專(zhuān)利名稱(chēng)：基板處理系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種基板處理系統(tǒng)，該基板處理系統(tǒng)具有在一系列的處理工序中按照 工藝流程(process flow)的順序以大致水平的方向搬送被處理基板的搬送線。
背景技術(shù)：
在現(xiàn)有技術(shù)中，對(duì)于FPD (平板顯示器)制造中的抗蝕劑涂敷顯影處理系統(tǒng)，為了 應(yīng)對(duì)被處理基板的大型化，在沿水平方向鋪設(shè)滾子(roller)或者輥?zhàn)拥劝崴腕w形成的平 流搬送通路上裝備沿水平方向搬送基板并且向?qū)宓谋惶幚砻娼o與規(guī)定的液體、氣體、 光等進(jìn)行規(guī)定處理的平流方式的處理單元，按照工藝流程的順序沿著大致水平方向的工作 線以串聯(lián)方式排列含有這種平流方式處理單元的多個(gè)處理單元的系統(tǒng)結(jié)構(gòu)或者排列布局 正在標(biāo)準(zhǔn)化(例如參照專(zhuān)利文獻(xiàn)1)。 如專(zhuān)利文獻(xiàn)1中記載的那樣，這種排列布局為，在系統(tǒng)中心部配置橫長(zhǎng)的處理站， 在其長(zhǎng)度方向的兩端部分別配置盒站和界面站。在盒站中，在站內(nèi)的臺(tái)和系統(tǒng)外部之間，對(duì) 收容有多個(gè)未處理或者處理完的基板的盒進(jìn)行搬入搬出，并且在臺(tái)上的盒與處理站之間進(jìn) 行基板的搬入搬出。在界面站中，在鄰接的曝光裝置和處理站之間進(jìn)行基板的交接。
處理站具有以盒站為起點(diǎn)和終點(diǎn)，以界面站為折返點(diǎn)的去程和回程的兩列生產(chǎn)流 水線。通常，對(duì)于去程的生產(chǎn)流水線而言，洗凈處理系統(tǒng)的單元、抗蝕劑涂敷系統(tǒng)的單元、熱 處理系統(tǒng)的單元等鄰接或者夾著搬送系統(tǒng)單元配置成一列。對(duì)于回程的生產(chǎn)流水線，顯影 處理系統(tǒng)的單元、熱處理系統(tǒng)的單元、檢查系統(tǒng)的單元等鄰接或者夾著搬送系統(tǒng)的單元配 置成一列。 專(zhuān)利文獻(xiàn)1 :日本特開(kāi)2007-200993號(hào)公報(bào) 對(duì)于上述這種沿著直線的往返(去回)路徑的生產(chǎn)流水線按照工藝流程的順序串 聯(lián)排列配置含有平流方式的處理單元的多個(gè)處理單元的串聯(lián)型(流線型)的基板處理系 統(tǒng)，隨著FPD基板的大型化，系統(tǒng)長(zhǎng)度方向尺寸(全長(zhǎng)尺寸)也漸漸變大，該情況在FPD制 造工廠中在占地覆蓋這方面變得不利。 此外，曝光裝置的處理速度高速化，在抗蝕劑涂敷顯影處理系統(tǒng)中也要求各處理 單元在生產(chǎn)節(jié)拍(tact time)方面的縮短化。其中，當(dāng)在抗蝕劑涂敷工序和預(yù)烘焙工序之 間夾著減壓干燥的工序時(shí)，因?yàn)闇p壓干燥處理需要較長(zhǎng)時(shí)間，所以對(duì)于減壓干燥單元的生 產(chǎn)節(jié)拍的縮短化而言是最困難的。 特別是，當(dāng)在光刻術(shù)(照相平版法(photolithography))中使用網(wǎng)版(照相銅版 (halftone))曝光處理時(shí)，抗蝕劑的膜厚為通常(大約1.5ym)的大約1. 5 2倍(大約 2. 0 3. 0i! m)，在該部分抗蝕劑涂敷處理中，因?yàn)槊繅K基板的溶劑使用量變多，所以在減 壓干燥單元中，溶劑的蒸發(fā)所需要的時(shí)間變長(zhǎng)，使得實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)節(jié)拍的縮短化變得更加困難。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于上述現(xiàn)有技術(shù)中的問(wèn)題而完成的，其目的在于提供一種基板處理系統(tǒng)，在沿直線延長(zhǎng)的往返路徑的生產(chǎn)流水線按照工藝流程的順序排列配置多個(gè)處理單元的 串聯(lián)型(流線型(inline type))系統(tǒng)中，能夠有效實(shí)現(xiàn)全長(zhǎng)尺寸的縮短化以及生產(chǎn)節(jié)拍的 縮短化。 為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明第一方面的基板處理系統(tǒng)，其特征在于該基板處理系 統(tǒng)為按照工藝流程的順序連接多個(gè)處理單元對(duì)被處理基板實(shí)施一系列處理的串聯(lián)型的基 板處理系統(tǒng)，包括第一生產(chǎn)流水線，該第一生產(chǎn)流水線具有在系統(tǒng)長(zhǎng)度方向上，在第一 方向上，使第一組的處理單元鄰接，或者經(jīng)由搬送系統(tǒng)單元配置成一列，以平流方式搬送基 板的第一去程平流搬送部、和與該第一去程平流搬送部相比在工藝流程的下游側(cè)以平流方 式搬送基板的第二去程平流搬送部；第二生產(chǎn)流水線，在系統(tǒng)長(zhǎng)度方向上，在與所述第一方 向相反的第二方向上，使與所述第一生產(chǎn)流水線相比位于工藝流程的下游側(cè)的第二組的處 理單元相鄰接，或者經(jīng)由搬送系統(tǒng)單元配置成一列，與所述第一生產(chǎn)流水線在系統(tǒng)寬度方 向隔開(kāi)規(guī)定尺寸的中庭空間平行延伸；第三組的處理單元，該第三組的處理單元被配置在 所述中庭空間；和第一搬送裝置，該第一搬送裝置被配置在所述中庭空間，從所述第一去程 平流搬送部的終端側(cè)的基板交接部搬出各基板并向所述第三組的處理單元之一搬送，將由 所述第三組的處理單元之一處理完的各基板從該處理單元搬出并搬入到所述第二去程平 流搬送部的始端側(cè)的基板交接部。 此外，本發(fā)明第二方面的基板處理系統(tǒng)，其特征在于該基板處理系統(tǒng)為按照工藝 流程的順序連接多個(gè)處理單元對(duì)被處理基板實(shí)施一系列處理的串聯(lián)型的基板處理系統(tǒng)，包 括第一生產(chǎn)流水線，該第一生產(chǎn)流水線在系統(tǒng)長(zhǎng)度方向上，在第一方向上，使第一組的處 理單元相鄰接，或者經(jīng)由搬送系統(tǒng)單元配置成一列；第二生產(chǎn)流水線，該第二生產(chǎn)流水線具 有在系統(tǒng)長(zhǎng)度方向上，在與所述第一方向相反的第二方向上，使與所述第一生產(chǎn)流水線 相比位于工藝流程的下游側(cè)的第二組的處理單元相鄰接，或者經(jīng)由搬送系統(tǒng)單元配置成一 列，以平流方式搬送基板的第一回程平流搬送部、和與該第一回程平流搬送部相比在工藝 流程的下游側(cè)以平流方式搬送基板的第二回程平流搬送部，該第二生產(chǎn)流水線與所述第一 生產(chǎn)流水線在系統(tǒng)寬度方向隔開(kāi)規(guī)定尺寸的中庭空間平行延伸；第三組的處理單元，該第 三組的處理單元被配置在所述中庭空間；和第一搬送裝置，該第一搬送裝置被配置在所述 中庭空間，從所述第一回程平流搬送部的終端側(cè)的基板交接部搬出各基板并向所述第三組 的處理單元之一搬送，將由所述第三組的處理單元之一處理完的各基板從該處理單元搬出 并搬入到所述第二回程平流搬送部的始端側(cè)的基板交接部。 在本發(fā)明的基板處理系統(tǒng)中，第三組的處理單元和第一搬送裝置的占有空間或者 工作空間均被中庭空間所吸收(緩和分擔(dān))，均不包含在兩個(gè)生產(chǎn)流水線中，因此不會(huì)隨著 系統(tǒng)寬度尺寸的增加，能夠?qū)崿F(xiàn)系統(tǒng)全長(zhǎng)尺寸的大幅度縮短化。 在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方式中，第三組的處理單元含有對(duì)基板的處理內(nèi)容以及 時(shí)間實(shí)質(zhì)上相同的第一和第二處理單元，相對(duì)于經(jīng)由第一去程平流搬送部依次送來(lái)的基板 交替地反復(fù)對(duì)第一和第二處理單元進(jìn)行分配。根據(jù)所述結(jié)構(gòu)，通過(guò)錯(cuò)開(kāi)時(shí)間使第一以及第 二處理單元并列工作，能夠?qū)崿F(xiàn)生產(chǎn)節(jié)拍的大幅度的縮短化。 此時(shí)，優(yōu)選所述第一搬送裝置具有能夠在設(shè)置在所述中庭空間的搬送區(qū)域移動(dòng)的 搬送機(jī)器，所述第一和第二處理單元在系統(tǒng)長(zhǎng)度方向上在所述搬送區(qū)域夾著空間互相相對(duì) 地被配置在所述中庭空間。
在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方式中，所述第一和第二處理單元與所述搬送區(qū)域鄰接配置。所 述搬送機(jī)器相對(duì)于所述第一和第二處理單元對(duì)基板直接進(jìn)行搬入搬出。 在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方式中，在所述中庭空間設(shè)置有為了向所述第一處理單元搬入搬 出基板而在所述第一處理單元之外和其中連續(xù)的第一中庭平流搬送部。搬送機(jī)器相對(duì)于第 一處理單元經(jīng)由第一中庭平流搬送部對(duì)基板進(jìn)行搬入搬出。 在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方式中，第一中庭平流搬送部具有與搬送區(qū)域鄰接設(shè)置的第一 中庭基板搬入通路；設(shè)置在第一處理單元內(nèi)，能夠與第一中庭基板搬入通路連接的第一單 元內(nèi)搬送通路；和從第一處理單元觀察能夠在與第一中庭基板搬入通路相反一側(cè)與第一單 元內(nèi)搬送通路連接，通過(guò)第一處理單元的上或者下而延伸至鄰接搬送區(qū)域的終端位置的第 一中庭基板搬出通路。在向第一處理單元搬入基板時(shí)，在第一中庭基板搬入通路和第一單 元內(nèi)搬送通路上搬送基板，在從第一處理單元搬出基板時(shí)，在第一單元內(nèi)搬送通路和第一 中庭基板搬出通路上搬送基板。 