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      一種檢測晶圓的制作方法

      文檔序號:7169939閱讀:257來源:國知局
      專利名稱:一種檢測晶圓的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本實用新型涉及半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種檢測晶圓。
      背景技術(shù)
      集成電路制作工藝是一種平面制作工藝,其結(jié)合光刻、刻蝕、沉積、離子注入等多種工藝,在同一襯底上形成大量各種類型的復(fù)雜器件,并將其互相連接以具有完整的電子功能。其中,任一步工藝出現(xiàn)問題,都可能會導(dǎo)致電路的制作失敗。因此,在現(xiàn)有技術(shù)中,常會對制作完成的芯片進(jìn)行檢測,以保證制作完成的芯片滿足集成電路制作的要求。對于不同的器件來說,例如,對于射頻標(biāo)識(radio frequency tag, RF tag)器件禾口射頻微機(jī)電系統(tǒng)(radio frequency micro-electro-mechanical system, RF MEMS)器件來說,均需要在制作完成后進(jìn)行等離子損傷測試以及其它檢測項目。目前,通常是分別將不同功能的芯片分別進(jìn)行檢測,使得檢測時間過長,檢測效率較低。

      實用新型內(nèi)容本實用新型所要解決的技術(shù)問題是提供了一種檢測晶圓,以解決現(xiàn)有技術(shù)中檢測效率低的問題。為了解決上述技術(shù)問題,本實用新型的技術(shù)方案是提供一種檢測晶圓,包括承載晶圓以及若干不同類型的芯片,所述若干芯片均鍵合在所述承載晶圓上。進(jìn)一步的,所述若干芯片的襯底均為硅襯底。進(jìn)一步的,所述芯片為射頻標(biāo)識器件和/或射頻微機(jī)電系統(tǒng)器件。進(jìn)一步的,所述若干芯片的襯底均為碳化硅襯底。進(jìn)一步的,所述芯片為射頻標(biāo)識器件和/或射頻微機(jī)電系統(tǒng)器件。進(jìn)一步的,所述若干芯片中一部分芯片的襯底為硅襯底,另一部分芯片的襯底為碳化硅襯底。進(jìn)一步的,具有硅襯底的芯片為射頻標(biāo)識器件,具有碳化硅襯底的芯片為射頻微機(jī)電系統(tǒng)器件。進(jìn)一步的,具有硅襯底的芯片為射頻微機(jī)電系統(tǒng)器件,具有碳化硅襯底的芯片為射頻標(biāo)識器件。進(jìn)一步的,所述承載晶圓的材料是多晶硅。進(jìn)一步的,所述承載晶圓的材料是單晶硅。進(jìn)一步的,所述承載晶圓的直徑為450mm 500mm。進(jìn)一步的,所述若干芯片設(shè)置在所述承載晶圓的邊緣。進(jìn)一步的,所述若干芯片均勻設(shè)置在所述承載晶圓的邊緣。進(jìn)一步的,所述若干芯片通過鍵合的方式設(shè)置在所述承載晶圓上。進(jìn)一步的,所述芯片的數(shù)量為4 20個。本實用新型提供的檢測晶圓,將若干具有不同功能的芯片設(shè)置在同一個承載晶圓上,可以將該檢測晶圓放入相應(yīng)的檢測裝置中,使檢測晶圓上設(shè)置的若干不同類型的芯片均完成了檢測,縮短了檢測時間,有利于提高檢測效率。

      圖1是本實用新型實施例提供的檢測晶圓的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。
      具體實施方式

