專利名稱:緩沖元件及應(yīng)用此緩沖元件的覆晶軟膜接合方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及一種緩沖元件,尤其涉及ー種應(yīng)用于覆晶軟膜接合的緩沖元件及其接合方法。
背景技術(shù):
一般而言,將覆晶軟膜(Chip on Film)接合于液晶面板的方式多采用熱壓制程, 在熱壓制程中,覆晶軟膜先被迭置于液晶面板,其后再以熱壓頭壓抵覆晶軟膜,因此,位于覆晶軟膜與液晶面板之間的膠材即會(huì)將覆晶軟膜及液晶面板膠合。此外,在前述壓抵過程中,熱壓頭通常經(jīng)由緩沖材而壓抵覆晶軟膜。在上述熱壓エ藝中,液晶面板的走線與覆晶軟膜的芯片外引線需完成對(duì)應(yīng)的電性連接,走線與外引線通常為平行的電性接線(如金手指般),由于外引線所在的覆晶軟膜的熱膨脹系數(shù)大于走線所在的液晶面板的熱膨脹系數(shù),因此,在熱壓前(如常溫下),外引線之間的間距通常小于走線之間的間距,當(dāng)熱壓頭壓抵覆晶軟膜吋,因覆晶軟膜的熱膨脹量大于液晶面板(玻璃)的熱膨脹量,故在熱膠合溫度時(shí),外引線與走線即能對(duì)應(yīng)地形成電性連接。雖然在上述的覆晶軟膜的熱壓エ藝能達(dá)到對(duì)應(yīng)電性連接的目的,但是在實(shí)作吋, 覆晶軟膜的溫度并不易控制,當(dāng)溫度未落在預(yù)定范圍時(shí),覆晶軟膜的熱膨脹量將不足或過大,致電性連接不良或錯(cuò)誤。此外,在實(shí)際エ藝中,前述緩沖材配置于熱壓頭與覆晶軟膜之間,致覆晶軟膜的溫度將更不易控制,更易形成不良的電性連接。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提出緩沖元件及應(yīng)用此緩沖元件的覆晶軟膜接合方法,適于將覆晶軟膜接合于基板。依據(jù)ー實(shí)施例,緩沖元件包含依序迭置的第一膜層、熱阻層及第ニ膜層。熱阻層的熱傳導(dǎo)系數(shù)小于0. 13W/m-k。第一膜層的熱傳導(dǎo)系數(shù)為0.4W/m-k。第二膜層的熱傳導(dǎo)系數(shù)大于該第一膜層的熱傳導(dǎo)系數(shù)。依據(jù)ー實(shí)施例,第二膜層包含導(dǎo)熱粉,且熱傳導(dǎo)系數(shù)為0. 3W/m_k。前述熱阻層的厚度介于0. 06毫米至0. I毫米之間。第一膜層的厚度為0. 05毫米,第二膜層的厚度為0. I 毫米。熱阻層的熱傳導(dǎo)系數(shù)小于第二膜層的熱傳導(dǎo)系數(shù)。并且,較佳地,該第二膜層相對(duì)于該第二表面的另一面具有離形結(jié)構(gòu)。較佳地,該熱阻層的材質(zhì)為玻纖布,該第一膜層的材質(zhì)為娃膜,該第二膜層的材質(zhì)為娃膜。依據(jù)ー實(shí)施例,應(yīng)用緩沖元件的覆晶軟膜接合方法包含以熱壓頭抵壓緩沖元件于ー迭置有一覆晶軟膜的基板上,覆晶軟膜與基板間具有導(dǎo)電膠材,而熱壓頭的溫度為 3800C ;以及持續(xù)抵壓該基板ー預(yù)定時(shí)間后,退回該熱壓頭。其中,該覆晶軟膜在該導(dǎo)電膠材固化時(shí)與常溫時(shí)的膨脹比例在0. 3%至0. 8%之間。
其中,該覆晶軟膜在該導(dǎo)電膠材固化時(shí)在水平面上的膨脹量在10微米至22微米之間。
其中,該以該熱壓頭抵壓該緩沖元件的步驟為該熱壓頭以ー預(yù)定速度先接觸該緩沖元件后再將該緩沖元件抵壓于該基板。
其中,該預(yù)定速度為一等速度。
其中,該等速度為I 10mm/s。
