專利名稱：基板處理裝置和移載方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及具有搬運(yùn)基板的機(jī)構(gòu)的基板處理裝置、對基板的支撐方式進(jìn)行轉(zhuǎn)換的方法和移載基板的移載方法。
背景技術(shù)：
在液晶顯示裝置用玻璃基板、半導(dǎo)體晶片、薄膜液晶用柔性基板、光掩模用基板、濾色器用基板、太陽能電池用基板、電子紙用基板等精密電子裝置用基板的制造工序中，使用具有搬運(yùn)基板的機(jī)構(gòu)的各種基板處理裝置。隨著時代的變化，在這樣的基板處理裝置中成為處理對象的基板的尺寸具有大型化的趨勢。近年來，為了水平且穩(wěn)定地搬運(yùn)大型的基板，提出了一邊使基板在工作臺上浮起一邊進(jìn)行搬運(yùn)的搬運(yùn)機(jī)構(gòu)。在一邊使基板在工作臺上浮起一邊進(jìn)行搬運(yùn)的基板處理裝置中，需要將基板的支撐方式從其他支撐方式轉(zhuǎn)換為浮起支撐方式的機(jī)構(gòu)。作為轉(zhuǎn)換基板的支撐方式的技術(shù)在專利文獻(xiàn)I中記載了如下的基板搬運(yùn)裝置，即，該基板搬運(yùn)裝置具有從與浮起搬運(yùn)不同的搬運(yùn)機(jī)構(gòu)轉(zhuǎn)換為浮起搬運(yùn)的機(jī)構(gòu)。在專利文獻(xiàn)I中，通過使支撐基板的輥下降，將輥上的基板浮起保持在配置為簾狀的浮起用板上。另外，在一邊使基板在工作臺上浮起一邊保持基板的端緣部來進(jìn)行搬運(yùn)的基板處理裝置中，需要將由其他搬運(yùn)機(jī)構(gòu)搬運(yùn)來的基板的端緣部保持在規(guī)定的保持部上的機(jī)構(gòu)。作為保持基板的端緣部的機(jī)構(gòu)在專利文獻(xiàn)2中記載了如下的機(jī)構(gòu)，即，該機(jī)構(gòu)通過吸盤驅(qū)動器使吸附吸盤上升來接近基板，所述吸附吸盤借助真空吸附力吸附在基板的下表面上。專利文獻(xiàn)I JP特開2008-166348號公報(bào)；專利文獻(xiàn)2 JP特開2009-117571號公報(bào)。

發(fā)明內(nèi)容
(I)第一目的在專利文獻(xiàn)I的基板搬運(yùn)裝置中，在轉(zhuǎn)換基板的支撐方式的部位上，需要長度大于等于基板在搬運(yùn)方向上的尺寸的浮起用板。另外，在專利文獻(xiàn)I的基板搬運(yùn)裝置中，在配置成簾狀的浮起用板的間隙中配置有能夠升降的輥。這樣，在設(shè)計(jì)上很難以相互不接觸的方式交替地配置浮起用板、輥和使輥升降的機(jī)構(gòu)。因此，第一目的是提供在轉(zhuǎn)換基板的支撐方式的轉(zhuǎn)換部中抑制浮起支撐基板的部分在搬運(yùn)方向上的長度并且能夠容易地避免升降輥與其他構(gòu)件接觸的基板處理裝置。(2)第二目的在專利文獻(xiàn)2的基板處理裝置中，使吸附吸盤接近靜止的基板的下表面。由此，需要用于使吸附吸盤升降移動的吸盤驅(qū)動器。結(jié)果使包括吸盤驅(qū)動器的搬運(yùn)部的結(jié)構(gòu)變得復(fù)雜。另外，在專利文獻(xiàn)2的基板處理裝置中，為了精密地規(guī)定搬運(yùn)時基板的高度，要求吸盤驅(qū)動器具有高的定位精度。另外，還預(yù)料到通過長時間的使用，吸盤驅(qū)動器定位的再現(xiàn)性會降低。若要長時間維持吸盤驅(qū)動器定位的再現(xiàn)性，則還需要吸盤驅(qū)動器以外的監(jiān)視吸附吸盤的高度位置的機(jī)構(gòu)。因此，第二目的是提供不用使保持部升降移動并且能夠一邊抑制基板的錯位一邊從下表面?zhèn)缺３只宓募夹g(shù)。為了達(dá)到上述第一目的，本申請的第一發(fā)明為一種基板處理裝置，具有搬運(yùn)基板的機(jī)構(gòu)，具有:第一搬運(yùn)部，其將基板搬運(yùn)到搬運(yùn)路徑上的規(guī)定位置，第二搬運(yùn)部，其在所述規(guī)定位置的搬運(yùn)方向下游側(cè)，一邊使基板在工作臺上浮起，一邊搬運(yùn)基板，轉(zhuǎn)換部，其在所述第一搬運(yùn)部與所述第二搬運(yùn)部之間轉(zhuǎn)換基板的支撐方式，控制部，其控制所述轉(zhuǎn)換部；所述轉(zhuǎn)換部具有:升降輥，其一邊接觸支撐基板，一邊主動旋轉(zhuǎn)，能夠在標(biāo)準(zhǔn)位置與下降位置之間升降移動，自由輥(free roller)，其一邊將基板接觸支撐在標(biāo)準(zhǔn)位置的所述升降輥的上端部和下降位置的所述升降輥的上端部之間的高度位置，一邊對應(yīng)于基板的移動而從動旋轉(zhuǎn)，入口浮起工作臺，其配置在所述自由輥的搬運(yùn)方向下游側(cè)，一邊使基板浮起在比通過標(biāo)準(zhǔn)位置的所述升降輥支撐基板的支撐高度低的高度，一邊支撐基板；所述控制部控制所述轉(zhuǎn)換部，使得在基板配置為跨在標(biāo)準(zhǔn)位置的所述升降輥和所述入口浮起工作臺上之后，所述升降輥向所述下降位置下降，將基板的搬運(yùn)方向上游側(cè)的一部分向所述自由輥移載。本申請的第二發(fā)明為如第一發(fā)明的基板處理裝置，其中，所述入口浮起工作臺在搬運(yùn)方向上的長度短于基板在搬運(yùn)方向上的長度。本申請的第三發(fā)明為如第一發(fā)明或第二發(fā)明的基板處理裝置，其中，配置有所述升降輥和所述自由輥的區(qū)域在搬運(yùn)方向上的長度短于基板在搬運(yùn)方向上的長度。本申請的第四發(fā)明為如第一發(fā)明或第二發(fā)明的基板處理裝置，其中，所述自由輥包括:多個下游側(cè)自由輥，其沿著所述入口浮起工作臺的搬運(yùn)方向上游側(cè)的側(cè)邊緣部排列，多個上游側(cè)自由輥，其排列在所述多個下游側(cè)自由輥的搬運(yùn)方向上游側(cè)的位置；所述多個上游側(cè)自由輥配置成密度低于所述多個下游側(cè)自由輥的密度。本申請的第五發(fā)明為如第一發(fā)明或第二發(fā)明的基板處理裝置，其中，所述轉(zhuǎn)換部還具有定位機(jī)構(gòu)，該定位機(jī)構(gòu)在基板配置成跨在標(biāo)準(zhǔn)位置的所述升降輥和所述入口浮起工作臺上的狀態(tài)下，決定基板在水平方向上的位置。本申請的第六發(fā)明為如第一發(fā)明或第二發(fā)明的基板處理裝置，其中，支撐所述升降輥及所述自由輥的支撐臺與支撐所述入口浮起工作臺的支撐臺不同，并且所述升降輥及所述自由輥與所述入口浮起工作臺并且相互不連接。本申請的第七發(fā)明為如第一發(fā)明或第二發(fā)明的基板處理裝置，其中，所述自由輥是直徑小于所述升降輥的直徑的輥。另外，為了達(dá)到上述第一目的，本申請的第八發(fā)明為轉(zhuǎn)換方法，在第一搬運(yùn)部與第二搬運(yùn)部之間轉(zhuǎn)換基板的支撐方式，其中，所述第一搬運(yùn)部將基板搬運(yùn)到搬運(yùn)路徑上的規(guī)定位置，所述第二搬運(yùn)部在所述規(guī)定位置的搬運(yùn)方向下游側(cè)，一邊使基板在工作臺上浮起，一邊搬運(yùn)基板，該轉(zhuǎn)換方法利用升降輥、自由輥和入口浮起工作臺，其中，所述升降輥一邊接觸支撐基板，一邊主動旋轉(zhuǎn)，能夠在標(biāo)準(zhǔn)位置與下降位置之間升降移動，所述自由輥一邊將基板接觸支撐在標(biāo)準(zhǔn)位置的所述升降輥的上端部與下降位置的所述升降輥的上端部之間的高度位置，一邊對應(yīng)于基板的移動而從動旋轉(zhuǎn)，所述入口浮起工作臺配置在所述自由輥的搬運(yùn)方向下游側(cè)，一邊使基板浮起至比標(biāo)準(zhǔn)位置的所述升降輥支撐基板的支撐高度低的高度，一邊支撐基板，該轉(zhuǎn)換方法具有:工序a，將基板配置為跨在標(biāo)準(zhǔn)位置的所述升降輥和所述入口浮起工作臺上，工序b，在所述工序a后，使所述升降輥向所述下降位置下降，將基板的搬運(yùn)方向上游側(cè)的一部分向所述自由輥移載。另外，為了達(dá)到上述第二目的，本申請的第九發(fā)明為基板處理裝置，具有搬運(yùn)基板的機(jī)構(gòu)，具有:第一搬運(yùn)部，其從搬運(yùn)方向上游側(cè)將基板搬運(yùn)至規(guī)定位置，第二搬運(yùn)部，其從所述規(guī)定位置向搬運(yùn)方向下游側(cè)搬運(yùn)基板，移載部，其在所述規(guī)定位置，將基板從所述第一搬運(yùn)部移載至所述第二搬運(yùn)部；所述移載部具有頂起機(jī)構(gòu)，該頂起機(jī)構(gòu)在維持基板的一部分被接觸支撐為水平姿勢的狀態(tài)的情況下，頂起基板的其他部分，所述第二搬運(yùn)部具有一邊從下表面?zhèn)缺３只逡贿呍诎徇\(yùn)方向上移動的保持部，該基板處理裝置還具有控制部，所述控制部控制所述頂起機(jī)構(gòu)和所述保持部，使得在通過所述頂起機(jī)構(gòu)局部地頂起基板并且使所述保持部進(jìn)入基板的被頂起的部分的下方后，通過解除所述頂起機(jī)構(gòu)的頂起而使基板保持在所述保持部上。