專利名稱：沉積裝置及用其制造有機(jī)發(fā)光二極管顯示器的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明的實(shí)施方式涉及沉積裝置以及使用該沉積裝置制造有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)顯示器的方法。
背景技術(shù)：
有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)顯示器包括空穴注入電極、電子注入電極以及形成于二者之間的有機(jī)發(fā)射層。當(dāng)從陽(yáng)極注入的空穴和從陰極注入的電子在有機(jī)發(fā)射層中復(fù)合時(shí)，OLED顯示器發(fā)出光。OLED顯示裝置具有高品質(zhì)性能，諸如功耗低、亮度高、視角寬、響應(yīng)速度快等，這種OLED顯示裝置作為用于移動(dòng)電子裝置的下一代顯示裝置而備受矚目。OLED顯示器包括有機(jī)發(fā)光顯示面板，該有機(jī)發(fā)光顯示面板包括其上形成有薄膜晶體管和有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)的顯示器襯底。有機(jī)發(fā)光二極管包括陽(yáng)極、陰極以及有機(jī)發(fā)射層。從陽(yáng)極和陰極分別注入空穴和電子以形成激子，并且激子躍遷至基態(tài)從而引起有機(jī)發(fā)光二極管發(fā)光。在諸如OLED顯示器的平板顯示器中，用作電極的有機(jī)材料或金屬可利用真空沉積法沉積，真空沉積法用于在真空環(huán)境中使材料沉積并在平板上形成薄膜。真空沉積法將其上待形成有機(jī)薄膜的襯底放置在真空室內(nèi)，并利用沉積源單元使有機(jī)材料蒸發(fā)或純化以使有機(jī)材料沉積在襯底上。在用于真空沉積法的有機(jī)薄膜沉積裝置中，形成于襯底上的有機(jī)薄膜的均勻性降低，從而在襯底上產(chǎn)生陰影，因而導(dǎo)致有機(jī)薄膜發(fā)光時(shí)像素的亮度均勻性降低。此外，在工序長(zhǎng)時(shí)間進(jìn)行后，從沉積源噴射出的沉積材料沉積在或積聚在噴嘴的整個(gè)表面上，導(dǎo)致材料的噴射角度隨時(shí)間而減小而且實(shí)際沉積的量減少。在這種情況下，被沉積的薄膜的厚度降低，并且校正板的初始設(shè)計(jì)形式也會(huì)改變而破壞膜厚度的均勻性。
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在背景技術(shù)部分公開(kāi)的以上信息僅用于增強(qiáng)對(duì)所描述技術(shù)的背景的理解，因而可能包含這樣的信息，即，其不構(gòu)成對(duì)該國(guó)家相關(guān)領(lǐng)域技術(shù)人員來(lái)說(shuō)已知的現(xiàn)有技術(shù)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的實(shí)施方式提供了一種沉積裝置和用于制造OLED顯示器的方法，該沉積裝置通過(guò)控制沉積角度來(lái)形成均勻的薄膜厚度。本發(fā)明的實(shí)施方式提供了一種沉積裝置和用于制造OLED顯示器的方法，該沉積裝置通過(guò)控制可能隨工序時(shí)間增加而改變的沉積角度來(lái)形成均勻的薄膜。本發(fā)明的示例性實(shí)施方式提供了一種沉積裝置，其包括:沉積源，用于排放待沉積在襯底上的沉積材料；角度控制部，至少部分處于所述沉積材料的排放路徑中，所述角度控制部用于控制所述沉積材料的排放角度；以及角度控制部驅(qū)動(dòng)器，與所述角度控制部聯(lián)接，所述角度控制部驅(qū)動(dòng)器用于使所述角度控制部在所述沉積材料的排放方向上移動(dòng)以控制所述排放角度。