專利名稱：帶二維碼標(biāo)識(shí)的真空滅弧室的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型屬于真空開關(guān)技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種帶二維碼標(biāo)識(shí)的真空滅弧室。
背景技術(shù)：
真空開關(guān)技術(shù)的發(fā)展，真空滅弧室元件作為真空開關(guān)的心臟原件，保證質(zhì)量和品牌產(chǎn)品越來越被人們所認(rèn)識(shí)，滅弧室生產(chǎn)廠家的質(zhì)量追溯和產(chǎn)品品牌，其唯一標(biāo)志成為人們?cè)谑袌龈偁幒蛿U(kuò)大市場的技術(shù)要求。目前，真空滅弧室外殼表面只有用一維碼標(biāo)簽標(biāo)識(shí)或阿拉伯字碼標(biāo)刻標(biāo)識(shí)(一維碼打印在標(biāo)簽上貼在滅弧室外殼表面，阿拉伯字碼標(biāo)刻在滅弧室實(shí)體零件的表面上，像銅桿或銅板的圓周面上)。尚未出現(xiàn)在滅弧室外殼體表面標(biāo)刻二維碼進(jìn)行標(biāo)識(shí)。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是提供一種帶二維碼標(biāo)識(shí)的真空滅弧室，使真空滅弧室具有二維碼標(biāo)識(shí)，二維碼清晰牢固不易脫落，保證真空滅弧室的外殼氣密性和機(jī)械性能。本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案是，帶二維碼標(biāo)識(shí)的真空滅弧室，包括真空滅弧室，真空滅弧室的真空滅弧室外露表面通過激光器標(biāo)刻二維碼標(biāo)識(shí)。本實(shí)用新型的特征還在于，二維碼標(biāo)識(shí)的形狀為矩形、正方形、圓形。真空滅弧室外露表面的圓周面上標(biāo)刻二維碼標(biāo)識(shí)。真空滅弧室外露表面的端平面上標(biāo)刻二維碼標(biāo)識(shí)。本實(shí)用新型的有益效果是，通過控制激光器等手段實(shí)現(xiàn)真空滅弧室外露表面形成二維碼標(biāo)識(shí)，起到了很好的標(biāo)示作用。二維碼圖案標(biāo)刻在真空滅弧室外殼的外露表面，使真空滅弧室和標(biāo)識(shí)的二維碼成為一體，解決了產(chǎn)品標(biāo)識(shí)與產(chǎn)品的脫落問題。

圖1是本實(shí)用新型帶二維碼標(biāo)識(shí)的真空滅弧室的結(jié)構(gòu)示意圖。圖中，1.真空滅弧室外露表面，2.二維碼標(biāo)識(shí)。
具體實(shí)施方式
本實(shí)用新型帶二維碼標(biāo)識(shí)的真空滅弧室的結(jié)構(gòu)，如圖1所示，包括真空滅弧室，在真空滅弧室的真空滅弧室外露表面I上通過激光器標(biāo)刻二維碼標(biāo)識(shí)2。二維碼標(biāo)識(shí)2形狀為矩形、正方形、圓形等任意形狀，可以在真空滅弧室外露表面I的圓周面上標(biāo)刻二維碼標(biāo)識(shí)2，也可以在真空滅弧室外露表面I的端平面上標(biāo)刻二維碼標(biāo)識(shí)2，也可以在真空滅弧室外露表面I上任意位置形成二維碼標(biāo)識(shí)2。本實(shí)用新型帶二維碼標(biāo)識(shí)的真空滅弧室可以通過激光燒蝕標(biāo)刻、機(jī)械雕刻；粘貼、噴墨、熱轉(zhuǎn)印實(shí)現(xiàn)。[0016]方式1，二維碼標(biāo)識(shí)2通過激光器和定位工具加工獲得，使用計(jì)算機(jī)控制在真空滅弧室外露表面I標(biāo)刻實(shí)現(xiàn)，通過控制激光器功率和激光束運(yùn)動(dòng)速度，實(shí)現(xiàn)真空滅弧室外露表面I淺表層燒蝕遺留痕跡形成二維碼標(biāo)識(shí)2，保證真空滅弧室外露表面I氣密性和機(jī)械性能以及絕緣性能，并且起到了很好的標(biāo)示作用。