專利名稱：粉料定量配給裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種配給裝置，特別是指一種粉料定量配給裝置。
技術(shù)背景
以一般電感元件的結(jié)構(gòu)來說，通常是包含一由導(dǎo)磁粉料壓鑄成型的扁矩方體狀的 固化包覆塊、一埋置在該固化包覆塊中的線圈，以及兩連接該線圈且突伸設(shè)置在該固化包 覆塊外的端子。
在上述電感元件的制造過程中，主要是先將預(yù)先結(jié)合成一體的該線圈與該兩端子 放置到一下模具上，并讓該線圈懸置在該下模具的一下模穴中；再于該下模穴中填充入定 量的導(dǎo)磁粉料，以讓該線圈完全掩埋其中；接著，將一上模具對(duì)應(yīng)壓合在該下模具上，以將 導(dǎo)磁粉料壓鑄成型為該固化包覆塊，此時(shí)便已完成該電感元件的整體結(jié)構(gòu)；最后，再將所制 造成型的電感元件脫模取出。
就一般導(dǎo)磁粉料的填充方式來說，通常是先透過人工手段將導(dǎo)磁粉料予以定量、 包裝，再將定量包裝的導(dǎo)磁粉料人工填倒入該下模穴中。然而，此種人工粉料填充方式不但 效率較差，且粉料的定量精確度也較難以控制，所制造出的電感元件的質(zhì)量與良率勢(shì)必較 不穩(wěn)定。發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是在提供一種能夠穩(wěn)定、持續(xù)且機(jī)械化地配給定量粉料的粉料定量 配給裝置。
本發(fā)明的粉料定量配給裝置，包含一個(gè)具有一個(gè)落料口的粉料座、一個(gè)設(shè)置在該 粉料座下方處的給料座，以及一個(gè)設(shè)置在該粉料座與該給料座間的分料座。該給料座包括 一個(gè)縱向貫穿的定量空間，以及一個(gè)設(shè)置在該定量空間的一底端處的開關(guān)件。該分料座包 括一個(gè)能橫向位移地夾設(shè)在該粉料座與該給料座間的活動(dòng)盤，該活動(dòng)盤具有一個(gè)呈上下開 放狀且能交替地對(duì)應(yīng)連通該落料口、該定量空間的配料槽。
本發(fā)明的有益效果在于利用該給料座的定量空間的設(shè)計(jì)，配合能往復(fù)橫移的該 活動(dòng)盤能先從該粉料座取得不少于定量值的粉料，再供應(yīng)等于定量值的粉料以填滿該定量 空間，讓整體產(chǎn)生能穩(wěn)定、連續(xù)地機(jī)械化配給定量粉料的效果。


圖1是一分解示意圖，說明本發(fā)明的粉料定量配給裝置的一優(yōu)選實(shí)施例，是包含 一粉料座、一給料座與一分料座等大部構(gòu)件；
圖2是一組合示意圖，說明該優(yōu)選實(shí)施例的該分料座的一活動(dòng)盤是位在一第一位 置；
圖3是一組合示意圖，說明該優(yōu)選實(shí)施例的該活動(dòng)盤是位在一第二位置；
圖4是一組合示意圖，說明該優(yōu)選實(shí)施例的該給料座的一頂推件將一調(diào)整盤往上頂推，以使該活動(dòng)盤的一配料槽的深度是等于該給料座的一定量空間的深度。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說明
如圖1與圖2所示，本發(fā)明的粉料定量配給裝置的該優(yōu)選實(shí)施例，能運(yùn)用在電感元 件(圖中未示)的制造過程中，所述電感元件是包含一個(gè)由導(dǎo)磁粉料壓鑄成型的扁矩方體 狀的固化包覆塊、一個(gè)埋置在該固化包覆塊中的線圈，以及兩個(gè)連接該線圈且突伸設(shè)置在 該固化包覆塊外的端子，于此，本實(shí)施例的該粉料定量配給裝置主要是能一次供應(yīng)五份定 量的導(dǎo)磁粉料至模具(圖中未示)中，使該五份導(dǎo)磁粉料同時(shí)被壓鑄成型為五個(gè)固化包覆 塊。當(dāng)然，該粉料定量配給裝置的適用性并不局限于此。
