專利名稱：液處理裝置及液處理方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及通過一邊使基板以保持為水平狀態(tài)的狀態(tài)旋轉(zhuǎn)、一邊向該基板供給處理液來對基板進(jìn)行清洗處理、蝕刻處理、電鍍處理、顯影處理等液處理的液處理裝置及液處理方法。
背景技術(shù)：
以往，作為通過一邊使半導(dǎo)體晶圓等基板(以下也稱作晶圓)以保持為水平狀態(tài)的狀態(tài)旋轉(zhuǎn)、一邊向該基板的表面、背面供給處理液來對基板進(jìn)行清洗處理、蝕刻處理、電鍍處理、顯影處理等液處理的液處理裝置，公知有各式種類的裝置(例如，參照專利文獻(xiàn)I等)。在專利文獻(xiàn)I中公開有一種利用旋轉(zhuǎn)吸盤將基板水平地保持而使其旋轉(zhuǎn)并向由旋轉(zhuǎn)吸盤保持而旋轉(zhuǎn)的基板的表面供給處理液這樣的、逐張?zhí)幚砘宓膯螐埵降囊禾幚硌b置。另外，公知有這樣的技術(shù)在這樣的單張式的液處理裝置中，在處理室的上方設(shè)置FFU(風(fēng)機(jī)過濾單元)，自該FFU以下降氣流將乂氣(氮?dú)?、清潔空氣等氣體輸送到處理室內(nèi)。使用圖9及圖10對在處理室的上方設(shè)有FFU的液處理裝置的結(jié)構(gòu)進(jìn)行說明。圖9是表示以往的液處理裝置的概略結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖，圖10是圖9所示的以往的液處理裝置的俯視圖。如圖9及圖10所示，以往的液處理裝置200包括用于收容晶圓W并對該被收容的晶圓W進(jìn)行液處理的處理室(腔室)210。如圖9及圖10所示，在處理室210內(nèi)設(shè)有用于將晶圓W保持而使其旋轉(zhuǎn)的保持部220，在該保持部220的周圍配置有杯狀件230。另外，在以往的液處理裝置200中，在處理室210內(nèi)設(shè)有用于從杯狀件230的上方向保持在保持部220上的晶圓W供給處理液的噴嘴240及用于支承該噴嘴240的臂241。另外，在臂241上設(shè)有沿著大致鉛垂方向延伸的臂支承部242，利用該臂支承部242支承臂241。而且，臂支承部242被未圖示的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)而沿著正反兩方向旋轉(zhuǎn)。由此，臂241能夠以臂支承部242為中心向正反兩方向旋轉(zhuǎn)，該臂241在向被保持部220保持的晶圓W供給處理液的進(jìn)入位置(參照圖10中的實(shí)線)與自杯狀件230退避的退避位置(參照圖10中的雙點(diǎn)劃線)之間以臂支承部242為中心進(jìn)行旋轉(zhuǎn)移動(dòng)(參照圖10中的箭頭)。另外，如圖9所示，在處理室210的上方設(shè)有FFU(風(fēng)機(jī)過濾單元)250，始終自該FFU250以下降氣流將隊(duì)氣(氮?dú)?、清潔空氣等氣體輸送到處理室210內(nèi)。另外，在處理室210的底部設(shè)有排氣部260，利用該排氣部260對處理室210內(nèi)的氣氛氣體進(jìn)行排氣。這樣，通過自FFU250以下降氣流向處理室210內(nèi)輸送清潔空氣等氣體、并利用排氣部260排出該氣體而對處理室210內(nèi)的氣氛氣體進(jìn)行替換。專利文獻(xiàn)I :日本特開2009094525號(hào)公報(bào)在圖9及圖10所示那樣的以往的液處理裝置200中，在處理室210內(nèi)對晶圓W進(jìn)行液處理時(shí)，藥液等會(huì)飛散，有可能導(dǎo)致在處理室210內(nèi)藥液等附著殘留在杯狀件230的上部。在這種情況下，在之后的晶圓W處理中有可能產(chǎn)生由該殘留的藥液的氣氛導(dǎo)致晶圓W污損等不良影響。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是考慮到這一點(diǎn)而做成的，其目的在于提供一種通過對杯狀件進(jìn)行清洗而能夠防止由附著在杯狀件上的污垢導(dǎo)致處理室內(nèi)的基板污損的液處理裝置及液處理方法。本發(fā)明的液處理裝置的特征在于，該液處理裝置包括處理室，其在內(nèi)部設(shè)有用于保持基板的基板保持部及配置在該基板保持部的周圍的杯狀件；噴嘴，其用于向保持在上述基板保持部上的基板供給處理液；杯狀件清洗部，其通過向上述杯狀件的上部供給清洗液來對該杯狀件進(jìn)行清洗，在上述杯狀件的上部形成有凹部，上述杯狀件清洗部向上述杯狀件的上部的上述凹部供給清洗液。本發(fā)明的液處理方法的特征在于，該液處理方法包括以下工序利用設(shè)置在處理室內(nèi)部的基板保持部將基板保持成水平狀態(tài)；利用上述基板保持部使基板旋轉(zhuǎn)，利用進(jìn)入到上述處理室內(nèi)的噴嘴支承臂的噴嘴向由上述基板保持部保持而旋轉(zhuǎn)的基板供給處理液；通過在上述處理室內(nèi)向形成在杯狀件的上部的凹部供給清洗液來對該杯狀件進(jìn)行清洗。采用這樣的液處理裝置及液處理方法，通過對杯狀件進(jìn)行清洗，能夠防止由附著在杯狀件上的污垢導(dǎo)致處理室內(nèi)的基板污損。在本發(fā)明的液處理裝置中，也可以構(gòu)成為下述這樣該凹部由第I傾斜部分和第2傾斜部分形成，第I傾斜部分從凹部的內(nèi)周緣到凹部的中途部分，第I傾斜部分以其高度隨著從凹部的內(nèi)周緣朝向外周緣而變小的方式傾斜，第2傾斜部分從凹部的中途部分到凹部的外周緣，第2傾斜部分以其高度隨著從凹部的內(nèi)周緣朝向外周緣而變大的方式傾斜，上述杯狀件清洗部向上述杯狀件的上部的上述中途部分供給清洗液。在本發(fā)明的液處理裝置中，也可以構(gòu)成為下述這樣在上述杯狀件的上部中，其內(nèi)周緣的高度大于其外周緣的高度，由上述杯狀件清洗部供給到上述杯狀件的上部的上述凹部中的清洗液被從上述杯狀件的上部的外周緣排出。或者，也可以構(gòu)成為下述這樣在上述杯狀件的上部中，其內(nèi)周緣的高度小于其外周緣的高度，由上述杯狀件清洗部供給到上述杯狀件的上部的上述凹部中的清洗液被從上述杯狀件的上部的內(nèi)周緣排出。在本發(fā)明的液處理裝置中，也可以構(gòu)成為下述這樣在鉛垂方向上重疊配置地設(shè)有多個(gè)上述杯狀件，上述杯狀件清洗部對上述多個(gè)杯狀件中的最上層的杯狀件進(jìn)行清洗。在本發(fā)明的液處理裝置中，也可以構(gòu)成為下述這樣在上述杯狀件的內(nèi)側(cè)設(shè)有與用于保持基板的上述基板保持部一同旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)杯狀件，利用隨著該旋轉(zhuǎn)杯狀件的旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的回旋空氣流使清洗液遍布于上述杯狀件的上部的上述凹部的整個(gè)區(qū)域。在本發(fā)明的液處理裝置中，也可以構(gòu)成為下述這樣上述杯狀件清洗部具有從上方向上述杯狀件的上部的上述凹部供給清洗液的清洗液供給噴嘴。在本發(fā)明的液處理裝置中，也可以構(gòu)成為下述這樣在上述旋轉(zhuǎn)杯狀件的外周設(shè)有向外方突出并呈圓周狀延伸的圓周突起，利用上述旋轉(zhuǎn)杯狀件的圓周突起產(chǎn)生回旋空氣流。在本發(fā)明的液處理方法中，也可以構(gòu)成為下述這樣在上述杯狀件的上部中，其內(nèi)周緣的高度小于其外周緣的高度，在對上述杯狀件進(jìn)行清洗的工序中，被供給到上述杯狀件的上部的上述凹部中的清洗液被從上述杯狀件的上部的內(nèi)周緣排出，利用該排出來的清洗液對上述杯狀件的內(nèi)周面進(jìn)行清洗。、
