容部65被沿Z軸方向設(shè)置多個(gè)，在收容于收容部65 中的掩模盒C中分別各收納1片掩模M。曝光部S具備支承設(shè)有圖案的掩模M的掩模載臺(tái)MST、支承作為曝光處理對(duì)象的 感光基板P的基板載臺(tái)PST、用曝光光EL將由掩模載臺(tái)MST支承的掩模M照明的照明光學(xué) 系統(tǒng)IL、在感光基板P上形成由曝光光EL照明的掩模M的圖案的投影像的投影光學(xué)系統(tǒng)PL。
掩模M被利用搬送車V從未圖示的掩模儲(chǔ)料器中以收納于掩模盒C中的狀態(tài)搬送 到曝光裝置EX。搬送車V從搬入搬出口 10進(jìn)入小室CH內(nèi)，停止于掩模庫(kù)LB的下部。此 后，搬送車V在其與搬送裝置Hl之間進(jìn)行掩模盒C的轉(zhuǎn)交。圖2是表示掩模盒C的構(gòu)成的圖，(a)是掩模盒C的側(cè)視圖，(b)是掩模盒C的仰 視圖，(c)是掩模盒C的軌道狀的加強(qiáng)構(gòu)件的端部的放大圖。如圖2所示，掩模盒C具備 收納有掩模M的掩模收納部(收納部主體)30 ；和設(shè)于與載放掩模盒C的搬送車V、搬送裝 置Hl等(以下稱作外部裝置。)接觸的接觸部的加強(qiáng)構(gòu)件32。掩模收納部30具備形成收納掩模M的空間的俯視為矩形的下構(gòu)件30a和俯視為 矩形的上構(gòu)件30b。出于掩模收納部30的輕質(zhì)化等目的，下構(gòu)件30a及下構(gòu)件30b例如是 使用鋁制成的。加強(qiáng)構(gòu)件32沿著如后所述相對(duì)于外部裝置搬送的掩模盒C的搬入搬出方 向(圖2(b)所示的箭頭D方向)，在掩模盒C的底面部的兩個(gè)側(cè)部以軌道狀延伸設(shè)置。加 強(qiáng)構(gòu)件32是使用淬火過的金屬構(gòu)件(例如、淬火過的SUS400系材料)等制成的，具有與收 納于收納部30中的掩模M的負(fù)荷對(duì)應(yīng)的強(qiáng)度，也就是說，具有不會(huì)因掩模M的負(fù)荷發(fā)生變 形等的強(qiáng)度。而且，為了在實(shí)現(xiàn)掩模盒C的輕質(zhì)化的同時(shí)，確保加強(qiáng)構(gòu)件32的耐負(fù)荷強(qiáng)度， 掩模收納部30使用比重小的構(gòu)成材料，加強(qiáng)構(gòu)件32使用具有比掩模收納部30的構(gòu)成材料 大的比重的構(gòu)成材料。另外，加強(qiáng)構(gòu)件32在其與外部裝置接觸的部分設(shè)有相對(duì)于掩模盒C的搬入搬出方 向在給定的寬度以上的平面部32a，并且在搬入搬出方向的前端部及后端部，如圖2(c)所 示，設(shè)有相對(duì)于掩模M的負(fù)荷方向傾斜的錐面32b。而且，加強(qiáng)構(gòu)件32既可以由1個(gè)構(gòu)件構(gòu) 成，也可以將2個(gè)以上的構(gòu)件連結(jié)而構(gòu)成。特別是，在將3個(gè)以上的構(gòu)件連結(jié)而構(gòu)成的情況 下，優(yōu)選地使其多個(gè)連結(jié)位置的間隔不同于與后述的外部裝置的多個(gè)接觸點(diǎn)的間隔。另外，在掩模盒C的底面部設(shè)有作為連結(jié)部的連結(jié)凹部33，其中連結(jié)凹部33與如 后所述地設(shè)于搬送裝置Hl中的滑行機(jī)構(gòu)55 (參照?qǐng)D5)能夠分開地連結(jié)。此外，在掩模盒C的側(cè)面部設(shè)有缺口部34，上述缺口部34頂觸如后所述地設(shè)于搬送裝置Hl中的作為暫時(shí) 固定機(jī)構(gòu)的凸輪隨動(dòng)件56。下面，參照?qǐng)D3及圖4針對(duì)搬送車(搬送裝置)V的構(gòu)成進(jìn)行說明。圖3是搬送車 V的前視圖，圖4是搬送車V的俯視圖。搬送車V具備主體部40，其具有作為使搬送車V 移動(dòng)的裝置移動(dòng)機(jī)構(gòu)的車輪40a及未圖示的車輪驅(qū)動(dòng)部；設(shè)于主體部40上的掩模盒搬送部 41 ；旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)42，其以給定的旋轉(zhuǎn)中心100為中心，使掩模盒搬送部41相對(duì)于主體部40旋
轉(zhuǎn)。掩模盒搬送部41具備保持掩模盒C并在其與搬送裝置Hl之間進(jìn)行掩模盒C的轉(zhuǎn) 交的機(jī)構(gòu)。具體來說，在掩模盒搬送部41上，配置有大致平行的2列的作為盒支承部的萬 向滾珠43，萬向滾珠43支承掩模盒C的加強(qiáng)構(gòu)件32并且抑制在其與該加強(qiáng)構(gòu)件32之間產(chǎn) 生的摩擦。這2列的間隔被設(shè)定為與設(shè)于掩模盒C中的2條加強(qiáng)構(gòu)件32的間隔大致相等。 另外，在沿著萬向滾珠43的列的掩模盒搬送部41上的側(cè)端部，配置有與萬向滾珠43的列 大致平行的2列作為引導(dǎo)機(jī)構(gòu)的多個(gè)凸輪隨動(dòng)件44。這2列的凸輪隨動(dòng)件44中的至少一 方與掩模盒C的側(cè)面部抵接，規(guī)定著掩模盒C相對(duì)于搬送車V的搬入搬出方向(圖2(b)所 示的箭頭D方向)。另外，在掩模盒搬送部41上的配置了 2列的萬向滾珠43之間，設(shè)有作為暫時(shí)固定 機(jī)構(gòu)的保持機(jī)構(gòu)45，保持機(jī)構(gòu)45保持掩模盒C的底面部，通過使掩模盒C相對(duì)于萬向滾珠 43上升而分離，將掩模盒搬送部41上的掩模盒C的位置暫時(shí)固定。旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)42通過沿著水平面使掩模盒搬送部41旋轉(zhuǎn)，而使掩模盒C相對(duì)于搬送 車V的主體部40的搬入搬出方向變化。這里，在主體部40中設(shè)有角度檢測(cè)裝置，上述角度 檢測(cè)裝置檢測(cè)與由旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)42造成的萬向滾珠43的排列方向的旋轉(zhuǎn)角度對(duì)應(yīng)的角度信 息，旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)42基于利用該角度檢測(cè)裝置檢測(cè)出的角度信息，使掩模盒搬送部41，進(jìn)而使 配置了 2列的萬向滾珠43以旋轉(zhuǎn)中心100為中心旋轉(zhuǎn)。下面，參照?qǐng)D5及圖6針對(duì)搬送裝置Hl的構(gòu)成進(jìn)行說明。圖5是搬送裝置Hl的 掩模盒搬送部的俯視圖，圖6是搬送裝置Hl的側(cè)視圖。而且，圖6中掩模盒搬送部表示的 是圖5中的A-A向視圖。搬送裝置Hl設(shè)有掩模盒搬送部50和升降驅(qū)動(dòng)部51。掩模盒搬送 部50及升降驅(qū)動(dòng)部51構(gòu)成升降移動(dòng)機(jī)構(gòu)。掩模盒搬送部50具備保持掩模盒C并在搬送車V與掩模庫(kù)LB之間進(jìn)行掩模盒C 的轉(zhuǎn)交的機(jī)構(gòu)。具體來說，在掩模盒搬送部50上，配置有大致平行的2列的作為盒支承部 的多個(gè)萬向滾珠52，上述萬向滾珠52支承掩模盒C的加強(qiáng)構(gòu)件32，并且抑制在其與該加強(qiáng) 構(gòu)件32之間產(chǎn)生的摩擦。這2列的間隔被設(shè)定為與設(shè)于掩模盒C中的2條加強(qiáng)構(gòu)件32的 間隔大致相等。另外，在沿著萬向滾珠52的列的掩模盒搬送部50上的側(cè)端部，配置有與萬向滾珠 52的列大致平行的2列的作為引導(dǎo)機(jī)構(gòu)的多個(gè)凸輪隨動(dòng)件53。這2列的凸輪隨動(dòng)件53中 的至少一方與掩模盒C的側(cè)面部抵接，規(guī)定著掩模盒C相對(duì)于搬送裝置Hl的搬入搬出方 向。另外，在掩模盒搬送部50上的配置了 2列的萬向滾珠52之間，設(shè)有滑行機(jī)構(gòu)55， 滑行機(jī)構(gòu)55使掩模盒C相對(duì)于萬向滾珠52沿搬入搬出方向滑行移動(dòng)?