該粉料定量配給裝置是包含一個(gè)粉料座2、一個(gè)設(shè)置在該粉料座2下方處的給料 座4，以及一個(gè)能橫向位移地設(shè)置在該粉料座2與該給料座4間的分料座6。
該粉料座2是概呈漏斗狀，能用以裝載導(dǎo)磁粉料，并具有五個(gè)相間隔排呈一列且 能被控制同時(shí)呈開放狀態(tài)或封閉狀態(tài)的落料口 21。其中，因圖式視角關(guān)系，只顯現(xiàn)出一個(gè)落 料□ 21。
該給料座4包括一個(gè)具有五個(gè)相間隔地排成一列的縱向貫孔411的基盤41、五個(gè) 分別軸向插滿在該五縱向貫孔411中且皆局部向上突伸出該基盤41的一頂面的雙端開放 狀給料管42、一個(gè)能動(dòng)地嵌置在該基盤41上的頂推件43、一個(gè)能受該頂推件43控制升降 地設(shè)置在該基盤41上方的調(diào)整盤44、一個(gè)能遮蔽或開放該給料管42的一底端的片狀開關(guān) 件45、一個(gè)設(shè)置在該調(diào)整盤44的一左側(cè)面(以圖式方向說明的，以下同)上的L型第一擋 塊46，以及一個(gè)設(shè)置在該調(diào)整盤44的一右側(cè)面上的長矩型第二擋塊47。本實(shí)施例中，該給 料管42是插滿于該縱向貫孔411中，當(dāng)然，該給料管42也能以是直立設(shè)置在該縱向貫孔 411的一頂緣處，而未插伸入該縱向貫孔411中者。
該基盤41還具有一個(gè)自其一頂面往該給料管42方向傾斜向下延伸的斜導(dǎo)面412， 以及一個(gè)自其頂面垂直向下延伸至該斜導(dǎo)面412的一底側(cè)的垂直面413，該斜導(dǎo)面412與 該垂直面413相配合界定出一個(gè)其縱截面呈橫躺狀直角三角形的角形空間414。該頂推件 43的縱截面是呈橫躺狀直角三角形，并能嵌容在該角形空間414中，該頂推件43具有一個(gè) 能貼合該垂直面413的直立面431、一個(gè)正交連接該直立面431且能相對(duì)移動(dòng)地頂觸該調(diào) 整盤44的一底面的水平面432，以及一個(gè)連接該直立面431與該水平面432且能相對(duì)滑移 地貼合該斜導(dǎo)面412的傾斜面433。因此，能控制該頂推件43沿著該斜導(dǎo)面412的斜度向 上滑升，使其相對(duì)該基盤41往右斜上方移動(dòng)；相反地，也能控制該頂推件43沿著該斜導(dǎo)面 412的斜度向下滑降，使其相對(duì)該基盤41往左斜下方移動(dòng)。
該調(diào)整盤44具有五個(gè)相間隔地自其一頂面向下凹陷且深度能變化的調(diào)量槽441， 以及五個(gè)分別自該五調(diào)量槽441向下延伸至其一底面且分別供該五給料管42恒插置其中 的插接槽442，每一調(diào)量槽441與所相對(duì)應(yīng)給料管42的內(nèi)部空間相配合界定出一個(gè)能容納 定量導(dǎo)磁粉料的定量空間443 ；本實(shí)施例中，因給料管42是插滿該縱向貫孔411，所以定量 空間443是由調(diào)量槽441與給料管42內(nèi)部所界定出，當(dāng)然，若給料管42是直立設(shè)置在縱向 貫孔411的頂緣處而未插伸入，定量空間443便是由調(diào)量槽441、給料管42內(nèi)部與縱向貫孔 411所共同界定者。同樣地，由于圖式視角關(guān)系，縱向貫孔411、給料管42、調(diào)量槽441、插接槽442等元件皆只顯現(xiàn)出一個(gè)。