或者，也可以構(gòu)成為下述這樣在上述杯狀件的上部中，其內(nèi)周緣的高度大于其外周緣的高度，在對上述杯狀件進(jìn)行清洗的工序中，被供給到上述杯狀件的上部的上述凹部中的清洗液被從上述杯狀件的上部的外周緣排出。在本發(fā)明的液處理方法中，也可以如下述這樣進(jìn)行在上述杯狀件的內(nèi)側(cè)設(shè)有與用于保持基板的上述基板保持部一同旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)杯狀件，在上述杯狀件的清洗工序中，利用隨著上述旋轉(zhuǎn)杯狀件的旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的回旋空氣流使清洗液遍布于上述杯狀件的上部的上述凹部的整個(gè)區(qū)域。
采用本發(fā)明的液處理裝置及液處理方法，能夠防止由附著在杯狀件上的污垢導(dǎo)致處理室內(nèi)的基板污損。


圖I是從上方觀察包含本發(fā)明的第I實(shí)施方式的液處理裝置的液處理系統(tǒng)的俯視圖。圖2是表示本發(fā)明的第I實(shí)施方式的液處理裝置的概略結(jié)構(gòu)的俯視圖。圖3是圖2所示的液處理裝置的側(cè)視圖。圖4是表示圖2所示的液處理裝置的詳細(xì)結(jié)構(gòu)的縱剖視圖，是表示杯狀件外周筒處于下方位置時(shí)的狀態(tài)的圖。圖5是表示圖2所示的液處理裝置的詳細(xì)結(jié)構(gòu)的縱剖視圖，是表示杯狀件外周筒處于上方位置時(shí)的狀態(tài)的圖。圖6A的(a)是表示設(shè)置于圖4等所示的液處理裝置中的保持板的保持構(gòu)件的結(jié)構(gòu)的放大縱剖視圖，圖6A的(b)是表示提升銷板自圖6A的(a)所示的狀態(tài)向下方移動(dòng)時(shí)的狀態(tài)的放大縱剖視圖，圖6A的(C)是表示提升銷板自圖6A的(b)所示的狀態(tài)進(jìn)一步向下方移動(dòng)時(shí)的狀態(tài)的放大縱剖視圖。圖6B是表示圖4等所示的液處理裝置中的杯狀件外周筒的結(jié)構(gòu)的立體圖。圖7是表示圖4等所示的液處理裝置的排液杯狀件的詳細(xì)結(jié)構(gòu)的側(cè)剖視圖。圖8是表示圖4等所示的液處理裝置的排液杯狀件的另一詳細(xì)結(jié)構(gòu)的側(cè)剖視圖。圖9是表示以往的液處理裝置的概略結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖。圖10是圖9所示的以往的液處理裝置的俯視圖。圖11是表示本發(fā)明的第2實(shí)施方式的液處理裝置的排液杯狀件的詳細(xì)結(jié)構(gòu)的側(cè)首1J視圖。圖12是表示排液杯狀件的另一詳細(xì)結(jié)構(gòu)的側(cè)剖視圖。
具體實(shí)施例方式第I實(shí)施方式下面，參照

本發(fā)明的第I實(shí)施方式。圖I 圖8是表示本實(shí)施方式的液處理裝置的圖。更詳細(xì)地講，圖I是從上方觀察包含本發(fā)明的實(shí)施方式的液處理裝置的液處理系統(tǒng)的俯視圖。另外，圖2是表示本發(fā)明的實(shí)施方式的液處理裝置的概略結(jié)構(gòu)的俯視圖，圖3是表示圖2所示的液處理裝置的概略結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖。另外，圖4及圖5是表示圖2所示的液處理裝置的詳細(xì)結(jié)構(gòu)的縱剖視圖。另外，圖6A的(a) 圖6A的(c)是表示設(shè)置于圖4等所示的液處理裝置中的保持板的保持構(gòu)件的結(jié)構(gòu)的放大縱剖視圖，圖6B是表示圖4等所示的液處理裝置中的杯狀件外周筒的結(jié)構(gòu)的立體圖。另外，圖7及圖8是表示圖4等所示的液處理裝置的排液杯狀件的詳細(xì)結(jié)構(gòu)的側(cè)剖視圖。首先，使用圖I說明包含本實(shí)施方式的液處理裝置的液處理系統(tǒng)。如圖I所示，液處理系統(tǒng)包括載置臺(tái)101，其用于載置承載件，該承載件用于從外部收容作為被處理基板的半導(dǎo)體晶圓等基板W(以下，也稱作晶圓W);輸送臂102，其用于將收容在承載件中的晶圓W取出；架單元103，其用于載置由輸送臂102取出的晶圓W ;輸送臂104，其用于接收被載置于架單元103的晶圓W并將該晶圓W輸送到液處理裝置10內(nèi)。如圖I所示，在液處理系統(tǒng)中設(shè)有多個(gè)(在圖I所示的方式中是4個(gè))液處理裝置10。接著，使用圖2及圖3說明本實(shí)施方式的液處理裝置10的概略結(jié)構(gòu)。如圖2及圖3所示，本實(shí)施方式的液處理裝置10包括用于收容晶圓W并對該收容的晶圓W進(jìn)行液處理的處理室(腔室)20。如圖3所示，在處理室20內(nèi)設(shè)有用于將晶圓W以水平狀態(tài)保持而使其旋轉(zhuǎn)的保持部21，在該保持部21的周圍配置有環(huán)狀的旋轉(zhuǎn)杯狀件40。另外，如圖2及圖3所示，在處理室20內(nèi)，在旋轉(zhuǎn)杯狀件40的周圍配置有圓筒狀的杯狀件外周筒50。如下所述，該杯狀件外周筒50能夠與晶圓W的處理狀況相應(yīng)地升降。這些保持部21、旋轉(zhuǎn)杯狀件40及杯狀件外周筒50的詳細(xì)結(jié)構(gòu)見后述。另外，在液處理裝置10中設(shè)有用于從保持在保持部21上的晶圓W的上方向晶圓W供給處理液、N2氣體等流體的噴嘴82a及用于支承該噴嘴82a的噴嘴支承臂82。如圖2所示，在I個(gè)液處理裝置10中設(shè)有多個(gè)(具體地講是例如6個(gè))噴嘴支承臂82，在各噴嘴支承臂82的頂端設(shè)有噴嘴82a。另外，如圖3所示，在各噴嘴支承臂82上設(shè)有臂支承部84，各臂支承部84被臂驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(未圖示)沿著圖3中的左右方向驅(qū)動(dòng)。由此，各噴嘴支承臂82在噴嘴82a進(jìn)入到處理室20內(nèi)的進(jìn)入位置與噴嘴82a自處理室20退避的退避位置之間沿著水平方向進(jìn)行直線運(yùn)動(dòng)(參照設(shè)置于圖2及圖3中的各噴嘴支承臂82的箭頭)。另外，如圖3所示，在各噴嘴支承臂82中設(shè)有表面處理液供給管82m，各表面處理液供給管82m連接于表面處理液供給部89。