本申請的第十發(fā)明如第九發(fā)明的基板處理裝置，其中，所述移載部還具有對基板進(jìn)行水平方向上的定位的定位機(jī)構(gòu)，所述控制部控制所述定位機(jī)構(gòu)和所述頂起機(jī)構(gòu)，使得在所述定位機(jī)構(gòu)對基板進(jìn)行定位后，通過所述頂起機(jī)構(gòu)頂起基板。本申請的第十一發(fā)明為如第十發(fā)明的基板處理裝置，其中，所述定位機(jī)構(gòu)具有與基板的端緣部抵接的定位構(gòu)件，所述控制部控制所述頂起機(jī)構(gòu)和所述定位機(jī)構(gòu)，使得在通過所述定位機(jī)構(gòu)進(jìn)行定位后，與基板的所述其他部分抵接的所述定位構(gòu)件從基板退避，然后，通過所述頂起機(jī)構(gòu)頂起基板。本申請的第十二發(fā)明為如第九發(fā)明至第十一發(fā)明中任一項(xiàng)的基板處理裝置，其中，所述保持部具有:保持面，其在保持時規(guī)定基板的下表面的高度位置，彈性吸附體，其能夠在上下方向上伸縮，并且吸附在基板的下表面上；在所述彈性吸附體吸附在基板上之前，所述彈性吸附體的上端部位于所述保持面的上方，在所述彈性吸附體吸附在基板上時，所述彈性吸附體的上端部位于與所述保持面相同的高度。本申請的第十三發(fā)明為如第九發(fā)明至第十一發(fā)明中任一項(xiàng)的基板處理裝置，其中，所述頂起機(jī)構(gòu)將基板的垂直于搬運(yùn)方向的方向上的兩端部附近頂起。另外，為了達(dá)到上述第二目的，本申請的第十四發(fā)明為移載方法，將基板從第一搬運(yùn)部移載至第二搬運(yùn)部，包括:工序a，一邊維持基板的一部分被接觸支撐為水平姿勢的的狀態(tài)，一邊將基板的其他部分頂起；工序b，在所述工序a后，使保持部進(jìn)入基板的被頂起的部分的下方；工序C，在所述工序b后，通過解除對基板的頂起，使基板保持在所述保持部上。本申請的第十五發(fā)明為如第十四發(fā)明的移載方法，其中，還具有工序d，所述工序d在所述工序a之前，對基板進(jìn)行水平方向上的定位。本申請的第十六發(fā)明為如第十五發(fā)明的移載方法，其中，在所述工序d中，使定位構(gòu)件與基板的端緣部抵接，在所述工序d與所述工序a之間還具有工序e，所述工序e使與基板的所述其他部分抵接的所述定位構(gòu)件從基板退避。
根據(jù)本申請的第一發(fā)明至第八發(fā)明，在轉(zhuǎn)換部中，基板的搬運(yùn)方向上游側(cè)的一部分從升降輥移載到自由輥上。由此，能夠一邊抑制入口浮起工作臺在搬運(yùn)方向上的長度，一邊轉(zhuǎn)換基板的支撐方式。自由輥能夠通過簡單的結(jié)構(gòu)可靠地支撐基板，并且能夠配置在狹小的區(qū)域內(nèi)。因而，易于將自由輥配置在不與升降輥接觸的位置。尤其，根據(jù)本申請的第三發(fā)明，能夠抑制配置有升降輥和自由輥的區(qū)域在搬運(yùn)方向上的長度。尤其，根據(jù)本申請的第四發(fā)明，能夠抑制入口浮起工作臺的搬運(yùn)方向上游側(cè)的端緣部與基板接觸，而且作為整體能夠抑制自由輥的數(shù)量。尤其，根據(jù)本申請的第五發(fā)明，基板被定位成接觸支撐在升降輥上的狀態(tài)。因此，能夠通過升降輥與基板間的摩擦，抑制定位后的基板在水平方向上的移動。尤其，根據(jù)本申請的第六發(fā)明，能夠抑制升降輥和自由輥的機(jī)械振動傳播至入口浮起工作臺。尤其，根據(jù)本申請的第七發(fā)明，更易于將自由輥配置在不與升降輥接觸的位置。根據(jù)本申請的第九發(fā)明 第十六發(fā)明，通過局部頂起基板，能夠使保持部在不升降移動的情況下進(jìn)入基板的下方。因而，能夠一邊固定保持部的高度位置，一邊從下表面?zhèn)缺３只濉Ａ硗?，在已將基板頂起時，基板的一部分被接觸支撐為水平姿勢。因此，能夠抑制頂起時的基板的錯位。尤其，根據(jù)本申請的第十發(fā)明或第十五發(fā)明，保持部能夠保持基板下表面的更正確的位置。尤其，根據(jù)本申請的第十一發(fā)明或第十六發(fā)明，能夠防止在基板被頂起時定位構(gòu)件與基板滑動接觸。尤其，根據(jù)本申請的第十二發(fā)明，通過使彈性吸附體吸附在基板的下表面上并且進(jìn)行收縮，能夠向保持面拉近基板的下表面。尤其，根據(jù)本申請的第十三發(fā)明，在將基板頂起時，搬運(yùn)方向上的力不易作用于基板。因此，在將基板頂起時，能夠抑制基板在搬運(yùn)方向上的位置偏移。


圖1是基板處理裝置的俯視圖。圖2是第一搬運(yùn)部和轉(zhuǎn)換部附近的俯視圖。圖3是第一搬運(yùn)部和轉(zhuǎn)換部附近的側(cè)視圖。圖4是從圖1中的A-A位置觀察升降輥、升降驅(qū)動機(jī)構(gòu)、自由輥和裝夾機(jī)構(gòu)的圖。圖5是從圖1中的A-A位置觀察升降輥、升降驅(qū)動機(jī)構(gòu)、自由輥和裝夾機(jī)構(gòu)的圖。圖6是表示控制部和基板處理裝置的各部分間的電連接結(jié)構(gòu)的框圖。圖7是表示基板處理裝置的動作的流程的流程圖。圖8是基板配置成跨在升降輥和入口浮起工作臺上時的轉(zhuǎn)換部附近的側(cè)視圖。圖9是使多個升降銷上升時的轉(zhuǎn)換部附近的側(cè)視圖。圖10是使升降輥下降后的轉(zhuǎn)換部附近的側(cè)視圖。圖11是將裝夾機(jī)構(gòu)配置在基板的寬度方向上的兩端部的下側(cè)時的轉(zhuǎn)換部附近的側(cè)視圖。
圖12是使裝夾機(jī)構(gòu)吸附基板的寬度方向上的兩端部時的轉(zhuǎn)換部附近的側(cè)視圖。圖13是基板處理裝置的俯視圖。圖14是第一搬運(yùn)部和移載部附近的俯視圖。圖15是第一搬運(yùn)部和移載部附近的側(cè)視圖。圖16是吸附保持部的上表面附近的局部剖視放大圖。圖17是吸附保持部的上表面附近的局部剖視放大圖。圖18是表示控制部與基板處理裝置的各部分間的電連接結(jié)構(gòu)的框圖。圖19是表示基板處理裝置的動作的流程的流程圖。圖20是移載部附近的側(cè)視圖。圖21是從圖13中的B-B位置觀察移載部附近的結(jié)構(gòu)的圖。圖22是移載部附近的側(cè)視圖。圖23是從圖13中的B-B位置觀察移載部附近的結(jié)構(gòu)的圖。圖24是移載部附近的側(cè)視圖。圖25是從圖13中的B-B位置觀察移載部附近的結(jié)構(gòu)的圖。圖26是移載部附近的側(cè)視圖。圖27是從圖13中的B-B位置觀察移載部附近的結(jié)構(gòu)的圖。圖28是移載部附近的側(cè)視圖。圖29是從圖13中的B-B位置觀察移載部附近的結(jié)構(gòu)的圖。
具體實(shí)施例方式
下面，參照

本發(fā)明的實(shí)施方式?！?.第一實(shí)施方式><1-1.基板處理裝置的結(jié)構(gòu)>圖1是本發(fā)明的第一實(shí)施方式的基板處理裝置I的俯視圖。該基板處理裝置I用于在刻蝕液晶顯示裝置用的矩形玻璃基板9 (下面，僅稱“基板9”)的光刻工序中在基板9的上表面涂敷抗蝕液(光致抗蝕液)?；逄幚硌b置I具有一邊將基板9支撐為水平姿勢一邊搬運(yùn)基板9的機(jī)構(gòu)。下面，將搬運(yùn)基板9的方向稱為“搬運(yùn)方向”，將垂直于搬運(yùn)方向的水平方向稱為“寬度方向”。在本申請的各圖中用箭頭表示搬運(yùn)方向和寬度方向。如圖1所示，基板處理裝置I具有第一搬運(yùn)部10、轉(zhuǎn)換部20、第二搬運(yùn)部30、抗蝕液涂敷機(jī)構(gòu)40、搬出部50和控制部60。圖2是第一搬運(yùn)部10和轉(zhuǎn)換部20附近的俯視圖。圖3是第一搬運(yùn)部10和轉(zhuǎn)換部20附近的側(cè)視圖。另外，圖4和圖5是從圖1中的A-A位置觀察升降輥21、升降驅(qū)動機(jī)構(gòu)23、自由輥24和裝夾機(jī)構(gòu)32的圖。下面，參照圖1和圖2 圖5。第一搬運(yùn)部10是將從前面工序的裝置2搬出的基板9沿著搬運(yùn)路徑搬運(yùn)到轉(zhuǎn)換部20的部位。第一搬運(yùn)部10具有以沿著寬度方向延伸的旋轉(zhuǎn)軸Ila為中心進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的多個輸送輥11。