作為另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方式，第一中庭平流搬送部具有鄰接搬送區(qū)域上下兩段設(shè) 置的能夠升降的第一中庭基板搬入通路以及第一中庭基板搬出通路、和設(shè)置在第一處理單 元內(nèi)，能夠選擇性地與第一中庭基板搬入通路和第一中庭基板搬出通路的任一個(gè)連接的第 一單元內(nèi)搬送通路。在向第一處理單元搬入基板時(shí)，第一中庭基板搬入通路的高度位置與 所述第一單元內(nèi)搬送通路相吻合，在第一中庭基板搬入通路和第一單元內(nèi)搬送通路上在系 統(tǒng)的長(zhǎng)度方向的第一方向上搬送基板。在從第一處理單元搬出基板時(shí)，第一中庭基板搬出 通路的高度位置與第一單元內(nèi)搬送通路相吻合，在第一單元內(nèi)搬送通路和第一中庭基板搬 出通路上在系統(tǒng)的長(zhǎng)度方向的第二方向上搬送基板。 在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方式中，在中庭空間設(shè)置有為了向第二處理單元搬入搬出基板而 在第二處理單元之外和其中連續(xù)的第二中庭平流搬送部。搬送機(jī)器相對(duì)于第二處理單元經(jīng) 由第二中庭平流搬送部對(duì)基板進(jìn)行搬入搬出。 在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方式中，第二中庭平流搬送部具有與搬送區(qū)域鄰接設(shè)置的第二 中庭基板搬入通路；設(shè)置在第二處理單元內(nèi)，能夠與第一中庭基板搬入通路連接的第二單 元內(nèi)搬送通路；和從第二處理單元觀察能夠在與第二中庭基板搬入通路相反一側(cè)與第二單 元內(nèi)搬送通路連接，通過(guò)第二處理單元的上或者下而延伸至鄰接搬送區(qū)域的終端位置的第 二中庭基板搬出通路。在向第二處理單元搬入基板時(shí)，在第二中庭基板搬入通路和第二單 元內(nèi)搬送通路上搬送基板，在從第二處理單元搬出基板時(shí)，在第二單元內(nèi)搬送通路和第二 中庭基板搬出通路上搬送基板。 在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方式中，第二中庭平流搬送部具有鄰接搬送區(qū)域上下兩段設(shè)置 的能夠升降的第二中庭基板搬入通路以及第二中庭基板搬出通路、和設(shè)置在第二處理單元 內(nèi)，能夠選擇性地與第二中庭基板搬入通路和第二中庭基板搬出通路的任一個(gè)連接的第二 單元內(nèi)搬送通路。在向第二處理單元搬入基板時(shí)，第二中庭基板搬入通路的高度位置與第 二單元內(nèi)搬送通路相吻合，在第二中庭基板搬入通路和第二單元內(nèi)搬送通路上在系統(tǒng)的長(zhǎng) 度方向的第二方向上搬送基板。此外，在從第二處理單元搬出基板時(shí)，第二中庭基板搬出通 路的高度位置與第二單元內(nèi)搬送通路相吻合，在第二單元內(nèi)搬送通路和第二中庭基板搬出 通路上在系統(tǒng)的長(zhǎng)度方向的第一方向上搬送基板。 在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方式中，在第一生產(chǎn)流水線中，在第一去程平流搬送部的終端側(cè)的基板交接部和第二去程平流搬送部的始端側(cè)的基板交接部之間配置有第三處理單元。第 一搬送裝置進(jìn)行相對(duì)于第三處理單元的基板的搬入搬出。 在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方式中，第三處理單元為向基板上涂敷抗蝕劑液的抗蝕劑涂敷單 元，第一和第二處理單元分別為在減壓狀態(tài)下使基板上的抗蝕劑涂敷膜干燥的第一和第二 減壓干燥單元，第一和第二減壓干燥單元的基板搬入口相對(duì)于抗蝕劑涂敷單元的基板搬出 口離開(kāi)大致相等的距離。在該結(jié)構(gòu)中，使第一個(gè)第二減壓干燥單元并列工作，全部基板隔著 相等的規(guī)定延遲時(shí)間在抗蝕劑涂敷處理后接受減壓干燥處理，所以能夠提高抗蝕劑涂敷膜 的膜質(zhì)(穩(wěn)定性和再現(xiàn)性)。 在另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方式中，在第一生產(chǎn)流水線中，在第一去程平流搬送部的搬送 通路上設(shè)置有向基板上涂敷抗蝕劑液的抗蝕劑涂敷單元，第一和第二處理單元分別為在減 壓狀態(tài)下使基板上的抗蝕劑涂敷膜干燥的第一和第二減壓干燥單元，第一和第二減壓干燥 單元的基板搬入口相對(duì)于所述第一去程平流搬送部的終端側(cè)的基板交接部離開(kāi)大致相等 的距離。在該結(jié)構(gòu)中，使第一個(gè)第二減壓干燥單元并列工作，全部基板隔著相等的規(guī)定延遲 時(shí)間在抗蝕劑涂敷處理后接受減壓干燥處理，所以能夠提高抗蝕劑涂敷膜的膜質(zhì)(穩(wěn)定性 和再現(xiàn)性)。 在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方式中，在系統(tǒng)長(zhǎng)度方向的一端部具有第二搬送裝置，該第二搬 送裝置從投入到系統(tǒng)中的任一個(gè)盒中取出未處理的基板并將其過(guò)渡至第一生產(chǎn)流水線，從 所述第二生產(chǎn)流水線收取已完成在系統(tǒng)內(nèi)的全部的規(guī)定處理的基板并將其收納在應(yīng)該從 系統(tǒng)運(yùn)出的任一個(gè)盒內(nèi)。 在另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方式中，在系統(tǒng)長(zhǎng)度方向的另一端部具有第三搬送裝置，該第 三搬送裝置從第一生產(chǎn)流水線搬出基板并將其直接搬入到第二生產(chǎn)流水線，或者經(jīng)由外部 的處理裝置之后搬入到第二生產(chǎn)流水線。 根據(jù)本發(fā)明，通過(guò)上述結(jié)構(gòu)和作用，能夠在沿著直線延長(zhǎng)的往返路徑的生產(chǎn)按照 工藝流程的順序排列配置多個(gè)處理單元的串聯(lián)型系統(tǒng)中，有效地實(shí)現(xiàn)全長(zhǎng)尺寸的縮短化以 及生產(chǎn)節(jié)拍的縮短化。


圖1是表示本發(fā)明的第一實(shí)施方式中的涂敷顯影處理系統(tǒng)的排列布局結(jié)構(gòu)的平 面圖。 圖2是表示在圖1的涂敷顯影處理系統(tǒng)中，配置在中庭空間的減壓干燥單元和搬 送裝置及其周?chē)奶幚韱卧脑敿?xì)結(jié)構(gòu)的平面圖。 圖3是表示第二實(shí)施方式中的涂敷顯影處理系統(tǒng)的排列布局結(jié)構(gòu)的平面圖。 圖4是表示圖2的涂敷顯影處理系統(tǒng)中的主要部分的結(jié)構(gòu)的簡(jiǎn)要側(cè)面圖。 圖5是表示圖4的搬入單元內(nèi)部的結(jié)構(gòu)的平面圖。 圖6是表示圖4的搬入單元內(nèi)部的結(jié)構(gòu)的正面圖。 圖7是表示比較例的系統(tǒng)的排列布局結(jié)構(gòu)的平面圖。 圖8是表示第三實(shí)施方式中的涂敷顯影處理系統(tǒng)的排列布局結(jié)構(gòu)的平面圖。 圖9是表示涂敷顯影處理系統(tǒng)中的抗蝕劑涂敷單元的結(jié)構(gòu)的平面圖。 圖10是表示第三實(shí)施方式的一個(gè)變形例中的涂敷顯影處理系統(tǒng)的排列布局結(jié)構(gòu)
9的主要部分的平面圖。 圖11是表示第四實(shí)施方式中的涂敷顯影處理系統(tǒng)的主要部分的排列布局結(jié)構(gòu)的 平面圖。 圖12是表示圖11的涂敷顯影處理系統(tǒng)中的搬入搬出單元以及中庭平流搬送部的 結(jié)構(gòu)和動(dòng)作的一個(gè)階段的部分截面?zhèn)纫晥D。 圖13是表示圖11的涂敷顯影處理系統(tǒng)中的搬入搬出單元以及中庭平流搬送部的 結(jié)構(gòu)和動(dòng)作的一個(gè)階段的部分截面?zhèn)纫晥D。 圖14是表示圖11的涂敷顯影處理系統(tǒng)中的搬入搬出單元以及中庭平流搬送部的 結(jié)構(gòu)和動(dòng)作的一個(gè)階段的部分截面?zhèn)纫晥D。標(biāo)號(hào)說(shuō)明
10涂敷顯影處理系統(tǒng)14盒站(c/s)16處理站(P/S)18界面站(I/F)22搬送裝置34搬送單元(OUT-PASS)36抗蝕劑涂敷單元(CT)38搬入單元(IN-PASS)46第一去程平流搬送部48第二去程平流搬送部60回程平流搬送部62搬送裝置66L :第一減壓干燥單元(VD)
66R :第一減壓干燥單元(VD)
68搬送裝置102L :第一減壓干燥單元(VD)
102R :第一減壓干燥單元(VD)
104L :第一中庭平流搬送部
104R:第二中庭平流搬送部
105:搬入單元(IN-PASS)112:搬出單元(OUT-PASS)172:抗蝕劑涂敷單元(CT)A :去程生產(chǎn)流水線
B:回程生產(chǎn)流水線
具體實(shí)施例方式