于是，自表面處理液供給部89經(jīng)由各表面處理液供給管82m向各噴嘴支承臂82的噴嘴82a中供給處理液、N2氣體等流體。如圖2及圖3所示，在液處理裝置10中，與處理室20相鄰地設(shè)置有臂待機(jī)部80。自處理室20退避的噴嘴支承臂82在該臂待機(jī)部80中待機(jī)。另外，在臂待機(jī)部80與處理室20之間設(shè)有沿著鉛垂方向延伸的壁90。該壁90具有臂清洗部88，該臂清洗部88設(shè)有能夠供各噴嘴支承臂82通過的開口 88p。利用該臂清洗部88對各噴嘴支承臂82進(jìn)行清洗。另外，如圖3所示，在處理室20的上方設(shè)有FFU(風(fēng)機(jī)濾網(wǎng)單元)70，自該FFU 70以下降氣流向處理室20內(nèi)輸送N2氣體(氮?dú)?、清潔空氣等氣體。另外，如圖2及圖3所示，在處理室20的底部的、杯狀件外周筒50的內(nèi)側(cè)設(shè)有排氣部54，利用該排氣部54對處理室20內(nèi)的氣氛氣體進(jìn)行排氣。這樣，通過自FFU 70以下降氣流向處理室20內(nèi)輸送清潔空氣等氣體、并利用排氣部54排出該氣體而對處理室210內(nèi)的氣氛進(jìn)行替換。另外，如圖2及圖3所示，在處理室20的底部的、杯狀件外周筒50的外側(cè)設(shè)有排氣部56，利用該排氣部56對處理室20內(nèi)的氣氛氣體進(jìn)行排氣。利用該排氣部56，能夠?qū)μ幚硎?0內(nèi)的、杯狀件外周筒50外側(cè)的氣氛氣體進(jìn)行排氣。具體地講，利用排氣部56，能夠抑制臂待機(jī)部80內(nèi)的氣氛氣體進(jìn)入到杯狀件外周筒50內(nèi)。另外，利用該排氣部56，能夠抑制杯狀件外周筒50內(nèi)的氣氛氣體溢出到臂待機(jī)部80中。
另外，如圖2及圖3所示，在臂待機(jī)部80的底部設(shè)有排氣部58，利用該排氣部58對臂待機(jī)部80內(nèi)的氣氛氣體進(jìn)行排氣。具體地講，能夠利用排氣部58抽取自用于驅(qū)動(dòng)各噴嘴支承臂82的臂驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(未圖示)產(chǎn)生的微粒。另外，如圖2所示，在液處理裝置10的處理室20及臂待機(jī)部80的出入口上分別設(shè)有維護(hù)用的開閉器60、62。通過在處理室20及臂待機(jī)部80上分別設(shè)有維護(hù)用的開閉器60、62，能夠分別維護(hù)這些處理室20內(nèi)、臂待機(jī)部80內(nèi)的設(shè)備。另外，即使是在處理室20內(nèi)處理晶圓W的過程中，也能夠通過打開開閉器62來維護(hù)臂待機(jī)部80內(nèi)的設(shè)備。另外，如圖2所示，在液處理裝置10的側(cè)壁設(shè)有用于利用輸送臂104將晶圓W輸入到處理室20內(nèi)、或者將晶圓W自處理室20輸出的開口 94a，在該開口 94a上設(shè)有用于開閉該開口 94a的開閉器94。另外，在圖2所示的液處理裝置10中，處理室20內(nèi)的杯狀件外周筒50的內(nèi)部區(qū)域相對于無塵室為微正壓，另一方面，處理室20內(nèi)的杯狀件外周筒50的外側(cè)區(qū)域相對于無塵室為微負(fù)壓。因此，在處理室20內(nèi)，杯狀件外周筒50的內(nèi)部區(qū)域的氣壓大于杯狀件外周筒50的外側(cè)區(qū)域的氣壓。接著，使用圖4及圖5說明圖2及圖3所示那樣的液處理裝置10的詳細(xì)結(jié)構(gòu)。如圖4及圖5所示，保持部21包括用于保持晶圓W的圓板形狀的保持板26、設(shè)置在保持板26的上方的圓板形狀的提升銷板22。在提升銷板22的上表面，在周向上等間隔地設(shè)有3個(gè)用于從下方支承晶圓W的提升銷23。另外，在圖4及圖5中僅表示了兩個(gè)提升銷23。另外，在提升銷板22上設(shè)有活塞機(jī)構(gòu)24，利用該活塞機(jī)構(gòu)24使提升銷板22升降。更具體地講，在利用輸送臂104 (參照圖I)將晶圓W載置在提升銷23上、或者將晶圓W從提升銷23上取出時(shí)，利用活塞機(jī)構(gòu)24使提升銷板22從圖4等所示那樣的位置移動(dòng)到上方，該提升銷板22位于旋轉(zhuǎn)杯狀件40的上方。另一方面，在處理室20內(nèi)對晶圓W進(jìn)行液處理時(shí)，利用活塞機(jī)構(gòu)24使提升銷板22移動(dòng)到圖4等所示那樣的下方位置，旋轉(zhuǎn)杯狀件40位于晶圓W的周圍。在保持板26上，在周向上等間隔地設(shè)有3個(gè)用于從側(cè)方支承晶圓W的保持構(gòu)件25。另外，在圖4及圖5中僅表示了兩個(gè)保持構(gòu)件25。在提升銷板22從上方位置移動(dòng)到圖4及圖5所示那樣的下方位置時(shí)，各保持構(gòu)件25支承該提升銷23上的晶圓W，使該晶圓W自提升銷23稍稍分開。使用圖6A的(a) 6A的(C)更詳細(xì)地說明提升銷板22和保持板26的結(jié)構(gòu)。在圖6A的(a) 6A的(c)中，6A的(a)是表示提升銷板22從上方位置向圖4等所示那樣的下方位置移動(dòng)的途中的狀態(tài)的圖，6A的(b)是表示提升銷板22自圖6A的(a)所示的狀態(tài)向下方移動(dòng)時(shí)的狀態(tài)的圖，6A的(c)是表示提升銷板22自圖6A的(b)的狀態(tài)進(jìn)一步向下方移動(dòng)、提升銷板22到達(dá)圖4等所示那樣的下方位置時(shí)的狀態(tài)的圖。如圖6A的(a) 6A的(C)所示，保持構(gòu)件25借助軸25a軸支承在保持板26上。更詳細(xì)地講，如圖6A的(a) 6A的(c)所示，在保持板26上安裝有軸承部26a，在設(shè)置于該軸承部26a的軸承孔26b中收容有軸25a。軸承孔26b由沿著水平方向延伸的細(xì)長的孔構(gòu)成，保持構(gòu)件25的軸25a能夠沿著該軸承孔26b在水平方向上移動(dòng)。這樣，保持構(gòu)件25能夠以被收容在軸承部26a的軸承孔26b中的軸25a為中心擺動(dòng)。在保持構(gòu)件25的軸25a上卷掛有扭轉(zhuǎn)彈簧等彈簧構(gòu)件25d。該彈簧構(gòu)件25d對保持構(gòu)件25施加使保持構(gòu)件25以軸25a為中心向圖6A的(a) 6A的(c)中的順時(shí)針方向旋轉(zhuǎn)的那樣的力。由此，在未對保持構(gòu)件25施加任何的力的情況下,保持構(gòu)件25成為相對于保持板26傾斜的狀態(tài)，保持構(gòu)件25中的用于從側(cè)方支承晶圓W的支承部分25b (后述)成為遠(yuǎn)離保持板26的中心的狀態(tài)。另外，自卷掛在軸25a上的彈簧構(gòu)件25d伸出有線狀部分，該線狀部分卡定于軸承部26a的內(nèi)壁面26c，將軸25a朝向保持板26的中心推回。這樣，利用彈簧構(gòu)件25d的線狀部分，始終將軸25a朝向保持板26的中心(即朝向圖6A中的左方向)推壓。