；袡C(jī)構(gòu)55具有 與掩模盒C的連結(jié)凹部33連結(jié)的連結(jié)凸部54，通過將該連結(jié)凸部54沿著凸輪隨動(dòng)件53的列移動(dòng)，從而使掩模盒C在萬向滾珠52上朝向搬入搬出方向滑行移動(dòng)。另外，在沿著萬向滾珠52的列的掩模盒搬送部50的一方的端部設(shè)有作為暫時(shí)固定機(jī)構(gòu)的凸輪隨動(dòng)件56，凸輪隨動(dòng)件56將掩模盒C相對(duì)于掩模盒搬送部50的位置暫時(shí)固 定。凸輪隨動(dòng)件56由未圖示的氣缸等向與掩模盒C的搬入搬出方向大致垂直的方向(圖 5所示的箭頭B方向)驅(qū)動(dòng)。這樣，凸輪隨動(dòng)件56就被向設(shè)于掩模盒C的一方的側(cè)面部的 缺口部34推壓，而將掩模盒C的另一方的側(cè)面部向凸輪隨動(dòng)件53頂靠，將掩模盒C在掩模 盒搬送部50上的位置暫時(shí)固定。這里，在設(shè)于掩模盒C中的加強(qiáng)構(gòu)件32中，作為與萬向滾珠52的接觸面，設(shè)有相 對(duì)于掩模盒C的搬入搬出方向在給定寬度以上的平面部，通過該平面部在萬向滾珠52上滑 動(dòng)，使掩模盒C被凸輪隨動(dòng)件53頂靠。升降驅(qū)動(dòng)部51保持掩模盒搬送部50，使掩模盒驅(qū)動(dòng)部50相對(duì)于與搬入搬出口 10 對(duì)應(yīng)的高度和與掩模庫(kù)LB對(duì)應(yīng)的高度升降移動(dòng)。更具體來說，升降驅(qū)動(dòng)部51在與搬入搬 出口 10對(duì)應(yīng)的高度處，使搬送車V的萬向滾珠43的高度與掩模盒搬送部50的萬向滾珠53 的高度大致一致。另外，在與掩模庫(kù)LB對(duì)應(yīng)的高度處，升降驅(qū)動(dòng)部51使萬向滾珠53的高 度與后述的掩模庫(kù)LB的萬向滾珠66 (參照?qǐng)D7)的高度大致一致。下面，參照?qǐng)D7針對(duì)掩模庫(kù)LB的構(gòu)成進(jìn)行說明。圖7表示從掩模盒C的搬入搬出 口 10的方向看到的掩模庫(kù)LB的圖。掩模庫(kù)LB的各收容部65具備保持掩模盒C并在其與 搬送裝置Hl之間進(jìn)行掩模盒C的轉(zhuǎn)交的機(jī)構(gòu)。具體來說，在各收容部65中，配置有大致平 行的2列作為盒支承部的多個(gè)萬向滾珠66，上述萬向滾珠66支承掩模盒C的加強(qiáng)構(gòu)件32， 并且抑制在其與該加強(qiáng)構(gòu)件32之間產(chǎn)生的摩擦。這2列的間隔被設(shè)定為與設(shè)于掩模盒C 中的2條加強(qiáng)構(gòu)件32的間隔大致相等。另外，在沿著萬向滾珠66的列的各收容部65的側(cè) 端部，配置有與萬向滾珠66的列大致平行的2列作為引導(dǎo)機(jī)構(gòu)的多個(gè)凸輪隨動(dòng)件67。這2 列的凸輪隨動(dòng)件67中的至少一方與掩模盒C的側(cè)面部抵接，規(guī)定著掩模盒C相對(duì)于掩模庫(kù) LB的搬入搬出方向。下面，參照?qǐng)D8所示的流程圖，針對(duì)將搭載于搬送車V上的掩模M及掩模盒C搬送 到掩模庫(kù)LB的搬入過程進(jìn)行說明。而且，從掩模庫(kù)LB搬送到搬送車V的搬出過程是通過 將以下說明的搬入過程以相反順序處理而進(jìn)行的。首先，收納有掩模M的掩模盒C，被利用搬送車V搬送到曝光裝置EX (步驟S10)。 艮口，在搬送車V的掩模盒搬送部41上利用保持機(jī)構(gòu)45暫時(shí)固定了掩模盒C的狀態(tài)下，將掩 模盒C搬送到曝光室CH的附近。控制裝置CONT為了使搬送車V進(jìn)入曝光室CH內(nèi)，利用未 圖示的開閉機(jī)構(gòu)將搬入搬出口 10開放。此后，如圖9所示，搬送車V進(jìn)入到掩模庫(kù)LB的下 方的給定位置，由設(shè)于搬送車V中的未圖示的定位機(jī)構(gòu)相對(duì)于搬送裝置Hl定位而停止。在 該時(shí)間點(diǎn)，搬送車V通過使保持機(jī)構(gòu)45上升，從而使掩模盒C相對(duì)于萬向滾珠43上升，使 萬向滾珠43與掩模盒C的加強(qiáng)構(gòu)件32分離，而在給定位置停止后，為了向搬送裝置Hl轉(zhuǎn) 交掩模盒C，通過使保持機(jī)構(gòu)45下降，而使掩模盒C相對(duì)于萬向滾珠43下降，形成利用萬向 滾珠43來支承掩模盒C的加強(qiáng)構(gòu)件32的狀態(tài)。然后，使掩模盒C從搬送車V向搬送裝置Hl的掩模盒搬送部41上滑行移動(dòng)(步 驟S11)。即，控制裝置CONT利用升降驅(qū)動(dòng)部51使掩模盒搬送部50移動(dòng)到與搬入搬出口 10 的高度(第一搬送高度)，使搬送車V的萬向滾珠43的頂部的高度與掩模盒搬送部50的萬向滾珠52的頂部的高度一致?？刂蒲b置CONT如圖10的側(cè)視圖、圖11的俯視圖所示，使滑 行機(jī)構(gòu)55的連結(jié)凸部54向搬送車V側(cè)移動(dòng)，以與掩模盒C的連結(jié)凹部33連結(jié)。而且，對(duì) 于是否正常地連結(jié)滑行機(jī)構(gòu)55的連結(jié)凸部54與掩模盒C的連結(jié)凹部33，例如是利用設(shè)于 掩模盒搬送部50中的光傳感器57 (參照?qǐng)D10)，根據(jù)有無向設(shè)于連結(jié)凸部54的下部的未圖 示的反射鏡射出的光的反射光來檢測(cè)的。此后，控制裝置CONT通過如圖12所示利用滑行 機(jī)構(gòu)55使連結(jié)凸部54移動(dòng)到與搬送車V相反一側(cè)的位置，從而使掩模盒C從搬送車V的 萬向滾珠43上向掩模盒搬送部50的萬向滾珠52上滑行移動(dòng)，由此將掩模盒C從搬送車V 向掩模盒搬送部50轉(zhuǎn)交。移動(dòng)到掩模盒搬送部50上的掩模盒C由凸輪隨動(dòng)件56將在掩 模盒搬送部50上的位置暫時(shí)固定。 而且，所謂在與搬入搬出口 10對(duì)應(yīng)的高度處使萬向滾珠43與萬向滾珠52的高度 一致，不僅包括嚴(yán)密地一致的情況，還包括大致一致的情況。在該情況下，在從搬送車V向 掩模盒搬送部50進(jìn)行掩模盒C的轉(zhuǎn)交時(shí)，優(yōu)選地相對(duì)于萬向滾珠43將萬向滾珠52設(shè)定為 略高的位置，在與之相反地進(jìn)行轉(zhuǎn)交時(shí)，優(yōu)選地相對(duì)于萬向滾珠52將萬向滾珠43設(shè)定為略 高的位置。由于在掩模盒C具有的加強(qiáng)構(gòu)件32的頭端部設(shè)有錐面32b，因此通過像這樣進(jìn) 行高度設(shè)定，就能夠在萬向滾珠43、52之間沒有沖擊地進(jìn)行掩模盒C的轉(zhuǎn)交。然后，控制裝置CONT利用升降驅(qū)動(dòng)部51使掩模盒搬送部50上升到與掩模庫(kù)LB 對(duì)應(yīng)的高度，即，上升到被作為收容掩模盒C的部分指定的收容部65的高度(第二搬送高 度)(步驟S12)，使掩模盒搬送部50的萬向滾珠52的頂部的高度與所指定的收容部65的 萬向滾珠66的頂部的高度一致。此后，控制裝置CONT通過解除利用凸輪隨動(dòng)件56的掩模 盒C的暫時(shí)固定，利用滑行機(jī)構(gòu)55使連結(jié)凸部54移動(dòng)到收容部65側(cè)的位置，從而使掩模 盒C從掩模盒搬送部50的萬向滾珠52上向收容部65的萬向滾珠66上滑行移動(dòng)，如圖13 所示，將掩模盒C向掩模庫(kù)LB的指定了的收容部65轉(zhuǎn)交(步驟S13)。而且，轉(zhuǎn)交掩模盒C的收容部65例如是在掩模盒C的搬入開始前借助給定的輸入 裝置指定的。或者，可以是搬送裝置Hl具備檢測(cè)未收容掩模盒C的收容部65的檢測(cè)裝置， 以該檢測(cè)裝置的檢測(cè)結(jié)果為基礎(chǔ)恰當(dāng)?shù)刂付ㄟM(jìn)行轉(zhuǎn)交的收容部65。另外，所謂在與掩模庫(kù)LB對(duì)應(yīng)的高度處使萬向滾珠52與萬向滾珠66的高度一 致，不僅包括嚴(yán)密地一致的情況，還與在對(duì)應(yīng)于搬入搬出口 10的高度下的萬向滾珠43與萬 向滾珠52的高度關(guān)系相同，包括大致一致的情況。