以下，參照附圖對(duì)本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。 圖1表示的是本發(fā)明第一實(shí)施方式的涂敷顯影處理系統(tǒng)10的排列布局結(jié)構(gòu)。該 涂敷顯影處理系統(tǒng)10被設(shè)置在清潔室內(nèi)，例如以玻璃基板作為被處理基板，在LCD制造工序中進(jìn)行光刻工序中的清洗、抗蝕劑涂敷、預(yù)烘焙、顯影和后烘焙等的一系列處理。曝光處 理通過(guò)鄰接該系統(tǒng)設(shè)置的外部的曝光裝置12來(lái)進(jìn)行。 該涂敷顯影處理系統(tǒng)IO在中心部配置有橫長(zhǎng)的處理站(P/S) 16，在其長(zhǎng)度方向(X 方向)兩端部配置有盒站(C/S) 14和界面站(I/F) 18。 盒站(C/S)14為系統(tǒng)10的盒搬入搬出端口，其具有盒臺(tái)20和搬送裝置22，其中， 盒臺(tái)20能夠沿水平方向(Y方向)并排載置4個(gè)能夠以多層層疊的方式收容有多個(gè)基板G 的盒C，搬送裝置22相對(duì)該臺(tái)20上的盒C進(jìn)行基板G的出入。搬送裝置22由具有能夠以 單片為單位保持基板G的搬送臂22a的搬送機(jī)器(機(jī)器人)構(gòu)成，其能夠在X、Y、Z、 e四 個(gè)軸進(jìn)行動(dòng)作，與鄰接的處理站(P/S) 16側(cè)之間進(jìn)行基板G的交接。 處理站(P/S)16沿著在水平的系統(tǒng)長(zhǎng)度方向(X方向)延伸的互相平行并且方向 相反的一對(duì)生產(chǎn)流水線A、 B，大致按照工藝流程的順序或者工序的順序配置有多個(gè)處理單 元。 更詳細(xì)地說(shuō)，在從盒站(C/S) 14 —側(cè)向著界面站(I/F) 18 —側(cè)的去程的生產(chǎn)流水 線A上，作為第一組單元，按照下述順序以排列成一列方式配置有搬入單元(IN-PASS) 24、 準(zhǔn)分子UV照射單元(E-UV) 26、擦洗清洗單元(SCR) 28、粘附單元(AD) 30、冷卻單元 (C0L)32、搬出單元(OUT-PASS) 34、抗蝕劑涂敷單元(CT)36、搬入單元(IN-PASS) 38、預(yù)烘焙 單元(PRE-BAKE)40、冷卻單元(C0L)42和搬出單元(OUT-PASS)44。 此處，準(zhǔn)分子UV照射單元(E-UV) 26 、擦洗清洗單元(SCR) 28 、粘附單元(AD) 30 以及冷卻單元(C0L)32中的任一個(gè)均作為平流方式的處理單元構(gòu)成，從搬入單元 (IN-PASS) 24至搬出單元(OUT-PASS) 34鋪設(shè)有縱斷上述處理單元26 32延伸的例如由輥 子搬送通路構(gòu)成的第一去程平流搬送部46。 此外，預(yù)烘焙?jiǎn)卧?PRE-BAKE) 40和冷卻單元(COL) 42的任一個(gè)均作為平流方式的 處理單元構(gòu)成，從搬入單元(IN-PASS) 38至搬出單元(OUT-PASS) 44鋪設(shè)有縱斷上述處理單 元40、42延伸的例如由輥?zhàn)影崴屯窐?gòu)成的第二去程平流搬送部48。 抗蝕劑涂敷單元(CT)36不是平流方式的處理單元，如根據(jù)圖2后述的那樣，其構(gòu) 成為在臺(tái)76上載置基板G將其固定，使抗蝕劑噴嘴78在其上方沿水平方向移動(dòng)或者掃描 從而在基板G上形成抗蝕劑涂敷膜。 另外，在從在從界面站(I/F) 18 —側(cè)向著盒站(C/S) 14 —側(cè)的回程的生產(chǎn)流水線 B上，作為第二組單元，按照下述順序以排列成一列方式配置有搬入單元(IN-PASS)(圖未 示出)、顯影單元(DEV) 52、后烘焙?jiǎn)卧?POST-BAKE) 54、冷卻單元(COL) 56、檢查單元(AP) 57 和搬出單元(OUT-PASS) 58。此處，上述搬入單元(IN-PASS)(圖未示出)被設(shè)置在周邊裝置 (TITLER/EE)50的下段(下層)即與顯影單元(DEV) 52相同的一段(層)。
顯影單元(DEV)52、后烘焙?jiǎn)卧?POST-BAKE) 54、冷卻單元(COL) 56以及檢查單元 (AP)58中的任一個(gè)均作為平流方式的處理單元構(gòu)成。從上述搬入單元(IN-PASS)(圖未示 出)至搬出單元(OUT-PASS) 58鋪設(shè)有縱斷上述處理單元52 58延伸的例如由輥?zhàn)影崴?通路構(gòu)成的回程平流搬送部60。 界面站(1/F)18具有用于與上述去程和回程的生產(chǎn)流水線A、B或者鄰接的曝 光裝置12之間進(jìn)行基板G的交接的搬送裝置62，與該搬送裝置62鄰接配置有周邊裝置 (TITLER/EE)50和旋轉(zhuǎn)臺(tái)(R/S)64。周邊裝置50含有周邊曝光裝置(EE)和字幕拍錄裝置(TITLER)。旋轉(zhuǎn)臺(tái)(R/S)64為使基板在水平面內(nèi)旋轉(zhuǎn)的臺(tái)，用于在與曝光裝置12之間進(jìn)行 交接時(shí)改變長(zhǎng)方形的基板G的方向。 在該涂敷顯影處理系統(tǒng)10中，形成有由盒站(C/S)14、去程的生產(chǎn)流水線A、界面
站(1/F)18和回程的生產(chǎn)流水線B所包圍的沿著X方向直線延伸的中庭空間NS。在該中庭
空間NS中，在規(guī)定的位置以互相相對(duì)的方式分別設(shè)置有作為第三組的單元的兩臺(tái)減壓干
燥單元66L、66R，并且在兩單元66L、66R之間設(shè)置有一臺(tái)搬送裝置68。 圖2表示的是減壓干燥單元66L、66R以及搬送裝置68及其周?chē)奶幚韱卧脑?br> 細(xì)結(jié)構(gòu)。 第一減壓干燥單元66L與第一去程平流搬送部46的搬出單元(0UT-PASS) 34相比 位于生產(chǎn)流水線A的上游側(cè)，與冷卻單元(C0L)32鄰接配置。第二減壓干燥單元66R與第 二去程平流搬送部48的搬入單元(IN-PASS) 38相比位于生產(chǎn)流水線A的下游側(cè)，與預(yù)烘焙 單元(PRE-BAKE)40鄰接配置。 在兩個(gè)減壓干燥單元66L、66R之間設(shè)置有搬送區(qū)域TE。搬送裝置68由具有能 夠以一個(gè)為單位保持基板G的搬送臂68a的搬送機(jī)器組成，能夠在X、Y、Z、 e四個(gè)軸動(dòng) 作，該搬送裝置68在搬送區(qū)域TE內(nèi)移動(dòng)，通過(guò)基板搬入口或者搬出口能夠訪問(wèn)與搬送 區(qū)域TE鄰接的全部的單元即兩個(gè)減壓干燥單元66L、66R、第一去程平流搬送部46的搬 出單元(OUT-PASS) 34、抗蝕劑涂敷單元(CT)36和第二去程平流搬送部48的搬入單元 (IN-PASS) 38，與這些單元之間進(jìn)行基板G的交接。 各減壓干燥單元66L、66R成為上下兩分割能夠減壓的腔室，將能夠從上面開(kāi)口的 托盤(pán)或者能夠從淺底容器型的下部腔室70(圖2)進(jìn)行升降移動(dòng)的上部腔室(圖未示出) 向上方抬起來(lái)進(jìn)行基板G的搬入搬出。 如圖2所示，下部腔室70大致為四邊形，在其中心部設(shè)置有用于水平地載置支撐 基板G的臺(tái)72，在底面的四個(gè)角落設(shè)置有排氣口 74。各排氣口 74經(jīng)由排氣管(圖未示出) 與真空泵(圖未示出)連通。在下部腔室70被上部腔室覆蓋的狀態(tài)下，兩個(gè)腔室內(nèi)的密閉 的處理空間能夠通過(guò)該真空泵被減壓至規(guī)定的真空壓力。此外，各減壓干燥單元66L、66R 還具有用于在臺(tái)72上進(jìn)行與搬送裝置68的搬送臂68a之間進(jìn)行基板G的交接的裝載/卸 載機(jī)構(gòu)(圖未示出)。 如圖2所示，抗蝕劑涂敷單元(CT) 36包括水平地載置基板以對(duì)其進(jìn)行保持的臺(tái) 76 ;使用長(zhǎng)條形(長(zhǎng)尺寸形狀)的抗蝕劑噴嘴78利用旋涂法(spinless)向載置于該臺(tái)76 上的基板G的上面(被處理面)涂敷抗蝕劑液的涂敷處理部80 ;和用于在不進(jìn)行涂敷處理 期間恢復(fù)抗蝕劑噴嘴78的抗蝕劑液噴出功能以準(zhǔn)備下一次動(dòng)作的噴嘴恢復(fù)部82等。
抗蝕劑噴嘴78為具有能夠在X方向從一端向著另一端覆蓋臺(tái)76上的基板G的呈 槽狀的噴嘴口的長(zhǎng)條形(長(zhǎng)尺寸形狀)的噴嘴，其與抗蝕劑液供給源(圖未示出)連接。 涂敷處理部80具有在進(jìn)行涂敷處理時(shí)使抗蝕劑噴嘴78在臺(tái)76的上方沿著Y方向水平移 動(dòng)的噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)84。該噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)84具有水平支撐抗蝕劑噴嘴78的呈逆"- "字形 或者門(mén)型的支撐體86和使該支撐體86在Y方向雙向直進(jìn)移動(dòng)的直進(jìn)驅(qū)動(dòng)部88?？刮g劑 噴嘴78呈帶狀噴出抗蝕劑液的同時(shí)，在臺(tái)76的上方沿著Y方向從基板G的一端水平移動(dòng) (掃描)至另一端，由此，基板G的上面(被處理面)宛如覆蓋毛毯一樣以規(guī)定的膜厚形成 抗蝕劑液的涂敷膜。其中，也可以以抗蝕劑噴嘴78的長(zhǎng)度方向?yàn)閅方向，以涂敷掃描方向
12為X方向。 在該抗蝕劑涂敷單元(CT) 36中，從中庭空間NS的搬送區(qū)域TE —側(cè)進(jìn)行基板G的搬入搬出。此外，還具有用于在臺(tái)76上進(jìn)行基板G的裝載/卸載的能夠升降移動(dòng)的升降銷(xiāo)90等。 兩個(gè)減壓干燥單元66L、66R以距離抗蝕劑涂敷單元(CT) 36的基板搬入搬出口相等距離呈左右對(duì)稱(chēng)的方式配置。由此，能夠使利用抗蝕劑涂敷單元(CT)36進(jìn)行完抗蝕劑涂敷處理的基板G為了接受下一工序的干燥減壓處理而由搬送裝置68移送至第一減壓干燥單元66L時(shí)的搬送延緩時(shí)間，與由搬送裝置68移動(dòng)至第二減壓干燥單元66R時(shí)的搬送延緩時(shí)間相等。 在圖2中，第一去程平流搬送部46構(gòu)成為，沿搬送方向(X方向)以規(guī)定間隔排列棒狀的輥?zhàn)?2而形成輥?zhàn)影崴屯?，利用由馬達(dá)以及傳動(dòng)機(jī)構(gòu)等構(gòu)成的輥?zhàn)域?qū)動(dòng)部(圖未示出)來(lái)旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)各輥?zhàn)?2，從而在輥?zhàn)影崴屯飞习崴突錑。在冷卻單元(COL) 32內(nèi)設(shè)置有通過(guò)與利用輥?zhàn)影崴投ㄟ^(guò)的基板G進(jìn)行熱交換或者與冷風(fēng)接觸而將其冷卻至規(guī)定溫度的冷卻機(jī)構(gòu)(圖未示出)。搬出單元(OUT-PASS) 34成為使在第一去程平流搬送部46的輥?zhàn)影崴屯飞弦云搅鞣绞桨崴蛠?lái)的基板G停止或者靜止的結(jié)構(gòu)，以及使基板G交接至搬送裝置68的搬送臂68a上的結(jié)構(gòu)。其中，在第一去程平流搬送部46中，也可以將輥?zhàn)影崴屯穭澐殖啥鄠€(gè)區(qū)間，在每個(gè)區(qū)間獨(dú)立地設(shè)置輥?zhàn)域?qū)動(dòng)部。 同樣，第二去程平流搬送部48也構(gòu)成為，沿搬送方向(X方向)以規(guī)定間隔排列棒狀的輥?zhàn)?4而形成輥?zhàn)影崴屯?，利用由馬達(dá)以及傳動(dòng)機(jī)構(gòu)等構(gòu)成的輥?zhàn)域?qū)動(dòng)部(圖未示出)來(lái)旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)各輥?zhàn)?4，從而在輥?zhàn)影崴屯飞习崴突錑。在預(yù)烘焙?jiǎn)卧?PRE-BAKE)40內(nèi)設(shè)置有通過(guò)與利用輥?zhàn)影崴投ㄟ^(guò)的基板G進(jìn)行熱交換或者與熱風(fēng)接觸而將其加熱至規(guī)定溫度的加熱機(jī)構(gòu)(圖未示出)。搬入單元(IN-PASS) 38成為從搬送裝置68的搬送臂68a收取基板G的結(jié)構(gòu)，以及在收取完基板G之后能夠立刻開(kāi)始平流搬送(輥?zhàn)影崴?的結(jié)構(gòu)。在第二去程平流搬送部48中，也可以將輥?zhàn)影崴屯穭澐殖啥鄠€(gè)區(qū)間，在每個(gè)區(qū)間獨(dú)立地設(shè)置輥?zhàn)域?qū)動(dòng)部。 此處，對(duì)該涂敷顯影處理系統(tǒng)中的針對(duì)一個(gè)基板G的全部工序的處理順序進(jìn)行說(shuō)明。 首先，在盒站(C/S)14中，搬送裝置22從臺(tái)20上的任一個(gè)盒C中取出一個(gè)基板G，將該取出的基板G搬入到處理站(P/S)16的生產(chǎn)流水線A側(cè)的搬入單元(IN-PASS) 24。在該搬入單元(IN-PASS) 24中，基板G被投入到生產(chǎn)流水線A的第一去程平流搬送部46中。