因此，在利用保持構(gòu)件25保持直徑較小的晶圓W的情況下，如圖6A的(a) 6A的(c)所示，軸25a位 于軸承孔26b中的接近保持板26的中心的位置(即圖6A的(a) 6A的(c)中的左側(cè)位置)。另一方面，在利用保持構(gòu)件25支承直徑較大的晶圓W的情況下，軸25a克服彈簧構(gòu)件25d的線狀部分的力沿著軸承孔26b從圖6A的(a) 6A的(c)所示的位置向右方向移動(dòng)。另外，這里的晶圓W的直徑大小是指在容許尺寸誤差范圍內(nèi)的晶圓W的直徑大小。另外，保持構(gòu)件25具有用于從側(cè)方支承晶圓W的支承部分25b、相對于軸25a設(shè)置在與支承部分25b相反一側(cè)的被按壓構(gòu)件25c。被按壓構(gòu)件25c設(shè)置在提升銷板22與保持板26之間，如圖6A的(a) 6A的(c)所示，在提升銷板22處于下方位置或者下方位置的附近位置時(shí)，該被按壓構(gòu)件25c被提升銷板22的下表面朝向下方按壓。如圖6A的(a) 6A的(C)所示，在提升銷板22從上方位置移動(dòng)到下方位置時(shí)，被按壓構(gòu)件25c被該提升銷板22的下表面向下方按壓，從而保持構(gòu)件25以軸25a為中心向圖6A的(a) 6A的(c)中的逆時(shí)針方向(圖6A的(a) 6A的(c)中的箭頭方向)旋轉(zhuǎn)。于是，通過保持構(gòu)件25以軸25a為中心旋轉(zhuǎn)，支承部分25b從晶圓W的側(cè)方朝向該晶圓W移動(dòng)。由此，在提升銷板22到達(dá)下方位置時(shí)，如圖6A的(c)所示，利用保持構(gòu)件25從側(cè)方支承晶圓W。在此，如圖6A的(c)所示，在晶圓W被保持構(gòu)件25從側(cè)方支承時(shí)，該晶圓W自提升銷23的頂端向上方分開，成為自提升銷23向上方懸浮的狀態(tài)。另外，如上所述，根據(jù)晶圓W的大小的不同，也存在軸25a克服彈簧構(gòu)件25d的線狀部分的力沿著軸承孔26b從圖6A的(a) 6A的(c)所示的位置向右方向移動(dòng)的情況。因此，即使在利用保持構(gòu)件25支承比較大的晶圓W的情況下，由于保持構(gòu)件25能夠沿著水平方向移動(dòng)，因此，也能夠不會(huì)使晶圓W變形或者不會(huì)使晶圓W破損地從側(cè)方支承晶圓W。另外，在提升銷板22和保持板26的中心部分分別形成有通孔，以貫穿這些通孔的方式設(shè)有處理液供給管28。該處理液供給管28向被保持板26的各保持構(gòu)件25保持的晶圓W的背面供給藥液、純水等處理液。另外，處理液供給管28與提升銷板22連動(dòng)地升降。在處理液供給管28的上端形成有以堵塞提升銷板22的通孔的方式設(shè)置的頭部分28a。另夕卜，如圖4等所示，在處理液供給管28上連接有處理液供給部29，利用該處理液供給部29向處理液供給管28供給處理液。如圖4及圖5所示，在保持部21的周圍配置有環(huán)狀的旋轉(zhuǎn)杯狀件40。該旋轉(zhuǎn)杯狀件40安裝在保持板26上，與保持板26 —體地旋轉(zhuǎn)。更詳細(xì)地講，旋轉(zhuǎn)杯狀件40以從側(cè)方包圍被保持板26的各保持構(gòu)件25支承的晶圓W的方式設(shè)置，在對晶圓W進(jìn)行液處理時(shí)接收自該晶圓W向側(cè)方飛散的處理液。
另外，在旋轉(zhuǎn)杯狀件40的周圍從上方依次設(shè)有排液杯狀件42、第I引導(dǎo)杯狀件43、第2引導(dǎo)杯狀件44和第3引導(dǎo)杯狀件45。排液杯狀件42及各引導(dǎo)杯狀件43、44、45分別形成為環(huán)狀。在此，排液杯狀件42固定在處理室20中。另一方面，在各引導(dǎo)杯狀件43、44,45上分別連結(jié)有升降缸體(未圖示)，這些引導(dǎo)杯狀件43、44、45利用所對應(yīng)的升降缸體互相獨(dú)立地自由升降。如圖4及圖5所示，在排液杯狀件42、各引導(dǎo)杯狀件43、44、45的下方分別設(shè)有第I處理液回收用罐體46a、第2處理液回收用罐體46b、第3處理液回收用罐體46c以及第4處理液回收用罐體46d。于是，根據(jù)各引導(dǎo)杯狀件43、44、45在上下方向上的位置的不同，在對晶圓W進(jìn)行液處理時(shí)，自該晶圓W飛散到側(cè)方 的處理液基于該處理液的種類被選擇性地輸送到4個(gè)處理液回收用罐體46a、46b、46c、46d中的任一個(gè)處理液回收用罐體中。具體地講，在所有的引導(dǎo)杯狀件43、44、45全部處于上方位置時(shí)(圖4及圖5所示的狀態(tài))，自晶圓W飛散到側(cè)方的處理液被輸送到第4處理液回收用罐體46d中。另一方面，在僅有第3引導(dǎo)杯狀件45處于下方位置時(shí)，自晶圓W飛散到側(cè)方的處理液被輸送到第3處理液回收用罐體46c中。另外,在第2引導(dǎo)杯狀件44和第3引導(dǎo)杯狀件45處于下方位置時(shí)，自晶圓W飛散到側(cè)方的處理液被輸送到第2處理液回收用罐體46b中。另外，在所有的引導(dǎo)杯狀件43、44、45都處于下方位置時(shí)，自晶圓W飛散到側(cè)方的處理液被輸送到第I處理液回收用罐體46a中ο另外，如圖4及圖5所示，在第4處理液回收用罐體46d的內(nèi)側(cè)設(shè)有排氣部48。于是，通過使各引導(dǎo)杯狀件43、44、45在上下方向上的位置為規(guī)定位置，利用排氣部48對晶圓W周圍的氣氛進(jìn)行排氣。另外，在本實(shí)施方式的液處理裝置10中，在處理室20內(nèi)，在排液杯狀件42、各引導(dǎo)杯狀件43、44、45的周圍設(shè)有杯狀件外周筒50。該杯狀件外周筒50能夠在圖4所示那樣的下方位置與圖5所示那樣的上方位置之間升降。另外，如圖2及圖3所示，在杯狀件外周筒50上設(shè)有能夠供噴嘴支承臂82通過的開口 50m。杯狀件外周筒50在處于圖5所示那樣的上方位置時(shí)將杯狀件外周筒50內(nèi)的區(qū)域相對于外部隔離。使用圖6B說明該杯狀件外周筒50的詳細(xì)結(jié)構(gòu)。圖6B是表不杯狀件外周筒50的結(jié)構(gòu)的立體圖。如圖6B所示，在杯狀件外周筒50的側(cè)面，與噴嘴支承臂82的根數(shù)相應(yīng)地設(shè)有能夠供噴嘴支承臂82通過的開口 50m(例如在噴嘴支承臂82為6根的情況下設(shè)有6個(gè)開口 50m)。另外，在杯狀件外周筒50的上部連結(jié)有用于支承該杯狀件外周筒50的支承構(gòu)件50a，在支承構(gòu)件50a上設(shè)有用于使該支承構(gòu)件50a升降的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)50b。于是，通過利用驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)50b使支承構(gòu)件50a升降，支承在該支承構(gòu)件50a上的杯狀件外周筒50也進(jìn)行升降。