通過上述緩沖元件的結(jié)構(gòu),在熱壓頭尚未壓下(或是未接觸到緩沖元件),緩沖元件可以將熱壓頭的熱量隔離,而不致預(yù)熱覆晶軟膜,當(dāng)熱壓頭抵壓緩沖元件于覆晶軟膜吋,熱量可以迅速地傳導(dǎo)至導(dǎo)電膠材,而待熱壓頭退回后,熱量亦被緩沖元件隔離于熱壓頭周圍,而不致于持續(xù)對(duì)覆晶軟膜加熱,因而,能更有效地控制覆晶軟膜的接合溫度,并提高電性連接的良率。
以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)描述,但不作為對(duì)本發(fā)明的限定。
圖I為根據(jù)本揭露ー實(shí)施例的緩沖元件的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2A、圖2B及圖2C為本揭露一實(shí)施例的應(yīng)用緩沖元件的覆晶軟膜接合作業(yè)示意圖。
圖3A、圖3B、圖3C及圖3D為覆晶軟膜接合結(jié)果的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖4為覆晶軟膜結(jié)果的膨脹量比較圖。
圖5為本揭露一實(shí)施例的應(yīng)用緩沖元件的覆晶軟膜接合方法流程示意圖。
其中,附圖標(biāo)記
10 :緩沖元件
12 :第一膜層
14 :熱阻層
140 :第一表面
142 :第二表面
16 :第二膜層
160 另一面,表面
20 :基板
21a, 21b :走線
22 :覆晶軟膜
23a, 23b :外引線
24 :芯片
30 :熱壓頭
50a, 50b :卡匣
52a, 52b :滾筒具體實(shí)施方式
以下在實(shí)施方式中詳細(xì)敘述本揭露的詳細(xì)特征以及優(yōu)點(diǎn),其內(nèi)容足以使任何熟習(xí)相關(guān)技藝者了解本揭露的技術(shù)內(nèi)容并據(jù)以實(shí)施,且根據(jù)本說明書所揭露的內(nèi)容、權(quán)利要求及附圖,任何本領(lǐng)域技術(shù)人員可輕易地理解本揭露相關(guān)的目的及優(yōu)點(diǎn)。首先,請(qǐng)參考圖1,其為根據(jù)本揭露ー實(shí)施例的緩沖元件的結(jié)構(gòu)示意圖。緩沖元件 (Buffer Sheet) 10適于ー覆晶軟膜(Chip on Film)エ藝。請(qǐng)搭配圖2A閱覽的。從圖2A 可以看見緩沖元件10卷繞于覆晶軟膜エ藝中的滾筒52a,52b,滾筒52a,52b各別配置于熱壓頭(Head) 30兩側(cè)的卡證(Buffer Sheet Cassette) 50a, 50b內(nèi)。此熱壓頭30亦可稱為本壓頭。 覆晶軟膜22配置于ー基板20上,基板20可以是液晶面板或其它欲與覆晶軟膜22 接合的基板。覆晶軟膜22上具有ー芯片24,于覆晶軟膜22及基板之間,具有導(dǎo)電膠材,導(dǎo)電膠材可以是但不限于異方性導(dǎo)電膠(ACF,Anisotropic Conductive Film)及各種熱固化型膠材。當(dāng)覆晶軟膜22接合于基板20后,芯片24的外引線即對(duì)應(yīng)地電性連接于基板20 上的走線,關(guān)于此接合過程,容后詳述。緩沖元件10包含第一膜層12、熱阻層14及第ニ膜層16。熱阻層14包含第一表面140及第ニ表面142。熱阻層14的熱傳導(dǎo)系數(shù)小于或等于0. 13W/m-k。熱阻層14可為玻纖層,熱阻層14的材質(zhì)可以是但不限于玻纖布及任何具有高熱阻的材料,此處的高熱阻材料可以是熱傳導(dǎo)系數(shù)小于0. 