在本實(shí)施方式中，在沿長度方向等間隔排列的多個旋轉(zhuǎn)軸Ila上，分別以寬度方向上等間隔的方式安裝有4個輸送輥11。多個輸送輥11配置在單一的固定的高度位置。在輸送棍11的旋轉(zhuǎn)軸Ila上連接著圖2中示意地表示的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)12。旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)12例如是將成為驅(qū)動源的馬達(dá)和傳遞驅(qū)動力的同步帶進(jìn)行組合而成的機(jī)構(gòu)。若使旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)12動作，則多個輸送輥11主動地向同一方向旋轉(zhuǎn)。由此，向搬運(yùn)方向下游側(cè)搬運(yùn)接觸支撐在輸送輥11上的基板9。轉(zhuǎn)換部20是用于在第一搬運(yùn)部10與第二搬運(yùn)部30之間轉(zhuǎn)換基板9的支撐方式的部位。如圖1 圖5所示，轉(zhuǎn)換部20具有多個升降輥21、旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)22、升降驅(qū)動機(jī)構(gòu)23、多個自由輥24、入口浮起工作臺25、4個引導(dǎo)輥26、定位機(jī)構(gòu)27和多個升降銷28。多個升降輥21是設(shè)置成能夠以沿著寬度方向延伸的旋轉(zhuǎn)軸21a為中心進(jìn)行旋轉(zhuǎn)并且能夠上下升降移動的輥。在本實(shí)施方式中，在沿長度方向排列的兩個旋轉(zhuǎn)軸21a上分別以寬度方向上等間隔的方式安裝有4個升降輥21。在旋轉(zhuǎn)軸21a上連接著圖2中示意地表示的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)22。旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)22例如是將成為驅(qū)動源的馬達(dá)和傳遞驅(qū)動力的同步帶進(jìn)行組合而成的機(jī)構(gòu)。若使旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)22動作，則多個升降輥21主動地向同一方向旋轉(zhuǎn)。由此，向搬運(yùn)方向下游側(cè)搬運(yùn)接觸支撐在升降輥21上的基板9。如圖4和圖5所示，在升降輥21的旋轉(zhuǎn)軸21a上連接著升降驅(qū)動機(jī)構(gòu)23。升降驅(qū)動機(jī)構(gòu)23具有:臂23a，其經(jīng)由軸承支撐旋轉(zhuǎn)軸21a ;氣缸23b，其使臂23a升降移動。若使氣缸23b動作，則多個升降輥21在圖4所示的標(biāo)準(zhǔn)位置與圖5所示的下降位置之間升降移動。此外，升降驅(qū)動機(jī)構(gòu)23也可以利用除了氣缸以外的驅(qū)動機(jī)構(gòu)(例如，馬達(dá))。配置在標(biāo)準(zhǔn)位置的升降輥21的上端部(與基板9的下表面接觸的部位)的高度位置與輸送輥11的上端部的高度位置大致一致。另外，配置在下降位置的升降輥21的上端部的高度位置位于自由輥24的上端部的高度位置的下方。多個自由輥24是用于在升降輥21已下降時代替升降輥21對基板9的搬運(yùn)方向上游側(cè)的一部分進(jìn)行支撐的輥。多個自由輥24相對于設(shè)置在每個輥上的固有的旋轉(zhuǎn)軸自由旋轉(zhuǎn)。在基板9的一部分支撐在自由輥24上的狀態(tài)下，若基板9向下游側(cè)移動，則多個自由輥24與基板9的移動相對應(yīng)而從動地旋轉(zhuǎn)。多個自由輥24配置在單一的固定的高度位置上。自由輥24的上端部的高度位置，處于配置在標(biāo)準(zhǔn)位置的升降輥21的上端部的高度位置的下方并且處于配置在下降位置的升降輥21的上端部的高度位置的上方。另外，自由輥24的上端部的高度位置處于與支撐在入口浮起工作臺25上的基板9的下表面和后述的裝夾機(jī)構(gòu)32的上端部大致等高的高度位置。另外，如圖1和圖2所示，各自由輥24配置在俯視下與多個升降輥21和升降輥21的旋轉(zhuǎn)軸21a不重合的位置。因此，多個升降輥21和升降輥21的旋轉(zhuǎn)軸21a能夠在不與多個自由輥24接觸的情況下升降移動。如圖2所示，多個自由輥24包括多個下游側(cè)自由輥24a和多個上游側(cè)自由輥24b。多個下游側(cè)自由輥24a在配置于搬運(yùn)方向的最下游側(cè)的升降輥21與入口浮起工作臺25之間，沿寬度方向排列。即，多個下游側(cè)自由輥24a沿著入口浮起工作臺25的搬運(yùn)方向上游側(cè)的端緣部排列。另一方面，多個上游側(cè)自由輥24b排列在下游側(cè)自由輥24a的搬運(yùn)方向上游側(cè)的位置。相鄰的下游側(cè)自由輥24a彼此在寬度方向上的間隔比相鄰的上游側(cè)自由輥24b彼此在寬度方向上的間隔窄。因此，基板9在下游側(cè)自由輥24a之間向下方的彎曲小于基板9在上游側(cè)自由輥24b之間向下方的彎曲。由此，抑制入口浮起工作臺25的搬運(yùn)方向上游側(cè)的端緣部與基板9的接觸。另外，通過以小于下游側(cè)自由輥24a的密度配置上游側(cè)自由輥24b，來整體減少自由輥24的數(shù)量。另外，在本實(shí)施方式中，使用直徑小于升降輥21的直徑的自由輥24。因此，確保升降輥21升降移動的空間，并且易于將多個自由輥24配置在不與升降輥21接觸的位置。自由輥24可以與驅(qū)動機(jī)構(gòu)完全斷開，但是只要能夠解除來自驅(qū)動機(jī)構(gòu)的動力傳遞，則可以與某些的驅(qū)動機(jī)構(gòu)連接。但是，在自由輥24上不連接驅(qū)動機(jī)構(gòu)的方式能夠更容易地確保升降輥21進(jìn)行升降的空間，由此優(yōu)選此方式。如圖3所示，多個輸送輥11、多個升降輥21和多個自由輥24被共用的輥支撐臺71支撐。另一方面，入口浮起工作臺25、后述的涂敷工作臺31和后述的出口浮起工作臺51被與輥支撐臺71不同的另外設(shè)置的工作臺支撐臺72支撐。也就是說，在本實(shí)施方式中，通過輥接觸支撐基板9的部位和使基板9浮起支撐在工作臺上的部位被不同的支撐臺支撐，并且相互不連接。由此，抑制來自輸送輥11、升降輥21和自由輥24的機(jī)械振動傳播至入口浮起工作臺25、涂敷工作臺31和出口浮起工作臺51。入口浮起工作臺25配置在多個自由輥24的搬運(yùn)方向下游側(cè)。入口浮起工作臺25與升降輥21、自由輥24或后述的涂敷工作臺31 —起支撐基板9。在入口浮起工作臺25的上表面設(shè)置有用于噴出壓縮空氣的多個噴出孔25a。在搬運(yùn)基板9時，從未圖示的供給源供給的壓縮空氣從多個噴出孔25a朝向上方噴出。通過從多個噴出孔25a噴出的壓縮空氣支撐基板9，使其成為從入口浮起工作臺25的上表面浮起的狀態(tài)。即，入口浮起工作臺25以不與基板9的下表面接觸的方式支撐基板9。4個引導(dǎo)輥26是用于在轉(zhuǎn)換部20中在搬運(yùn)方向上對基板9進(jìn)行引導(dǎo)的機(jī)構(gòu)。4個引導(dǎo)輥26配置在基板9的搬運(yùn)路徑上的兩側(cè)部。各引導(dǎo)輥26能夠以上下延伸的旋轉(zhuǎn)軸為中心進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。若基板9脫離搬運(yùn)路徑，則引導(dǎo)輥26—邊與基板9的端緣部接觸，一邊進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。由此，修正基板9的朝向，從而正確地在搬運(yùn)方向上搬運(yùn)基板9。通過未圖示的驅(qū)動機(jī)構(gòu)能夠使4個引導(dǎo)輥26升降移動。在轉(zhuǎn)換部20中搬運(yùn)基板9時，4個引導(dǎo)輥26處于上升到基板9的搬運(yùn)路徑上的兩側(cè)部的狀態(tài)。另一方面，在后述的裝夾機(jī)構(gòu)32進(jìn)入基板9的下方時，4個引導(dǎo)輥26處于下降到不與裝夾機(jī)構(gòu)32接觸的高度位置的狀態(tài)。定位機(jī)構(gòu)27是用于在轉(zhuǎn)換部20中對基板9進(jìn)行定位的機(jī)構(gòu)。定位機(jī)構(gòu)27具有上下延伸的多個定位銷27a。多個定位銷27a配置在包圍轉(zhuǎn)換部20中所配置的基板9的位置。