沉積源可包括用于排放沉積材料的噴嘴，而且角度控制部可包括一對(duì)角度控制部，所述一對(duì)角度控制部中的每一個(gè)均位于所述沉積源的較長(zhǎng)側(cè)上并且在所述沉積源的長(zhǎng)度方向上延伸。沉積裝置還可包括一對(duì)蓋板，所述一對(duì)蓋板中的每個(gè)位于所述一對(duì)角度控制部中的各角度控制部的一側(cè)上，而且所述一對(duì)蓋板可被配置為在與所述排放方向交叉的方向上移動(dòng)以控制所述一對(duì)蓋板之間的間隙。蓋板的移動(dòng)可對(duì)應(yīng)于角度控制部的移動(dòng)。所述一對(duì)蓋板可包括在所述沉積源的所述長(zhǎng)度方向上彼此相鄰的至少兩對(duì)蓋板。所述至少兩對(duì)蓋板中的每個(gè)蓋板可獨(dú)立地操作。角度控制部驅(qū)動(dòng)器可包括滾珠絲杠驅(qū)動(dòng)器、汽缸驅(qū)動(dòng)器或者線性移動(dòng)引導(dǎo)驅(qū)動(dòng)器。沉積裝置還可包括控制器，該控制器用于控制角度控制部驅(qū)動(dòng)器根據(jù)工藝條件來(lái)移動(dòng)角度控制部。本發(fā)明的另一實(shí)施方式提供了一種制造有機(jī)發(fā)光二極管顯示器的方法，所述方法包括:將襯底面朝用于排放沉積材料的沉積源；以及通過(guò)在所述襯底上排放所述沉積材料而在所述襯底上形成薄膜，其中，在所述襯底上形成所述薄膜包括通過(guò)使角度控制部相對(duì)于所述沉積源移動(dòng)來(lái)控制所述沉積材料的排放角度，所述角度控制部部分處于所述沉積材料的所述排放路徑中。移動(dòng)所述角度控制部可包括以與經(jīng)過(guò)的工序時(shí)間量對(duì)應(yīng)的速度使所述角度控制部朝向所述沉積源移動(dòng)。沉積材料可包括用 于形成有機(jī)發(fā)射層的有機(jī)材料，而且所述薄膜可包括所述有機(jī)發(fā)射層。根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式，可形成大致均勻的薄膜厚度。此外，可在沉積角度隨工序時(shí)間增加而改變時(shí)通過(guò)校正沉積角度來(lái)形成均勻的薄膜。另外，均勻的有機(jī)薄膜可被沉積在像素上以增加各個(gè)像素的亮度均勻性。


圖1示出了根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的沉積裝置的立體圖；圖2A至圖2C示出了根據(jù)本發(fā)明的另一示例性實(shí)施方式的沉積裝置的側(cè)視圖；圖3A和圖3B示出了根據(jù)本發(fā)明的另一示例性實(shí)施方式的沉積裝置的側(cè)視圖；以及圖4A和圖4B示出了根據(jù)本發(fā)明的另一示例性實(shí)施方式的沉積裝置的正視圖。
具體實(shí)施例方式將參照附圖描述根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的沉積裝置和制造OLED顯示器的方法。然而，本發(fā)明不限于所公開(kāi)的示例性實(shí)施方式，而是可以以各種不同的形式實(shí)現(xiàn)。本文中的示例性實(shí)施方式使本發(fā)明的公開(kāi)內(nèi)容完整，并且向本領(lǐng)域技術(shù)人員全面提供對(duì)本發(fā)明的說(shuō)明。相同的參考標(biāo)號(hào)指示相同的元件。在附圖中，層、膜、板、區(qū)域、區(qū)等的厚度可以被夸大，以用于清楚地示出和理解且易于描述。應(yīng)該理解，當(dāng)諸如層、膜、區(qū)域或襯底的元件“在”另一個(gè)元件“上”時(shí)，其可以直接在另一個(gè)元件上，或者在它們之間也可存在元件。此外，除非清楚地另有所指，詞語(yǔ)“包括(comprise)”及其變型諸如“包括(comprises)”或“包括(comprising)”被理解為是指包含所指的元件,但并不排除任何其他元件。另外，在整個(gè)說(shuō)明書(shū)中，“在…上”是指位于目標(biāo)元件上方或下方，但不一定是指相對(duì)于重力的方向定位。