這里，掩模M從掩模庫(kù)LB向曝光部S的搬送是利用搬送裝置H2進(jìn)行的。S卩，在控 制裝置CONT的控制下，利用升降驅(qū)動(dòng)部51將搬送裝置Hl的掩模盒搬送部50移動(dòng)到收容 有掩模盒C的收容部65的高度，上述掩模盒C收納有為了在曝光處理中使用而被指定的掩 模M。此后，在使該收容部65的萬向滾珠66與掩模盒搬送部50的萬向滾珠52的高度一 致的狀態(tài)下，利用搬送裝置Hl的滑行機(jī)構(gòu)55使掩模盒C向掩模盒搬送部50上滑行移動(dòng)。 此時(shí)，在將掩模盒C的上構(gòu)件30b殘留在掩模庫(kù)LB的收容部65內(nèi)，將掩模M載放在掩模盒 C的下構(gòu)件30a上的狀態(tài)下，向掩模盒搬送部50上滑行移動(dòng)。此后，利用升降驅(qū)動(dòng)部51使 搬送裝置Hl的掩模盒搬送部50上升移動(dòng)到作為搬送裝置Hl的最上部的位置Cl (參照?qǐng)D 1)。掩模M被在位置CAl交給承載架21。承載架21能夠在由承載架引導(dǎo)部21A支承 的同時(shí)在位置CAl與位置CA2之間移動(dòng)，并且能夠與承載架引導(dǎo)部21A —起沿Z軸方向移動(dòng)。也就是說，承載架21被設(shè)定為能夠在圖1中沿X軸及Z軸方向移動(dòng)。承載架21在下面具有真空吸附孔，能夠利用所連結(jié)的未圖示的真空泵的ON · OFF將掩模M吸附保持及解 除保持。承載架21在位置CAl從臂部20接收到掩模M后，搬送到位置CA2。移動(dòng)到位置 CA2的承載架21在位置CA2將掩模M交給裝載臂22。這里，裝載臂22及卸載臂23能夠在 圖1中沿Y軸及Z軸方向移動(dòng)。裝載臂22和卸載臂23能夠沿Y軸方向分別地在位置CA2 與掩模載臺(tái)MST之間移動(dòng)，并且能夠在Z軸方向上在由Z軸引導(dǎo)部22A支承的同時(shí)一體化 地移動(dòng)。這些，裝載臂22及卸載臂23具有保持掩模M的真空吸附孔，利用所連結(jié)的真空泵 的ON ^FF進(jìn)行掩模M的吸附保持及保持解除。裝載臂22在位置CA2從承載架21接收曝 光處理中所用的掩模M,搬送到掩模載臺(tái)MST。此后，通過將由掩模載臺(tái)MST支承的掩模M 利用照明光學(xué)系統(tǒng)IL以曝光光EL照明，而向由基板載臺(tái)PST支承的感光基板P上，利用投 影光學(xué)系統(tǒng)PL轉(zhuǎn)印設(shè)于掩模M中的圖案的投影像。在曝光部S中結(jié)束了曝光處理的掩模M，由卸載臂23從掩模載臺(tái)MST中卸載，搬送 到位置CA2。搬送到位置CA2的掩模M，被交給在該位置CA2待機(jī)的承載架21，由該承載架 21向位置CAl搬送。此后，搬送到位置CAl的掩模M被載放到在位置CAl待機(jī)的搬送裝置 Hl的掩模盒搬送部50上的掩模盒的下構(gòu)件30a上，由升降驅(qū)動(dòng)部51移動(dòng)到在曝光處理前 接受收容的收容部65的高度。此后，在使收容部65的萬向滾珠66與掩模盒搬送部50的 萬向滾珠52的高度一致的狀態(tài)下，利用搬送裝置Hl的滑行機(jī)構(gòu)55使下構(gòu)件30a滑行移動(dòng) 到收容部65內(nèi)。如上說明所示，根據(jù)該第一實(shí)施方式，由于掩模盒C在與載放該掩模盒C的作為外 部裝置的搬送車V及搬送裝置Hl等接觸的接觸部，具備具有與掩模M的負(fù)荷對(duì)應(yīng)的強(qiáng)度的 加強(qiáng)構(gòu)件32，作為搬送裝置的搬送車V及搬送裝置Hl與作為保管部的掩模庫(kù)LB分別具備 多個(gè)作為盒支承部的萬向滾珠43、52、66，其支承掩模盒C的加強(qiáng)構(gòu)件32，并且抑制在其與 該加強(qiáng)構(gòu)件32之間產(chǎn)生的摩擦，因此能夠利用搬送車V、搬送裝置Hl及掩模庫(kù)LB，可靠并 且順暢地搬送收納了具有大的重量的掩模M的掩模盒C。而且，在上述第一實(shí)施方式中，也可以在搬送車V的前部設(shè)有角度傳感器，上述角 度傳感器檢測(cè)搬送車V相對(duì)于搬送裝置Hl的姿勢(shì)，即，檢測(cè)掩模搬送部41相對(duì)于搬送裝置 Hl的沿著水平面的旋轉(zhuǎn)角度，基于該角度傳感器的檢測(cè)結(jié)果，利用旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)42使掩模盒搬 送部41旋轉(zhuǎn)，使掩模盒C相對(duì)于搬送裝置Hl的搬入搬出方向、與掩模盒C相對(duì)于搬送車V 的搬入搬出方向一致。圖14是表示搬送車V接近搬送裝置Hl的掩模盒搬送部50的狀態(tài) 的圖。在該圖中，搬送車V以相對(duì)于搬送裝置Hl具有給定的角度的狀態(tài)接近，利用設(shè)于搬 送車V的前部的角度傳感器46，檢測(cè)出掩模搬送部41相對(duì)于搬送裝置Hl的旋轉(zhuǎn)角度，基于 該檢測(cè)結(jié)果，利用旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)42使掩模盒搬送部41旋轉(zhuǎn)。由此，在搬送車V移動(dòng)到搬送裝置 Hl附近時(shí)，使掩模盒C相對(duì)于搬送裝置Hl的搬入搬出方向、與掩模盒C相對(duì)于搬送車V的 搬入搬出方向一致。通過如此構(gòu)成，在搬送車V接近搬送裝置Hl時(shí)，即使掩模盒C相對(duì)于 搬送裝置Hl的搬入搬出方向、與掩模盒C相對(duì)于搬送車V的搬入搬出方向偏離，也一定可 以在搬送車V移動(dòng)到搬送裝置Hl附近時(shí)，使掩模盒C相對(duì)于搬送裝置Hl的搬入搬出方向、 與掩模盒C相對(duì)于搬送車V的搬入搬出方向一致，因此能夠在搬送車V與搬送裝置Hl之間 順暢并且迅速地進(jìn)行掩模盒C的轉(zhuǎn)交。另外，在上述第一實(shí)施方式中，作為掩模盒搬送部41上的掩模盒C的暫時(shí)固定機(jī)構(gòu)，設(shè)有保持掩模盒C的底面部并使掩模盒C相對(duì)于萬向滾珠43上下移動(dòng)的保持機(jī)構(gòu)45，然而也可以使用使掩模盒C與萬向滾珠43 —起上下移動(dòng)的上下移動(dòng)機(jī)構(gòu)、和保持該上下移 動(dòng)機(jī)構(gòu)被下降了的掩模盒C的保持部來構(gòu)成暫時(shí)固定機(jī)構(gòu)。此外，如圖15所示，也可以在沿著萬向滾珠43的列的掩模盒搬送部41的一方的 端部，設(shè)置將掩模盒C相對(duì)于掩模盒搬送部41的位置暫時(shí)固定的作為暫時(shí)固定機(jī)構(gòu)的凸輪 隨動(dòng)件47。該凸輪隨動(dòng)件47與搬送裝置Hl中的凸輪隨動(dòng)件56相同，由未圖示的氣缸等向 與掩模盒C的搬入搬出方向大致垂直的方向(圖15所示的箭頭方向)驅(qū)動(dòng)。由此，凸輪隨 動(dòng)件47被向設(shè)于掩模盒C的一方的側(cè)面部的缺口部34推壓，將掩模盒C的另一方的側(cè)面 部向凸輪隨動(dòng)件44頂觸，將掩模盒搬送部41上的掩模盒C的位置暫時(shí)固定。而且，圖15所示的止動(dòng)機(jī)構(gòu)58是，防止在搬送車V與搬送裝置Hl之間轉(zhuǎn)交掩模 盒C時(shí)以外掩模盒C從掩模盒搬送部41中滑出的機(jī)構(gòu)，并不限于搬送車V，優(yōu)選地包括搬送 裝置Hl而設(shè)于至少一方中。下面，參照?qǐng)D16 圖18針對(duì)本發(fā)明的第二實(shí)施方式的曝光裝置進(jìn)行說明。該第 二實(shí)施方式的曝光裝置，除了在第一實(shí)施方式的曝光裝置中從搬送車向設(shè)于曝光裝置的曝 光室內(nèi)的轉(zhuǎn)交部轉(zhuǎn)交掩模盒，其后從轉(zhuǎn)交部向搬送裝置滑行移動(dòng)掩模盒的方面以外，具有 與第一實(shí)施方式的曝光裝置相同的構(gòu)成。因此，在第二實(shí)施方式的說明中省略與第一實(shí)施 方式的曝光裝置的構(gòu)成相同的構(gòu)成的詳細(xì)的說明，對(duì)于與第一實(shí)施方式的曝光裝置的構(gòu)成 相同的構(gòu)成使用與第一實(shí)施方式中所用的符號(hào)相同的符號(hào)來進(jìn)行說明。