另外，如圖4及圖5所示，在FFU 70上安裝有引導(dǎo)構(gòu)件51。如圖5所示，在杯狀件外周筒50處于上方位置時(shí)，該引導(dǎo)構(gòu)件51以自該杯狀件外周筒50稍稍隔開距離地位于內(nèi)側(cè)的方式配置。另外，在本實(shí)施方式的液處理裝置10中，如圖5所示，在杯狀件外周筒50處于上方位置時(shí)，杯狀件外周筒50內(nèi)的氣壓大于杯狀件外周筒50的外側(cè)的氣壓。因此，在杯狀件外周筒50處于上方位置時(shí)，處理室20內(nèi)的利用FFU70產(chǎn)生的下降氣流的氣體利用引導(dǎo)構(gòu)件51在杯狀件外周筒50的上端附近從該杯狀件外周筒50的內(nèi)側(cè)被引導(dǎo)到外側(cè)。另外，如圖4及圖5所示，在處理室20內(nèi)設(shè)有用于清洗杯狀件外周筒50的清洗部52。該清洗部52具有用于積存純水等清洗液的積存部分52a，如圖4所示，在杯狀件外周筒50處于下方位置時(shí)，該杯狀件外周筒50浸入到積存于積存部分52a的清洗液中。清洗部52通過使杯狀件外周筒50浸入到積存于積存部分52a的清洗液中來對該杯狀件外周筒50進(jìn)行清洗。作為積存于積存部分52a的清洗液，例如采用室溫以上的、優(yōu)選為40°C以上、更優(yōu)選為60°C以上的純水等。在積存于積存部分52a的清洗液的溫度較高的情況下，對杯狀件外周筒50的清洗效果更大。如圖4所不，在杯狀件外周筒50處于下方位置時(shí),該外周筒50的大部分浸入到積存于積存部分52a的清洗液中。另外，如圖5所示，在杯狀件外周筒50處于上方位置時(shí)，該外周筒50的下部也浸入到積存于積存部分52a的清洗液中。因此，在杯狀件外周筒50處于上方位置時(shí)，在積存于積存部分52a的清洗液與杯狀件外周筒50的下部之間進(jìn)行水密封，并且，由于杯狀件外周筒50的上部與引導(dǎo)構(gòu)件51之間較窄，因此，能夠?qū)⒈瓲罴庵芡?0內(nèi)的區(qū)域自外部隔離。另外，如圖4及圖5所示，在處理室20內(nèi)，在清洗部52的內(nèi)側(cè)設(shè)有用于對處理室20內(nèi)的氣氛氣體進(jìn)行排氣的排氣部54，另外，在清洗部52的外側(cè)設(shè)有用于對處理室20內(nèi)的氣氛氣體進(jìn)行排氣的排氣部56。通過設(shè)置這樣的排氣部54和排氣部56，在杯狀件外周筒50處于圖4所示那樣的下方位置時(shí)，能夠利用這些排氣部54和排氣部56對整個(gè)處理室20內(nèi)的氣氛氣體進(jìn)行排氣。另一方面，在杯狀件外周筒50處于圖5所示那樣的上方位置時(shí)，杯狀件外周筒50內(nèi)的區(qū)域自外部隔離，因此，能夠利用排氣部54對杯狀件外周筒50的內(nèi)部的氣氛氣體進(jìn)行排氣，而且，能夠利用排氣部56對杯狀件外周筒50的外側(cè)的氣氛氣體進(jìn)行排氣。如上所述，在本實(shí)施方式中，在I個(gè)液處理裝置10中設(shè)有多個(gè)(具體地講，例如為6個(gè))噴嘴支承臂82，在各噴嘴支承臂82的頂端設(shè)有噴嘴82a。具體地講，各噴嘴82a分別將第I藥液(具體地講，例如是酸性的藥液)、第2藥液(具體地講，例如是堿性的藥液)、純水、N2氣體、IPA(異丙醇)、純水的氣霧供給到晶圓W的上表面。接著，以下對在處理室20內(nèi)配置在旋轉(zhuǎn)杯狀件40周圍的排液杯狀件42的詳細(xì)結(jié)構(gòu)進(jìn)行說明。如圖4及圖5所示，在排液杯狀件42的上部形成有凹部42a。參照圖7說明這樣的凹部42a的詳細(xì)結(jié)構(gòu)。如圖7所示，在排液杯狀件42的上部分別形成有以在從其內(nèi)周緣42c朝向外周緣42d的方向上高度從其內(nèi)周緣42c到中途部分42e逐漸變小的方式傾斜那樣的第I傾斜部分42al、以在從其內(nèi)周緣42c朝向外周緣42d的方向上高度從中途部分42e到外周緣42d逐漸變大的方式傾斜那樣的第2傾斜部分42a2。由這些第I傾斜部分42al和第2傾斜部分42a2構(gòu)成凹部42a。在圖7所示那樣的排液杯狀件42中，內(nèi)周緣42c的高度大于外周緣42d的高度。 另外，在設(shè)置于排液杯狀件42的上部的中途部分42e連接有清洗液供給管49a，在 該清洗液供給管49a上連接有清洗液供給部49。于是，能夠自清洗液供給部49向清洗液供給管49a供給清洗液。由此，自清洗液供給管49a向凹部42a內(nèi)輸送清洗液，在該凹部42a中積存清洗液。這樣，利用從清洗液供給部49供給到排液杯狀件42的上部的凹部42a中的清洗液來清洗排液杯狀件42。在本實(shí)施方式中，由清洗液供給部49和清洗液供給管49a構(gòu)成用于清洗排液杯狀件42的排液杯狀件清洗部。排液杯狀件清洗部對排液杯狀件42進(jìn)行的清洗例如在每次處理中進(jìn)行，或者一天一次或一個(gè)月一次地進(jìn)行。另外，在清洗液供給管49a上設(shè)有切換閥49b，在該切換閥49b上連接有排液管線49c。于是，通過利用切換閥49b使排液杯狀件42的凹部42a與排液管線49c連通，能夠利用排液管線49c將殘留在凹部42a中的清洗液排出到排液部49d中。在此，在圖7所示的排液杯狀件42中，其內(nèi)周緣42c的高度大于外周緣42d的高度，因此，由清洗液供給部49供給到排液杯狀件42的上部的凹部42a中的清洗液從排液杯狀件42的上部的外周緣42d向外方(圖7中的左方)排出。然后，從排液杯狀件42的上部的外周緣42d排出來的清洗液被輸送到清洗部52的積存部分52a中而積存于該積存部分52a。之后，利用設(shè)置在積存部分52a的側(cè)部的排液管52c將積存部分52a內(nèi)的清洗液排 出到裝置外。設(shè)置在本實(shí)施方式的液處理裝置10中的排液杯狀件42并不限定于圖7所示那樣的結(jié)構(gòu)。作為排液杯狀件42，也可以使用其內(nèi)周緣42c的高度小于外周緣42d的高度的結(jié)構(gòu)。在這種情況下，由清洗液供給部49供給到排液杯狀件42的上部的凹部42a中的清洗液從排液杯狀件42的上部的內(nèi)周緣42c向內(nèi)方(圖8中的右方)排出。在這種情況下，能夠利用由清洗液供給部49供給到排液杯狀件42的上部的凹部42a中的清洗液對排液杯狀件42的內(nèi)周面42f、旋轉(zhuǎn)杯狀件40進(jìn)行清洗。在將清洗液供給到排液杯狀件42的內(nèi)周面42f、旋轉(zhuǎn)杯狀件40之后，通過使旋轉(zhuǎn)杯狀件40旋轉(zhuǎn)來對排液杯狀件42的內(nèi)周面42f、旋轉(zhuǎn)杯狀件40進(jìn)行干燥。另外，作為排液杯狀件42，也可以使用其內(nèi)周緣42c的高度與外周緣42d的高度大致相等的結(jié)構(gòu)。在這種情況下，由清洗液供給部49供給到排液杯狀件42的上部的凹部42a中的清洗液從排液杯狀件42的上部的內(nèi)周緣42c和外周緣42d這兩者排出。接著，對由該結(jié)構(gòu)構(gòu)成的液處理裝置10的動(dòng)作進(jìn)行說明。