圖1示出了根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的沉積裝置的立體圖，圖2A至圖2C示出了根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的沉積裝置的側(cè)視圖。沉積裝置10包括沉積源100、角度控制部200以及角度控制部驅(qū)動(dòng)器300。為了更好地理解且易于描述，在附圖中沒(méi)有示出真空室，但是圖1和圖2中的所有組件均位于真空室中。沉積裝置10和用于形成薄膜的襯底(S)均位于真空室中。襯底(S)設(shè)置為面向沉積裝置10。襯底(S)可在相對(duì)于沉積裝置10移動(dòng)的同時(shí)被沉積。當(dāng)襯底(S)設(shè)置在水平方向上時(shí)，沉積裝置10可分離地位于襯底(S)之下以排放沉積材料，而當(dāng)襯底
(S)設(shè)置在垂直方向上時(shí)，沉積裝置10可分離地位于與襯底(S)平行的方向上(例如，參見(jiàn)圖2A-3B)。在本發(fā)明的示例性實(shí)施方式中，沉積裝置10被示出為分離地設(shè)置在與襯底(S)平行的方向上，而且例如襯底(S)可與在垂直方向上延伸的沉積裝置10分離開(kāi)。可使用沉積源100來(lái)排放沉積材料并使沉積材料沉積在襯底(S)上，該沉積源100包括用于在其中容納待沉積的沉積材料的空間(未示出)，待沉積的沉積材料可包括有機(jī)材料。用于容納沉積材料的空間可由陶瓷材料形成，陶瓷材料例如為具有良好熱輻射性的氧化鋁(A1203)或氮化鋁(A1N)，但是不限于此，該空間也可由具有良好熱輻射性和耐熱性的各種材料形成?？商峁┘訜崞?未示出)對(duì)所容納的沉積材料進(jìn)行加熱和蒸發(fā)，該加熱器形成為附接至并圍繞用于容納沉積材料的空間的外側(cè)。噴嘴110位于沉積源100面向襯底(S)的一側(cè)，噴嘴110用于噴 射沉積源的內(nèi)部空間中被蒸發(fā)或純化的沉積材料。其上將形成沉積材料的襯底(S)可形成為四邊形，而沉積源可配置為線性沉積源，該線性沉積源中用于排放沉積材料的一個(gè)或多個(gè)噴嘴110可線性地設(shè)置在襯底(S)的一側(cè)上。如圖1所示，噴嘴110可以設(shè)置成直線，而且噴嘴110也可設(shè)置成多條直線。角度控制部200位于沉積源100的一側(cè)上，并位于從沉積源100的噴嘴110排出沉積材料的排放路徑中以控制噴嘴Iio的排放方向(例如，被排放的沉積材料的最終方向)。當(dāng)沉積源100呈現(xiàn)為如圖1所示的線性沉積源時(shí)，角度控制部200可形成在該線性沉積源的長(zhǎng)度方向上且位于沉積材料的排放路徑中。例如，角度控制部(200:200a、200b)由兩個(gè)板狀部件形成，該兩個(gè)板狀部件分別位于線性沉積源的兩個(gè)較長(zhǎng)側(cè)之一上(例如，在噴嘴110的上方和下方)。各板狀部件中的至少一部分朝向噴嘴110的方向彎曲，即，處于沉積材料的排放路徑中以控制沉積材料的排放方向(例如，通過(guò)阻擋被排放的沉積材料中的一些沉積材料)。角度控制部200不限于該示例性實(shí)施方式的形式，并且角度控制部200不限于至少部分設(shè)置在沉積材料路徑中并控制從沉積源100排放以沉積至襯底(S)的沉積材料的方向的特定形式。如圖2A所示，沉積材料以排放角度(例如，預(yù)定的排放角度，或沉積材料被排放的角度)Θ I被噴射通過(guò)角度控制部200，然后被沉積在襯底(S)上。沉積材料以大致恒定的角度到達(dá)襯底(S)以使沉積材料在襯底(S)上形成大致均勻的薄膜。在該實(shí)施例中，排放角度Θ I表示沉積材料排放路徑的方向(例如，圖2A中的水平/y軸方向)與沉積材料被分散和實(shí)際散開(kāi)的最外面的方向(例如，被排放的沉積材料的邊緣)之間的角度。