被投入到第一去程平流搬送部46中的基板G最初在清洗工序部中通過(guò)準(zhǔn)分子UV照射單元(E-UV)26和擦洗清洗單元(SCR)28依次被實(shí)施紫外線清洗處理和擦洗清洗處理。擦洗清洗單元(SCR)28通過(guò)對(duì)在第一去程平流搬送部46的輥?zhàn)影崴屯飞纤揭苿?dòng)的基板G實(shí)施擦洗清洗或者吹掃清洗而從基板表面除去粒子狀的污垢，之后實(shí)施沖洗處理，最后使用氣刀(空氣力)等使基板G干燥。若在擦洗清洗單元(SCR)28中的一系列的清洗處理結(jié)束，則基板G保持該狀態(tài)在第一去程平流搬送部46的輥?zhàn)影崴屯飞舷蛳聜鬟f，通過(guò)熱處理部(30、32)。 在熱處理部(30、32)中，基板G最初通過(guò)粘附單元(AD) 30被實(shí)施使用蒸氣狀的HMDS的粘附處理，使被處理面疏水化。在該粘附處理結(jié)束之后，基板G通過(guò)冷卻單元(COL) 32而被冷卻至規(guī)定的基板溫度。然后，基板G進(jìn)入到搬出單元(OUT-PASS) 34，并在此 處停止。 之后，搬送裝置68從中庭空間NS的搬送區(qū)域TE訪問(wèn)搬出單元(OUT-PASS) 34，從 第一去程平流搬送部46搬出基板G。接著，搬送裝置68在搬送區(qū)域TE內(nèi)移動(dòng)，將基板G搬 入到鄰接的抗蝕劑涂敷單元(CT)36。 在抗蝕劑涂敷單元(CT)36中，基本G被載置于臺(tái)76上而被固定，利用使槽狀噴嘴 78水平移動(dòng)(掃描)的旋涂法將抗蝕劑液噴涂在基板G的上面(被處理面)。
若在抗蝕劑涂敷單元(CT)36中的抗蝕劑涂敷處理結(jié)束，則搬送裝置68從中庭空 間NS的搬送區(qū)域TE訪問(wèn)抗蝕劑涂敷單元(CT)36，從臺(tái)76將基板G搬出。接著，搬送單元 68在搬送區(qū)域TE內(nèi)移動(dòng)，將基板G搬入到兩個(gè)減壓干燥單元(VD)66L、66R的單側(cè)例如第一 減壓干燥單元(VD)66L。 在第一減壓干燥單元(VD)66L中，在將基板G水平載置于臺(tái)72上之后，關(guān)閉腔室 (使上部腔室與下部腔室70密接)，真空泵動(dòng)作開(kāi)始真空排氣，對(duì)腔室內(nèi)進(jìn)行減壓來(lái)進(jìn)行干 燥處理。在該干燥處理中，在該減壓狀態(tài)下的腔室內(nèi)，有機(jī)溶劑(例如稀釋劑)從基板G上 的抗蝕劑液膜蒸發(fā)，有機(jī)溶劑蒸氣與其它氣體一起通過(guò)排氣管從腔室的排氣口 74被送至 真空泵一側(cè)。若經(jīng)過(guò)規(guī)定時(shí)間減壓干燥處理結(jié)束，則打開(kāi)腔室(使上部腔室從下部腔室70 向上方離開(kāi))，卸載基板G。 搬送裝置62訪問(wèn)第一減壓干燥單元(VD) 66L，搬出已完成減壓干燥處理的基板G。 接著，在搬送區(qū)域TE內(nèi)移動(dòng)，將基板G搬入到搬入單元(IN-PASS) 38。在此之后，利用第二 去程平流搬送部48開(kāi)始輥?zhàn)影崴?，基板G以平流方式被搬送至生產(chǎn)流水線A的下游側(cè)，通 過(guò)熱處理部(40 、42)。 在熱處理部(40、42)中，基板G最初通過(guò)預(yù)烘焙?jiǎn)卧?PRE-BAKE) 40接受作為抗蝕 劑涂敷后的熱處理或者曝光前的熱處理的預(yù)烘焙處理。通過(guò)該預(yù)烘焙處理，使殘留于基板 G上的抗蝕劑膜中的溶劑蒸發(fā)而被除去，從而增強(qiáng)相對(duì)于基板的抗蝕劑膜的密接性。接著， 基板G在冷卻單元(C0L)42中被冷卻至規(guī)定的溫度。然后，基板G從第二去程平流搬送部 48的終點(diǎn)的搬送單元(0UT-PASS)44被引導(dǎo)至界面站(I/F) 18的搬送裝置62。
在界面站(1/F)18中，基板G通過(guò)旋轉(zhuǎn)臺(tái)64接受例如90度的方向變換，之后被搬 入到周邊裝置50的周邊曝光裝置(EE)，在此，在接受完用于除去顯影時(shí)附著在基板G的周 邊部上的抗蝕劑的曝光之后，被送至鄰接的曝光裝置12。 在曝光裝置12中，在基板G上的抗蝕劑上曝光出規(guī)定的電路圖案。然后，若已結(jié) 束圖案曝光的基板G從曝光裝置12返回至界面站(I/F) 18，則首先被搬入到周邊裝置50的 字幕拍錄裝置(TITLER)，在此處在基板G上的規(guī)定部位記下規(guī)定的信息。然后，基板G通過(guò) 搬送裝置62被搬入到周邊裝置50的下段的搬入單元(圖未示出)。 這樣，基板G此次乘著鋪設(shè)于回程的生產(chǎn)流水線B上的回程平流搬送部60的輥?zhàn)?搬送通路而向著盒站(C/S)14移動(dòng)。 在最初的顯影單元(DEV)52中，基板G在以平流方式搬送期間進(jìn)行顯影、沖洗、干 燥的一系列顯影處理。 在顯影單元(DEV)52中結(jié)束一系列顯影處理的基板G保持該狀態(tài)就這樣乘著回程 平流搬送部60的輥?zhàn)影崴屯芬来瓮ㄟ^(guò)熱處理部(54、56)和檢查單元(AP)57。
在熱處理部(54、56)中，基板G最初在后烘焙?jiǎn)卧?POST-BAKE) 54中接受作為顯 影處理后的熱處理的后烘焙處理。通過(guò)該后烘焙處理，使殘留于基板G上的抗蝕劑膜中的 顯影液和清洗液蒸發(fā)除去，使相對(duì)于基板G的抗蝕劑圖案的密接性強(qiáng)化。接著，基板G在冷 卻單元(C0L)56被冷卻至規(guī)定的溫度。在檢查單元(AP)57中，針對(duì)基板G上的抗蝕劑圖案 進(jìn)行非接觸的線寬檢查、膜質(zhì)和膜厚檢查等。 搬出單元(OUT-PASS) 58從回程平流搬送部60收取已結(jié)束全部工序處理的基板G， 向盒站(C/S) 14的搬送機(jī)構(gòu)22進(jìn)行過(guò)渡交接。在盒站(C/S) 14 —側(cè)，搬送機(jī)構(gòu)22將從搬 出單元(OUT-PASS) 58收取的處理完的基板G收容在任一個(gè)(通常為起始的那個(gè))盒C中。
如上所述，該涂敷顯影處理系統(tǒng)10在去程的生產(chǎn)流水線A中鋪設(shè)有在抗蝕劑涂敷 單元(CT)36的正前方(面前一側(cè))作為終端的第一去程平流搬送部46和在預(yù)烘焙?jiǎn)卧?(PRE-BAKE)40的正前方(面前一側(cè))開(kāi)始的第二去程平流搬送部48，在與抗蝕劑涂敷單元 (CT)36鄰接的中庭空間NS以互相相對(duì)的方式在各自規(guī)定的位置分別設(shè)置有第一以及第二 減壓干燥單元(VD)66L、66R，并且設(shè)置有搬送裝置68。該搬送裝置68在設(shè)置于中庭空間NS 中的搬送區(qū)域TE內(nèi)移動(dòng)，能夠訪問(wèn)兩個(gè)減壓干燥單元(VD)66L、66R、第一去程平流搬送部 46的搬出單元(OUT-PASS) 34、抗蝕劑涂敷單元(CT) 36以及第二去程平流搬送部48的搬入 單元(IN-PASS) 38，與這些單元之間進(jìn)行基板G的交接。 通過(guò)上述構(gòu)成，在該涂敷顯影處理系統(tǒng)10中，第一和第二減壓干燥單元(VD)66L、 66R的占有空間被中庭空間NS所吸收(緩和分擔(dān))，其并沒(méi)有包含在兩個(gè)生產(chǎn)流水線A、 B 中，因此，并沒(méi)有伴隨系統(tǒng)寬度尺寸(Y方向尺寸)而增加，能夠?qū)崿F(xiàn)系統(tǒng)整個(gè)長(zhǎng)度尺寸(X 方向尺寸)的大幅度縮短化。 而且，在該涂敷顯影處理系統(tǒng)10中，第一和第二減壓干燥單元(VD)66L、66R具有 相同的結(jié)構(gòu)和功能，相對(duì)于基板G的減壓干燥的處理內(nèi)容和處理時(shí)間實(shí)質(zhì)上相同。對(duì)于經(jīng) 由第一去程平流搬送部46依次搬送來(lái)的基板G，在抗蝕劑涂敷單元(CT) 36中接受完抗蝕劑 涂敷處理之后，第一和第二減壓干燥單元(VD)66L、66R交互地反復(fù)被指定分配。