所以，在該調(diào)整盤44的固定厚度下，當(dāng)該頂推件43往右斜上方移動(dòng)，而頂推該調(diào) 整盤44相對(duì)該基盤41向上升移時(shí)，會(huì)使調(diào)量槽441深度增加，相對(duì)地，插接槽442深度便 縮減(也就是給料管42的插接長度縮短)，而定量空間443的深度B也就相應(yīng)變大，也就是 會(huì)調(diào)增粉料定量值；相反地，當(dāng)該頂推件43往左斜下方移動(dòng)，而使該調(diào)整盤44相對(duì)該基盤 41往下降移時(shí)，便會(huì)使調(diào)量槽441深度縮小、插接槽442深度增大(給料管42的插接長度 增加)，且定量空間443的深度B變小，而調(diào)減粉料定量值。
該分料座6包括一個(gè)能橫向位移地夾設(shè)在該粉料座2與該調(diào)整盤44間且能在一 第一、二位置間往復(fù)移動(dòng)的活動(dòng)盤61，以及一個(gè)連接該活動(dòng)盤61且用以控制該活動(dòng)盤61進(jìn) 行橫向位移的動(dòng)力件62。該活動(dòng)盤61具有五個(gè)上下貫穿的配料槽611(因視角關(guān)系，圖中 只顯現(xiàn)出一個(gè))；該五配料槽611能分別連通該粉料座2的五落料口 21，也能轉(zhuǎn)而分別連通 該給料座4的五調(diào)量槽441 (或定量空間443)，特別是，配料槽611的容積是不小于定量空 間443的容積(其所能容納粉料量就稱為粉料定量值)。本實(shí)施例中，因配料槽611的截面 積是近乎等于調(diào)量槽441(或定量空間443)的截面積，且配料槽611的深度A是大于定量 空間443的深度B，所以配料槽611的容積所能容納的粉料量是大于定量空間443的容積所 限定的粉料定量值；當(dāng)然，配料槽611的截面積也可以是大于調(diào)量槽441(或定量空間443) 的截面積，再配合對(duì)配料槽611的深度A與定量空間443的深度B等尺寸作調(diào)整，同樣能達(dá) 到使配料槽611的容積不小于定量空間443的容積的效果。
如圖2所示，當(dāng)該動(dòng)力件62控制該活動(dòng)盤61相對(duì)該給調(diào)整盤44左移至抵觸該第 一擋塊46，而位在該第一位置時(shí)，該五落料口 21是分別與該五配料槽611呈連通，這時(shí)候， 該粉料座2所載裝的導(dǎo)磁粉料便能小部分地先落料入該五配料槽611中。
如圖3所示，當(dāng)該動(dòng)力件62控制該活動(dòng)盤61相對(duì)該調(diào)整盤44右移至抵觸該第二 擋塊47，而位在該第二位置時(shí)，該五落料口 21的底端是同時(shí)受該活動(dòng)盤61的頂面所遮蔽而 停止出料，該五配料槽611轉(zhuǎn)而分別與該五調(diào)量槽441呈上下對(duì)接連通，使位在配料槽611 中的導(dǎo)磁粉料能同時(shí)下排，以分別填滿該五定量空間443 ；由于本實(shí)施例的配料槽611的容 積是大于定量空間443的容積，所以配料槽611中的導(dǎo)磁粉料并不會(huì)完全排空而有剩余。另 外，此時(shí)該給料座4的開關(guān)件45是將給料管42的底端(就相當(dāng)于定量空間443的底端) 遮蔽住，需待定量空間443已填滿導(dǎo)磁粉料后，該動(dòng)力件62控制該活動(dòng)盤61 (連同其配料 槽611中所殘存導(dǎo)磁粉料)復(fù)歸至該第一位置處時(shí)，該開關(guān)件45才會(huì)開放給料管42的底 端，使定量空間443中的定量導(dǎo)磁粉料排落至模具中。