各定位銷27a能夠通過未圖示的驅(qū)動機(jī)構(gòu)在與基板9的端緣部抵接的位置和離開基板9的端緣部的位置之間移動。當(dāng)基板9配置成跨在標(biāo)準(zhǔn)位置上的升降輥21和入口浮起工作臺25上時，多個定位銷27a與基板9的端緣部抵接。由此，決定了基板9在水平方向上的位置和姿勢。另一方面，在搬運(yùn)基板9時和裝夾機(jī)構(gòu)32進(jìn)入基板9的下方時，多個定位銷27a退避到不與基板9和裝夾機(jī)構(gòu)32接觸的位置。多個升降銷28是用于在轉(zhuǎn)換部20中轉(zhuǎn)換基板9的支撐方式時暫時舉起基板9的寬度方向上的兩端部的機(jī)構(gòu)。多個升降銷28配置在如下的位置，即，在基板9被定位機(jī)構(gòu)27定位了的狀態(tài)下，從基板9的寬度方向上的兩端部稍靠向?qū)挾确较蛏系膬?nèi)側(cè)。另外，通過未圖示的驅(qū)動機(jī)構(gòu)，能夠使多個升降銷28 —體地升降移動。當(dāng)使多個升降銷28上升時，升降銷28與基板9的下表面抵接，基板9的寬度方向上的兩端部被升降銷28舉起。在本實(shí)施方式中，多個升降銷28配置在入口浮起工作臺25的寬度方向上的兩端部的寬度方向內(nèi)側(cè)。因此，后述的裝夾機(jī)構(gòu)32能夠在不與多個升降銷28接觸的情況下進(jìn)入入口浮起工作臺25的寬度方向外側(cè)的位置。另外，只要基板9中的至少被裝夾機(jī)構(gòu)32吸附的部分向入口浮起工作臺25的寬度方向外側(cè)露出即可。因此，能夠抑制基板9從入口浮起工作臺25露出的露出量。如圖2所示，轉(zhuǎn)換部20在搬運(yùn)方向上的長度LI設(shè)定為大致能夠配置一個基板9的長度(即，稍長于基板9在搬運(yùn)方向上的長度的程度)。轉(zhuǎn)換部20中的配置有升降輥21和自由輥24的區(qū)域在搬運(yùn)方向上的長度L2和入口浮起工作臺25在搬運(yùn)方向上的長度L3都比基板9在搬運(yùn)方向上的長度短。由此，能夠抑制轉(zhuǎn)換部20在搬運(yùn)方向上的長度。如入口浮起工作臺25那樣浮起支撐基板9的工作臺，在形成噴出孔25a等方面需要高的加工技術(shù)，制造成本也高。在本實(shí)施方式中，能夠抑制上述那樣的入口浮起工作臺25在搬運(yùn)方向上的長度。由此，基板處理裝置I的制造變得容易，也能夠抑制制造成本。另外，還能夠抑制向入口浮起工作臺25供給的壓縮空氣的量。第二搬運(yùn)部30是在基板9的上表面上涂敷抗蝕液時向搬運(yùn)方向下游側(cè)搬運(yùn)基板9的部位。如圖1所示，第二搬運(yùn)部30具有涂敷工作臺31和一對裝夾機(jī)構(gòu)32。涂敷工作臺31配置在入口浮起工作臺25的搬運(yùn)方向下游側(cè)。在涂敷工作臺31的上表面上設(shè)置有用于噴出壓縮空氣的多個噴出孔和用于吸引涂敷工作臺31上的空氣的多個吸引孔。在涂敷工作臺31上搬運(yùn)基板9時，從多個噴出孔噴出壓縮空氣而產(chǎn)生的向上方的壓力和向多個吸引孔吸氣而產(chǎn)生的向下方的壓力作用于基板9。由此，基板9被穩(wěn)定地支撐為稍微從涂敷工作臺31的上表面浮起的狀態(tài)。在涂敷工作臺31的寬度方向外側(cè)配置有左右一對裝夾機(jī)構(gòu)32。在各裝夾機(jī)構(gòu)32中，在搬運(yùn)方向上設(shè)置有用于吸附基板9的寬度方向上的端部的下表面的一對吸附部32a。另外，各裝夾機(jī)構(gòu)32通過線性馬達(dá)等驅(qū)動機(jī)構(gòu)能夠在搬運(yùn)方向上沿著形成在工作臺支撐臺72的上表面上的導(dǎo)軌32b移動。如圖1所示，導(dǎo)軌32b在搬運(yùn)方向上從自由輥24的寬度方向外側(cè)的位置延伸到后述的出口浮起工作臺51的寬度方向外側(cè)的位置。一對裝夾機(jī)構(gòu)32能夠一邊吸附保持基板9，一邊將基板9從轉(zhuǎn)換部20搬運(yùn)到搬出部50?？刮g液涂敷機(jī)構(gòu)40是用于向一邊被支撐在涂敷工作臺31上一邊被搬運(yùn)的基板9的上表面涂敷抗蝕液的機(jī)構(gòu)。在圖1中，為了明確示出涂敷工作臺31和裝夾機(jī)構(gòu)32，用虛線表示抗蝕液涂敷機(jī)構(gòu)40?？刮g液涂敷機(jī)構(gòu)40具有在寬度方向上架在涂敷工作臺31的上方的架橋部41和安裝在架橋部41上的狹縫噴嘴42。狹縫噴嘴42經(jīng)由沿著寬度方向延伸的狹縫狀的噴出口，向基板9的上表面噴出從未圖示的抗蝕液供給源供給的抗蝕液。搬出部50是用于將涂敷了抗蝕液的基板9從基板處理裝置I中搬出的部位。如圖1所示，搬出部50具有出口浮起工作臺51和多個搬出用銷52。出口浮起工作臺51配置在涂敷工作臺31的搬運(yùn)方向下游側(cè)。在出口浮起工作臺51的上表面上設(shè)置有用于噴出壓縮空氣的多個噴出孔。在將基板9支撐在出口浮起工作臺51上時，從未圖示的供給源供給的壓縮空氣從多個噴出孔朝向上方噴出。通過從多個噴出孔噴出的壓縮空氣支撐基板9，使其成為從出口浮起工作臺51的上表面浮起的狀態(tài)。即，出口浮起工作臺51以不與基板9的下表面接觸的方式支撐基板9。多個搬出用銷52在出口浮起工作臺51的表面內(nèi)，沿著搬運(yùn)方向和寬度方向等間隔地排列。多個搬出用銷52通過它們的上端部接觸支撐基板9。另外，通過未圖示的驅(qū)動機(jī)構(gòu)能夠使多個搬出用銷52 —體地升降移動。因此，多個搬出用銷52能夠一邊支撐基板
9,一邊使基板9上下移動。在從涂敷工作臺31向出口浮起工作臺51搬運(yùn)基板9時，為了避免多個搬出用銷52與基板9接觸，多個搬出用銷52處于退避到出口浮起工作臺51的上表面的下方的狀態(tài)。另外，在從出口浮起工作臺51搬出基板9時，多個搬出用銷52突出到出口浮起工作臺51的上表面的上方。由此，向出口浮起工作臺51的上方舉起基板9。支撐在多個搬出用銷52上的基板9被配置在出口浮起工作臺51的搬運(yùn)方向下游側(cè)的移載機(jī)械手3搬運(yùn)至后面工序的裝置4。控制部60由具有CPU和存儲器的計(jì)算機(jī)構(gòu)成。圖6是表示控制部60與基板處理裝置I的各部分間的電連接結(jié)構(gòu)的框圖。如圖6所示，控制部60與旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)12、22和氣缸23b連接。另外，控制部60還與在圖1 圖5中省略了圖示的其他驅(qū)動機(jī)構(gòu)、壓縮空氣的供給機(jī)構(gòu)、排氣機(jī)構(gòu)、傳感器等連接。控制部60按照預(yù)先設(shè)定的程序和數(shù)據(jù)電性控制上述各部分的動作。由此，在基板處理裝置I中對基板9進(jìn)行處理?！?-2.基板處理裝置的動作〉接著，說明基板處理裝置I的動作。圖7是表示基板處理裝置I的動作的流程的流程圖。在基板處理裝置I中處理基板9時，首先，通過第一搬運(yùn)部10搬運(yùn)從前面工序的裝置2搬出的基板9 (步驟SI)?；?被輸送輥11接觸支撐，通過輸送輥11的旋轉(zhuǎn)，向搬運(yùn)方向下游側(cè)搬運(yùn)基板9。此時，升降輥21配置在標(biāo)準(zhǔn)位置，向與輸送輥11的旋轉(zhuǎn)方向相同的方向旋轉(zhuǎn)。因此，通過輸送輥11和升降輥21連續(xù)地將基板9搬運(yùn)到轉(zhuǎn)換部20。另外，此時，4個引導(dǎo)輥26處于上升到基板9的搬運(yùn)路徑上的兩側(cè)部的狀態(tài)。基板9被這些引導(dǎo)輥26引導(dǎo)，從而正確地向搬運(yùn)方向下游側(cè)進(jìn)行搬運(yùn)。當(dāng)基板9到達(dá)轉(zhuǎn)換部20時，升降輥21停止旋轉(zhuǎn)。由此，基板9在跨在升降輥21和入口浮起工作臺25上的狀態(tài)下停止(步驟S2)。圖8是基板9配置為跨在升降輥21和入口浮起工作臺25上時的轉(zhuǎn)換部20附近的側(cè)視圖。基板9的搬運(yùn)方向上游側(cè)的一部分接觸支撐在標(biāo)準(zhǔn)位置的升降輥21上。另一方面，基板9的搬運(yùn)方向下游側(cè)的一部分浮起支撐在入口浮起工作臺25上?；?中的支撐在入口浮起工作臺25上的部分的高度位置低于支撐在升降輥21上的部分的高度位置。接著，多個定位銷27a與基板9的搬運(yùn)方向上游側(cè)、搬運(yùn)方向下游側(cè)和寬度方向兩側(cè)的各端緣部抵接。由此，決定基板9在水平方向上的位置和姿勢(步驟S3)。當(dāng)完成基板9的定位時，4個引導(dǎo)輥26下降并且退避至規(guī)定的退避位置。另外，多個定位銷27a中的與基板9的寬度方向上的兩端緣部抵接的定位銷27a也離開基板9退避至規(guī)定的退避位置。