例如，奇數(shù)編號(hào)的各基板G在抗蝕劑涂敷單元(CT)36中接受完抗蝕劑涂敷處理之 后被移送至第一減壓干燥單元66L，在此處接受減壓干燥處理之后，被送至第二去程平流搬 送部48的搬入單元(IN-PASS) 38。另外，偶數(shù)編號(hào)的各基板G在抗蝕劑涂敷單元(CT) 36中 接受完抗蝕劑涂敷處理之后被移送至第二減壓干燥單元66R，在此處接受減壓干燥處理之 后，被送至第二去程平流搬送部48的搬入單元(IN-PASS)38。 因此，若第一和第二減壓干燥單元(VD)66L、66R的單臺(tái)的生產(chǎn)節(jié)拍為t，則通過(guò)隔 開(kāi)t/2的時(shí)間差使兩臺(tái)并聯(lián)工作，能夠利用兩臺(tái)全體使生產(chǎn)節(jié)拍為t/2。這樣，通過(guò)使一次 處理時(shí)間很長(zhǎng)的減壓干燥單元的生產(chǎn)節(jié)拍減少一半，成為支配決定系統(tǒng)整體的生產(chǎn)節(jié)拍的 主要原因。由此，即便曝光裝置12的處理速度高速化，或者在光刻術(shù)中使用網(wǎng)版曝光處理， 該涂敷顯影處理系統(tǒng)也能夠非常充裕地進(jìn)行對(duì)應(yīng)。 而且，在該涂敷顯影處理系統(tǒng)中，因?yàn)橄鄬?duì)于抗蝕劑涂敷單元(CT)36的基板搬出 口以相等間距配置第一和第二減壓干燥單元(VD)66L、66R，所以，從抗蝕劑涂敷結(jié)束的時(shí)刻 至開(kāi)始減壓干燥處理的延遲時(shí)間因奇數(shù)編號(hào)的基板G和偶數(shù)編號(hào)的基板G而不同。S卩，從抗 蝕劑涂敷膜的溶劑的蒸發(fā)，如果在涂敷之后開(kāi)始，與蒸發(fā)開(kāi)始后的干燥的情況相 有偏差， 即便通過(guò)之后的減壓干燥處理、預(yù)烘焙處理也不能補(bǔ)償。在該涂敷顯影處理系統(tǒng)中，使第一以及第二減壓干燥單元66L、66R并列工作，全部的基板G隔著相等的規(guī)定的延遲時(shí)間在抗 蝕劑涂敷處理后接受減壓干燥處理，因此，能夠提高抗蝕劑涂敷膜的膜質(zhì)(穩(wěn)定性和再現(xiàn) 性)。(第二實(shí)施方式) 圖3表示的是本發(fā)明第二實(shí)施方式的涂敷顯影處理系統(tǒng)100的排列布局構(gòu)成。在 圖中，對(duì)于具有與上述第一實(shí)施方式的涂敷顯影處理系統(tǒng)10內(nèi)的結(jié)構(gòu)要素實(shí)質(zhì)上相同的 結(jié)構(gòu)或者功能的部分標(biāo)注相同的標(biāo)號(hào)并省略其說(shuō)明。此外，圖4 圖6表示的是該涂敷顯 影處理系統(tǒng)100中的主要部分的詳細(xì)的排列布局或者構(gòu)成。 在該第二實(shí)施方式的系統(tǒng)100中，與上述第一實(shí)施方式的系統(tǒng)10不同的主要部分 為，配置在中庭空間NS的第一和第二減壓干燥單元102L、 102R并不是將基板固定在臺(tái)上的 方式的平流方式的減壓干燥裝置。 在中庭空間NS中，為了相對(duì)于第一和第二減壓干燥單元102L、 102R以平流方式進(jìn) 行基板的搬入搬出，而設(shè)置有在這些第一和第二減壓干燥單元102L、 102R之外和其中連續(xù) 的第一和第二中庭平流搬送部104L、104R。搬送裝置68相對(duì)于第一和第二減壓干燥單元 102L、102R分別經(jīng)由第一和第二中庭平流搬送部104L、104R進(jìn)行基板G的搬入搬出。
如圖4所示，第一中庭平流搬送部104L包括設(shè)置在與搬送區(qū)域TE鄰接的搬入單 元(IN-PASS) 105內(nèi)的中庭基板搬入通路106 ;設(shè)置在第一減壓干燥單元102L內(nèi)，與中庭基 板搬入通路106連接的單元內(nèi)搬送通路108 ;和中庭基板搬出通路114，該中庭基板搬出通 路114能夠在從第一減壓干燥單元102L觀察位于與搬入單元(IN-PASS) 105相反一側(cè)的升 降機(jī)室(EV)llO內(nèi)與單元內(nèi)搬送通路108連接，通過(guò)第一減壓干燥單元102L之上延伸至與 搬送區(qū)域TE鄰接的搬出單元(OUT-PASS) 112。 中庭基板搬入通路106、單元內(nèi)搬送通路108以及中庭基板搬出通路114在搬送方 向(X方向)上以規(guī)定間隔排列棒狀或者巻軸狀的輥?zhàn)?16而形成輥?zhàn)影崴屯罚ㄟ^(guò)具有 馬達(dá)以及傳動(dòng)機(jī)構(gòu)等的輥?zhàn)域?qū)動(dòng)部(圖未示出)使各輥?zhàn)?16旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)，在輥?zhàn)影崴屯?上搬送基板G。此處，也可以針對(duì)各個(gè)區(qū)間(106、108、114)配備獨(dú)立的輥?zhàn)域?qū)動(dòng)部(圖未示 出)。 中庭基板搬出通路114的輥?zhàn)影崴屯芬部梢员环指顬樯禉C(jī)室(EV)llO內(nèi)的 輥?zhàn)影崴屯?14a、第一減壓干燥單元102L的上段的中間搬送室118內(nèi)的輥?zhàn)影崴屯?114b、和搬出單元(OUT-PASS) 112內(nèi)的輥?zhàn)影崴屯?14c這三個(gè)區(qū)間，針對(duì)各個(gè)區(qū)間配備 獨(dú)立的輥?zhàn)域?qū)動(dòng)部(圖未示出)。 升降機(jī)室(EV) 110內(nèi)的輥?zhàn)影崴屯?14a被安裝在能升降移動(dòng)的輥?zhàn)又尾?20 上，例如能夠通過(guò)由氣缸構(gòu)成的升降驅(qū)動(dòng)部122的升降驅(qū)動(dòng)，在能夠與一層的單元內(nèi)搬送 通路(輥?zhàn)影崴屯?108連接的第一高度位置H1和能夠與二層的中間搬送室118內(nèi)的輥 子搬送通路114b連接的第二高度位置H2之間升降移動(dòng)。 在向第一減壓干燥單元102L搬入基板G時(shí)，首先搬送裝置68從中庭空間NS的搬 送區(qū)域TE將基板G搬入到搬入單元(IN-PASS) 105內(nèi)。緊接著，在中庭基板搬入通路106 和單元內(nèi)搬送通路108上開(kāi)始輥?zhàn)影崴蛣?dòng)作，基板G從搬入單元(IN-PASS) 105被搬入到第 一減壓干燥單元102L。 此外，當(dāng)從第一減壓干燥單元102L搬出基板G時(shí)，首先，在單元內(nèi)搬送通路1Q8、輥?zhàn)影崴屯?14a上進(jìn)行輥?zhàn)影崴蛣?dòng)作，基板G從第一減壓干燥單元102L被搬出到升降機(jī) 室(EV)110的一層。接著，在升降機(jī)室(EV)llO內(nèi)輥?zhàn)影崴屯?14a上升，基板G被移動(dòng) 至二層。接著，在輥?zhàn)影崴屯?14a、114b、114c上開(kāi)始輥?zhàn)影崴蛣?dòng)作，基板G從升降機(jī)室 (EV)110通過(guò)中間搬送室118而被移至搬出單元(OUT-PASS) 112。然后，搬送裝置68從中 庭空間NS的搬送區(qū)域TE收取基板，將其從搬出單元(0UT-PASS) 112搬出。
在圖4中，第一減壓干燥單元(VD) 102L具有呈扁平正方體形狀的一體型的能夠減 壓的腔室124。在基板搬送方向(X方向中)，在腔室124的相對(duì)的一對(duì)側(cè)壁上分別設(shè)置有 帶有閘門(mén)或者門(mén)閥的能夠開(kāi)閉的基板搬入口 126和基板搬出口 128。在腔室124內(nèi)設(shè)置有 上述單元內(nèi)搬送通路(輥?zhàn)影崴屯?108。 該第一減壓干燥單元(VD)102L配備有用于在向腔室124內(nèi)搬入或者搬出基板G 用的高度位置(輥?zhàn)?16上的位置)和減壓干燥處理用的高度位置(從輥?zhàn)?16向上方浮 起的位置)之間進(jìn)行上下的升降銷(xiāo)機(jī)構(gòu)(圖未示出)。 在腔室124的底壁設(shè)置有一個(gè)或者多個(gè)排氣口 130。這些排氣口 130經(jīng)由排氣管 132與真空泵134的進(jìn)入側(cè)連接。在排氣管132的中途設(shè)置有開(kāi)閉閥136。
圖5和圖6表示的是搬入單元(IN-PASS) 105的內(nèi)部的一個(gè)構(gòu)成例。
在搬入單元(IN-PASS)105內(nèi)，如圖5所示，設(shè)置有隔開(kāi)比基板G大的間隔沿搬送 方向(X方向)平行地延伸的一對(duì)水平框架140A、140B。在這些水平框架140A、140B之間隔 開(kāi)適當(dāng)?shù)拈g隔平行地配置有多個(gè)(圖示為四個(gè))棒狀支撐部件142。各棒狀支撐部件142 被支撐在沿著與搬送方向(X方向)正交的方向(Y方向)延伸的多個(gè)(圖示的例子中為三 個(gè))梁144上。梁144的兩端部如圖6所示，分別固定在水平框架140A、140B的下面。
在棒狀支撐部件142的上面以規(guī)定的間距安裝有多個(gè)用于載置基板G以對(duì)其進(jìn)行 支撐的球狀(ball)的自由輥?zhàn)?46。 從搬入單元(IN-PASS) 105的入口側(cè)觀察，在水平框架140A、140B的后端部(最后 部)安裝有架橋型的驅(qū)動(dòng)輥?zhàn)?48。該驅(qū)動(dòng)輥?zhàn)?48在橫跨水平框架140A、140B之間的旋 轉(zhuǎn)軸148a上隔開(kāi)規(guī)定間隔一體地固定有多個(gè)巻軸狀的輥?zhàn)踊蛘邼L子148b，經(jīng)由滑輪150通 過(guò)旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)部152進(jìn)行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)。在水平框架140A、140B上，在其長(zhǎng)度方向上隔開(kāi)規(guī)定間隔安裝有多個(gè)單片型的驅(qū)
動(dòng)輥?zhàn)?54。這些驅(qū)動(dòng)輥?zhàn)?54在水平框架140A、140B的外側(cè)經(jīng)由驅(qū)動(dòng)帶156進(jìn)行旋轉(zhuǎn)驅(qū)
動(dòng)。此處，驅(qū)動(dòng)帶156經(jīng)由滑輪150與旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)部152連接。 驅(qū)動(dòng)輥?zhàn)?48、 154以及自由輥?zhàn)?46構(gòu)成上述中庭基板搬入通路106。 對(duì)于搬出單元(OUT-PASS) 112內(nèi)的結(jié)構(gòu)，除搬送方向、搬送動(dòng)作相反之外，其它均
與上述搬入單元(IN-PASS) 105內(nèi)的結(jié)構(gòu)相同。 此外，第二減壓干燥單元102R和第二中庭平流搬送部104R除從抗蝕劑涂敷單元 (CT)36觀察配置位置呈左右對(duì)稱(chēng)不同之外，其它均與上述的第一減壓干燥單元(VD)102L 和第一中庭平流搬送部104L分別相同。 在該第二實(shí)施方式的涂敷顯影處理系統(tǒng)100中，與上述第一實(shí)施方式的涂敷顯影 處理系統(tǒng)10相同，能夠?qū)崿F(xiàn)系統(tǒng)全長(zhǎng)尺寸以及生產(chǎn)節(jié)拍的大幅度縮短化。