因此，于操作該粉料定量配給裝置時(shí)，先控制該活動(dòng)盤61位在該第一位置，使該 活動(dòng)盤61的配料槽611能先從該粉料座2分取得多于粉料定量值的導(dǎo)磁粉料，此時(shí)，該開 關(guān)件45是遮蔽該給料管42的底端；隨后，再控制該活動(dòng)盤61右移至該第二位置，該粉料座 2停止出料，且該開關(guān)件45仍遮蔽該給料管42的底端，使位在配料槽611中的導(dǎo)磁粉料下 排并填滿定量空間443，接著，再控制該活動(dòng)盤61 (仍有殘余、未排空的導(dǎo)磁粉料)回歸至該 第一位置時(shí)，該開關(guān)件45便會(huì)立刻開放該給料管42的底端，使充滿于定量空間443中的導(dǎo) 磁粉料能全部外排并供給至模具中，以被壓鑄成型為固化包覆塊者。
如圖4所示，為控制該頂推件43朝右上方滑升，以頂推該調(diào)整盤44向上升移，使 定量空間443的深度拉大，而得以調(diào)增粉料定量值的使用狀況。這時(shí)候，在配料槽611的截面積仍大于或等于定量空間443的截面積的條件下，配料槽611的深度A是仍大于或等于 定量空間443的深度B，也就是配料槽611所容納的導(dǎo)磁粉料量是仍大于或等于粉料定量 值，所以位在配料槽611中的導(dǎo)磁粉料便能完全排落至定量空間443中，以將其填滿。
要補(bǔ)充說明是，當(dāng)然，本發(fā)明的該粉料定量配給裝置也可以是供給一份定量的導(dǎo) 磁粉料至模具，這時(shí)候，該粉料座2的落料口 21、該給料座4的縱向貫孔411與給料管42、 該調(diào)整盤44的調(diào)量槽441與插接槽442，以及該分料座6的配料槽611等構(gòu)件的數(shù)量便都 只要一個(gè)就可以了。所以，有關(guān)上述構(gòu)件的數(shù)量并不局限于本實(shí)施方式所載。
綜上所述，本發(fā)明的粉料定量配給裝置，利用能受該頂推件43控制升降的調(diào)整盤 44，能調(diào)整定量空間443大小及其所能填充粉料定量值的定量配給結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，再者，配合上 能往復(fù)橫向橫移的活動(dòng)盤61能先從粉料座2取得不少于定量值的導(dǎo)磁粉料，再供應(yīng)等于定 量值的導(dǎo)磁粉料以填滿定量空間443的多段配料構(gòu)造，能有效促進(jìn)導(dǎo)磁粉料從最大容積的 粉料座2排至最小容積的定量空間443的落料順暢度，讓整體產(chǎn)生能穩(wěn)定、連續(xù)、精確地機(jī) 械化配給定量粉料，與同時(shí)能應(yīng)不同需求而適當(dāng)調(diào)整粉料定量值等效果，用以能提升電感 元件制造過程中的導(dǎo)磁粉料的定量填充效率，并穩(wěn)定控制所制得電感元件的質(zhì)量與良率， 改善一般電感制造過程中所使用人工化導(dǎo)磁粉料填充方式，所致效率較差、粉料定量精確 度不易控制，與所制電感元件的質(zhì)量與良率較不穩(wěn)定等問題，所以確實(shí)能達(dá)成本發(fā)明的目 的。
權(quán)利要求