二維碼標(biāo)識(shí)2可以標(biāo)刻在玻璃、陶瓷(釉層)、金屬(不銹鋼和銅等)材料表面的技術(shù)。方式2，二維碼標(biāo)識(shí)2通過機(jī)械雕(標(biāo))刻機(jī)和定位夾具加工獲得，使用計(jì)算機(jī)控制在真空滅弧室外露表面I標(biāo)刻實(shí)現(xiàn)，控制雕(標(biāo))刻機(jī)運(yùn)行軌跡和行程，實(shí)現(xiàn)真空滅弧室外露表面I淺表層遺留痕跡形成二維碼標(biāo)識(shí)2，保證真空滅弧室外露表面I氣密性和機(jī)械性能以及絕緣性能，并且起到了很好的標(biāo)示作用。二維碼標(biāo)識(shí)2可以標(biāo)刻在金屬(不銹鋼和銅等)材料表面的技術(shù)。方式3，二維碼標(biāo)識(shí)2由標(biāo)簽承載粘貼在真空滅弧室外露表面I實(shí)現(xiàn)，保證特殊結(jié)構(gòu)的真空滅弧室外露表面I絕緣性能，并且起到了很好的標(biāo)示作用。二維碼標(biāo)識(shí)2可以標(biāo)刻在玻璃、陶瓷(釉層)、金屬(不銹鋼和銅等)材料表面的技術(shù)。方式4，二維碼標(biāo)識(shí)2通過噴墨、熱轉(zhuǎn)印等其他手段在真空滅弧室外露表面I實(shí)現(xiàn)，保證特殊結(jié)構(gòu)的真空滅弧室外露表面I氣密性和機(jī)械性能以及絕緣性能，并且起到了很好的標(biāo)示作用。二維碼標(biāo)識(shí)2可以標(biāo)刻在玻璃、陶瓷(釉層)、金屬(不銹鋼和銅等)材料表面的技術(shù)。
權(quán)利要求1.一種帶二維碼標(biāo)識(shí)的真空滅弧室，其特征在于，包括真空滅弧室，真空滅弧室的真空滅弧室外露表面(I)通過激光器標(biāo)刻二維碼標(biāo)識(shí)(2)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的帶二維碼標(biāo)識(shí)的真空滅弧室，其特征在于，所述二維碼標(biāo)識(shí)(2)的形狀為矩形、正方形、圓形。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的帶二維碼標(biāo)識(shí)的真空滅弧室，其特征在于，在所述真空滅弧室外露表面(I)的圓周面上標(biāo)刻二維碼標(biāo)識(shí)(2)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的帶二維碼標(biāo)識(shí)的真空滅弧室，其特征在于，在所述真空滅弧室外露表面(I)的端平面上標(biāo)刻二維碼標(biāo)識(shí)(2)。
專利摘要本實(shí)用新型公開了帶二維碼標(biāo)識(shí)的真空滅弧室，帶二維碼標(biāo)識(shí)的真空滅弧室，包括真空滅弧室，真空滅弧室的真空滅弧室外露表面通過激光器標(biāo)刻二維碼標(biāo)識(shí)。本實(shí)用新型的有益效果是，通過控制激光器實(shí)現(xiàn)真空滅弧室外殼表面淺表層燒蝕遺留痕跡形成二維碼標(biāo)識(shí)，保證真空滅弧室的外殼氣密性和機(jī)械性能，并且起到了很好的標(biāo)示作用。
文檔編號(hào)H01H33/664GK202977294SQ20122068050
公開日2013年6月5日 申請(qǐng)日期2012年12月11日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月11日
發(fā)明者王雷波, 任鵬魁 申請(qǐng)人:陜西寶光真空電器股份有限公司