13ff/m-k的任何材料,此玻纖布的熱傳導(dǎo)系數(shù)約為0. 13ff/m-ko 熱阻層14的厚度可介于0. 06毫米(mm)至0. I毫米之間。第一膜層12配置于第一表面140,且第一膜層12的熱傳導(dǎo)系數(shù)為0. 4W/m_k。第 ー膜層12可以是娃材層。第一膜層12可以為無摻雜導(dǎo)熱粉的娃膜,此娃膜的熱傳導(dǎo)系數(shù)約為0. 4W/m-k。第一膜層12的厚度可介于0. 01毫米至0. 05毫米之間。第二膜層16配置于第二表面142,且第二膜層16的熱傳導(dǎo)系數(shù)大于第一膜層12 的熱傳導(dǎo)系數(shù)。第二膜層16可以是硅材層。此第二膜層16可以是但不限于硅膜,此硅膜也可添加了導(dǎo)熱粉。此添加了導(dǎo)熱粉的硅膜的熱傳導(dǎo)系數(shù)約為0.3W/m_k。導(dǎo)熱粉可采用混合、摻雜或涂布方式結(jié)合于硅膜。第二膜層16的厚度可介于0. 06毫米至0. I毫米之間。 熱阻層14的熱傳導(dǎo)系數(shù)小于第二膜層16的熱傳導(dǎo)系數(shù)。在第二膜層16相對(duì)于第二表面的另一面160 (朝向覆晶軟膜22的面上)具有離形結(jié)構(gòu)。此離形結(jié)構(gòu)可以是多點(diǎn)圖樣的凸點(diǎn)或凹點(diǎn),或在此表面160上具有離形材質(zhì),以在 エ藝中,易于使緩沖元件10與覆晶軟膜22 (異方性導(dǎo)電膠)脫離。接著,請(qǐng)搭配圖2A、圖2B及圖2C閱覽的。其為本揭露一實(shí)施例的應(yīng)用緩沖元件的覆晶軟膜接合作業(yè)示意圖。圖2A中,覆晶軟膜22已于前一エ藝中(預(yù)壓エ藝)預(yù)壓于基板20上之后方才移至圖2A的エ藝(也可稱為本壓エ藝),從圖中可以看見,緩沖元件10 ニ端卷繞于滾筒52a, 52b并橫跨于熱壓頭30與覆晶軟膜22之間,其中,緩沖元件10的第一膜層12朝向熱壓頭 30。在此狀態(tài)吋,由于熱阻層14及第ー膜層12的熱傳導(dǎo)系數(shù)均小于第二膜層16的熱傳導(dǎo)系數(shù),故熱壓頭30的熱量將被相當(dāng)程度地隔離于緩沖元件10的上方(即熱壓頭30處),使熱量不致被熱傳導(dǎo)或熱對(duì)流至覆晶軟膜22處,并維持覆晶軟膜22、導(dǎo)電膠材及基板20在預(yù)定溫度內(nèi),此預(yù)定溫度低于導(dǎo)電膠材的熔接溫度。接著,在圖2B中,熱壓頭30已朝覆晶軟膜22移動(dòng)并將緩沖元件10抵壓于覆晶軟膜22上方,此時(shí),由于熱壓頭30已抵壓于緩沖元件10及覆晶軟膜22,因此,熱壓頭30的熱量即熱傳導(dǎo)至覆晶軟膜22、導(dǎo)電膠材及基板20,故導(dǎo)電膠材即會(huì)在預(yù)定時(shí)間內(nèi)即達(dá)到熔接溫度并將覆晶軟膜22與基板20接合。此預(yù)定時(shí)間可視緩沖元件10的結(jié)構(gòu)而變化,例如, 當(dāng)熱阻層14的厚度愈厚、熱阻層14的導(dǎo)熱系數(shù)愈低、或第一膜層12的導(dǎo)熱系數(shù)愈低,則預(yù)定時(shí)間的則愈長,意即,此預(yù)定時(shí)間可視緩沖元件10的設(shè)計(jì)而變化。其次,待導(dǎo)電膠材達(dá)到熔接溫度后,熱壓頭30即可朝遠(yuǎn)離覆晶軟膜22的方向移動(dòng) (即朝圖2B的上方移動(dòng)),移動(dòng)后,即形成如圖2C所示,在此圖式中,即完成覆晶軟膜22接合于基板20的作業(yè),其后,即可將接合好的基板20移出,再移入新的一片基板20,并再進(jìn)行覆晶軟膜22接合エ藝。