在定位銷27a退避后，基板9的搬運(yùn)方向上游側(cè)的一部分還被升降輥21接觸支撐。因此，通過基板9與升降輥21間的靜摩擦，防止基板9在寬度方向上的錯位。然后，使多個升降銷28上升(步驟S4)。升降銷28與基板9的下表面抵接，舉起基板9的寬度方向上的兩端部。圖9是使多個升降銷28上升時的轉(zhuǎn)換部20附近的側(cè)視圖。如圖9那樣，多個升降銷28的上端部上升到標(biāo)準(zhǔn)位置的升降輥21的上端部的上方位置。此外，本實(shí)施方式的基板9大型并且具有撓性。因此，在步驟S4中，僅基板9中的寬度方向上的兩端部附近被舉起?；?的寬度方向上的中央部分維持被升降輥21和入口浮起工作臺25支撐的狀態(tài)。因而，通過基板9與升降輥21間的靜摩擦，防止基板9在寬度方向上的錯位。另外，在本實(shí)施方式中，在使與基板9的寬度方向上的兩端緣部抵接的定位銷27a退避后，使多個升降銷28上升。因此，在使升降銷28上升時，基板9的寬度方向上的端緣部與定位銷27a不會滑動接觸。由此，能夠防止因基板9與定位銷27a的滑動接觸而產(chǎn)生顆粒。然后，使升降輥21從標(biāo)準(zhǔn)位置向下降位置下降(步驟S5)。圖10是使升降輥21下降后的轉(zhuǎn)換部20附近的側(cè)視圖。升降輥21的上端部的高度位置位于自由輥24的上端部的高度位置的下方。此時，基板9的寬度方向上的兩端部附近還被升降銷28支撐不變，但在寬度方向上的中央附近，多個自由輥24代替多個升降輥21來支撐基板9的一部分。接著，如圖11那樣，使裝夾機(jī)構(gòu)32向搬運(yùn)方向上游側(cè)移動。由此，使裝夾機(jī)構(gòu)32配置在基板9的寬度方向上的兩端部的下側(cè)。然后，在使吸附部32a開始進(jìn)行吸引動作后，如圖12那樣，使多個升降銷28下降。由此，使裝夾機(jī)構(gòu)32的吸附部32a吸附基板9的寬度方向上的兩端部(步驟S6)。基板9處于如下的狀態(tài)，S卩，搬運(yùn)方向上游側(cè)的一部分接觸支撐在自由輥24上，并且搬運(yùn)方向下游側(cè)的一部分浮起支撐在入口浮起工作臺25上，而且，寬度方向上的兩端部吸附保持在裝夾機(jī)構(gòu)32上。在轉(zhuǎn)換部20中進(jìn)行步驟S3 S6的動作期間，定位銷27a與基板9的搬運(yùn)方向上游側(cè)和搬運(yùn)方向下游側(cè)的端緣部抵接。因此，防止基板9在搬運(yùn)方向上的錯位。另外，在步驟S3 S6期間，基板9持續(xù)地被升降輥21或自由輥24接觸支撐。因此，能夠通過升降輥21或自由輥24與基板9間的靜摩擦，防止基板9在寬度方向上的錯位。另外，在本實(shí)施方式中，利用多個升降銷28暫時舉起基板9的寬度方向上的兩端部附近，通過使該升降銷28下降，使基板9的下表面接近裝夾機(jī)構(gòu)32。因此，不需要使裝夾機(jī)構(gòu)32的吸附部32a上下移動。因而，能夠簡化裝夾機(jī)構(gòu)32的結(jié)構(gòu)。當(dāng)基板9被一對裝夾機(jī)構(gòu)32保持時，與基板9的搬運(yùn)方向上游側(cè)和搬運(yùn)方向下游側(cè)的端緣部抵接的定位銷27a向規(guī)定的退避位置退避。然后，裝夾機(jī)構(gòu)32沿著導(dǎo)軌32b向搬運(yùn)方向下游側(cè)移動，來向搬運(yùn)方向下游側(cè)搬運(yùn)基板9?；? 一邊浮起支撐在上述的入口浮起工作臺25、涂敷工作臺31和出口浮起工作臺51各工作臺上，一邊從入口浮起工作臺25經(jīng)由涂敷工作臺31搬運(yùn)到出口浮起工作臺51。狹縫噴嘴42朝向在涂敷工作臺31上搬運(yùn)的基板9的上表面噴出抗蝕液。由此，在基板9的上表面上涂敷抗蝕液(步驟S7)。此外，在本實(shí)施方式中，在基板9的搬運(yùn)方向下游側(cè)的端部臨近狹縫噴嘴42的下方位置之前，基板9的搬運(yùn)方向上游側(cè)的端部支撐在入口浮起工作臺25上。S卩，在向基板9的上表面涂敷抗蝕液的時刻，基板9整體浮起支撐在入口浮起工作臺25和涂敷工作臺31上。因此，抑制自由輥24的機(jī)械振動傳播至涂敷抗蝕液中的基板9上。由此，能夠抑制基板9的上表面的抗蝕液的涂敷不良。涂敷了抗蝕液的基板9被搬運(yùn)到出口浮起工作臺51上后停止。然后，多個搬出用銷52從出口浮起工作臺51的上表面突出。由此，向出口浮起工作臺51的上方舉起基板9。然后，移載機(jī)械手3接受被多個搬出用銷52支撐著的基板9，從移載機(jī)械手3向后面工序的裝置4移載基板9。如上所述，在本實(shí)施方式的基板處理裝置I中，在轉(zhuǎn)換部20中，基板9的搬運(yùn)方向上游側(cè)的一部分從多個升降輥21移載至多個自由輥24。因此，能夠抑制入口浮起工作臺25在搬運(yùn)方向上的長度，并且能夠轉(zhuǎn)換基板9的支撐方式。另外，自由輥24能夠以簡單的結(jié)構(gòu)可靠地支撐基板9，并且配置在狹小的區(qū)域內(nèi)。因而，易于將多個自由輥24配置在不與多個升降輥21接觸的位置。〈1-3.變形例〉以上，說明了本發(fā)明的第一實(shí)施方式，但是本發(fā)明不限于上述的實(shí)施方式。在上述實(shí)施方式中，雖然裝夾機(jī)構(gòu)32的吸附部32a固定在恒定的高度位置，但是可以使吸附部32a上下升降移動。如果能夠使吸附部32a升降移動，則能夠使吸附部32a接近基板9的下表面。因而，能夠省略通過升降銷28對基板9的支撐的結(jié)構(gòu)。另外，在上述實(shí)施方式中，裝夾機(jī)構(gòu)32配置在基板9的下表面一側(cè)，但是裝夾機(jī)構(gòu)可以配置在基板9的上表面一側(cè)。另外，裝夾機(jī)構(gòu)32可以從上下夾著保持基板9。另外，上述實(shí)施方式的裝夾機(jī)構(gòu)32在搬運(yùn)方向上具有兩個吸附部32a，但是吸附部32a的數(shù)量既可以是一個，也可以是3個以上。另外，在上述實(shí)施方式中，示出了輸送輥11、升降輥21和自由輥24的一個例子，這些輥的大小、數(shù)量和排列可以按照成為處理對象的基板的種類和周圍結(jié)構(gòu)的關(guān)系進(jìn)行適當(dāng)變更。另外，上述實(shí)施方式的第一搬運(yùn)部10通過多個輸送輥11搬運(yùn)基板9，但是本發(fā)明的第一搬運(yùn)部可以通過其他機(jī)構(gòu)搬運(yùn)基板9。例如，可以一邊將基板9支撐在多個自由輥上，一邊保持基板9的寬度方向上的兩端部，向搬運(yùn)方向下游側(cè)搬運(yùn)基板9。另外，可以將基板9裝載在某些的移動構(gòu)件上，將基板9與該移動構(gòu)件一起搬運(yùn)至搬運(yùn)方向下游側(cè)。另外，本發(fā)明的“轉(zhuǎn)換部”只要在空間上或時間上的意思是在第一搬運(yùn)部和第二搬運(yùn)部之間對基板的支撐方式進(jìn)行轉(zhuǎn)換的部分即可。例如，只要在通過第一搬運(yùn)部進(jìn)行搬運(yùn)和通過第二搬運(yùn)部進(jìn)行搬運(yùn)之間的時間內(nèi)，轉(zhuǎn)換基板的支撐方式，第一搬運(yùn)部、轉(zhuǎn)換部和第二搬運(yùn)部在空間上的配置可以具有相互重復(fù)的部分。另外，轉(zhuǎn)換部在空間上可以與第一搬運(yùn)部或第二搬運(yùn)部分離。另外，上述的基板處理裝置I是向基板9的上表面涂敷抗蝕液的裝置，但是本發(fā)明的基板處理裝置也可以是向基板涂敷除了抗蝕液以外的處理液的裝置。另外，本發(fā)明的基板處理裝置還可以是進(jìn)行除了涂敷處理以外的處理(例如，熱處理或曝光處理)的裝置。另外，上述基板處理裝置I以液晶顯示裝置用的玻璃基板9作為處理對象，但是本發(fā)明的基板處理裝可以以半導(dǎo)體晶片、薄膜液晶用柔性基板、光掩模用基板、濾色器用基板、太陽能電池用基板、電子紙用基板等其他基板作為處理對象?！?.第二實(shí)施方式〉