角度控制部200與角度控制部驅(qū)動(dòng)器300聯(lián)接，角度控制部驅(qū)動(dòng)器300控制角度控制部200在沉積材料排放方向上向前和向后移動(dòng)(例如，圖2A中的水平/y軸方向)。就在襯底(S)上使沉積材料沉積的薄膜形成工序而言，當(dāng)工序時(shí)間(例如，操作時(shí)間)已過(guò)去時(shí)(例如，在延長(zhǎng)使用后)，沉積材料還被沉積在真空室內(nèi)除襯底(S)之外的許多部件上。具體地，沉積材料通常沉積在沉積材料排放路徑中的部件上，例如角度控制部200上。如圖2B和圖2C所示，當(dāng)沉積材料附著而固化在(例如，積聚在)沉積材料排放路徑中的角度控制部200的一部分上時(shí)，排放角度(例如，Θ 2或Θ 3)可以改變。在該實(shí)施例中，當(dāng)固化的、附著的沉積材料(M)和角度控制部200向后或向前移動(dòng)以控制排放角度(例如，圖2B中的排放角度Θ 2或圖2C中的排放角度Θ 3)時(shí)，沉積材料可以以原始排放角度(例如，圖2A中的排放角度Θ I)排放，該原始排放角度在附著材料(M)被附著/積聚前設(shè)置。也就是說(shuō)，由于角度控制部200向后或向前移動(dòng)，所以無(wú)論在薄膜形成工序過(guò)程中附著至角度控制部200的附著沉積材料(M)如何，沉積材料均可以以大致恒定的排放角度形成。對(duì)其的詳細(xì)描述將參照根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的沉積裝置的操作以及用于形成薄膜的方法來(lái)描述。角度控制部驅(qū)動(dòng)器300包括驅(qū)動(dòng)器310和驅(qū)動(dòng)功率供給部320，驅(qū)動(dòng)器310用于控制角度控制部200在沉積材料的排放方向上向后或向前移動(dòng)，驅(qū)動(dòng)功率供給部320用于為使驅(qū)動(dòng)器310向后或向前移動(dòng)提供驅(qū)動(dòng)功率。驅(qū)動(dòng)器310的第一側(cè)聯(lián)接至角度控制部200，而驅(qū)動(dòng)器310的第二側(cè)聯(lián)接至驅(qū)動(dòng)功率供給部320以利用驅(qū)動(dòng)功率供給部320產(chǎn)生的驅(qū)動(dòng)功率使角度控制部200向后或向前移動(dòng)。在附圖中的驅(qū)動(dòng)功率供給部320聯(lián)接至沉積源100的一側(cè)，盡管本發(fā)明不限于此。本實(shí)施方式的角度控制 部驅(qū)動(dòng)器300可選自能夠進(jìn)行線性移動(dòng)的裝置，例如，滾珠絲杠型(ball screw type)、汽缸型、或線性移動(dòng)(LM)引導(dǎo)型。例如，當(dāng)角度控制部200采用汽缸型時(shí)，驅(qū)動(dòng)器310配置有包含汽缸和活塞在內(nèi)的能夠進(jìn)行線性(例如，前后來(lái)回或者向后和向前)移動(dòng)的裝置，而驅(qū)動(dòng)功率供給部320可配置有液壓泵或氣壓泵。在為滾珠絲杠型的情況下，驅(qū)動(dòng)器310配置有能夠進(jìn)行線性移動(dòng)的裝置，例如滾珠絲杠軸承和滾珠絲杠螺桿，而驅(qū)動(dòng)功率供給部320可配置有用于提供扭矩的電動(dòng)馬達(dá)。這些類型的驅(qū)動(dòng)器的詳細(xì)配置對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員是公知的，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以以各種方式對(duì)它們進(jìn)行變化。另外，角度控制部驅(qū)動(dòng)器300不限于上述實(shí)施方式，而可以是用于控制角度控制部200在直線上向后和向前移動(dòng)的其它裝置。