再者,關(guān)于接合時(shí)的預(yù)定溫度及前述預(yù)定時(shí)間對(duì)接合效果的影響,請(qǐng)續(xù)參閱圖3A、 圖3B、圖3C及圖3D,其為覆晶軟膜接合結(jié)果的結(jié)構(gòu)示意圖。該些圖式為圖2A底視圖,即從圖2A下方朝上向的視角所繪制的示意圖。在圖2A的狀態(tài)下,芯片24的外引線(也可稱為外引腳)23a,23b及基板20的走線21a,21b的相對(duì)位置即如圖所示,其中,外引線即可為覆晶軟膜22上的導(dǎo)電布線,用以將芯片24的接腳外引。而基板20若為液晶面板吋,基板20的走線21a,21b可為透明導(dǎo)膜 (HO, indium tin oxide)。在此圖2A時(shí),外引線23a, 23b與走線21a, 21b之間的導(dǎo)電膠材因未達(dá)熔接溫度,故外引線23a,23b與走線21a,21b之間尚未完成接合,且相鄰?fù)庖€23a, 23b的間距(pitch)小于走線21a, 21b的間距(pitch)。當(dāng)前述預(yù)定溫度或預(yù)定時(shí)間不適當(dāng)時(shí),外引線23a, 23b與走線21a, 21b之間的接合即可能不適當(dāng),意即,若預(yù)定溫度過低或預(yù)定時(shí)間太短,則外引線23a,23b所在的覆晶軟膜20則可能會(huì)受熱不夠,致覆晶軟膜20的膨脹量未達(dá)預(yù)期,使外引線23a,23b的間距仍小于走線21a,21b的間距,但導(dǎo)電膠材已產(chǎn)生接合,故產(chǎn)生如圖3B所示的接合狀態(tài)。從圖3B 中可以看出,外引線23a,23b正好位于走線21a,21b的間隙上,致使外引線23a,23b將相鄰的走線21a,21b形成電性連接,而短路。其次,若預(yù)定溫度及預(yù)定時(shí)間適當(dāng)時(shí),外引線23a,23b正好以ー對(duì)一對(duì)應(yīng)的方式與走線21a,21b電性連接,如圖3C所示,完成將芯片24的接腳電性連接至基板20的目的。再者,當(dāng)預(yù)定溫度過高或預(yù)定時(shí)間過長,則覆晶軟膜20的膨脹量超過預(yù)期,并使得外引線23a,23b的間距大于走線21a,2Ib的間距,即如圖3D所示,此時(shí),外引線23a,23b 與走線21a,21b間的接合可能即不適當(dāng),雖然在圖3D中的接合仍屬于一対一對(duì)應(yīng)方式接合,但接合后的間隙變小,除提高了短路的可能性,兩者間接合面積亦相對(duì)較小,電性連接效果亦較差。關(guān)于本揭露緩沖元件10應(yīng)用于覆晶軟膜22接合的效果,茲進(jìn)行幾組實(shí)驗(yàn),實(shí)驗(yàn)中的第一膜層的材質(zhì)為娃(未摻雜導(dǎo)熱粉),厚度為0.05毫米;第二膜層的材質(zhì)為娃并摻雜導(dǎo)熱粉,厚度為0. I毫米;覆晶軟膜22與基板20 (本實(shí)驗(yàn)采用液晶面板)間的導(dǎo)電膠材采用異方性導(dǎo)電膠,而熱阻層則采用玻纖布,厚度分別為0.06、0. 08、及0. I毫米。在相同エ 藝下,完成接合時(shí),覆晶軟膜的膨脹量即如圖4所示,分別為22、15、及10微米(um)。前述膨脹量指覆晶軟膜22在導(dǎo)電膠材固化(或達(dá)熔接溫度)時(shí)在水平面上的膨脹量,此水平面指的是與緩沖元件的第二表面實(shí)質(zhì)上平行的面。從圖4可以得知此膨脹量在10至22微米之間。而膨脹比例則在0. 3%至0. 8%之間,例如在最外側(cè)的兩個(gè)外引線23a,23b間的寬度