而且，伴隨著第二 實(shí)施方式的曝光裝置具備轉(zhuǎn)交部，向該曝光裝置搬送掩模盒的搬送車的構(gòu)成也會(huì)與第一實(shí) 施方式不同。圖16是表示設(shè)于曝光裝置EX的掩模庫(kù)LB的下部的掩模盒轉(zhuǎn)交部70的構(gòu)成的圖。 掩模盒轉(zhuǎn)交部70與掩模盒LB的收容部65相同具備保持掩模盒C并在其與搬送裝置Hl之 間進(jìn)行掩模盒C的轉(zhuǎn)交的機(jī)構(gòu)。即，掩模盒轉(zhuǎn)交部70配置有大致平行的2列作為盒支承部 的多個(gè)萬向滾珠71，上述萬向滾珠71支承掩模盒C的加強(qiáng)構(gòu)件32，并且抑制在其與該加強(qiáng) 構(gòu)件32之間產(chǎn)生的摩擦。這2列的間隔被設(shè)定為與設(shè)于掩模盒C中的2條加強(qiáng)構(gòu)件32的 間隔大致相等。另外，在沿著配置了 2列的萬向滾珠71的列的掩模盒轉(zhuǎn)交部70的側(cè)端部，配置有 與萬向滾珠71的列大致平行的2列的作為引導(dǎo)機(jī)構(gòu)的多個(gè)凸輪隨動(dòng)件72。這2列的凸輪 隨動(dòng)件72中的至少一方與掩模盒C的側(cè)面部抵接，規(guī)定著掩模盒C相對(duì)于掩模盒轉(zhuǎn)交部70 的搬入搬出方向。而且，圖16中僅圖示了各自設(shè)有2列的萬向滾珠71及凸輪隨動(dòng)件72中 的位于圖中里側(cè)的萬向滾珠71及凸輪隨動(dòng)件72的列。圖17所示的流程圖是對(duì)第二實(shí)施方式的掩模盒C向曝光裝置EX的掩模庫(kù)LB的搬 送加以說明的圖。首先，收納有掩模M的掩模盒C被利用搬送車V搬送到曝光裝置EX(步 驟S20)。這里，搬送車Vl如圖18所示，以第一實(shí)施方式的搬送車V的構(gòu)成為基礎(chǔ)，取代掩 模盒搬送部41而具備掩模盒搬送用平臺(tái)80。S卩，搬送車Vl不具有支承掩模盒C的萬向滾 珠、或引導(dǎo)掩模盒C的凸輪隨動(dòng)件。控制裝置CONT為了使搬送車V進(jìn)入曝光室CH內(nèi)，利用 未圖示的開閉機(jī)構(gòu)將搬入搬出口 10開放。此后，如圖18所示，搬送車Vl進(jìn)入到掩模庫(kù)LB 的下方的給定位置而停止。在該時(shí)間點(diǎn)，搬送車Vl在使掩模盒搬送用平臺(tái)80上升的狀態(tài) 下，將掩模盒C的加強(qiáng)構(gòu)件32相對(duì)于萬向滾珠71分離。
然后，搬送車Vl使掩模盒搬送用平臺(tái)80下降，將掩模盒C載放在設(shè)于掩模盒轉(zhuǎn)交部70中的萬向滾珠71上，將掩模盒C轉(zhuǎn)交給掩模盒轉(zhuǎn)交部70(步驟S21)。然后，使掩模盒C從掩模盒轉(zhuǎn)交部70向搬送裝置Hl的掩模盒搬送部50上滑行移 動(dòng)(步驟S22)。即，控制裝置CONT利用升降驅(qū)動(dòng)部51使掩模盒搬送部50移動(dòng)到與掩模盒 轉(zhuǎn)交部70對(duì)應(yīng)的高度(第一搬送高度)，使掩模盒轉(zhuǎn)交部70的萬向滾珠71的頂部的高度 與掩模盒搬送部50的萬向滾珠52的頂部的高度一致。控制裝置CONT使滑行機(jī)構(gòu)55的連 結(jié)凸部54向掩模盒轉(zhuǎn)交部70側(cè)移動(dòng)，與掩模盒C的連結(jié)凹部33連結(jié)。此后，利用滑行機(jī) 構(gòu)55使連結(jié)凸部54移動(dòng)到與掩模盒轉(zhuǎn)交部70相反一側(cè)的位置，從而將掩模盒C從掩模盒 轉(zhuǎn)交部70的萬向滾珠71上向掩模盒搬送部50的萬向滾珠52上滑行移動(dòng)，由此將掩模盒 C從掩模盒轉(zhuǎn)交部70向掩模盒搬送部50轉(zhuǎn)交。而且，所謂在與掩模盒轉(zhuǎn)交部70對(duì)應(yīng)的高 度處使萬向滾珠71與萬向滾珠52的高度一致，不僅包括嚴(yán)密地一致的情況，還與第一實(shí)施 方式中的對(duì)應(yīng)于搬入搬出口 10的高度下的萬向滾珠43與萬向滾珠52的高度關(guān)系相同，包 括大致一致的情況。接下來，將掩模盒C從搬送裝置Hl搬送到掩模庫(kù)LB的處理(步驟S23、S24)，是與 第一實(shí)施方式的步驟S12、S13相同地進(jìn)行的。另外，從掩模庫(kù)LB搬送到掩模盒轉(zhuǎn)交部70 的搬出過程是通過將以上說明的將掩模盒C從掩模盒轉(zhuǎn)交部70搬送到掩模庫(kù)LB的搬入過 程以相反順序處理而進(jìn)行的。如上說明所示，根據(jù)該第二實(shí)施方式，與第一實(shí)施方式相同，由于掩模盒C具備加 強(qiáng)構(gòu)件32，搬送裝置Hl的掩模盒轉(zhuǎn)交部70及掩模盒搬送部50和掩模庫(kù)LB的收容部65分 別具備作為盒支承部的萬向滾珠71、52、66，萬向滾珠71、52、66支承掩模盒C的加強(qiáng)構(gòu)件 32，并且抑制在其與該加強(qiáng)構(gòu)件32之間產(chǎn)生的摩擦，因此能夠利用搬送車VI、搬送裝置Hl 及掩模庫(kù)LB，可靠并且順暢地搬送收納了具有大的重量的掩模M的掩模盒C。另外，與搬送 車V的構(gòu)成相比，能夠?qū)崴蛙嘨l的構(gòu)成簡(jiǎn)化。而且，雖然在上述各實(shí)施方式中，在掩模盒C的底面部設(shè)置加強(qiáng)構(gòu)件32，然而由于 加強(qiáng)構(gòu)件只要設(shè)于與外部裝置接觸的部分即可，因此例如也可以在掩模盒的掩模收納部的 側(cè)面設(shè)置突設(shè)部，在該突設(shè)部的下面設(shè)置加強(qiáng)構(gòu)件而使之與外部裝置接觸。另外，雖然在上述各實(shí)施方式中，在掩模盒C的底面部以軌道狀延伸設(shè)置加強(qiáng)構(gòu) 件32，然而也可以在掩模盒C的底面部的整體中以平板狀設(shè)置加強(qiáng)構(gòu)件。在該情況下，能夠 在該平板狀的加強(qiáng)構(gòu)件的寬度內(nèi)任意地設(shè)定在搬送車VI、搬送裝置Hl及掩模庫(kù)LB的各自 中設(shè)置了 2列的萬向滾珠43、52、66的各列間隔。另外，因能夠不限定于列狀地將這些多個(gè) 萬向滾珠43、52、66的配置二維地配置，所以即使是具有比掩模M更大的重量的掩模，也能 夠可靠并且順暢地搬送。另外，雖然在上述的各實(shí)施方式中，當(dāng)在掩模盒搬送部50與掩模盒搬送部41、收 容部65或掩模盒轉(zhuǎn)交部70之間進(jìn)行掩模盒C的轉(zhuǎn)交時(shí)，在掩模盒C的底面部進(jìn)行滑行機(jī) 構(gòu)55與掩模盒C的連結(jié)，然而并不限于掩模盒的底面部，也可以在側(cè)面部或上面部等進(jìn)行 連結(jié)。此外，滑行機(jī)構(gòu)55與掩模盒C的連結(jié)并不限定于依靠凹部與凸部的卡合的連結(jié)，也 可以利用使用了夾鉗機(jī)構(gòu)、電磁鐵機(jī)構(gòu)或真空吸附機(jī)構(gòu)等的連結(jié)機(jī)構(gòu)來進(jìn)行。另外，雖然在上述的各實(shí)施方式中，作為搬送車V、搬送裝置HI、掩模庫(kù)LB的盒支 承部使用萬向滾珠，然而并不限定于此，也可以使用氣壓浮起機(jī)構(gòu)、凸輪隨動(dòng)件機(jī)構(gòu)、軸承機(jī)構(gòu)、滾筒輸送機(jī)機(jī)構(gòu)等。即，可以使用在借助加強(qiáng)構(gòu)件支承掩模盒時(shí)，具有抑制在其與加強(qiáng)構(gòu)件之間產(chǎn)生的摩擦的功能的各種機(jī)構(gòu)。另外，雖然在上述各實(shí)施方式中，在搬送車V、搬送裝置HI、掩模庫(kù)LB的各盒支承 部中使用多個(gè)相同結(jié)構(gòu)的萬向滾珠，然而也可以在盒支承部的端部等有可能在掩模盒C的 轉(zhuǎn)交時(shí)被施加大的沖擊的部分，使用抗沖擊性高的萬向滾珠等盒支承構(gòu)件。