(比較例) 此外，作為參考例(比較例)，如圖7所示，也考慮在生產(chǎn)流水線A中，在第二去程平流搬送部48的中途，即在搬入單元(IN-PASS) 38和預(yù)烘焙?jiǎn)卧?PRE_BAKE)40之間配置第一平流式減壓干燥單元102L，在中庭空間NS配置第二平流式減壓干燥單元102R的排列布局。 此時(shí)，在生產(chǎn)流水線A上，在第二去程平流搬送部48的搬入單元(IN-PASS) 38和第一平流式減壓干燥單元102L之間，以及第一平流式減壓干燥單元102L和預(yù)烘焙?jiǎn)卧?PRE-BAKE)40之間，分別配置有第一和第二橫向輸送器(CR-PASS) 160、 162。而且，夾著第二平流式減壓干燥單元102R，鄰接第一和第二橫向輸送器(CR-PASS) 160、 162，在中庭空間NS分別配置有第三和第四橫向輸送器(CR-PASS) 164、166。 此處，各個(gè)橫向輸送器(CR-PASS) 160 166具有相互正交的平流搬送通路和搬送驅(qū)動(dòng)部，能夠選擇性地切換平流的X方向搬送動(dòng)作和平流的Y方向的搬送動(dòng)作。
例如，第一橫向輸送器(CR-PASS) 160在以平流方式從搬入單元(IN-PASS) 38收取的基板G中，奇數(shù)編號(hào)的基板G保持原狀態(tài)直接被搬入到第一平流式減壓干燥單元102L，偶數(shù)編號(hào)的基板G被轉(zhuǎn)送到第三橫向輸送器(CR-PASS) 164。 第三橫向輸送器(CR-PASS) 164將從第一橫向輸送器(CR-PASS) 160收取的偶數(shù)編號(hào)的基板G搬入到第二平流式減壓干燥單元102R。 第四橫向輸送器(CR-PASS) 166搬出在第二平流式減壓干燥單元102R中已結(jié)束減壓干燥處理的偶數(shù)編號(hào)的基板G，將其轉(zhuǎn)送至第二橫向輸送器(CR-PASS) 162。
第二橫向輸送器(CR-PASS) 162搬出從第一平流式減壓干燥單元102L已結(jié)束減壓干燥處理的奇數(shù)編號(hào)的基板G，將其送至后段的預(yù)烘焙?jiǎn)卧?PRE-BAKE)40。此外，從第四橫向輸送器(CR-PASS) 166收取已完成減壓干燥處理的偶數(shù)編號(hào)的基板G，將其送至后段的預(yù)烘焙?jiǎn)卧?PRE-BAKE)40。 圖7的排列布局能夠通過(guò)使第一和第二平流式減壓干燥單元102L、102R并聯(lián)工作來(lái)實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)節(jié)拍的縮短化，但是。因?yàn)樵谏a(chǎn)流水線A以一列的方式插入兩臺(tái)橫向輸送器(CR-PASS) 160、 162和一臺(tái)減壓干燥單元102L，結(jié)合這三個(gè)單元(160、 102L、 162)的X方向的尺寸L依然是生產(chǎn)流水線A的全長(zhǎng)乃至系統(tǒng)的全長(zhǎng)增大，不能實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)全長(zhǎng)尺寸的縮短化。此外，還存在下述不良方面，即，在抗蝕劑涂敷單元(CT)36中結(jié)束完抗蝕劑涂敷處理的基板G被送到第一平流式減壓干燥單元102L的情況與被送到第二平流式減壓干燥單元102R的情況在搬送延遲時(shí)間不同。[OH5](第三實(shí)施方式) 圖8表示的是本發(fā)明第三實(shí)施方式的涂敷顯影處理系統(tǒng)170的排列布局構(gòu)成。圖中，對(duì)于具有與上述第一實(shí)施方式的涂敷顯影處理系統(tǒng)10內(nèi)的結(jié)構(gòu)要素實(shí)質(zhì)上相同的結(jié)構(gòu)或者功能的部分標(biāo)注相同的標(biāo)號(hào)并省略其說(shuō)明。此外，圖9表示的是該涂敷顯影處理系統(tǒng)170中的抗蝕劑涂敷單元(CT) 172的結(jié)構(gòu)。
0147] 在該第三實(shí)施方式的系統(tǒng)170中，與上述第一實(shí)施方式的系統(tǒng)10不同的主要部分為，抗蝕劑涂敷單元(CT)172并不是將基板固定在臺(tái)上的方式的平流方式的抗蝕劑涂敷裝置，在去程的生產(chǎn)流水線A中，該抗蝕劑涂敷單元(CT) 172沿著第一去程平流搬送部46被配置在與搬出單元(OUT-PASS) 34相比位于上游的位置。 如圖9所示，抗蝕劑涂敷單元(CT) 172具有構(gòu)成第一去程平流搬送部46的一部分或者一個(gè)區(qū)間的涂敷用浮起臺(tái)174;使在涂敷用浮起臺(tái)174上浮起在空中的基板G沿著臺(tái)長(zhǎng)度方向(X方向)搬送的基板搬送機(jī)構(gòu)176 ;向在涂敷用浮起臺(tái)174上搬送的基板G的上面供給抗蝕劑液的抗蝕劑噴嘴178 ;和在涂敷處理期間恢復(fù)抗蝕劑噴嘴178的噴嘴恢復(fù)部180。 在涂敷用浮起臺(tái)174的上面設(shè)置有多個(gè)向上方噴射規(guī)定氣體(例如空氣)的氣體噴射孔182，利用從這些氣體噴射孔182噴射的氣體的壓力使基板G從臺(tái)上面浮起規(guī)定的高度。 基板搬送機(jī)構(gòu)176具有夾著涂敷用浮起臺(tái)174沿著X方向延伸的一對(duì)導(dǎo)軌184A、184B、能夠沿著這些導(dǎo)軌184A、184B往返移動(dòng)的滑塊186、和以能夠在涂敷用浮起臺(tái)174上可裝卸地保持基板G的兩側(cè)端部的方式設(shè)置在滑塊186上的吸附片等基板保持部件(圖未示出)，通過(guò)利用直進(jìn)移動(dòng)機(jī)構(gòu)(圖未示出)使滑塊186在搬送方向(X方向)移動(dòng)，在涂敷用浮起臺(tái)174上進(jìn)行基板G的浮起搬送。 抗蝕劑噴嘴178為在涂敷用浮起臺(tái)174的上方沿著與搬送方向(X方向)正交的水平方向(Y方向)橫截延伸的長(zhǎng)尺寸(長(zhǎng)條)形的噴嘴，在規(guī)定的涂敷位置對(duì)通過(guò)其正下方的基板G的上面從槽狀的噴出口以帶狀的方式噴出抗蝕劑液。此外，抗蝕劑噴嘴178構(gòu)成為能夠與支撐該噴嘴的噴嘴支撐部件188 —體地沿X方向移動(dòng)并且能夠沿著Z方向升降，能夠在上述涂敷位置和噴嘴恢復(fù)部180之間移動(dòng)。 噴嘴恢復(fù)部180在涂敷用浮起臺(tái)174的上方的規(guī)定位置保持在支柱部件190上，其包括作為為了進(jìn)行涂敷處理的下一次準(zhǔn)備而向抗蝕劑噴嘴178噴出抗蝕劑液用的裝填(priming)處理部192 ;以防止干燥為目的用于在溶劑蒸氣的氛圍中保持抗蝕劑噴嘴178的抗蝕劑噴出口的噴嘴總線194 ;和安裝在抗蝕劑噴嘴178的抗蝕劑噴出口附近的用于除去抗蝕劑的噴嘴清洗機(jī)構(gòu)196。 此處，對(duì)抗蝕劑涂敷單元(CT) 172的主要作用進(jìn)行說(shuō)明。首先，從前段的冷卻單元(C0L)32使基板G經(jīng)由揀選(分類(lèi)(sorter))機(jī)構(gòu)(圖未示出)搬入到設(shè)定在浮起臺(tái)174的前端側(cè)的搬入?yún)^(qū)域，在此處待機(jī)的滑塊186保持基板G對(duì)其進(jìn)行收取。在浮起臺(tái)174上，基板G接受從氣體噴射孔182噴射的氣體(空氣)的壓力而以大致水平的姿勢(shì)保持在浮起狀態(tài)。 然后，滑塊186在保持基板G的同時(shí)在搬送方向(X方向)上移動(dòng)，當(dāng)基板G通過(guò)抗蝕劑噴嘴178的下面時(shí)，抗蝕劑噴嘴178向基板G的上面呈帶狀地噴出液狀的抗蝕劑液，由此，在基板G上從基板前端向著后端以覆蓋絨毯的方式在一面上形成抗蝕劑液的涂敷膜。這樣被涂敷有抗蝕劑的基板G之后通過(guò)滑塊186在浮起臺(tái)174上被浮起搬送，從設(shè)定在浮起臺(tái)174后段的搬出區(qū)域經(jīng)由揀選機(jī)構(gòu)(圖未示出)被送至搬出單元(0UT-PASS)34。
此外，搬入側(cè)的揀選機(jī)構(gòu)(圖未示出)具有沿著第一去程平流搬送部46的搬送方向(X方向)鋪設(shè)的輥?zhàn)影崴屯贰⒛軌蛳鄬?duì)于該輥?zhàn)影崴屯飞系幕逭婵瘴?脫離該基板背面的邊緣部的多個(gè)吸附墊、和使這些吸附墊在與搬送方向平行的雙方向上移動(dòng)的基板搬送機(jī)構(gòu)。若通過(guò)上游側(cè)的冷卻單元(C0L)32被冷卻至規(guī)定溫度的基板以平流方式被收取在該輥?zhàn)影崴屯飞?，則吸附墊上升吸附該基板的背面邊緣部，經(jīng)由吸附保持基板的吸附墊，基板搬送機(jī)構(gòu)將基板移送至臺(tái)178的搬入?yún)^(qū)域。然后，在基板被搬入到搬入?yún)^(qū)域之后，基板從吸附墊分離，接著基板搬送機(jī)構(gòu)和吸附墊返回至原始位置。 搬出側(cè)的揀選機(jī)構(gòu)(圖未示出)除動(dòng)作相反(對(duì)稱(chēng))這一點(diǎn)之外，其它均具有與搬入側(cè)的揀選機(jī)構(gòu)相同的結(jié)構(gòu)和功能。 在該第三實(shí)施方式的涂敷顯影處理系統(tǒng)170中，因?yàn)榈谝缓偷诙p壓干燥單元(VD)66L、66R被配置在中庭空間NS，所以能夠不隨著系統(tǒng)寬度尺寸(Y方向尺寸)的增加，實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)全長(zhǎng)尺寸(X方向尺寸)以及生產(chǎn)節(jié)拍的大幅度縮短化。可是，在生產(chǎn)流水線A上平流方式的抗蝕劑涂敷單元(CT)172與臺(tái)方式的抗蝕劑涂敷單元(CT)36相比單元尺寸(X方向尺寸)長(zhǎng)，該部分使系統(tǒng)全長(zhǎng)尺寸(X方向尺寸)多少有些變長(zhǎng)。但是，另一方面，中庭空間NS的搬送裝置68只需訪問(wèn)兩個(gè)減壓干燥單元(VD)66L、66R、第一去程平流搬送部46的搬出單元(0UT-PASS)34和第二去程平流搬送部48的搬入單元(IN-PASS)38即可，所以沒(méi)有必要訪問(wèn)抗蝕劑涂敷單元(CT)172。 S卩，具有能夠減輕搬送裝置68的搬送日程表上的負(fù)擔(dān)。 此外，在圖8的排列布局中，在生產(chǎn)流水線A上，第一去程平流搬送部46的搬出單元(0UT-PASS) 34和第二去程平流搬送部48的搬入單元(IN-PASS) 38在橫向(X方向)并且配置。 但是，作為 一 個(gè)變形例，如圖10所示，該搬出單元(OUT-PASS) 34和搬入單元(IN-PASS) 38也可以分兩層上下重疊設(shè)置。此時(shí)，第一去程平流搬送部46的搬出單元(OUT-PASS) 34在與抗蝕劑涂敷單元(CT)172相同的層例如l層上排列，第二去程平流搬送部48的搬入單元(IN-PASS) 38在與預(yù)烘焙?jiǎn)卧?PRE-BAKE) 40相同的層例如2層上排列。