如上所述，角度控制部驅(qū)動(dòng)器300根據(jù)工序時(shí)間(例如，經(jīng)過(guò)的工序時(shí)間量)向后或向前移動(dòng)，并且角度控制部驅(qū)動(dòng)器300也可包括控制器(未示出)，該控制器用于控制角度控制部200根據(jù)工序時(shí)間而向后或向前移動(dòng)?？刂破魍ㄟ^(guò)實(shí)時(shí)使用傳感器來(lái)測(cè)量沉積材料的排放角度，并且當(dāng)排放角度改變時(shí)(例如，由于附著至角度控制部200的附著材料(M))，控制器使角度控制部200向后或向前移動(dòng)以恢復(fù)排放角度(例如，恢復(fù)為圖2A中的排放角度Θ I)。另外，控制器基于工序條件(包括工序時(shí)間、沉積材料以及根據(jù)工序時(shí)間而受到控制的沉積材料的排放角度)來(lái)檢查(例如，通過(guò)模擬工序)附著至角度控制部200的沉積材料(例如，附著材料(M))的數(shù)量，并根據(jù)之前的檢查數(shù)據(jù)通過(guò)使角度控制部100向后或向前移動(dòng)來(lái)控制排放角度以保持原始角度(例如，圖2A中的排放角度Θ I)。圖3A和3B示出了根據(jù)本發(fā)明的另一示例性實(shí)施方式的沉積裝置20的側(cè)視圖，圖4A和4B示出了根據(jù)本發(fā)明的另一示例性實(shí)施方式的沉積裝置20的正視圖。參見(jiàn)圖3A和圖3B，一對(duì)角度控制部200a和200b的第一側(cè)(例如，前側(cè))可聯(lián)接至一對(duì)蓋板400，這對(duì)蓋板400可位于沉積材料的排放路徑中。蓋板400可在與沉積材料的排放方向交叉的方向(例如，在圖3A-4B所示的垂直方向，或z軸方向)上驅(qū)動(dòng)，并且可用于控制一對(duì)角度控制部200a和200b之間(例如，蓋板400之間)的間隙的尺寸。例如，一對(duì)蓋板400為板狀并且位于一對(duì)角度控制部200a和200b的第一側(cè)上，而且如圖3A和圖3B所示，蓋板400中的每個(gè)均物理聯(lián)接至角度控制部200a和200b的彎曲部分(例如，角度控制部200a和200b的垂直部分，或者大致在z軸方向上延伸的部分)，其中角度控制部200a和200b中的至少一部分朝向排放路徑彎曲，從而能夠?qū)τ山嵌瓤刂撇?00a和200b所形成的排放角度(例如，圖3A中的排放角度Θ 4或圖3B中的排放角度Θ 5)進(jìn)行控制。如圖3A所示，能夠通過(guò)移動(dòng)一對(duì)蓋板400使其彼此更靠近來(lái)減小一對(duì)角度控制部200a和200b之間的間隙(例如，蓋板400之間的間隙)，從而減小沉積材料的排放角度(例如，排放角度Θ 4)。如圖3B所示，能夠通過(guò)移動(dòng)一對(duì)蓋板400使其彼此更遠(yuǎn)離而增加間隙來(lái)增加沉積材料的排放角度(例如，排放角度Θ5)。通過(guò)控制蓋板400，無(wú)需使角度控制部200向后或向前移動(dòng)就能進(jìn)一步控制沉積材料的排放角度，或者能夠以角度控制部200向后或向前移動(dòng)無(wú)法進(jìn)行的方式來(lái)控制排放角度。蓋板400可以在與角度控制部200聯(lián)接的情況下(例如，對(duì)應(yīng)于角度控制部200的位置)相對(duì)于角度控制部200移動(dòng)。蓋板400可以在以線性方式形成的沉積源100的長(zhǎng)度方向上被分成多個(gè)板(例如，蓋板400可具有與沉積源100的長(zhǎng)度對(duì)應(yīng)的長(zhǎng)度，或具有與噴嘴110的數(shù)量對(duì)應(yīng)的長(zhǎng)度)。例如，如圖4A和圖4B所示，形成在一對(duì)角度控制部200a和200b上的一對(duì)蓋板401和402可在沉積源100的長(zhǎng)度方向上被分成兩對(duì)蓋板(401:401a、401b/402:402a、402b)，其中被分開(kāi)的蓋板(401a、401b、402a、402b)可獨(dú)立地操作。