另外，雖然在上述的各實(shí)施方式中，作為搬送車V、搬送裝置HI、掩模庫(kù)LB的引導(dǎo) 機(jī)構(gòu)使用凸輪隨動(dòng)件，然而并不限定于此，可以使用滾筒機(jī)構(gòu)等能夠引導(dǎo)掩模盒的其他的 機(jī)構(gòu)。另外，雖然將凸輪隨動(dòng)件與掩模盒C的側(cè)面部抵接而將掩模盒C沿搬入搬出方向引 導(dǎo)，然而也可以使凸輪隨動(dòng)件與加強(qiáng)構(gòu)件的側(cè)面部抵接而引導(dǎo)掩模盒。另外，也可以在與以 軌道狀延伸設(shè)置的加強(qiáng)構(gòu)件對(duì)應(yīng)的掩模盒搬送部的位置，設(shè)置以軌道狀延伸設(shè)置的引導(dǎo)構(gòu) 件，將加強(qiáng)構(gòu)件的截面形狀與引導(dǎo)構(gòu)件的截面形狀分別互補(bǔ)地形成，利用軌道狀的引導(dǎo)構(gòu) 件，將掩模盒沿搬入搬出方向引導(dǎo)。另外，雖然在上述的各實(shí)施方式中，本發(fā)明的搬送車V是作為無人行駛(自行)的 搬送車說明的，然而也可以采用由操作員等以人力使之行駛的搬送車來應(yīng)用本發(fā)明。另外，雖然在上述的各實(shí)施方式中，在搬送車V的掩模盒搬送部41設(shè)置有暫時(shí)固 定機(jī)構(gòu)，上述暫時(shí)固定機(jī)構(gòu)通過使設(shè)于配置成2列的萬向滾珠43之間的保持機(jī)構(gòu)45上下 移動(dòng)，從而將掩模盒C在掩模盒搬送部41上的位置暫時(shí)固定，然而也可以將相同的機(jī)構(gòu)設(shè) 于搬送裝置Hl的掩模盒搬送部50中。此外，也可以在搬送裝置Hl的掩模盒搬送部50中， 設(shè)置由配置于掩模盒C的下部而保持掩模盒的保持部、和使萬向滾珠上下移動(dòng)的上下移動(dòng) 機(jī)構(gòu)構(gòu)成的暫時(shí)固定機(jī)構(gòu)。另外，雖然在上述的各實(shí)施方式中，搬送車V具有旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)42，使搬送車V中掩模 盒C的搬入搬出方向與搬送裝置Hl中的掩模盒C的搬入搬出方向一致，然而也可以在搬 送裝置Hl中設(shè)置使搬送裝置Hl中的掩模盒C的搬入搬出方向相對(duì)于搬送車V旋轉(zhuǎn)的機(jī) 構(gòu)。即，可以在搬送車V與搬送裝置Hl的至少一方設(shè)置旋轉(zhuǎn)掩模盒C的搬入搬出方向的機(jī) 構(gòu)。同樣地，也可以在掩模庫(kù)LB中設(shè)置使收容部65中的掩模盒C的搬入搬出方向相對(duì)于 搬送裝置Hl旋轉(zhuǎn)的機(jī)構(gòu)。這樣，就可以根據(jù)曝光裝置的整體構(gòu)成或多個(gè)曝光裝置的排列構(gòu) 成(裝置布局)等，恰當(dāng)?shù)卦O(shè)定進(jìn)行掩模盒C的轉(zhuǎn)交時(shí)的搬送車V、搬送裝置Hl及掩模庫(kù) LB(收容部65)的相互的配置關(guān)系。下面，參照?qǐng)D19 圖21針對(duì)本發(fā)明的第三實(shí)施方式的曝光裝置進(jìn)行說明。在該 第三實(shí)施方式的曝光裝置中，向曝光裝置搬入的掩模盒的構(gòu)成、掩模盒轉(zhuǎn)交部及掩模盒搬 送部的構(gòu)成與第二實(shí)施方式不同，然而在其他的方面具有與第二實(shí)施方式的曝光裝置相同 的構(gòu)成。因此，在第三實(shí)施方式中，省略與第二實(shí)施方式的曝光裝置的構(gòu)成相同的構(gòu)成的詳 細(xì)的說明，對(duì)于與第二實(shí)施方式的曝光裝置的構(gòu)成相同的構(gòu)成使用與第二實(shí)施方式中所用 的符號(hào)相同的符號(hào)來進(jìn)行說明。圖19是表示掩模盒Cl的構(gòu)成的立體圖。而且，圖中所示的箭頭表示掩模盒Cl利 用搬送車Vl從曝光裝置EX的搬入搬出口 10進(jìn)入曝光室CH內(nèi)的方向。如圖19所示，掩模 盒Cl具備收納有掩模M的掩模收納部(收納部主體)30 ；設(shè)于其與載放掩模盒Cl的搬送 車VI、搬送裝置Hl等的接觸部的加強(qiáng)構(gòu)件(未圖示)。掩模收納部30具備形成收納掩模M的空間的俯視為矩形的下構(gòu)件30a和俯視為矩形的上構(gòu)件30b。而且，下構(gòu)件30a、上構(gòu)件30b及加強(qiáng)構(gòu)件具有與上述的實(shí)施方式的掩 模盒C大致相同的構(gòu)成。在掩模盒Cl的朝向進(jìn)入方向的前端面，設(shè)有反射板安裝部35，通過利用后述的掩 模尺寸識(shí)別傳感器85 (參照?qǐng)D20)來檢測(cè)反射板安裝部35中的反射板35a的安裝位置，從 而檢測(cè)出收容于掩模盒Cl內(nèi)的掩模M的尺寸。另外，在掩模盒Cl的兩個(gè)側(cè)面，設(shè)有掩模有 無傳感器用窗36a，掩模有無傳感器用窗36a在利用掩模有無傳感器86 (參照?qǐng)D20)檢測(cè)在 掩模盒Cl內(nèi)是否收容有掩模M時(shí)使用。這里，設(shè)于掩模盒Cl的兩個(gè)側(cè)面的掩模有無傳感器 用窗36a由透明樹脂等形成，配置于在掩模盒Cl的進(jìn)入方向上錯(cuò)移給定量的位置。另外， 在掩模盒Cl的上構(gòu)件30b中形成有條形碼窗36b，條形碼窗36b用于利用后述的條形碼讀 取器87(參照?qǐng)D20)來讀取在收容于掩模盒Cl內(nèi)的掩模M上形成的條形碼。而且，在掩模 盒Cl的上構(gòu)件30b中，還形成有用于目視收容于掩模盒Cl內(nèi)的掩模M的掩模確認(rèn)窗36c。 這里，條形碼窗36b及掩模確認(rèn)窗36c是由透明樹脂等形成的。此外，在上構(gòu)件30b的兩個(gè) 側(cè)部及后端部，設(shè)有在將上構(gòu)件30b開閉時(shí)使用的蓋開閉用突起37。而且，在掩模盒Cl內(nèi)，掩模M由分別設(shè)于下構(gòu)件30a的掩模盒Cl的進(jìn)入方向的兩個(gè)側(cè)部的四個(gè)支承部(未圖示)支承。支承部中的一個(gè)設(shè)在與設(shè)于掩模盒Cl的上構(gòu)件30b 中的條形碼窗36b對(duì)應(yīng)的位置。這里，在設(shè)于與該條形碼窗36b對(duì)應(yīng)的位置的支承部，為了 不使形成于掩模M的下面的條形碼直接接觸支承部，在支承部的上面的條形碼所處的部分 形成余隙，以該余隙的兩個(gè)端部支承掩模M的下面。其他的7個(gè)支承部以支承部的整個(gè)上 面來支承掩模M的下面。圖20是表示設(shè)于曝光裝置EX的掩模庫(kù)LB的下部的掩模盒轉(zhuǎn)交部700、設(shè)于掩模 盒轉(zhuǎn)交部700的圖中右側(cè)的掩模盒搬送部500的構(gòu)成的圖。掩模盒轉(zhuǎn)交部700具備保持掩 模盒Cl并在其與搬送裝置Hl之間進(jìn)行掩模盒Cl的轉(zhuǎn)交的機(jī)構(gòu)。即，掩模盒轉(zhuǎn)交部700配 置有大致平行的2列作為盒支承部的多個(gè)凸輪隨動(dòng)件73，上述凸輪隨動(dòng)件73支承掩模盒 Cl的加強(qiáng)構(gòu)件，并且抑制在其與該加強(qiáng)構(gòu)件之間產(chǎn)生的摩擦。這里，凸輪隨動(dòng)件73具有僅 朝向掩模盒Cl的進(jìn)入方向旋轉(zhuǎn)的構(gòu)成。另外，在凸輪隨動(dòng)件73之間，設(shè)有氣壓浮起式的萬 向滾珠74。氣壓浮起式萬向滾珠74在進(jìn)行與掩模盒Cl的進(jìn)入方向正交的方向的對(duì)準(zhǔn)時(shí) 浮起，保持掩模盒Cl，利用未圖示的促動(dòng)器使掩模盒Cl沿與進(jìn)入方向正交的方向移動(dòng)，進(jìn) 行與進(jìn)入方向正交的方向的對(duì)準(zhǔn)。而且，在圖20中，凸輪隨動(dòng)件73和氣壓浮起式萬向滾珠 74被交互地設(shè)置，然而也可以在氣壓浮起式萬向滾珠74之間設(shè)置多個(gè)凸輪隨動(dòng)件73。另外，在沿著配置了 2列的凸輪隨動(dòng)件73的列的掩模盒轉(zhuǎn)交部700的側(cè)端部，配 置有與凸輪隨動(dòng)件73的列大致平行的2列的作為引導(dǎo)機(jī)構(gòu)的多個(gè)凸輪隨動(dòng)件72。