首先，使保持部21中的提升銷板22和處理液供給管28從圖4所示的位置移動(dòng)到上方，并通過使設(shè)置在處理室20的開口 94a上的開閉器94自該開口 94a退避來打開開口 94a。然后，利用輸送臂104將晶圓W從液處理裝置10的外部經(jīng)由開口 94a輸送到處理室20內(nèi)，將該晶圓W載置在提升銷板22的提升銷23上，之后，輸送臂104自處理室20退避。此時(shí)，杯狀件外周筒50位于圖4所示那樣的下方位置。另外，各噴嘴支承臂82位于自處理室20退避的退避位置。即，各噴嘴支承臂82在臂待機(jī)部80處待機(jī)。另外，通過始終自FFU70以下降氣流向處理室20內(nèi)輸送清潔空氣等氣體、并利用排氣部54排出該氣體來對處理室20內(nèi)的氣氛氣體進(jìn)行替換。接著，使提升銷板22和處理液供給管28向下方移動(dòng)，使這些提升銷板22和處理液供給管28位于圖4所示那樣的下方位置。此時(shí)，設(shè)置在保持板26上的各保持構(gòu)件25支承提升銷23上的晶圓W，使該晶圓W自提升銷23稍稍分開。之后或者在提升銷板22的下降過程中，利用設(shè)置在杯狀件外周筒50上的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)50b使該杯狀件外周筒50向上方移動(dòng)，使杯狀件外周筒50位于圖5所示那樣的上方位置。然后，在杯狀件外周筒50移動(dòng)到上方位置之后，在臂待機(jī)部80處待機(jī)的6個(gè)噴嘴支承臂82中的一個(gè)或者多個(gè)噴嘴支承臂82經(jīng)由壁90的臂清洗部88的開口 88p和杯狀件外周筒50的開口 50m進(jìn)入到處理室20內(nèi)。此時(shí)，利用臂驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(未圖示)使噴嘴支承臂82進(jìn)行直線運(yùn)動(dòng)。
接著，使保持部21中的保持板26和提升銷板22旋轉(zhuǎn)。由此，被保持板26的各保持構(gòu)件25支承的晶圓W也進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。然后，在晶圓W進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的狀態(tài)下，自進(jìn)入到處理室20內(nèi)的噴嘴支承臂82的噴嘴82a向晶圓W的上表面供給處理液。另外，此時(shí)，自處理液供給管28朝向晶圓W的下表面(背面)供給藥液、純水等處理液。這樣，向晶圓W的上表面和下表面這兩者供給處理液，從而對晶圓W進(jìn)行液處理。通過基于被供給到晶圓W的處理液的種類使各引導(dǎo)杯狀件43、44、45分別位于上方位置或者下方位置，將該處理液選擇性地輸送到4個(gè)處理液回收用罐體46a、46b、46c、46d中的任一個(gè)處理液回收用罐體中來進(jìn)行回收。之后，在對晶圓W進(jìn)行的液處理結(jié)束時(shí)，進(jìn)入到處理室20中的噴嘴支承臂82自該處理室20退避而在臂待機(jī)部80處待機(jī)。然后，利用設(shè)置在杯狀件外周筒50上的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)50b使該杯狀件外周筒50向下方移動(dòng)，使杯狀件外周筒50位于圖4所示那樣的下方位置。之后，使保持部21中的提升銷板22和處理液供給管28從圖4所示的位置移動(dòng)到上方。此時(shí)，將被保持板26的保持構(gòu)件25支承的晶圓W交接到提升銷板22的提升銷23上。接著，通過使設(shè)置在處理室20的開口 94a上的開閉器94自該開口 94a退避來打開開口 94a，使輸送臂104從液處理裝置10的外部經(jīng)由開口 94a進(jìn)入到處理室20內(nèi)，利用該輸送臂104取出提升銷板22的提升銷23上的晶圓W。將由輸送臂104取出的晶圓W輸送到液處理裝置10的外部。這樣，一連串的晶圓W的液處理完成。另外，通過自清洗液供給部49向排液杯狀件42的上部的凹部42a中供給清洗液來對排液杯狀件42進(jìn)行清洗。排液杯狀件42的這樣的清洗既可以在對晶圓W進(jìn)行的各處理之后進(jìn)行，或者也可以定期進(jìn)行。在排液杯狀件42的清洗結(jié)束之后，通過利用切換閥49b使排液杯狀件42的凹部42a與排液管線49c連通，利用排液管線49c將殘留在排液杯狀件42的上部的凹部42a中的清洗液排出到排液部49d中。如上所述，采用本實(shí)施方式的液處理裝置10，在處理室20內(nèi)，在保持部21的周圍配置有排液杯狀件42,利用由清洗液供給部49和清洗液供給管49a構(gòu)成的排液杯狀件清洗部向排液杯狀件42的上部供給清洗液，從而對該排液杯狀件42進(jìn)行清洗。此時(shí)，在排液杯狀件42的上部形成有凹部42a，利用清洗液供給部49向排液杯狀件的上部的凹部42a中供給清洗液。由此，能夠在排液杯狀件的上部的凹部42a中積存清洗液，利用積存于該凹部42a的清洗液對排液杯狀件42進(jìn)行清洗。這樣，通過對排液杯狀件42進(jìn)行清洗，能夠防止由附著在排液杯狀件42上的污垢導(dǎo)致處理室20內(nèi)的晶圓W污損。另外，在本實(shí)施方式的液處理裝置10中，在排液杯狀件42的上部中，以在從其內(nèi)周緣42c朝向外周緣42d的方向上高度從其內(nèi)周緣42c到中途部分42e逐漸變小的方式傾斜(第I傾斜部分42a I)，以在從其內(nèi)周緣42c朝向外周緣42d的方向上高度從該中途部分42e到外周緣42d逐漸變大的方式傾斜(第2傾斜部分42a2)，利用清洗液供給部49向排液杯狀件42的上部的中途部分42e供給清洗液。該中途部分42e位于排液杯狀件42的凹部42a的底部。另外，在本實(shí)施方式的液處理裝置10中，如圖7所示，在排液杯狀件42的上部中，其內(nèi)周緣42c的高度大于其外周緣42d的高度，由清洗液供給部49供給到排液杯狀件42的上部的凹部42a中的清洗液被從排液杯狀件42的上部的外周緣42d排出。在這種情況、下，由清洗液供給部49供給到排液杯狀件42的上部的清洗液被排出到用于清洗杯狀件外周筒50的清洗部52的積存部分52a中。采用該液處理裝置10，能夠?qū)⒂糜谔幚砭AW的藥液等處理液和用于清洗排液杯狀件42的清洗液分離，能夠防止這些液體在處理室20內(nèi)混合。或者，如圖8所示，也可 以構(gòu)成為下述這樣在排液杯狀件42的上部中，其內(nèi)周緣42c的高度小于其外周緣42d的高度，由清洗液供給部49供給到排液杯狀件42的上部的凹部42a中的清洗液被從排液杯狀件42的上部的內(nèi)周緣42c排出。在這種情況下，能夠利用由清洗液供給部49供給到排液杯狀件42的上部的凹部42a中的清洗液對排液杯狀件42的內(nèi)周面42f、旋轉(zhuǎn)杯狀件40進(jìn)行清洗。另外，在本實(shí)施方式的液處理裝置10中，在鉛垂方向上重疊配置地設(shè)有多個(gè)排液杯狀件42、第I引導(dǎo)杯狀件43、第2引導(dǎo)杯狀件44和第3引導(dǎo)杯狀件45，向多個(gè)杯狀件中的、處于最上層的排液杯狀件42中輸送清洗液來對該排液杯狀件42進(jìn)行清洗。