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參見(jiàn)圖4B,蓋板對(duì)401a`和402a移動(dòng)彼此更靠近以減小相應(yīng)的排放角度,而蓋板對(duì)401b和402b移動(dòng)彼此更遠(yuǎn)離以增加沉積材料的排放角度。另外,蓋板對(duì)401a和402a可獨(dú)立地操作(例如，彼此獨(dú)立地操作和獨(dú)立于蓋板401b和402b操作)。現(xiàn)在將描述根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的沉積裝置的操作和用于制造OLED顯示器的方法。首先，將襯底(S)放置在真空室(未示出)中并定向?yàn)槊嫦蚺欧懦练e材料的沉積源100。將沉積源100的沉積材料加熱至蒸發(fā)，如圖2A所示，通過(guò)噴嘴110排放沉積材料。被排放的沉積材料到達(dá)襯底(S)以在其上形成薄膜。被排放的沉積材料以與角度控制部200進(jìn)行的控制對(duì)應(yīng)的排放角度(例如，恒定的預(yù)定排放角度)Θ I排放(例如，保持不變地排放)。當(dāng)沉積材料排放至襯底(S)上以形成薄膜時(shí)，沉積材料還沉積在襯底(S)上并且沉積在沉積材料的排放路徑中的角度控制部200上。如圖2B所示，當(dāng)沉積材料中的一些沉積在角度控制部200的一部分上然后固化(例如，沉積材料(M))時(shí)，排放角度Θ 2會(huì)改變。排放角度Θ 2可能因附著至角度控制部200的沉積材料(M)而減小，并且當(dāng)角度控制部驅(qū)動(dòng)器300使角度控制部200向后移動(dòng)以減小角度控制部200與噴嘴110之間的距離時(shí)，排放角度Θ2增加?？赏ㄟ^(guò)使因附著材料(M)而減小的排放角度Θ 2增加，將排放角度Θ2控制為與工序前期的排放角度ΘI相等。隨著薄膜形成工序的進(jìn)展(例如，隨著工序時(shí)間增加)，如圖2C所示，被附著的沉積材料(M)進(jìn)一步積聚在角度控制部200上，而且沉積材料的排放角度Θ 3進(jìn)一步減小。在該實(shí)施例中，當(dāng)角度控制部驅(qū)動(dòng)器300使角度控制部200向后移動(dòng)更遠(yuǎn)時(shí)，角度控制部200與噴嘴110之間的距離進(jìn)一步減小，而使排放角度Θ 3增加以使排放角度Θ 3可以與工序前期的排放角度Θ I相等，從而補(bǔ)償沉積材料(M)的積聚。如上所述，當(dāng)在薄膜形成工序期間沉積材料的排放角度因附著至角度控制部200的沉積材料(M)而改變時(shí)，對(duì)角度控制部200進(jìn)行控制以使其隨經(jīng)過(guò)的工序時(shí)間向后移動(dòng)，從而使排放角度保持恒定(例如，Θ1=Θ2=Θ3)。因此，在襯底(S)上沉積有大致均勻的薄膜。此外，工序時(shí)間、附著至角度控制部200的沉積材料(M)的量以及與工序時(shí)間量(例如，自制造設(shè)備的最近維護(hù)起的分鐘數(shù) )對(duì)應(yīng)地對(duì)沉積材料的排放角度進(jìn)行控制均可通過(guò)模擬工序進(jìn)行檢查，而且可通過(guò)檢查后的信息根據(jù)工序時(shí)間自動(dòng)且定期地調(diào)整角度控制部 200。例如，當(dāng)沉積材料沉積在襯底(S)上以形成薄膜時(shí)，每當(dāng)單位工序時(shí)間經(jīng)過(guò)時(shí)就檢查排放角度是否因附著至角度控制部200的沉積材料(M)而減小，并根據(jù)所經(jīng)過(guò)的工序時(shí)間控制角度控制部200向后移動(dòng)單位長(zhǎng)度以改進(jìn)薄膜形成工序。沉積材料期望包括用于形成有機(jī)發(fā)射層的有機(jī)材料，即，用于在OLED顯示器中形成顯示紅色(R)、綠色(G)以及藍(lán)色(B)的子像素的有機(jī)材料。雖然結(jié)合目前視為實(shí)際的示例性實(shí)施方式對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了描述，但應(yīng)該理解本發(fā)明不限于所公開(kāi)的實(shí)施方式，相反，本發(fā)明將覆蓋包括在所附的權(quán)利要求及其等同物的精神和范圍之內(nèi)的各種修改和等同設(shè)置。