<2-1.基板處理裝置的結(jié)構(gòu)>圖13是本發(fā)明的第二實(shí)施方式的基板處理裝置101的俯視圖。該基板處理裝置101用于在刻蝕液晶顯示裝置用的矩形玻璃基板109 (下面，僅稱“基板109”)的光刻工序中在基板109的上表面涂敷抗蝕液(光致抗蝕液)?；逄幚硌b置101具有一邊將基板109支撐為水平姿勢一邊搬運(yùn)基板109的機(jī)構(gòu)。下面，將搬運(yùn)基板109的方向稱為“搬運(yùn)方向”，將垂直于搬運(yùn)方向的水平方向稱為“寬度方向”。在本申請的各圖中用箭頭表示搬運(yùn)方向和寬度方向。如圖13所示，基板處理裝置101具有第一搬運(yùn)部110、移載部120、第二搬運(yùn)部130、抗蝕液涂敷機(jī)構(gòu)140、搬出部150和控制部160。圖14是第一搬運(yùn)部110和移載部120附近的俯視圖。圖15是第一搬運(yùn)部110和移載部120附近的側(cè)視圖。下面，參考圖13、圖14和圖15。第一搬運(yùn)部110是將從搬運(yùn)方向上游側(cè)的裝置102搬出的基板109沿著搬運(yùn)路徑搬運(yùn)到移載部120的部位。第一搬運(yùn)部110具有以沿著寬度方向延伸的旋轉(zhuǎn)軸Illa為中心進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的多個輸送輥111。在本實(shí)施方式中，在沿長度方向等間隔排列的多個旋轉(zhuǎn)軸Illa上，分別以寬度方向上等間隔的方式安裝有4個輸送輥111。多個輸送輥111配置在單一的固定的高度位置。在輸送棍111的旋轉(zhuǎn)軸Illa上連接著圖14中示意地表示的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)112。旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)112例如是成為驅(qū)動源的馬達(dá)和傳遞驅(qū)動力的同步帶進(jìn)行組合而成的機(jī)構(gòu)。若使旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)112動作,貝U多個輸送棍111主動地向同一方向旋轉(zhuǎn)。由此，向搬運(yùn)方向下游側(cè)搬運(yùn)接觸支撐在輸送輥111上的基板109。移載部120是用于從第一搬運(yùn)部110向第二搬運(yùn)部130移載基板109的部位。如圖13 圖15所示，移載部120具有多個升降輥121、多個自由輥124、入口浮起工作臺125、4個引導(dǎo)輥126、定位機(jī)構(gòu)127和頂起機(jī)構(gòu)128。多個升降輥121是能夠以沿著寬度方向延伸的旋轉(zhuǎn)軸121a為中心進(jìn)行旋轉(zhuǎn)并且能夠上下升降移動的輥。在本實(shí)施方式中，在沿長度方向排列的兩個旋轉(zhuǎn)軸121a上，分別以在寬度方向上等間隔的方式安裝有4個升降輥121。在旋轉(zhuǎn)軸121a上連接著圖14中示意地表示的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)122。旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)122例如是將成為驅(qū)動源的馬達(dá)和傳遞驅(qū)動力的同步帶進(jìn)行組合而成的機(jī)構(gòu)。若使旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)122動作，則多個升降輥121主動地向同一方向旋轉(zhuǎn)。由此，向搬運(yùn)方向下游側(cè)搬運(yùn)接觸支撐在升降輥121上的基板109。圖21、圖23、圖25、圖27和圖29是從圖13中的B-B位置觀察移載部120附近的結(jié)構(gòu)的圖。如這些圖所示，在升降輥121的旋轉(zhuǎn)軸121a上連接著升降驅(qū)動機(jī)構(gòu)123。升降驅(qū)動機(jī)構(gòu)123具有:臂123a，其經(jīng)由軸承支撐旋轉(zhuǎn)軸121a ;氣缸123b，其使臂123a升降移動。若使氣缸123b動作，則多個升降輥121在圖21和圖23所示的標(biāo)準(zhǔn)位置與圖25、圖27和圖29所示的下降位置之間升降移動。此外，升降驅(qū)動機(jī)構(gòu)123也可以利用除了氣缸以外的驅(qū)動機(jī)構(gòu)(例如，馬達(dá))。配置在標(biāo)準(zhǔn)位置的升降輥121的上端部(與基板109的下表面接觸的部位)的高度位置與輸送輥111的上端部的高度位置大致一致。另外，配置在下降位置的升降輥121的上端部的高度位置位于自由輥124的上端部的高度位置的下方。
多個自由輥124是用于在升降輥121已下降時代替升降輥121對基板109的搬運(yùn)方向上游側(cè)的一部分進(jìn)行支撐的輥。多個自由輥124相對于設(shè)置在每個輥上的固有的旋轉(zhuǎn)軸自由旋轉(zhuǎn)。在基板109的一部分支撐在自由輥124上的狀態(tài)下，若基板109向下游側(cè)移動，則多個自由輥124與基板109的移動相對應(yīng)而從動地旋轉(zhuǎn)。多個自由輥124配置在單一的固定的高度位置。自由輥124的上端部的高度位置，處于配置在標(biāo)準(zhǔn)位置的升降輥121的上端部的高度位置的下方并且處于配置在下降位置的升降輥121的上端部的高度位置的上方。另外，自由輥124的上端部的高度位置處于與支撐在入口浮起工作臺125上的基板109的下表面和后述的裝夾機(jī)構(gòu)132的上端部大致
等高的高度位置。另外，如圖13和圖14所示，各自由輥124配置在俯視下與多個升降輥121和升降輥121的旋轉(zhuǎn)軸121a不重合的位置。因此，多個升降輥121和升降輥121的旋轉(zhuǎn)軸121a能夠在不與多個自由輥124接觸的情況下升降移動。如圖14所示，多個自由輥124包括多個下游側(cè)自由輥124a和多個上游側(cè)自由輥124b。多個下游側(cè)自由輥124a在配置于搬運(yùn)方向的最下游側(cè)的升降輥121與入口浮起工作臺125之間，沿寬度方向排列。即，多個下游側(cè)自由輥124a沿著入口浮起工作臺125的搬運(yùn)方向上游側(cè)的端緣部排列。另一方面，多個上游側(cè)自由輥124b排列在下游側(cè)自由輥124a的搬運(yùn)方向上游側(cè)的位置。相鄰的下游側(cè)自由輥124a彼此在寬度方向上的間隔比相鄰的上游側(cè)自由輥124b彼此在寬度方向上的間隔窄。因此，基板109在下游側(cè)自由輥124a之間向下方的彎曲小于基板109在上游側(cè)自由輥124b之間向下方的彎曲。由此，抑制入口浮起工作臺125的搬運(yùn)方向上游側(cè)的端緣部與基板109的接觸。另外，通過以小于下游側(cè)自由輥124a的密度配置上游側(cè)自由輥124b，整體減少自由輥124的數(shù)量。另外，在本實(shí)施方式中，使用直徑小于升降輥121的直徑的自由輥124。因此，確保升降輥121升降移動的空間，并且易于將多個自由輥124配置在不與升降輥121接觸的位置。自由輥124可以與驅(qū)動機(jī)構(gòu)完全斷開，但是只要能夠解除來自驅(qū)動機(jī)構(gòu)的動力傳遞，則可以與某些的驅(qū)動機(jī)構(gòu)連接。但是，在自由輥124上不連接驅(qū)動機(jī)構(gòu)的方式能夠更容易地確保升降輥121進(jìn)行升降的空間，由此優(yōu)選此方式。如圖15所示，多個輸送輥111、多個升降輥121和多個自由輥124被共用的輥支撐臺171支撐。另一方面，入口浮起工作臺125、后述的涂敷工作臺131和后述的出口浮起工作臺151被與輥支撐臺171不同的另外設(shè)置的工作臺支撐臺172支撐。也就是說，在本實(shí)施方式中，通過輥接觸支撐基板109的部位和使基板109浮起支撐在工作臺上的部位被不同的支撐臺支撐，并且相互不連接。由此，抑制來自輸送輥111、升降輥121和自由輥124的機(jī)械振動傳播至入口浮起工作臺125、涂敷工作臺131和出口浮起工作臺151。入口浮起工作臺125配置在多個自由輥124的搬運(yùn)方向下游側(cè)。入口浮起工作臺125與升降輥121、自由輥124或后述的涂敷工作臺131 —起支撐基板109。在入口浮起工作臺125的上表面設(shè)置有用于噴出壓縮空氣的多個噴出孔125a。在搬運(yùn)基板109時，從未圖示的供給源供給的壓縮空氣從多個噴出孔125a朝向上方噴出。通過從多個噴出孔125a噴出的壓縮空氣支撐基板109，使其成為從入口浮起工作臺125的上表面浮起的狀態(tài)。即，入口浮起工作臺125以不與基板109的下表面接觸的方式支撐基板109。4個引導(dǎo)輥126是用于在移載部120中在搬運(yùn)方向上對基板109進(jìn)行引導(dǎo)的機(jī)構(gòu)。4個引導(dǎo)輥126配置在基板109的搬運(yùn)路徑上的兩側(cè)部。各引導(dǎo)輥126能夠以上下延伸的旋轉(zhuǎn)軸為中心進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。若基板109脫離搬運(yùn)路徑，則引導(dǎo)輥126 —邊與基板109的端緣部接觸，一邊進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。