該2列 的凸輪隨動(dòng)件72中的至少一方與掩模盒Cl的側(cè)面部抵接，規(guī)定著掩模盒Cl相對(duì)于掩模盒 轉(zhuǎn)交部700的搬入搬出方向。而且，圖20中僅圖示了各自設(shè)有2列的凸輪隨動(dòng)件73及凸 輪隨動(dòng)件72中的位于圖中里側(cè)的凸輪隨動(dòng)件73及凸輪隨動(dòng)件72的列。掩模盒搬送部500具備保持掩模盒Cl并在搬送車Vl與掩模庫(kù)LB之間進(jìn)行掩模 盒Cl的轉(zhuǎn)交的機(jī)構(gòu)。具體來說，在掩模盒搬送部500上，配置有大致平行的2列的作為盒 支承部的多個(gè)凸輪隨動(dòng)件75，上述凸輪隨動(dòng)件75支承掩模盒Cl的加強(qiáng)構(gòu)件，并且抑制在其 與該加強(qiáng)構(gòu)件之間產(chǎn)生的摩擦。這里，凸輪隨動(dòng)件75具有僅朝向掩模盒Cl的進(jìn)入方向旋 轉(zhuǎn)的構(gòu)成。另外，在凸輪隨動(dòng)件75之間設(shè)有氣壓浮起式的萬向滾珠76。氣壓浮起式萬向滾珠76在進(jìn)行與掩模盒Cl的進(jìn)入方向正交的方向的對(duì)準(zhǔn)時(shí)浮起，保持掩模盒Cl，利用未圖示 的促動(dòng)器使掩模盒Cl沿與進(jìn)入方向正交的方向移動(dòng)，進(jìn)行與進(jìn)入方向正交的方向的對(duì)準(zhǔn)。 而且，雖然在圖20中，凸輪隨動(dòng)件75和氣壓浮起式萬向滾珠76被交互地設(shè)置，然而也可以 在氣壓浮起式萬向滾珠76之間設(shè)置多個(gè)凸輪隨動(dòng)件75。
另外，在沿著配置了 2列的凸輪隨動(dòng)件75的列的掩模盒搬送部500的側(cè)端部，配 置有與凸輪隨動(dòng)件75的列大致平行的2列作為引導(dǎo)機(jī)構(gòu)的多個(gè)凸輪隨動(dòng)件53。該2列的 凸輪隨動(dòng)件53中的至少一方與掩模盒Cl的側(cè)面部抵接，規(guī)定著掩模盒Cl相對(duì)于掩模盒搬 送部500的搬入搬出方向。而且，圖20中，僅圖示了各自設(shè)有2列的凸輪隨動(dòng)件75及凸輪 隨動(dòng)件53中的位于圖中里側(cè)的凸輪隨動(dòng)件75及凸輪隨動(dòng)件53的列。另外，在掩模盒搬送 部500上的配置有2列的凸輪隨動(dòng)件75之間，設(shè)有使掩模盒Cl相對(duì)于凸輪隨動(dòng)件75沿搬 入搬出方向滑行移動(dòng)的滑行機(jī)構(gòu)55。圖21中所示的流程圖是對(duì)第三實(shí)施方式的掩模盒Cl向曝光裝置EX的掩模庫(kù)LB 的搬送加以說明的圖。首先，收納有掩模M的掩模盒Cl被利用搬送車Vl搬送到曝光裝置 EX (步驟S30)，在設(shè)于掩模盒轉(zhuǎn)交部700中的凸輪隨動(dòng)件73上載放掩模盒Cl，將掩模盒Cl 轉(zhuǎn)交給掩模盒轉(zhuǎn)交部700 (步驟S31)。而且，此時(shí)，氣壓浮起式萬向滾珠74并不浮起，其頂 部不接觸掩模盒Cl的下面。然后，使掩模盒Cl從掩模盒轉(zhuǎn)交部700向搬送裝置Hl的掩模盒搬送部500上滑 行移動(dòng)(步驟S32)。S卩，控制裝置CONT利用升降驅(qū)動(dòng)部51使掩模盒搬送部500移動(dòng)到與 掩模盒轉(zhuǎn)交部700對(duì)應(yīng)的高度(第一搬送高度)，使掩模盒轉(zhuǎn)交部700的凸輪隨動(dòng)件73的 頂部的高度與掩模盒搬送部500的凸輪隨動(dòng)件75的頂部的高度一致?？刂蒲b置CONT利用 滑行機(jī)構(gòu)55使掩模盒Cl從掩模盒轉(zhuǎn)交部700的凸輪隨動(dòng)件73上向掩模盒搬送部500的 凸輪隨動(dòng)件75上滑行移動(dòng)。而且，在掩模盒轉(zhuǎn)交部700的掩模盒搬送部500中，進(jìn)行與掩 模盒Cl的進(jìn)入方向正交的方向的對(duì)準(zhǔn)時(shí)，使氣壓浮起式萬向滾珠74、76浮起，利用其頂部 保持掩模盒Cl，利用未圖示的促動(dòng)器使掩模盒Cl沿與進(jìn)入方向正交的方向移動(dòng)，進(jìn)行與進(jìn) 入方向正交的方向的對(duì)準(zhǔn)。然后，當(dāng)掩模盒Cl被向掩模盒搬送部500移動(dòng)時(shí)，控制裝置CONT利用掩模有無傳 感器86檢測(cè)在掩模盒Cl內(nèi)是否收容有掩模M(步驟S33)。即，從掩模有無傳感器86向形 成于掩模盒Cl的一方的側(cè)面的掩模有無傳感器用窗36a射入檢測(cè)光，入射的檢測(cè)光從掩模 M的側(cè)面射入掩模M內(nèi)而從另一方的側(cè)面射出，該檢測(cè)光從形成于掩模盒Cl的另一方的側(cè) 面的掩模有無傳感器用窗36a中射出，根據(jù)是否能夠利用掩模有無傳感器86檢測(cè)出由未圖 示的反射板反射的檢測(cè)光，來檢測(cè)在掩模盒Cl內(nèi)是否收容有掩模M。然后，基于由掩模尺寸識(shí)別傳感器85檢測(cè)出的反射板安裝部35中的反射板35a 的安裝位置，來檢測(cè)收容于掩模盒Cl內(nèi)的掩模M的尺寸(步驟S34)。然后，控制裝置CONT利用升降驅(qū)動(dòng)部51使掩模盒搬送部500移動(dòng)到搬送裝置Hl 的最上部，利用條形碼讀取器87穿過條形碼窗36b讀取在收容于掩模盒Cl內(nèi)的掩模M上形 成的條形碼(步驟S35)。此后，將掩模盒Cl從搬送裝置Hl的最上部搬送到掩模庫(kù)LB(步 驟S36、S37)。而且，該處理是與第一實(shí)施方式的步驟S12、S13相同地進(jìn)行的。而且，在將掩模M從掩模庫(kù)LB向曝光部S搬送時(shí)，在將掩模盒Cl的上構(gòu)件30b殘 留于掩模庫(kù)LB的收容部65內(nèi)，將掩模M載放在掩模盒Cl的下構(gòu)件30a上的狀態(tài)下，滑行移動(dòng)到掩模盒搬送部500上，利用升降驅(qū)動(dòng)部51使掩模盒搬送部500上升移動(dòng)到作為搬送 裝置Hl的最上部的位置CAl (參照?qǐng)D1)，將掩模M在位置CAl轉(zhuǎn)交給承載架21。在該情況 下，在掩模庫(kù)LB的收容部65內(nèi)，在利用設(shè)于收容部65內(nèi)的蓋升降機(jī)構(gòu)(未圖示)，支承蓋 開閉用突起37的下面，使上構(gòu)件30b上升的狀態(tài)下，使載放有掩模M的下構(gòu)件30a向掩模盒搬送部500上移動(dòng)。而且，雖然在上述實(shí)施方式中，利用承載架21進(jìn)行從位置CAl到位置CA2之間的 掩模M的移動(dòng)，然而也可以利用圖22及圖23所示的承載架210來進(jìn)行。如圖22所示，承 載架210具備保持掩模M的4角附近的4個(gè)指形扣211。如圖23所示，在指形扣211中夾 隔著緩沖材料212設(shè)有多孔氣墊213。多孔氣墊213在與掩模M接觸的支承面的全面形成 有多個(gè)氣體噴出孔。而且，在多孔氣墊213的下部設(shè)有樞軸機(jī)構(gòu)214，在掩模M彎曲等情況 下，與掩模M的彎曲對(duì)應(yīng)地利用樞軸機(jī)構(gòu)214使多孔氣墊213的支承面與掩模M的彎曲對(duì) 應(yīng)地傾斜。如果利用該指形扣211，就能夠使從氣體供給部215供給的氣體從多孔氣墊213 的全面向掩模M均勻地噴出，因此能夠使掩模M可靠地浮起而容易地進(jìn)行掩模M的載放場(chǎng) 所的對(duì)準(zhǔn)。另外，在上述的各實(shí)施方式中，作為曝光裝置EX，可以適用于將掩模M和感光基板 P同步移動(dòng)而將掩模M的圖案掃描曝光的步進(jìn)掃描方式的掃描型曝光裝置、在使掩模M與感 光基板P靜止的狀態(tài)下將掩模M的圖案曝光而將感光基板P依次分步移動(dòng)的分步重復(fù)方式 的投影曝光裝置(步進(jìn)機(jī))。另外，作為曝光裝置EX的種類，并不限于將液晶顯示器件圖案 向感光基板P上曝光的液晶顯示器件制造用的曝光裝置，也可以廣泛地用于將半導(dǎo)體器件 圖案向晶片上曝光的半導(dǎo)體器件制造用的曝光裝置、或用于制造薄膜磁頭、攝像元件(CXD) 或標(biāo)線片等的曝光裝置等中。