在圖10的排列布局中，第一去程平流搬送部46的搬出單元(OUT-PASS) 34和第二去程平流搬送部48的搬入單元(IN-PASS) 38以二維方式集約配置在一個(gè)場(chǎng)所，因此，也能夠使中庭空間NS的搬送裝置68以及第一和第二減壓干燥單元(VD)66L、66R集約乃至接近配置，能夠使搬送裝置68的移動(dòng)范圍縮小化，使移動(dòng)方向(運(yùn)動(dòng)軸)簡(jiǎn)約化。
(第四實(shí)施方式) 圖11表示的是本發(fā)明第四實(shí)施方式的涂敷顯影處理系統(tǒng)200的排列布局構(gòu)成的主要部分。圖中，對(duì)于具有與上述第二實(shí)施方式的涂敷顯影處理系統(tǒng)100內(nèi)的結(jié)構(gòu)要素實(shí)質(zhì)上相同的結(jié)構(gòu)或者功能的部分標(biāo)注相同的標(biāo)號(hào)并省略其說(shuō)明。 在該實(shí)施方式中，與上述第二實(shí)施方式相同，在中庭空間NS中，搬送裝置68相對(duì)于第一和第二減壓干燥單元102L、102R分別經(jīng)由第一和第二中庭平流搬送部202L、202R對(duì)基板G進(jìn)行搬入搬出。 此處，在搬送區(qū)域TE和第一 以及第二減壓干燥單元102L、 102R之間分別設(shè)置有能夠升降的一體型的第一以及第二搬入搬出單元(IN/0UT-PASS)204L、204R。
如圖12 圖14所示，第一中庭平流搬送部202L具有分別設(shè)置在第一搬入搬出單元(IN/0UT-PASS)204L內(nèi)的下段和上段的中庭基板搬入通路206和中庭基板搬出通路208、和設(shè)置在第一減壓干燥單元102L內(nèi)的，能夠選擇性地連接中庭基板搬入通路206和中庭基板搬出通路208中的任一個(gè)的單元內(nèi)搬送通路108。中庭基板搬入通路206、中庭基板搬出通路208以及單元內(nèi)搬送通路108例如由輥?zhàn)影崴屯窐?gòu)成，可以通過(guò)各自獨(dú)立的輥?zhàn)域?qū)動(dòng)部驅(qū)動(dòng)。 中庭基板搬入通路206和中庭基板搬出通路208在被收容在第一搬入搬出單元(IN/OUT-PASS) 204L內(nèi)的狀態(tài)下能夠通過(guò)例如由氣缸等構(gòu)成的升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)210的升降驅(qū)動(dòng)進(jìn)行升降移動(dòng)。
當(dāng)向第一減壓干燥單元102L內(nèi)搬入基板G時(shí)，如圖14所示，中庭基板搬入通路
206的高度位置與單元內(nèi)搬送通路108相吻合，在中庭基板搬入通路206和單元內(nèi)搬送通路
108上沿著系統(tǒng)長(zhǎng)度方向(X方向)的第一方向(途中從右至左)搬送基板G。 當(dāng)從第一減壓干燥單元102L搬出基板G時(shí)，如圖13所示，中庭基板搬出通路208
的高度位置與單元內(nèi)搬送通路108相吻合，在單元內(nèi)搬送通路108和中庭基板搬出通路208
上沿著系統(tǒng)長(zhǎng)度方向(X方向)的第二方向(途中從左至右)搬送基板G。 在該涂敷顯影處理系統(tǒng)200中，如圖12所示，在第一減壓干燥單元102L內(nèi)接受減
壓干燥處理的基板Gi中，搬送裝置68能夠訪問(wèn)第一搬入搬出單元(IN/OUT-PASS) 204L利
用搬送臂68a將下一個(gè)基板Gi+1搬入到中庭基板搬入通路206。 如圖13所示，能夠使下一個(gè)基板Gi+1在中庭基板搬入通路206保持待機(jī)狀態(tài)，將在第一減壓干燥單元102L內(nèi)完成減壓干燥處理的基板Gi利用輥?zhàn)影崴桶岢鲋型セ灏岢鐾?08。 或者，作為其它的順序，也能夠在將完成減壓干燥處理的基板Gi從第一減壓干燥單元102L搬出中庭基板搬出通路208的同時(shí)，將應(yīng)該在第一減壓干燥單元102L緊接著接受減壓干燥處理的基板Gi+1搬入到中庭基板搬入通路206。 而且，如圖14所示，也能夠使在基板Gi+1從中庭基板搬入通路206利用輥?zhàn)影崴捅话崛氲降谝粶p壓干燥單元102L中的同時(shí)，搬送裝置68將已完成處理的基板Gi使用搬送臂68a從中庭基板搬出通路208搬出。 搬入搬出單元(IN/0UT-PASS)204L中的中庭基板搬入通路206和中庭基板搬出通路208的結(jié)構(gòu)也可以與圖5和圖6所示的結(jié)構(gòu)相同。 第二搬入搬出單元(IN/OUT-PASS) 204R以及第二中庭平流搬送部202R具有與上述第一搬入搬出單元(IN/0UT-PASS)204L和第一中庭平流搬送部202L相同的結(jié)構(gòu)和功能。
在該第四實(shí)施方式中，在第一以及第二減壓干燥單元102L、102R中，基板搬入口126兼用作基板搬出口 128，從搬送區(qū)域TE側(cè)進(jìn)行基板G的出入，因此，能夠使中庭平流搬送部202L、202R緊湊化。 以上，對(duì)本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式進(jìn)行了說(shuō)明，但是本發(fā)明并不局限于上述實(shí)施方式，在其技術(shù)思想的范圍內(nèi)可以進(jìn)行種種變形。 例如，在上述實(shí)施方式中，在去程的生產(chǎn)流水線A含有第一和第二去程平流搬送部46、48的系統(tǒng)中，在中庭空間NS中配置有根據(jù)工藝流程連接這些平流搬送部46、48的第三處理單元。然后，在回程的生產(chǎn)流水線B含有第一和第二回程平流搬送部的情況下，也可以在中庭空間NS配置根據(jù)工藝流程連接這兩個(gè)回程平流搬送部的第三組(或者第四組)的處理單元。 在上述實(shí)施方式中，配置在中庭空間NS的處理單元為減壓干燥單元，但是也可以根據(jù)生產(chǎn)流水線的配置構(gòu)成來(lái)配置其它的處理單元。 本發(fā)明的被處理基板并不局限于LCD用的玻璃基板，也可以是其它的平板顯示器用基板、半導(dǎo)體晶片、CD基板、光掩模、印刷基板等。
權(quán)利要求
一種基板處理系統(tǒng)，其特征在于該基板處理系統(tǒng)為按照工藝流程的順序連接多個(gè)處理單元對(duì)被處理基板實(shí)施一系列處理的串聯(lián)型的基板處理系統(tǒng)，包括第一生產(chǎn)流水線，該第一生產(chǎn)流水線具有在系統(tǒng)長(zhǎng)度方向上，在第一方向上，使第一組的處理單元相鄰接，或者經(jīng)由搬送系統(tǒng)單元配置成一列，以平流方式搬送基板的第一去程平流搬送部、和與該第一去程平流搬送部相比在工藝流程的下游側(cè)以平流方式搬送基板的第二去程平流搬送部；第二生產(chǎn)流水線，在系統(tǒng)長(zhǎng)度方向上，在與所述第一方向相反的第二方向上，使與所述第一生產(chǎn)流水線相比位于工藝流程的下游側(cè)的第二組的處理單元相鄰接，或者經(jīng)由搬送系統(tǒng)單元配置成一列，與所述第一生產(chǎn)流水線在系統(tǒng)寬度方向隔開(kāi)規(guī)定尺寸的中庭空間平行延伸；第三組的處理單元，該第三組的處理單元被配置在所述中庭空間；和第一搬送裝置，該第一搬送裝置被配置在所述中庭空間，從所述第一去程平流搬送部的終端側(cè)的基板交接部搬出各基板并向所述第三組的處理單元之一搬送，將由所述第三組的處理單元之一處理完的各基板從該處理單元搬出并將其搬入到所述第二去程平流搬送部的始端側(cè)的基板交接部。
2. 如權(quán)利要求l所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于所述第三組的處理單元含有對(duì)基板的處理內(nèi)容以及時(shí)間實(shí)質(zhì)上相同的第一和第二處 理單元，對(duì)于經(jīng)由所述第一去程平流搬送部依次送來(lái)的基板交替地反復(fù)對(duì)所述第一和第二 處理單元進(jìn)行分配。
3. 如權(quán)利要求2所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于所述第一搬送裝置具有能夠在設(shè)置于所述中庭空間的搬送區(qū)域移動(dòng)的搬送機(jī)器， 所述第一和第二處理單元在系統(tǒng)長(zhǎng)度方向上將所述搬送區(qū)域夾在其間互相相對(duì)地被 配置在所述中庭空間。
4. 如權(quán)利要求3所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于 所述第一和第二處理單元與所述搬送區(qū)域鄰接配置，所述搬送機(jī)器相對(duì)于所述第一和第二處理單元對(duì)基板直接進(jìn)行搬入搬出。
5. 如權(quán)利要求3所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于在所述中庭空間設(shè)置有為了向所述第一處理單元搬入搬出基板而在所述第一處理單 元之外和其中連續(xù)的第一中庭平流搬送部，所述搬送機(jī)器相對(duì)于所述第一處理單元經(jīng)由所述第一中庭平流搬送部對(duì)所述基板進(jìn) 行搬入搬出。
6. 如權(quán)利要求5所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于所述第一中庭平流搬送部具有與所述搬送區(qū)域鄰接設(shè)置的第一中庭基板搬入通路； 設(shè)置在所述第一處理單元內(nèi)，能夠與所述第一中庭基板搬入通路連接的第一單元內(nèi)搬送通 路；和從所述第一處理單元觀察能夠在與所述第一中庭基板搬入通路相反一側(cè)與所述第一 單元內(nèi)搬送通路連接，通過(guò)所述第一處理單元的上或者下而延伸至鄰接所述搬送區(qū)域的終 端位置的第一中庭基板搬出通路，在向所述第一處理單元搬入基板時(shí)，在所述第一中庭基板搬入通路和所述第一單元內(nèi)搬送通路上搬送基板，在從所述第一處理單元搬出基板時(shí)，在所述第一單元內(nèi)搬送通路和所述第一中庭基板 搬出通路上搬送基板。