1.一種粉料定量配給裝置，包含一個(gè)具有一個(gè)落料口的粉料座，以及一個(gè)設(shè)置在所述 粉料座下方處的給料座；其特征在于所述粉料定量配給裝置還包含一個(gè)設(shè)置在所述粉料座與所述給料座間的分料座，所 述給料座包括一個(gè)縱向貫穿的定量空間，以及一個(gè)設(shè)置在所述定量空間的一底端處的開關(guān) 件，所述分料座包括一個(gè)能橫向位移地夾設(shè)在所述粉料座與所述給料座間的活動(dòng)盤，所述 活動(dòng)盤具有一個(gè)呈上下開放狀且能交替地對(duì)應(yīng)連通所述落料口、所述定量空間的配料槽。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的粉料定量配給裝置，其特征在于所述活動(dòng)盤的配料槽的容 積，是不小于所述定量空間的容積。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的粉料定量配給裝置，其特征在于所述給料座還包括一 個(gè)具有一個(gè)縱向貫孔的基盤、一支直立設(shè)置在所述基盤上且連通所述縱向貫孔的中空的給 料管，以及一個(gè)能相對(duì)升降位移地設(shè)置在所述基盤上方的調(diào)整盤，所述調(diào)整盤具有一個(gè)自 其一頂面向下凹陷的調(diào)量槽，以及一個(gè)自所述調(diào)量槽向下延伸且供所述給料管插置的插接 槽，所述基盤的縱向貫孔、所述調(diào)整盤的調(diào)量槽與所述給料管內(nèi)部是相配合界定出所述定 量空間。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述粉料定量配給裝置，其特征在于所述給料座還包括一個(gè)其縱 截面呈直角三角形的頂推件，所述基盤還具有一個(gè)自其一頂面往所述給料管方向傾斜向下 延伸的斜導(dǎo)面，以及一個(gè)自其頂面垂直向下延伸并與所述斜導(dǎo)面相配合界定出一角形空間 的垂直面，所述頂推件是容置在所述角形空間中，并具有一個(gè)能貼合所述垂直面的直立面、 一個(gè)正交連接所述直立面且能相對(duì)移動(dòng)地頂觸所述調(diào)整盤的一底面的水平面，以及一個(gè)連 接所述直立面與所述水平面且能相對(duì)滑移地貼合所述斜導(dǎo)面的傾斜面。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的粉料定量配給裝置，其特征在于所述分料座還包括一個(gè)連 接所述活動(dòng)盤的動(dòng)力件。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的粉料定量配給裝置，其特征在于所述給料座還包括一個(gè)設(shè) 置在所述調(diào)整盤的一側(cè)上的第一擋塊，以及一個(gè)設(shè)置在所述調(diào)整盤的相反另一側(cè)上的第二 擋塊。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的粉料定量配給裝置，其特征在于所述給料座的給料管是插 接在所述基盤的縱向貫孔中，且局部突伸出所述基盤的頂面。
全文摘要
一種粉料定量配給裝置，包含一個(gè)具有一個(gè)落料口的粉料座、一個(gè)設(shè)置在該粉料座下方處的給料座，以及一個(gè)設(shè)置在該粉料座與該給料座間的分料座。該給料座包括一個(gè)縱向貫穿的定量空間，以及一個(gè)設(shè)置在該定量空間的一底端處的開關(guān)件。該分料座包括一個(gè)能橫向位移地夾設(shè)在該粉料座與該給料座間的活動(dòng)盤，該活動(dòng)盤具有一個(gè)呈上下開放狀且能交替地對(duì)應(yīng)連通該落料口、該定量空間的配料槽。用以，整體能產(chǎn)生穩(wěn)定、連續(xù)地機(jī)械化配給定量粉料的功效。
文檔編號(hào)H01F41/00GK102034600SQ200910176188
公開日2011年4月27日 申請(qǐng)日期2009年9月25日 優(yōu)先權(quán)日2009年9月25日
發(fā)明者王萬勛, 黃明章 申請(qǐng)人:王仕任