另外，作為曝光光EL的光源，可以使用從超高壓水銀燈中產(chǎn) 生的亮線(g 線(436nm)、h 線(404. 7nm)、i 線(365nm))、KrF 準(zhǔn)分子激光器(248nm)、ArF 準(zhǔn)分子激光器(193nm)、F2激光器(157nm)。此外，投影光學(xué)系統(tǒng)PL的倍率不僅可以是等倍 系的，也可以是縮小系及放大系的某種。另外，作為投影光學(xué)系統(tǒng)PL，在使用準(zhǔn)分子激光器 等遠(yuǎn)紫外線的情況下，作為玻璃材料使用石英或螢石等透過遠(yuǎn)紫外線的材料，在使用F2激 光器或X射線的情況下，采用反射折射系或折射系的光學(xué)系統(tǒng)。另外，也可以適用于不使用 投影光學(xué)系統(tǒng)PL而使掩模M與感光基板P密合地將掩模M的圖案曝光的近接曝光裝置中。下面，針對(duì)使用了本發(fā)明的曝光裝置的器件制造方法進(jìn)行說明。圖24是表示半導(dǎo) 體器件的制造工序的流程圖。如該圖所示，在半導(dǎo)體器件的制造工序中，向成為半導(dǎo)體器件 的基板的晶片上蒸鍍金屬膜(步驟S40)，在該蒸鍍好的金屬膜上涂布作為感光性材料的光 刻膠(步驟S42)。接下來，在本發(fā)明的曝光裝置中，從掩模庫(kù)中取出掩模(標(biāo)線片)向掩模 載臺(tái)上搬送(搬送工序)，將該掩模中設(shè)置的圖案的投影像向晶片上的各拍攝區(qū)域轉(zhuǎn)印(步 驟S44 曝光工序(照明工序及投影工序))，進(jìn)行結(jié)束了該轉(zhuǎn)印的晶片的顯影，也就是進(jìn)行 轉(zhuǎn)印了圖案的投影像的光刻膠的顯影(步驟S46:顯影工序)。其后，將利用步驟S46在晶 片上形成的抗蝕劑圖案作為掩模，對(duì)晶片進(jìn)行蝕刻等加工(步驟S48 加工工序)。這里，所謂抗蝕劑圖案是形成與利用本發(fā)明的曝光裝置轉(zhuǎn)印的圖案的投影像對(duì)應(yīng) 的形狀的凹凸的光刻膠層，其凹部貫穿光刻膠層。在步驟S48中，穿過該抗蝕劑圖案地進(jìn)行 晶片表面的加工。在步驟S48中進(jìn)行的加工中，包括例如晶片表面的蝕刻或金屬膜等的成 膜的至少一方。而且，在步驟S44中，本發(fā)明的曝光裝置將涂布有光刻膠的晶片作為感光基板進(jìn)行圖案的轉(zhuǎn)印。圖25是表示液晶顯示元件等液晶器件的制造工序的流程圖。如該圖所示，在液晶 器件的制造工序中，依次進(jìn)行圖案形成工序(步驟S50)、濾色片形成工序(步驟S52)、單元 組裝工序(步驟S54)及模塊組裝工序(步驟S56)。在步驟S50的圖案形成工序中， 作為感光基板在涂布有光刻膠的玻璃基板上，使 用本發(fā)明的曝光裝置形成電路圖案及電極圖案等給定的圖案。在該圖案形成工序中，包含 曝光工序，使用本發(fā)明的曝光裝置在光刻膠層上轉(zhuǎn)印設(shè)于掩模中的圖案的投影像；顯影工 序，進(jìn)行轉(zhuǎn)印了圖案的投影像的感光基板的顯影，也就是進(jìn)行玻璃基板上的光刻膠層的顯 影，形成與圖案的投影像對(duì)應(yīng)的形狀的光刻膠層；加工工序，穿過該顯影后的光刻膠層對(duì)玻 璃基板進(jìn)行加工。在步驟S52的濾色片形成工序中，形成濾色片，其將與R (Red) ,G(Green)、 B(Blue)對(duì)應(yīng)的3個(gè)點(diǎn)的組以矩陣狀排列多組，或者將R、G、B的3條條紋的濾片的組沿水 平掃描方向排列多組。在步驟S54的單元組裝工序中，使用利用步驟S50形成了給定圖案的玻璃基板、利 用步驟S52形成的濾色片來組裝液晶面板(液晶單元)。具體來說，例如通過向玻璃基板與 濾色片之間注入液晶來形成液晶面板。在步驟S56的模塊組裝工序中，向利用步驟S54組 裝好的液晶面板中，安裝進(jìn)行該液晶面板的顯示動(dòng)作的電路及背光燈等各種部件。本公開與2007年11月15日提出的日本專利申請(qǐng)第2007-296640號(hào)中所含的主 題相關(guān)聯(lián)，在這里將其公開的全部?jī)?nèi)容作為參照事項(xiàng)清楚地納入。
權(quán)利要求
一種掩模盒，是收納掩模的掩模盒，其特征在于，在與載放該掩模盒的外部裝置接觸的接觸部具備加強(qiáng)構(gòu)件，其中所述加強(qiáng)構(gòu)件具有與所述掩模的負(fù)荷對(duì)應(yīng)的強(qiáng)度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模盒，其特征在于，所述加強(qiáng)構(gòu)件被設(shè)置成以軌道狀向該 掩模盒相對(duì)于所述外部裝置的搬入搬出方向延伸。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩模盒，其特征在于，所述加強(qiáng)構(gòu)件具有平面部，所述平面部與所述外部裝置接觸且相對(duì)于所述搬入搬出方向在給定寬度以上。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的掩模盒，其特征在于，所述加強(qiáng)構(gòu)件在所述搬入搬出方向 的至少一方的端部具有相對(duì)于所述掩模的負(fù)荷方向傾斜的錐面。
5.根據(jù)權(quán)利要求1 4中任意一項(xiàng)所述的掩模盒，其特征在于，所述加強(qiáng)構(gòu)件是使用淬 火過的金屬構(gòu)件形成的。
6.根據(jù)權(quán)利要求1 5中任意一項(xiàng)所述的掩模盒，其特征在于，所述加強(qiáng)構(gòu)件的比重大 于收納所述掩模的收納部主體中所用的構(gòu)成材料的比重。
7.根據(jù)權(quán)利要求1 6中任意一項(xiàng)所述的掩模盒，其特征在于，所述加強(qiáng)構(gòu)件被設(shè)于該 掩模盒的底面部。
8.根據(jù)權(quán)利要求1 7中任意一項(xiàng)所述的掩模盒，其特征在于，具備連結(jié)部， 所述連結(jié)部與使該掩模盒相對(duì)于所述外部裝置向所述搬入搬出方向滑行移動(dòng)的滑行機(jī)構(gòu)能夠分開地連結(jié)。
9.一種搬送裝置，是搬送掩模的搬送裝置，其特征在于，具備盒支承部，所述盒支承部對(duì)收納了所述掩模的權(quán)利要求1 8中任意一項(xiàng)所述的掩模盒的所述加 強(qiáng)構(gòu)件進(jìn)行支承，并且抑制與該加強(qiáng)構(gòu)件之間產(chǎn)生的摩擦。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的搬送裝置，其特征在于，所述盒支承部沿著所述掩模盒相對(duì) 于該搬送裝置的搬入搬出方向設(shè)置，并沿著該搬入搬出方向?qū)λ黾訌?qiáng)構(gòu)件進(jìn)行支承。
11.根據(jù)權(quán)利要求9或10所述的搬送裝置，其特征在于，具備將所述掩模盒向所述搬入 搬出方向引導(dǎo)的引導(dǎo)機(jī)構(gòu)。
12.根據(jù)權(quán)利要求9 11中任意一項(xiàng)所述的搬送裝置，其特征在于，具備暫時(shí)固定所述 掩模盒的位置的暫時(shí)固定機(jī)構(gòu)。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的搬送裝置，其特征在于，所述暫時(shí)固定機(jī)構(gòu)具有保持機(jī)構(gòu)， 所述保持機(jī)構(gòu)保持所述掩模盒并且使所述掩模盒相對(duì)于所述盒支承部上下移動(dòng)。
14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的搬送裝置，其特征在于，所述暫時(shí)固定機(jī)構(gòu)具有使所述掩模盒與所述盒支承部一起上下移動(dòng)的上下移動(dòng)機(jī)構(gòu)、保持被該上下移動(dòng)機(jī)構(gòu) 下降了的所述掩模盒的保持部。
15.根據(jù)權(quán)利要求11所述的搬送裝置，其特征在于，具備暫時(shí)固定機(jī)構(gòu)，所述暫時(shí)固定機(jī)構(gòu)將所述掩模盒向所述引導(dǎo)機(jī)構(gòu)頂靠而暫時(shí)固定所述掩模盒的位置。