6為4. 2毫米(mm)時(shí),平面上的膨脹量在12. 6到33. 6微米之間。當(dāng)然,前述膨脹量可視設(shè)計(jì)而有所不同。最后,請(qǐng)參閱圖5,其為本揭露一實(shí)施例的應(yīng)用緩沖元件的覆晶軟膜接合方法流程示意圖。從圖中可以知悉應(yīng)用緩沖元件10的覆晶軟膜(Chip on Film)接合方法包含步驟S90 以熱壓頭30抵壓緩沖元件10于迭置有一覆晶軟膜22的基板20上,覆晶軟膜22與基板20間具有導(dǎo)電膠材,熱壓頭的溫度為380°C ;以及步驟S92 :持續(xù)抵壓該基板ー預(yù)定時(shí)間后,退回該熱壓頭。其中,步驟S90中熱壓頭的溫度可以高于導(dǎo)電膠材的熔接溫度或上述的預(yù)定溫度,亦可以是導(dǎo)電膠材的固化溫度。步驟S90可以是指熱壓頭30以ー預(yù)定速度先接觸到緩沖元件10后,再將緩沖元件10抵壓于基板20。此預(yù)定速度可以是一等速度,且其速度值約為 I IOmm/so而步驟S92中的預(yù)定時(shí)間可以是熱壓頭30抵壓緩沖元件10于基板20后到導(dǎo)電膠材達(dá)到熔接溫度時(shí)的時(shí)間,或是熱壓頭30抵壓于緩沖元件10于基板20后到導(dǎo)電膠材固化時(shí)的時(shí)間。而熱壓頭30的退回則是指熱壓頭30朝遠(yuǎn)離覆晶軟膜22的方向移動(dòng)。綜上所述,在熱壓頭30尚未壓下(即圖2A所示或是未接觸到緩沖元件)時(shí),緩沖元件10可以將熱壓頭30的熱量隔離于緩沖元件10的上方,而不致預(yù)熱覆晶軟膜22,當(dāng)熱壓頭30抵壓緩元件10于覆晶軟膜22時(shí),熱量可以迅速地傳導(dǎo)至導(dǎo)電膠材,而待熱壓頭30 退回后,熱量亦被緩沖元件10隔離于熱壓頭30周圍,而不致于持續(xù)對(duì)覆晶軟膜22加熱,因而能更有效地控制覆晶軟膜22的接合溫度,并提高電性連接的良率。關(guān)于緩沖材的設(shè)計(jì),實(shí)施者可根據(jù)熱壓頭30溫度與熱壓頭30下降速度,選擇適當(dāng)材料做為熱阻層14,即適當(dāng)選擇ー種高熱傳導(dǎo)系數(shù)的材料,以滿足熱壓頭30壓于覆晶軟膜 22前的時(shí)間內(nèi)溫度阻隔的效果,此溫度阻隔效果亦可依據(jù)覆晶軟膜22的膨脹量進(jìn)行設(shè)計(jì)。當(dāng)然,本發(fā)明還可有其它多種實(shí)施例,在不背離本發(fā)明精神及其實(shí)質(zhì)的情況下,熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員可根據(jù)本發(fā)明作出各種相應(yīng)的改變和變形,但這些相應(yīng)的改變和變形都應(yīng)屬于本發(fā)明權(quán)利要求的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種緩沖元件,適于ー覆晶軟膜エ藝,其特征在干,該緩沖元件包含一熱阻層,具有一第一表面及一第二表面,該熱阻層的熱傳導(dǎo)系數(shù)小于或等于0. 13W/m-k ;一第一膜層,配置于該第一表面,該第一膜層的熱傳導(dǎo)系數(shù)為0. 4W/m-k ;以及一第二膜層,配置于該第二表面,該第二膜層的熱傳導(dǎo)系數(shù)大于該第一膜層的熱傳導(dǎo)系數(shù)。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的緩沖元件,其特征在于,該第二膜層包含導(dǎo)熱粉。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的緩沖元件,其特征在于,該第二膜層的熱傳導(dǎo)系數(shù)為0.3W/m_k0