另外，本實(shí)施方式的液處理裝置并不限定于上述的形態(tài)，能夠施加各種變更。例如，也可以不必利用進(jìn)入到處理室20內(nèi)的噴嘴支承臂82的噴嘴82a和處理液供給管28向晶圓W的上表面和下表面這兩者供給處理液，而利用噴嘴支承臂82的噴嘴82a僅向晶圓W的上表面供給處理液。另外，本實(shí)施方式的液處理裝置除了用于基板的清洗處理之外，也能夠用于蝕刻處理、電鍍處理、顯影處理等處理。第2實(shí)施方式接著，利用圖11及圖12說明本發(fā)明的第2實(shí)施方式。圖11及圖12所示的第2實(shí)施方式僅是由旋轉(zhuǎn)杯狀件40和排液杯狀件42構(gòu)成的排液杯狀件42的清洗結(jié)構(gòu)有所不同，其他結(jié)構(gòu)與圖I 圖8所示的第I實(shí)施方式大致相同。在圖11及圖12中，對與圖I 圖8所示的第I實(shí)施方式相同的部分標(biāo)注相同的附圖標(biāo)記而省略詳細(xì)的說明。如圖11所示，在排液杯狀件42的上部分別形成有以在從其內(nèi)周緣42c朝向外周緣42d的方向上高度從其內(nèi)周緣42c到中途部分42e逐漸變小的方式傾斜的第I傾斜部分42al、及以在從其內(nèi)周緣42c朝向外周緣42d的方向上高度從中途部分42e到外周緣42d逐漸變大的方式傾斜的第2傾斜部分42a2。由這些第I傾斜部分42al和第2傾斜部分42a2構(gòu)成凹部42a。在圖11所示那樣的排液杯狀件42中，內(nèi)周緣42c的高度大于外周緣42d的高度。另外，噴嘴支承臂82進(jìn)退自由地配置在排液杯狀件42的上方，自安裝在噴嘴支承臂82的頂端的噴嘴82a從上方向排液杯狀件42的上部的凹部42a中供給純水(清洗液)。作為向排液杯狀件42的凹部42a中供給純水的噴嘴支承臂82，可使用圖2所示的6根噴嘴支承臂82中的任一個(gè)。于是，自安裝在噴嘴支承臂82的頂端的噴嘴82a向排液杯狀件42的凹部42a內(nèi)供給清洗液，在該凹部42a中積存清洗液。這樣，利用自噴嘴支承臂82的噴嘴82a供給到排液杯狀件42的上部的凹部42a中的清洗液對排液杯狀件42進(jìn)行清洗。在本實(shí)施方式中，由具有噴嘴82a的噴嘴支承臂82構(gòu)成用于對排液杯狀件42進(jìn)行清洗的排液杯狀件清洗部。排液杯狀件清洗部對排液杯狀件42進(jìn)行的清洗既可以在每次對于晶圓W進(jìn)行的各處理中進(jìn)行，或者也可以定期進(jìn)行(例如，能夠自由地設(shè)定為一天一次或者一個(gè)月一次等)。
另外，在排液杯狀件42的凹部42a的中途部分42e設(shè)有清洗液排出管49e，在清洗液排出管49e上設(shè)有開閉閥49f，在該開閉閥49f上連接有排液管線49g。于是，通過利用開閉閥49f使排液杯狀件42的凹部42a與排液管線49g連通，能夠利用排液管線49g將殘留在凹部42a中的清洗液排出到排液部49i中。
在此，在圖11所示那樣的排液杯狀件42中，其內(nèi)周緣42c的高度大于外周緣42d的高度，因此，由噴嘴支承臂82的噴嘴82a供給到排液杯狀件42的上部的凹部42a中的清洗液被從排液杯狀件42的上部的外周緣42d向外方(圖11中的左方)排出。然后，從排液杯狀件42的上部的外周緣42d排出來的清洗液被輸送到清洗部52的積存部分52a中而積存于該積存部分52a。之后，利用設(shè)置在積存部分52a的側(cè)部的排液管52c將積存部分52a內(nèi)的清洗液排出到裝置外。但是，如上所述，在排液杯狀件42的內(nèi)側(cè)設(shè)有與用于保持晶圓W的保持部21 —同旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)杯狀件40。該旋轉(zhuǎn)杯狀件40的外周位于比排液杯狀件42的內(nèi)周緣42c稍靠上方的位置，在該旋轉(zhuǎn)杯狀件40的外周設(shè)有向外方突出并呈圓周狀延伸的圓周突起40a。該圓周突起40a隨著旋轉(zhuǎn)杯狀件40的旋轉(zhuǎn)而在旋轉(zhuǎn)杯狀件40的外周產(chǎn)生回旋空氣流。利用該旋轉(zhuǎn)杯狀件40的旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的回旋空氣流被輸送到排液杯狀件42側(cè)，如下所述，以攪拌被供給到排液杯狀件42的凹部42a中的清洗液并使清洗液遍布凹部42a的整周的方式起作用。設(shè)置于本實(shí)施方式的液處理裝置10的排液杯狀件42并不限定于圖11所示那樣的結(jié)構(gòu)。作為排液杯狀件42，也可以使用圖12所示那樣的、其內(nèi)周緣42c的高度小于外周緣42d的高度的結(jié)構(gòu)。在這種情況下，由噴嘴支承臂82的噴嘴82a供給到排液杯狀件42的上部的凹部42a中的清洗液被從排液杯狀件42的上部的內(nèi)周緣42c向內(nèi)方(圖12中的右方)排出。在這種情況下，能夠利用由噴嘴支承臂82的噴嘴82a供給到排液杯狀件42的上部的凹部42a中的清洗液對排液杯狀件42的內(nèi)周面42f、旋轉(zhuǎn)杯狀件40進(jìn)行清洗。另外，作為排液杯狀件42，也可以使用其內(nèi)周緣42c的高度與外周緣42d的高度大致相等的結(jié)構(gòu)。在這種情況下，被供給到排液杯狀件42的上部的凹部42a中的清洗液被從排液杯狀件42的上部的內(nèi)周緣42c和外周緣42d這兩者排出。接著，利用圖11及圖12說明排液杯狀件42的清洗工序。在圖11及圖12中，一連串的晶圓W的液處理工序結(jié)束，在利用輸送臂104將晶圓W輸送到液處理裝置10的外部之后，進(jìn)行排液杯狀件42的清洗工序。另外，說明了將清洗水自噴嘴82a供給到排液杯狀件42的上部的例子，但并不限定于此，也可以自噴嘴82a向排液杯狀件42的上部供給清洗水、并自清洗液供給部49從排液杯狀件42的下方供給清洗液。另外，通過每隔規(guī)定時(shí)間改變旋轉(zhuǎn)杯狀件40的旋轉(zhuǎn)方向，能夠有效地清洗排液杯狀件42，而且，也能夠有效地清洗排液杯狀件42的內(nèi)周面42f和旋轉(zhuǎn)杯狀件40。附圖標(biāo)記說明10、液處理裝置；20、處理室；21、保持部；22、提升銷板；23、提升銷；24、活塞機(jī)構(gòu)；25、保持構(gòu)件；25a、軸；25b、支承部分；25c、被按壓構(gòu)件；25d、彈簧構(gòu)件；26、保持板；26a、軸承部；26b、軸承孔；26c、內(nèi)壁面；28、處理液供給管；28a、頭部分；29、處理液供給部；40、旋轉(zhuǎn)杯狀件；40a、圓周突起；42、排液杯狀件；42a、凹部；42al、第I傾斜部分；42a2、第2傾斜部分；42c、內(nèi)周緣；42d、外周緣；42e、中途部分；42f、內(nèi)周面；43、第I引導(dǎo)杯狀件；44、第2引導(dǎo)杯狀件；45、第3引導(dǎo)杯狀件；46a、第I處理液回收用罐體；46b、第2處理液回收用罐體；46c、第3處理液回收用罐體；46d、第4處理液回收用罐體；48、排氣部；49、清洗液供給部；49a、清洗液供給管；4%、切換閥；49c、排液管線；49d、排液部；50、杯狀件外周筒；50a、支承構(gòu)件；50b、驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)；50m、開口 ；51、引導(dǎo)構(gòu)件；52、清洗部；52a、積存部分；52c、排液管；54、排氣部；56、排氣部；58、排氣部；60、開閉器；62、開閉器；70、FFU ;80、臂待機(jī)部；82、噴嘴支承臂；82a、噴嘴；82m、表面處理液供給管；84、臂支承部；88、臂清洗部；88p、開口 ；89、表面處理液供給部；90、壁；94、開閉器；94a、開口 ；101、載置臺(tái)；102、輸送臂；103、架單元；104、輸送臂；200、液處理裝置;210、處理室;220、保持部;230、杯狀件；240、噴嘴；241、臂；242、臂支承部；250, FFU ;260、排氣部