7. 如權(quán)利要求5所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于所述第一中庭平流搬送部具有鄰接所述搬送區(qū)域分上下兩段設(shè)置的能夠升降的第一 中庭基板搬入通路以及第一中庭基板搬出通路、和設(shè)置在所述第一處理單元內(nèi)，能夠選擇 性地與所述第一中庭基板搬入通路和所述第一中庭基板搬出通路的任一個(gè)連接的第一單 元內(nèi)搬送通路，在向所述第一處理單元搬入基板時(shí)，所述第一中庭基板搬入通路的高度位置與所述第 一單元內(nèi)搬送通路相吻合，在所述第一中庭基板搬入通路和所述第一單元內(nèi)搬送通路上在 系統(tǒng)的長(zhǎng)度方向的第一方向上搬送基板，在從所述第一處理單元搬出基板時(shí)，所述第一中庭基板搬出通路的高度位置與所述第 一單元內(nèi)搬送通路相吻合，在所述第一單元內(nèi)搬送通路和所述第一中庭基板搬出通路上在 系統(tǒng)的長(zhǎng)度方向的第二方向上搬送基板。
8. 如權(quán)利要求3、5 7中任一項(xiàng)所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于 在所述中庭空間設(shè)置有為了向所述第二處理單元搬入搬出基板而在所述第二處理單元之外和其中連續(xù)的第二中庭平流搬送部，所述搬送機(jī)器相對(duì)于所述第二處理單元經(jīng)由所述第二中庭平流搬送部對(duì)所述基板進(jìn) 行搬入搬出。
9. 如權(quán)利要求8所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于所述第二中庭平流搬送部具有與所述搬送區(qū)域鄰接設(shè)置的第二中庭基板搬入通路； 設(shè)置在所述第二處理單元內(nèi)，能夠與所述第二中庭基板搬入通路連接的第二單元內(nèi)搬送通 路；和從所述第二處理單元觀察能夠在與所述第二中庭基板搬入通路相反一側(cè)與所述第二 單元內(nèi)搬送通路連接，通過(guò)所述第二處理單元的上或者下而延伸至鄰接所述搬送區(qū)域的終 端位置的第二中庭基板搬出通路，在向所述第二處理單元搬入基板時(shí)，在所述第二中庭基板搬入通路和所述第二單元內(nèi) 搬送通路上搬送基板，在從所述第二處理單元搬出基板時(shí)，在所述第二單元內(nèi)搬送通路和所述第二中庭基板 搬出通路上搬送基板。
10. 如權(quán)利要求8所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于所述第二中庭平流搬送部具有鄰接所述搬送區(qū)域上下兩段設(shè)置的能夠升降的第二中 庭基板搬入通路以及第二中庭基板搬出通路、和設(shè)置在所述第二處理單元內(nèi)，能夠選擇性 地與所述第二中庭基板搬入通路和所述第二中庭基板搬出通路的任一個(gè)連接的第二單元 內(nèi)搬送通路，在向所述第二處理單元搬入基板時(shí)，所述第二中庭基板搬入通路的高度位置與所述第 二單元內(nèi)搬送通路相吻合，在所述第二中庭基板搬入通路和所述第二單元內(nèi)搬送通路上在 系統(tǒng)的長(zhǎng)度方向的第二方向上搬送基板，在從所述第二處理單元搬出基板時(shí)，所述第二中庭基板搬出通路的高度位置與所述第 二單元內(nèi)搬送通路相吻合，在所述第二單元內(nèi)搬送通路和所述第二中庭基板搬出通路上在系統(tǒng)的長(zhǎng)度方向的第一方向上搬送基板。
11. 如權(quán)利要求1 7中任一項(xiàng)所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于 在所述第一生產(chǎn)流水線中，在所述第一去程平流搬送部的終端側(cè)的基板交接部和所述第二去程平流搬送部的始端側(cè)的基板交接部之間配置有第三處理單元， 所述第一搬送裝置進(jìn)行相對(duì)于所述第三處理單元的基板的搬入搬出。
12. 如權(quán)利要求11所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于 所述第三處理單元為向所述基板上涂敷抗蝕劑液的抗蝕劑涂敷單元， 所述第一和第二處理單元分別為在減壓狀態(tài)下使基板上的抗蝕劑涂敷膜干燥的第一和第二減壓干燥單元，所述第一和第二減壓干燥單元的基板搬入口相對(duì)于所述抗蝕劑涂敷單元的基板搬出 口離開(kāi)大致相等的距離。
13. 如權(quán)利要求11所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于在所述第一生產(chǎn)流水線中，在所述第一去程平流搬送部的搬送通路上設(shè)置有向所述基 板上涂敷抗蝕劑液的抗蝕劑涂敷單元，所述第一和第二處理單元分別為在減壓狀態(tài)下使基板上的抗蝕劑涂敷膜干燥的第一 和第二減壓干燥單元，所述第一和第二減壓干燥單元的基板搬入口相對(duì)于所述第一去程平流搬送部的終端 側(cè)的基板交接部離開(kāi)大致相等的距離。
14. 如權(quán)利要求1 7中任一項(xiàng)所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于 在系統(tǒng)長(zhǎng)度方向的一端部具有第二搬送裝置，該第二搬送裝置從投入到系統(tǒng)中的任一個(gè)盒中取出未處理的基板并將其過(guò)渡至第一生產(chǎn)流水線，從所述第二生產(chǎn)流水線收取已完 成在系統(tǒng)內(nèi)的全部的規(guī)定處理的基板并將其收納在應(yīng)該從系統(tǒng)運(yùn)出的任一個(gè)盒內(nèi)。
15. 如權(quán)利要求1 7中任一項(xiàng)所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于 在系統(tǒng)長(zhǎng)度方向的另一端部具有第三搬送裝置，該第三搬送裝置從所述第一生產(chǎn)流水線搬出基板并將其直接搬入到所述第二生產(chǎn)流水線，或者經(jīng)由外部的處理裝置之后搬入到 所述第二生產(chǎn)流水線。
16. —種基板處理系統(tǒng)，其特征在于該基板處理系統(tǒng)為按照工藝流程的順序連接多個(gè)處理單元對(duì)被處理基板實(shí)施一系列處理的串聯(lián)型的基板處理系統(tǒng)，包括第一生產(chǎn)流水線，該第一生產(chǎn)流水線在系統(tǒng)長(zhǎng)度方向上，在第一方向上，使第一組的處理單元鄰接，或者經(jīng)由搬送系統(tǒng)單元配置成一列；第二生產(chǎn)流水線，該第二生產(chǎn)流水線具有在系統(tǒng)長(zhǎng)度方向上，在與所述第一方向相反 的第二方向上，使與所述第一生產(chǎn)流水線相比位于工藝流程的下游側(cè)的第二組的處理單元 相鄰接，或者經(jīng)由搬送系統(tǒng)單元配置成一列，以平流方式搬送基板的第一回程平流搬送部、 使得與該第一回程平流搬送部相比在工藝流程的下游側(cè)以平流方式搬送基板的第二回程 平流搬送部，該第二生產(chǎn)流水線與所述第一生產(chǎn)流水線在系統(tǒng)寬度方向隔開(kāi)規(guī)定尺寸的中 庭空間平行延伸；第三組的處理單元，該第三組的處理單元被配置在所述中庭空間；禾口第一搬送裝置，該第一搬送裝置被配置在所述中庭空間，從所述第一回程平流搬送部的終端側(cè)的基板交接部搬出各基板并向所述第三組的處理單元之一搬送，將由所述第三組 的處理單元之一處理完的各基板從該處理單元搬出并將其搬入到所述第二回程平流搬送 部的始端側(cè)的基板交接部。
17. 如權(quán)利要求16所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于在系統(tǒng)長(zhǎng)度方向的一端部具有第二搬送裝置，該第二搬送裝置從投入到系統(tǒng)中的任一 個(gè)盒中取出未處理的基板并將其過(guò)渡至第一生產(chǎn)流水線，從所述第二生產(chǎn)流水線收取已完 成在系統(tǒng)內(nèi)的全部的規(guī)定處理的基板并將其收納在應(yīng)該從系統(tǒng)運(yùn)出的任一個(gè)盒內(nèi)。
18. 如權(quán)利要求16或17所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于在系統(tǒng)長(zhǎng)度方向的另一端部具有第三搬送裝置，該第三搬送裝置從所述第一生產(chǎn)流水 線搬出基板并將其直接搬入到所述第二生產(chǎn)流水線，或者經(jīng)由外部的處理裝置之后搬入到 所述第二生產(chǎn)流水線。
全文摘要
本發(fā)明提供一種基板處理系統(tǒng)，在能夠沿著以直線延伸的往返路徑的生產(chǎn)流水線按照工藝流程的順序排列配置多個(gè)處理單元的串聯(lián)型基板處理系統(tǒng)中，有效地實(shí)現(xiàn)整體長(zhǎng)度尺寸的縮短化以及節(jié)拍時(shí)間的縮短化。在該涂敷顯影處理系統(tǒng)(10)中，形成有被盒臺(tái)(C/S)(14)、去程生產(chǎn)流水線(A)、界面臺(tái)(I/F)(18)以及去程生產(chǎn)流水線(B)所包圍并沿X方向筆直延伸的中庭空間(NS)。在該中庭空間(NS)中，兩臺(tái)減壓干燥單元(66L)、(66R)作為第三組的單元互相相對(duì)分別被設(shè)置在規(guī)定位置，并且在兩單元(66L)、(66R)之間設(shè)置有一臺(tái)搬送裝置(68)。
文檔編號(hào)H01L21/00GK101710564SQ20091016856
公開(kāi)日2010年5月19日 申請(qǐng)日期2009年8月19日 優(yōu)先權(quán)日2008年8月19日
發(fā)明者太田義治, 梶原拓伸 申請(qǐng)人:東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社