由此，修正基板109的朝向，從而正確地在搬運(yùn)方向上搬運(yùn)基板109。通過未圖示的驅(qū)動機(jī)構(gòu)能夠使4個引導(dǎo)輥126升降移動。在移載部120中搬運(yùn)基板109時，4個引導(dǎo)輥126處于上升到基板109的搬運(yùn)路徑上的兩側(cè)部的狀態(tài)。另一方面，在后述的裝夾機(jī)構(gòu)132進(jìn)入基板109的下方時，4個引導(dǎo)輥126處于下降到不與裝夾機(jī)構(gòu)132接觸的高度位置的狀態(tài)。定位機(jī)構(gòu)127是用于在移載部120中對基板109進(jìn)行定位的機(jī)構(gòu)。定位機(jī)構(gòu)127具有上下延伸的多個定位銷127a。定位銷127a是本發(fā)明的“定位構(gòu)件”的一個例子。多個定位銷127a配置在包圍移載部120中所配置的基板109的位置。各定位銷127a能夠通過未圖示的驅(qū)動機(jī)構(gòu)在與基板109的端緣部抵接的位置和離開基板109的端緣部的位置之間移動。當(dāng)基板109配置成跨在標(biāo)準(zhǔn)位置上的升降輥121和入口浮起工作臺125上時，多個定位銷127a與基板109的端緣部抵接。由此，決定了基板109在水平方向上的位置和姿勢。另一方面，在搬運(yùn)基板109時和裝夾機(jī)構(gòu)132進(jìn)入基板109的下方時，多個定位銷127a退避到不與基板109和裝夾機(jī)構(gòu)132接觸的位置。頂起機(jī)構(gòu)128是用于在移載部120中移載基板109時暫時頂起基板109的寬度方向上的兩端部的機(jī)構(gòu)。頂起機(jī)構(gòu)128具有上下延伸的多個升降銷128a。多個升降銷128a在基板109被定位機(jī)構(gòu)127定位了的狀態(tài)下，在從基板109的寬度方向上的兩端部稍靠向?qū)挾确较騼?nèi)側(cè)的位置，沿長度方向排列。另外，通過未圖示的驅(qū)動機(jī)構(gòu)，能夠使多個升降銷128a —體地升降移動。當(dāng)使多個升降銷128a上升時，升降銷128a與基板109的下表面抵接，基板109的寬度方向上的兩端部附近被升降銷128a頂起。圖23、圖25和圖27示出了基板109的兩端部附近被頂起機(jī)構(gòu)128頂起了的狀態(tài)。如這些圖所示，在使多個升降銷128a上升了時，基板109彎曲，由此僅基板109的寬度方向上的兩端部附近被頂起?；?09的寬度方向上的中央部分維持為被升降輥121或自由輥124接觸支撐為水平姿勢的狀態(tài)。另外，如圖13和圖14所示，多個升降銷128a配置在入口浮起工作臺125的寬度方向上的兩端部的寬度方向內(nèi)側(cè)。因此，在使多個升降銷128a上升了時，后述的裝夾機(jī)構(gòu)132能夠在不與多個升降銷128a接觸的情況下進(jìn)入入口浮起工作臺125的寬度方向外側(cè)的位置。另外，只要基板109中的至少被裝夾機(jī)構(gòu)132吸附的部分向入口浮起工作臺125的寬度方向外側(cè)露出即可。因此，能夠抑制基板109從入口浮起工作臺125露出的露出量。如圖14所示，移載部120在搬運(yùn)方向上的長度LI設(shè)定為大致能夠配置一個基板109的長度(即，稍長于基板109在搬運(yùn)方向上的長度的程度)。移載部120中的配置有升降輥121和自由輥124的區(qū)域在搬運(yùn)方向上的長度L2和入口浮起工作臺125在搬運(yùn)方向上的長度L3都比基板109在搬運(yùn)方向上的長度短。由此，能夠抑制移載部120在搬運(yùn)方向上的長度。
如入口浮起工作臺125那樣浮起支撐基板109的工作臺，在形成噴出孔125a等方面需要高的加工技術(shù)，制造成本也高。在本實(shí)施方式中，抑制上述那樣的入口浮起工作臺125在搬運(yùn)方向上的長度。由此，基板處理裝置101的制造變得容易，也能夠抑制制造成本。另外，還能夠抑制向入口浮起工作臺125供給的壓縮空氣的量。第二搬運(yùn)部130是在基板109的上表面上涂敷抗蝕液時向搬運(yùn)方向下游側(cè)搬運(yùn)基板109的部位。如圖13所示，第二搬運(yùn)部130具有涂敷工作臺131和一對裝夾機(jī)構(gòu)132。涂敷工作臺131配置在入口浮起工作臺125的搬運(yùn)方向下游側(cè)。在涂敷工作臺131的上表面上設(shè)置有用于噴出壓縮空氣的多個噴出孔和用于吸引涂敷工作臺131上的空氣的多個吸引孔。在涂敷工作臺131上搬運(yùn)基板109時，從多個噴出孔噴出壓縮空氣而產(chǎn)生的向上方的壓力和向多個吸引孔吸氣而產(chǎn)生的向下方的壓力作用于基板109。由此，基板109被穩(wěn)定地支撐為稍微從涂敷工作臺131的上表面浮起的狀態(tài)。在涂敷工作臺131的寬度方向外側(cè)配置有左右一對裝夾機(jī)構(gòu)132。在各裝夾機(jī)構(gòu)132中，在搬運(yùn)方向上設(shè)置有用于從下表面?zhèn)任奖３只?09的寬度方向上的端部的一對吸附保持部132a。另外，各裝夾機(jī)構(gòu)132通過線性馬達(dá)等驅(qū)動機(jī)構(gòu)能夠在搬運(yùn)方向上沿著形成在工作臺支撐臺172的上表面上的導(dǎo)軌132b移動。如圖13所示，導(dǎo)軌132b在搬運(yùn)方向上從自由輥124的寬度方向外側(cè)的位置延伸到后述的出口浮起工作臺151的寬度方向外側(cè)的位置。一對裝夾機(jī)構(gòu)132能夠一邊吸附保持基板109，一邊將基板109從移載部120搬運(yùn)到搬出部150。圖16和圖17是吸附保持部132a的上表面附近的局部的剖視放大圖。如圖16和圖工7所示，吸附保持部132a具有與基板109的下表面接觸的保持面321?；?09中的被吸附保持部132a保持的部分的下表面的高度位置由保持面321規(guī)定。另外，在吸附保持部132a上形成有從保持面321向下方凹陷的槽322和在槽322的底部開口的吸引孔323。在槽322的內(nèi)部配置有彈性吸附體324，該彈性吸附體324能夠在上下方向上伸縮，并且吸附基板109的下表面。彈性吸附體324形成為具有折皺狀的側(cè)面的大致圓筒形。彈性吸附體324下側(cè)的開口部與吸引孔323連通。另外，彈性吸附體324上側(cè)的開口部朝向上方開放。吸引孔323與未圖示的吸氣泵連接。若使吸氣泵進(jìn)行動作，則在吸引孔323和彈性吸附體324的內(nèi)部形成負(fù)壓。由此，吸附保持部132a上方的空氣如圖16中的箭頭那樣經(jīng)由彈性吸附體324被吸引至吸引孔323。如圖16所示，在吸附于基板109上之前，彈性吸附體324的上端部從保持面321向上方突出。若一邊進(jìn)行上述的吸引，一邊使基板109接近吸附保持部132a的上表面，則彈性吸附體324吸附在基板109的下表面上并且進(jìn)行收縮。然后，在吸附時，如圖17所示，彈性吸附體324的上端部位于與保持面321相等的高度。由此，基板109的下表面被保持面321接觸保持。這樣，在本實(shí)施方式中，通過使彈性吸附體324吸附在基板109的下表面上并且進(jìn)行收縮，將基板109的下表面拉近保持面321。因此，例如，即使因升降銷128a的頂起使基板109的端緣部附近稍微傾斜，也能夠以良好的可靠性使基板109的下表面保持在吸附保持部132a上。優(yōu)選在裝夾機(jī)構(gòu)132的一個吸附保持都132a上具有多個彈性吸附體324。如果那樣，則能夠抑制因彈性吸附體324的吸附本身所產(chǎn)生的基板109的彎曲。因此，能夠以更好的可靠性使基板109保持在吸附保持部132a上。另外，如圖13所示，在吸附保持部132a上設(shè)置有對基板109的錯位進(jìn)行檢測的錯位傳感器325。錯位傳感器325在基板109偏離期望的位置地保持在吸附保持部132a上時對露出保持面321的基板109進(jìn)行檢測?？刂撇?60在從錯位傳感器325接收到檢測信號時，使裝夾機(jī)構(gòu)132停止移動等，來防止基板109的涂敷不良?？刮g液涂敷機(jī)構(gòu)140是用于向一邊被支撐在涂敷工作臺131上一邊被搬運(yùn)的基板109的上表面涂敷抗蝕液的機(jī)構(gòu)。在圖13中，為了明確示出涂敷工作臺131和裝夾機(jī)構(gòu)132，用虛線表示抗蝕液涂敷機(jī)構(gòu)140?？刮g液涂敷機(jī)構(gòu)140具有在寬度方向上架在涂敷工作臺131的上方的架橋部141和安裝在架橋部141上的狹縫噴嘴142。狹縫噴嘴142經(jīng)由沿著寬度方向延伸的狹縫狀的噴出口，向基板109的上表面噴出從未圖示的抗蝕液供給源供給的抗蝕液。