權(quán)利要求
1.一種液處理裝置，其特征在于， 該液處理裝置包括 處理室，其在內(nèi)部設(shè)有用于保持基板的基板保持部及配置在該基板保持部的周圍的杯狀件； 噴嘴，其用于向保持于上述基板保持部的基板供給處理液； 杯狀件清洗部，其通過向上述杯狀件的上部供給清洗液來對該杯狀件進(jìn)行清洗， 在上述杯狀件的上部形成有凹部，上述杯狀件清洗部向上述杯狀件的上部的上述凹部供給清洗液。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的液處理裝置，其特征在于， 該凹部由第I傾斜部分和第2傾斜部分形成，第I傾斜部分從凹部的內(nèi)周緣到凹部的中途部分，第I傾斜部分以其高度隨著從凹部的內(nèi)周緣朝向外周緣而變小的方式傾斜，第2傾斜部分從凹部的中途部分到凹部的外周緣，第2傾斜部分以其高度隨著從凹部的內(nèi)周緣朝向外周緣而變大的方式傾斜，上述杯狀件清洗部向上述杯狀件的上部的上述中途部分供給清洗液。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的液處理裝置，其特征在于， 上述杯狀件的上部中，其內(nèi)周緣的高度大于其外周緣的高度，由上述杯狀件清洗部供給到上述杯狀件的上部的上述凹部中的清洗液被從上述杯狀件的上部的外周緣排出。
4.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的液處理裝置，其特征在于， 在上述杯狀件的上部中，其內(nèi)周緣的高度小于其外周緣的高度，由上述杯狀件清洗部供給到上述杯狀件的上部的上述凹部中的清洗液被從上述杯狀件的上部的內(nèi)周緣排出。
5.根據(jù)權(quán)利要求I 4中的任一項(xiàng)所述的液處理裝置，其特征在于， 在鉛垂方向上重疊配置地設(shè)有多個(gè)上述杯狀件， 上述杯狀件清洗部對上述多個(gè)杯狀件中的最上層的杯狀件進(jìn)行清洗。
6.根據(jù)權(quán)利要求I 5中的任一項(xiàng)所述的液處理裝置，其特征在于， 在上述杯狀件的內(nèi)側(cè)設(shè)有與用于保持基板的上述基板保持部一同旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)杯狀件，利用隨著該旋轉(zhuǎn)杯狀件的旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的回旋空氣流使清洗液遍布于上述杯狀件的上部的上述凹部的整個(gè)區(qū)域。
7.根據(jù)權(quán)利要求I 6中的任一項(xiàng)所述的液處理裝置，其特征在于， 上述杯狀件清洗部具有從上方向上述杯狀件的上部的上述凹部中供給清洗液的清洗液供給噴嘴。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的液處理裝置，其特征在于， 在上述旋轉(zhuǎn)杯狀件的外周設(shè)有向外方突出并呈圓周狀延伸的圓周突起，利用上述旋轉(zhuǎn)杯狀件的圓周突起產(chǎn)生回旋空氣流。
9.一種液處理方法，其特征在于， 該液處理方法包括以下工序 利用設(shè)置在處理室的內(nèi)部的基板保持部將基板保持成水平狀態(tài)； 利用上述基板保持部使基板旋轉(zhuǎn)，利用進(jìn)入到上述處理室內(nèi)的噴嘴支承臂的噴嘴向由上述基板保持部保持而旋轉(zhuǎn)的基板供給處理液； 通過在上述處理室內(nèi)向形成在杯狀件的上部的凹部供給清洗液來對該杯狀件進(jìn)行清洗。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的液處理方法，其特征在于， 在上述杯狀件的上部中，其內(nèi)周緣的高度小于其外周緣的高度， 在對上述杯狀件進(jìn)行清洗的工序中，被供給到上述杯狀件的上部的上述凹部中的清洗液被從上述杯狀件的上部的內(nèi)周緣排出，利用該排出來的清洗液對上述杯狀件的內(nèi)周面進(jìn)行清洗。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的液處理方法，其特征在于， 上述杯狀件的上部中，其內(nèi)周緣的高度大于其外周緣的高度， 在對上述杯狀件進(jìn)行清洗的工序中，被供給到上述杯狀件的上部的上述凹部中的清洗液被從上述杯狀件的上部的外周緣排出。
12.根據(jù)權(quán)利要求I所述的液處理方法，其特征在于， 在上述杯狀件的內(nèi)側(cè)設(shè)有與用于保持基板的上述基板保持部一同旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)杯狀件，在上述杯狀件的清洗工序中，利用隨著上述旋轉(zhuǎn)杯狀件的旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的回旋空氣流使清洗液遍布于上述杯狀件的上部的上述凹部的整個(gè)區(qū)域。
全文摘要
本發(fā)明提供液處理裝置及液處理方法。其能夠防止由附著在杯狀件上的污垢導(dǎo)致處理室內(nèi)的基板污損。液處理裝置(10)包括處理室(20)，其在內(nèi)部設(shè)有用于保持基板(W)的基板保持部(21)及配置在基板保持部(21)周圍的杯狀件(42)；噴嘴(82a)，其用于向保持在基板保持部(21)上的基板(W)供給處理液；杯狀件清洗部(49、49a)，其通過向杯狀件(42)的上部供給清洗液來對該杯狀件(42)進(jìn)行清洗。在杯狀件(42)的上部形成有凹部(42a)，杯狀件清洗部(49、49a)向杯狀件(42)的上部的凹部(42a)中供給清洗液。
文檔編號(hào)H01L21/67GK102629563SQ20121002574
公開日2012年8月8日 申請日期2012年1月31日 優(yōu)先權(quán)日2011年2月1日
發(fā)明者東島治郎 申請人:東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社