16.根據(jù)權(quán)利要求9 15中任意一項(xiàng)所述的搬送裝置，其特征在于，具備旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)， 所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)使所述盒支承部旋轉(zhuǎn)，以使所述掩模盒相對(duì)于該搬送裝置的搬入搬出方向變化。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的搬送裝置，其特征在于，具備角度檢測(cè)機(jī)構(gòu)，所述角度檢測(cè)機(jī)構(gòu)檢測(cè)與由所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)造成的所述盒支承部的旋轉(zhuǎn)角度對(duì)應(yīng)的角度fe息，所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)根據(jù)所述角度信息使所述盒支承部旋轉(zhuǎn)。
18.根據(jù)權(quán)利要求9 17中任意一項(xiàng)所述的搬送裝置，其特征在于，具備滑行機(jī)構(gòu)， 所述滑行機(jī)構(gòu)使所述掩模盒相對(duì)于所述盒支承部向所述掩模盒相對(duì)于該搬送裝置的搬入搬出方向滑行移動(dòng)。
19.根據(jù)權(quán)利要求9 18中任意一項(xiàng)所述的搬送裝置，其特征在于，具備使該搬送裝置 移動(dòng)的裝置移動(dòng)機(jī)構(gòu)。
20.根據(jù)權(quán)利要求18所述的搬送裝置，其特征在于，具備升降移動(dòng)機(jī)構(gòu)，其保持所述盒支承部，并使所述盒支承部相對(duì)于第一搬送高度和第二 搬送高度升降移動(dòng)，其中該第一搬送高度與所述掩模盒的搬入搬出口對(duì)應(yīng)，該第一搬送高 度與設(shè)于該搬入搬出口上方的所述掩模盒的保管部對(duì)應(yīng)；轉(zhuǎn)交控制部，其在所述盒支承部被移動(dòng)到所述第一搬送高度或所述第二搬送高度的情 況下驅(qū)動(dòng)所述滑行機(jī)構(gòu)，在與配置于所述搬入搬出口附近的搬送車或所述保管部之間進(jìn)行 所述掩模盒的轉(zhuǎn)交。
21.根據(jù)權(quán)利要求18所述的搬送裝置，其特征在于，具備 保管部，其設(shè)于所述轉(zhuǎn)交部上方，保管所述掩模盒；升降移動(dòng)機(jī)構(gòu)，其保持所述盒支承部，并使所述盒支承部相對(duì)于與所述轉(zhuǎn)交部對(duì)應(yīng)的 第一搬送高度和與設(shè)于該轉(zhuǎn)交部的上方的所述掩模盒的保管部對(duì)應(yīng)的第二搬送高度升降 移動(dòng)；轉(zhuǎn)交控制部，其在所述盒支承部被移動(dòng)到所述第一搬送高度或所述第二搬送高度的情 況下驅(qū)動(dòng)所述滑行機(jī)構(gòu)，在與所述轉(zhuǎn)交部或所述保管部之間進(jìn)行所述掩模盒的轉(zhuǎn)交。
22.根據(jù)權(quán)利要求20或21所述的搬送裝置，其特征在于，所述保管部具有所述盒支承部，所述升降移動(dòng)機(jī)構(gòu)使所述第二搬送高度下的該升降移動(dòng)機(jī)構(gòu)的所述盒支承部與所述 保管部的所述盒支承部的高度一致，所述滑行機(jī)構(gòu)在所述升降移動(dòng)機(jī)構(gòu)的所述盒支承部與所述保管部的所述盒支承部之 間使所述掩模盒滑行移動(dòng)。
23.根據(jù)權(quán)利要求20所述的搬送裝置，其特征在于，所述搬送車具有所述盒支承部， 所述升降移動(dòng)機(jī)構(gòu)使所述第一搬送高度下的該升降移動(dòng)機(jī)構(gòu)的所述盒支承部與所述搬送車的所述盒支承部的高度一致，所述滑行機(jī)構(gòu)在所述升降移動(dòng)機(jī)構(gòu)的所述盒支承部與所述搬送車的所述盒支承部之 間使所述掩模盒滑行移動(dòng)。
24.根據(jù)權(quán)利要求21所述的搬送裝置，其特征在于，所述轉(zhuǎn)交部具有所述盒支承部， 所述升降移動(dòng)機(jī)構(gòu)使所述第一搬送高度下的該升降移動(dòng)機(jī)構(gòu)的所述盒支承部與所述轉(zhuǎn)交部的所述盒支承部的高度一致，所述滑行機(jī)構(gòu)在所述升降移動(dòng)機(jī)構(gòu)的所述盒支承部與所述轉(zhuǎn)交部的所述盒支承部之 間使所述掩模盒滑行移動(dòng)。
25.根據(jù)權(quán)利要求24所述的搬送裝置，其特征在于，所述搬送車具有轉(zhuǎn)交保持機(jī)構(gòu)， 所述轉(zhuǎn)交保持機(jī)構(gòu)保持所述掩模盒并使所述掩模盒相對(duì)于所述轉(zhuǎn)交部的所述盒支承部上下移動(dòng)，所述轉(zhuǎn)交部與所述轉(zhuǎn)交保持機(jī)構(gòu)之間進(jìn)行所述掩模盒的轉(zhuǎn)交。
26.—種曝光裝置，其特征在于，具備權(quán)利要求20 25中任意一項(xiàng)所述的搬送裝置、在感光基板上形成使用所述搬送裝置被搬送的掩模所設(shè)置的圖案的投影像的投影光 學(xué)系統(tǒng)。
27.一種掩模搬送方法，其特征在于，包括第一工序，利用具備支承設(shè)于所述掩模盒中的加強(qiáng)構(gòu)件并且抑制與該加強(qiáng)構(gòu)件之間所 產(chǎn)生的摩擦的盒支承部及裝置移動(dòng)機(jī)構(gòu)的第一搬送裝置，將收納于掩模盒中的掩模搬送至 權(quán)利要求23所述的第二搬送裝置；第二工序，使所述掩模盒從所述第一搬送裝置的所述盒支承部上滑行移動(dòng)到所述第二 搬送裝置具備的所述升降移動(dòng)機(jī)構(gòu)的所述盒支承部上；第三工序，使所述升降移動(dòng)機(jī)構(gòu)的所述盒支承部上升到具有所述盒支承部的所述保管 部的高度；第四工序，使所述掩模盒從所述升降移動(dòng)機(jī)構(gòu)的所述盒支承部上滑行移動(dòng)到所述保管 部的所述盒支承部上。
28.—種掩模搬送方法，其特征在于，包括第一工序，利用搬送車將收納于掩模盒中的掩模搬送至權(quán)利要求24所述的搬送裝置；第二工序，將所述掩模盒從所述搬送車轉(zhuǎn)交到所述搬送裝置具備的所述轉(zhuǎn)交部的所述 盒支承部上；第三工序，使所述掩模盒從所述轉(zhuǎn)交部的所述盒支承部上滑行移動(dòng)到所述搬送裝置具 備的所述升降移動(dòng)機(jī)構(gòu)的所述盒支承部上；第四工序，使所述升降移動(dòng)機(jī)構(gòu)的所述盒支承部上升到具有所述盒支承部的所述保管 部的高度；第五工序，使所述掩模盒從所述升降移動(dòng)機(jī)構(gòu)的所述盒支承部上滑行移動(dòng)到所述保管 部的所述盒支承部上。
29.一種器件制造方法，其特征在于，包括曝光工序，使用權(quán)利要求26所述的曝光裝置，將設(shè)于掩模的圖案的投影像向感光基板 轉(zhuǎn)??；顯影工序，將轉(zhuǎn)印了所述投影像的所述感光基板顯影，在所述感光基板上形成與所述 投影像對(duì)應(yīng)的形狀的掩模層；加工工序，夾隔著所述掩模層加工所述感光基板。
全文摘要
本發(fā)明提供一種掩模盒，其是收納掩模的掩模盒C，在其與作為載放該掩模盒C的外部裝置的搬送車V及搬送裝置H1的接觸部，具備具有與掩模的負(fù)荷對(duì)應(yīng)的強(qiáng)度的加強(qiáng)構(gòu)件，搬送掩模的搬送車V及搬送裝置H1分別具備作為盒支承部的多個(gè)萬向滾珠43、52，其支承收納了掩模的掩模盒C的加強(qiáng)構(gòu)件，并且抑制在其與該加強(qiáng)構(gòu)件之間產(chǎn)生的摩擦。
文檔編號(hào)H01L21/027GK101809709SQ20088010883
公開日2010年8月18日 申請(qǐng)日期2008年11月12日 優(yōu)先權(quán)日2007年11月15日
發(fā)明者向井干人, 吹田文吾 申請(qǐng)人:株式會(huì)社尼康