      以下結(jié)合附圖和具體實施例對本實用新型提出的一種檢測晶圓作進(jìn)一步詳細(xì)說明。根據(jù)下面說明和權(quán)利要求書,本實用新型的優(yōu)點(diǎn)和特征將更清楚。需說明的是,附圖均采用非常簡化的形式且均使用非精準(zhǔn)的比率,僅用于方便、明晰地輔助說明本實用新型實施例的目的。本實用新型的核心思想在于,提供一種檢測晶圓,將具有不同功能的芯片設(shè)置在同一個承載晶圓上,可以將檢測晶圓放入相應(yīng)的檢測裝置中,使檢測晶圓上設(shè)置的若干不同類型的芯片同時完成了檢測,縮短了檢測時間,提高了檢測效率。圖1是本實用新型實施例提供的檢測晶圓的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。參照圖1,檢測晶圓 10,包括承載晶圓11以及若干不同類型的芯片12,所述芯片12均鍵合在所述承載晶圓11 上。進(jìn)一步地,所述若干芯片12的襯底均為硅(Si)芯片,而芯片12為射頻標(biāo)識器件(radio frequency tag, RF tag)和 / 或射頻微機(jī)電系統(tǒng)(radio frequency micro-electro-mechanical system, RF MEMS)器件?;蛘撸鋈舾尚酒?2的襯底均為碳化硅(SiC)襯底,芯片12同樣為射頻標(biāo)識器件和/或射頻微機(jī)電系統(tǒng)器件。又或者,所述若干芯片12中一部分芯片12的襯底為硅襯底,另一部分芯片12的襯底為碳化硅襯底。其中,具有硅襯底的芯片12為射頻標(biāo)識器件,具有碳化硅襯底的芯片 12為射頻微機(jī)電系統(tǒng)器件;或者,具有硅襯底的芯片12為射頻微機(jī)電系統(tǒng)器件,具有碳化硅襯底的芯片12為射頻標(biāo)識器件。在本實施例中,所述若干芯片12中一部分芯片12的襯底為硅襯底,另一部分芯片 12的襯底則為碳化硅襯底,并且,具有硅襯底的芯片12為射頻標(biāo)識器件,具有碳化硅襯底的芯片12為射頻微機(jī)電系統(tǒng)器件,本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該理解,也可以是具有硅襯底的芯片 12為射頻微機(jī)電系統(tǒng)器件,具有碳化硅襯底的芯片12為射頻標(biāo)識器件。當(dāng)然,所述不同類型的芯片不僅僅局限于射頻標(biāo)識器件以及射頻微機(jī)電系統(tǒng)器件,還可以是其他的功能器件。在本實施例中,所述承載晶圓11的材料為多晶硅,所述承載晶圓11的直徑為 450mm 500mm,所述芯片12的形狀為長方體,所述芯片12的規(guī)格例如為20mm* 10mm*2mm。 或者,所述承載晶圓11的材料也可以為單晶硅。其中,所述若干芯片12靠近所述承載晶圓11的邊緣設(shè)置,進(jìn)一步地,所述若干芯片12均勻設(shè)置在所述承載晶圓11上。在本實施例中,由于所述若干芯片12中一部分芯片 12的襯底為硅襯底,另一部分芯片12的襯底為碳化硅襯底,因此,可在1100度 1250度氫氣0 )的環(huán)境下,將碳化硅襯底鍵合至所述承載晶圓11的表面,同時將硅襯底也鍵合至所述承載晶圓11的表面??蛇x的,所述芯片的數(shù)量為4 20個,在本實施例中,所述芯片12的數(shù)量為5個, 其中,1個芯片的襯底為硅襯底,其為射頻標(biāo)識器件,其余4個芯片12的襯底為碳化硅襯底, 為射頻微機(jī)電系統(tǒng)器件,將鍵合有上述5個芯片12的承載晶圓11進(jìn)行等離子注入,以分別測得5個器件的等離子損傷,從而檢測器件針對等離子損傷這個工藝參數(shù)是否符合要求。綜上所述,通過將不同類型的芯片12鍵合至同一個承載晶圓11上,能夠通過一次檢測工藝檢測出承載晶圓11上的所有芯片12的同一工藝參數(shù)是否合格,當(dāng)然,本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該理解所述芯片12的工藝參數(shù)不僅僅局限于等離子損傷,還包括溫度、晶圓位置以及晶圓運(yùn)動形式等等。顯然,本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對實用新型進(jìn)行各種改動和變型而不脫離本實用新型的精神和范圍。這樣,倘若本實用新型的這些修改和變型屬于本實用新型權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi),則本實用新型也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。
      權(quán)利要求1.一種檢測晶圓,其特征在于,包括承載晶圓以及若干不同類型的芯片,所述若干芯片均鍵合在所述承載晶圓上。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測晶圓,其特征在于,所述若干芯片的襯底均為硅襯底。
      3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的檢測晶圓,其特征在于,所述芯片為射頻標(biāo)識器件和/或射頻微機(jī)電系統(tǒng)器件。
      4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測晶圓,其特征在于,所述若干芯片的襯底均為碳化硅襯底。
      5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的檢測晶圓,其特征在于,所述芯片為射頻標(biāo)識器件和/或射頻微機(jī)電系統(tǒng)器件。
      6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測晶圓,其特征在于,所述若干芯片中一部分芯片的襯底為硅襯底,另一部分芯片的襯底為碳化硅襯底。
      7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的檢測晶圓,其特征在于,具有硅襯底的芯片為射頻標(biāo)識器件, 具有碳化硅襯底的芯片為射頻微機(jī)電系統(tǒng)器件。
      8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的檢測晶圓,其特征在于,具有硅襯底的芯片為射頻微機(jī)電系統(tǒng)器件,具有碳化硅襯底的芯片為射頻標(biāo)識器件。
      9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測晶圓,其特征在于,所述承載晶圓的材料是多晶硅。
      10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測晶圓,其特征在于,所述承載晶圓的材料是單晶硅。
      11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測晶圓,其特征在于,所述承載晶圓的直徑為450mm 500mmo
      12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測晶圓,其特征在于,所述若干芯片設(shè)置在所述承載晶圓的邊緣。
      13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的檢測晶圓,其特征在于,所述若干芯片均勻設(shè)置在所述承載晶圓的邊緣。
      14.根據(jù)權(quán)利要求1至13中任一項的檢測晶圓,其特征在于,所述芯片的數(shù)量為4 20個。
      專利摘要本實用新型提供一種檢測晶圓,包括承載晶圓以及若干不同類型的芯片,所述若干芯片均鍵合在所述承載晶圓上。本實用新型提供的檢測晶圓,將若干具有不同功能的芯片設(shè)置在同一個承載晶圓上,可以將該檢測晶圓放入相應(yīng)的檢測裝置中,使檢測晶圓上設(shè)置的若干具有不同功能的芯片均完成了測試,縮短了檢測時間,有利于提高檢測效率。
      文檔編號H01L21/66GK202332799SQ20112046509
      公開日2012年7月11日 申請日期2011年11月21日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月21日
      發(fā)明者三重野文健, 周梅生 申請人:中芯國際集成電路制造(上海)有限公司
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