權(quán)利要求
1.沉積裝置，包括 沉積源，用于排放待沉積在襯底上的沉積材料； 角度控制部，至少部分處于所述沉積材料的排放路徑中，所述角度控制部用于控制所述沉積材料的排放角度；以及 角度控制部驅(qū)動(dòng)器，與所述角度控制部聯(lián)接，所述角度控制部驅(qū)動(dòng)器用于使所述角度控制部在所述沉積材料的排放方向上移動(dòng)以控制所述排放角度。
2.如權(quán)利要求I所述的沉積裝置，其中所述沉積源包括用于排放所述沉積材料的噴嘴，以及 其中所述角度控制部包括一對(duì)角度控制部，所述一對(duì)角度控制部中的每一個(gè)位于所述沉積源的長(zhǎng)側(cè)上并且在所述沉積源的長(zhǎng)度方向上延伸。
3.如權(quán)利要求2所述的沉積裝置，還包括一對(duì)蓋板，每個(gè)蓋板位于所述一對(duì)角度控制部中的各角度控制部的一側(cè)上， 其中，所述一對(duì)蓋板配置為在與所述排放方向交叉的方向上移動(dòng)以控制所述一對(duì)蓋板之間的間隙。
4.如權(quán)利要求3所述的沉積裝置，其中，所述蓋板的移動(dòng)對(duì)應(yīng)于所述角度控制部的移動(dòng)。
5.如權(quán)利要求3所述的沉積裝置，其中，所述一對(duì)蓋板包括在所述沉積源的所述長(zhǎng)度方向上彼此相鄰的至少兩對(duì)蓋板。
6.如權(quán)利要求5所述的沉積裝置，其中，所述至少兩對(duì)蓋板中的每個(gè)蓋板能夠獨(dú)立地操作。
7.如權(quán)利要求I所述的沉積裝置，其中，所述角度控制部驅(qū)動(dòng)器包括滾珠絲杠驅(qū)動(dòng)器、汽缸驅(qū)動(dòng)器或者線性移動(dòng)引導(dǎo)驅(qū)動(dòng)器。
8.如權(quán)利要求I所述的沉積裝置，還包括控制器，所述控制器用于控制所述角度控制部驅(qū)動(dòng)器根據(jù)工藝條件來(lái)移動(dòng)所述角度控制部。
9.制造有機(jī)發(fā)光二極管顯示器的方法，所述方法包括 將襯底面朝用于排放沉積材料的沉積源；以及 通過(guò)將所述沉積材料排放在所述襯底上而在所述襯底上形成薄膜， 其中，在所述襯底上形成所述薄膜包括通過(guò)使角度控制部相對(duì)于所述沉積源移動(dòng)來(lái)控制所述沉積材料的排放角度，所述角度控制部部分處于所述沉積材料的排放路徑中。
10.如權(quán)利要求9所述的方法，其中，使所述角度控制部移動(dòng)包括以與經(jīng)過(guò)的工序時(shí)間量對(duì)應(yīng)的速度使所述角度控制部朝向所述沉積源移動(dòng)。
11.如權(quán)利要求9所述的方法，其中，所述沉積材料包括用于形成有機(jī)發(fā)射層的有機(jī)材料，以及 其中，所述薄膜包括所述有機(jī)發(fā)射層。
全文摘要
一種沉積裝置及用其制造有機(jī)發(fā)光二極管顯示器的方法。一種沉積裝置，其包括沉積源、角度控制部以及與角度控制部聯(lián)接的角度控制部驅(qū)動(dòng)器，沉積源用于排放待沉積在襯底上的沉積材料，角度控制部至少部分處于沉積材料的排放路徑中用于控制沉積材料的排放角度，角度控制部驅(qū)動(dòng)器用于使角度控制部在沉積材料的排放方向上移動(dòng)以控制排放角度。
文檔編號(hào)H01L27/32GK103255370SQ201210428488
公開(kāi)日2013年8月21日 申請(qǐng)日期2012年10月31日 優(yōu)先權(quán)日2012年2月21日
發(fā)明者李相雨 申請(qǐng)人:三星顯示有限公司