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的緩沖元件,其特征在干,該熱阻層的厚度介于0.06毫米至0.I毫米之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的緩沖元件,其特征在于,該第二膜層的厚度為0.I毫米。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的緩沖元件,其特征在于,該第一膜層的厚度為0.05毫米。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的緩沖元件,其特征在干,該熱阻層的熱傳導(dǎo)系數(shù)小于該第二膜層的熱傳導(dǎo)系數(shù)。
8.根據(jù)權(quán)利要求I所述的緩沖元件,其特征在于,該第二膜層相對(duì)于該第二表面的另一面具有離形結(jié)構(gòu)。
9.根據(jù)權(quán)利要求I所述的緩沖元件,其特征在于,該熱阻層的材質(zhì)為玻纖布,該第一膜層的材質(zhì)為娃膜,該第二膜層的材質(zhì)為娃膜。
10.ー種覆晶軟膜接合方法,其特征在于,包含以ー熱壓頭抵壓ー緩沖元件于迭置有一覆晶軟膜的一基板上,該覆晶軟膜與該基板間具有ー導(dǎo)電膠材,該熱壓頭的溫度為380°C ;以及持續(xù)抵壓該基板ー預(yù)定時(shí)間后,退回該熱壓頭。
11.根據(jù)權(quán)利要求10的覆晶軟膜接合方法,其特征在于,該覆晶軟膜在該導(dǎo)電膠材固化時(shí)與常溫時(shí)的膨脹比例在0. 3%至0. 8%之間。
12.根據(jù)權(quán)利要求10的覆晶軟膜接合方法,其特征在于,該覆晶軟膜在該導(dǎo)電膠材固化時(shí)在水平面上的膨脹量在10微米至22微米之間。
13.根據(jù)權(quán)利要求10的覆晶軟膜接合方法,其特征在于,該以該熱壓頭抵壓該緩沖元件的步驟為該熱壓頭以ー預(yù)定速度先接觸該緩沖元件后再將該緩沖元件抵壓于該基板。
14.根據(jù)權(quán)利要求13的覆晶軟膜接合方法,其特征在干,該預(yù)定速度為一等速度。
15.根據(jù)權(quán)利要求13的覆晶軟膜接合方法,其特征在于,該等速度為I lOmm/s。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種緩沖元件及應(yīng)用此緩沖元件的覆晶軟膜接合方法,該緩沖元件應(yīng)用于覆晶軟膜與基板之接合。緩沖元件包含依序迭置的第一膜層、熱阻層及第二膜層。熱阻層的熱傳導(dǎo)系數(shù)低于第一膜層及第二膜層的熱傳導(dǎo)系數(shù),因此,當(dāng)熱壓頭未抵壓于覆晶軟膜時(shí),緩沖元件得以將大部分熱量阻絕,并于熱壓頭抵壓緩沖元件于覆晶軟膜時(shí),熱壓頭的熱量可快速傳導(dǎo)至覆晶軟膜并迅速加熱位于覆晶軟膜與基板間的導(dǎo)熱膠材,達(dá)成精確控制覆晶軟膜熱膨脹量的目的。
文檔編號(hào)H01L21/60GK102610587SQ20111027136
公開日2012年7月25日 申請(qǐng)日期2011年9月6日 優(yōu)先權(quán)日2011年6月29日
發(fā)明者羅楚俊 申請(qǐng)人:友達(dá)光電股份有限公司