搬出部150是用于將涂敷了抗蝕液的基板109從基板處理裝置101中搬出的部位。如圖13所示，搬出部150具有出口浮起工作臺151和多個搬出用銷152。出口浮起工作臺151配置在涂敷工作臺131的搬運(yùn)方向下游側(cè)。在出口浮起工作臺151的上表面上設(shè)置有用于噴出壓縮空氣的多個噴出孔。在將基板109支撐在出口浮起工作臺151上時，從未圖示的供給源供給的壓縮空氣從多個噴出孔朝向上方噴出。通過從多個噴出孔噴出的壓縮空氣支撐基板109，使其成為從出口浮起工作臺151上表面浮起的狀態(tài)。即，出口浮起工作臺151以不與基板109的下表面接觸的方式支撐基板109。多個搬出用銷152在出口浮起工作臺151的表面內(nèi)，沿著搬運(yùn)方向和寬度方向等間隔地排列。多個搬出用銷152通過它們的上端部接觸支撐基板109。另外，通過未圖示的驅(qū)動機(jī)構(gòu)能夠使多個搬出用銷152 —體地升降移動。因此，多個搬出用銷152能夠一邊將基板109支撐為水平姿勢，一邊向出口浮起工作臺151的上方舉起基板109。在從涂敷工作臺131向出口浮起工作臺151搬運(yùn)基板109時，為了避免多個搬出用銷152與基板109接觸，多個搬出用銷152處于退避到出口浮起工作臺151的上表面的下方的狀態(tài)。另外，在從出口浮起工作臺151搬出基板109時，多個搬出用銷152突出到出口浮起工作臺151的上表面的上方。由此，向出口浮起工作臺151的上方舉起基板109。支撐在多個搬出用銷152上的基板109被配置在出口浮起工作臺151的搬運(yùn)方向下游側(cè)的移載機(jī)械手103搬運(yùn)至后面工序的裝置104?？刂撇?60由具有CPU和存儲器的計(jì)算機(jī)構(gòu)成。圖18是表示控制部160與基板處理裝置101的各部分間的電連接結(jié)構(gòu)的框圖。如圖18所示，控制部160與第一搬運(yùn)部110、移載部120、第二搬運(yùn)部130、抗蝕液涂敷機(jī)構(gòu)140和搬出部150連接。更具體地說，控制部160與設(shè)置在上述各部上的各種驅(qū)動機(jī)構(gòu)、傳感器、壓縮空氣的供給機(jī)構(gòu)、排氣機(jī)構(gòu)等連接。例如，控制部160與用于使定位機(jī)構(gòu)127的多個定位銷127a移動的驅(qū)動機(jī)構(gòu)、用于使頂起機(jī)構(gòu)128的多個升降銷128a升降移動的驅(qū)動機(jī)構(gòu)、用于使裝夾機(jī)構(gòu)132移動的線性馬達(dá)等連接?？刂撇?60按照預(yù)先設(shè)定的程序和數(shù)據(jù)電性控制上述各部分的動作。由此，在基板處理裝置101中對基板109進(jìn)行處理?！?-2.基板處理裝置的動作〉接著，說明基板處理裝置101的動作。圖19是表示基板處理裝置101的動作的流程的流程圖。圖20、圖22、圖24、圖26和圖28是步驟S102 S108中的移載部120附近的側(cè)視圖。另外，如上所述，圖21、圖23、圖25、圖27和圖29是從圖13中的B-B位置觀察移載部120附近的結(jié)構(gòu)的圖。圖21、圖23、圖25、圖27和圖29分別表示與圖20、圖22、圖24、圖26和圖28同一時刻的狀態(tài)。在基板處理裝置101處理基板109時，首先，通過第一搬運(yùn)部110搬運(yùn)從前面工序的裝置102搬出的基板109 (步驟S101)?；?09接觸支撐在輸送輥111上，通過輸送輥111的旋轉(zhuǎn)，向搬運(yùn)方向下游側(cè)搬運(yùn)基板109。此時，升降輥121配置在標(biāo)準(zhǔn)位置，向與輸送輥111的旋轉(zhuǎn)方向相同的方向旋轉(zhuǎn)。因此，通過輸送輥111和升降輥121連續(xù)地將基板109搬運(yùn)到移載部120。另外，此時，4個引導(dǎo)輥126處于上升到基板109的搬運(yùn)路徑上的兩側(cè)部的狀態(tài)?；?09被這些引導(dǎo)輥126引導(dǎo)，從而正確地向搬運(yùn)方向下游側(cè)進(jìn)行搬運(yùn)。當(dāng)基板109到達(dá)移載部120時，升降輥121停止旋轉(zhuǎn)。由此，基板109在跨在升降輥121和入口浮起工作臺125上的狀態(tài)下停止(步驟S102，圖20和圖21中的狀態(tài))。如圖20所示，基板109的搬運(yùn)方向上游側(cè)的一部分接觸支撐在標(biāo)準(zhǔn)位置的升降輥121上。另一方面，基板109的搬運(yùn)方向下游側(cè)的一部分浮起支撐在入口浮起工作臺125上。基板109中的支撐在入口浮起工作臺125上的部分的高度位置低于支撐在升降輥121上的部分的高度位置。接著，多個定位銷127a與基板109的搬運(yùn)方向上游側(cè)、搬運(yùn)方向下游側(cè)和寬度方向兩側(cè)的各端緣部抵接。由此，決定基板109在水平方向上的位置和姿勢(步驟S103)。這樣，通過對基板109進(jìn)行定位，在后述的步驟S108中能夠使吸附保持部132a保持基板109下表面的更正確的位置。當(dāng)完成基板109的定位時，4個引導(dǎo)輥126下降并且退避到規(guī)定的退避位置。另夕卜，多個定位銷127a中的與基板109的寬度方向上的兩端緣部抵接的定位銷127a也離開基板109退避到規(guī)定的退避位置(步驟S104)。在定位銷127a退避后，基板109的搬運(yùn)方向上游側(cè)的一部分還被升降輥121接觸支撐。因此，通過基板109與升降輥121間的靜摩擦，防止基板109在寬度方向上的錯位然后，使多個升降銷128a上升(步驟S105，圖22和圖23的狀態(tài))。升降銷128a與基板109的下表面抵接，頂起基板109的寬度方向上的兩端部附近。如圖22和圖23所示，多個升降銷128a的上端部上升到標(biāo)準(zhǔn)位置的升降輥121的上端部的上方位置。本實(shí)施方式的基板109大型并且具有撓性。因此，在步驟S105中，僅基板109中的寬度方向上的兩端部附近被局部頂起?；?09的寬度方向上的中央部分維持被升降輥121和入口浮起工作臺125支撐的狀態(tài)。尤其，基板109的寬度方向上的中央部分中的搬運(yùn)方向上游側(cè)的一部分依然被升降輥121接觸支撐。因而，通過基板109與升降輥121間的靜摩擦，防止基板109在寬度方向上的錯位。另外，在本實(shí)施方式中，在使與基板109的寬度方向上的兩端緣部抵接的定位銷127a退避后，使多個升降銷128a上升。因此，在使升降銷128a上升時，基板109的寬度方向上的端緣部與定位銷127a不會滑動接觸。由此，能夠防止因基板109與定位銷127a的滑動接觸而產(chǎn)生顆粒。然后，使升降輥121從標(biāo)準(zhǔn)位置下降至下降位置(步驟S106，圖24和圖25的狀態(tài))。若使升降輥121下降，則升降輥121的上端部的高度位置處于自由輥124的上端部的高度位置的下方。因此，多個自由輥124代替多個升降輥121來支撐基板109的寬度方向上的中央部分中的搬運(yùn)方向上游側(cè)的一部分?；?09的寬度方向上的兩端部附近維持為被多個升降銷128a支撐的狀態(tài)。接著，使一對裝夾機(jī)構(gòu)132向搬運(yùn)方向上游側(cè)移動。由此，使吸附保持部132a進(jìn)入基板109的被頂起的部分的下方(步驟S107，圖26和圖27的狀態(tài))。然后，在開始了吸附保持部132a的吸引動作后，使多個升降銷128a下降。即，解除頂起機(jī)構(gòu)128對基板109的頂起。由此，使基板109的寬度方向上的兩端部接近裝夾機(jī)構(gòu)132的吸附保持部132a。吸附保持部132a的彈性吸附體324吸附在基板109的下表面上，然后，通過負(fù)壓進(jìn)行收縮。由此，基板109的下表面被拉近至吸附保持部132a的保持面321。結(jié)果，基板109的寬度方向上的端部吸附保持在吸附保持部132a上(步驟S108，圖28和圖29的狀態(tài))。基板109處于如下的狀態(tài)，即，搬運(yùn)方向上游側(cè)的一部分接觸支撐在自由輥124上，并且搬運(yùn)方向下游側(cè)的一部分浮起支撐在入口浮起工作臺125上，而且，寬度方向上的兩端部吸附保持在裝夾機(jī)構(gòu)132上。在本實(shí)施方式中，在移載部120中進(jìn)行步驟S103 S108的動作之間，定位銷127a與基板109的搬運(yùn)方向上游側(cè)和搬運(yùn)方向下游側(cè)的端緣部抵接。由此，防止基板109在搬運(yùn)方向上的錯位。此外，如本實(shí)施方式那樣，在將基板109的寬度方向上的兩端部附近頂起的情況下，不易對基板109作用搬運(yùn)方向上的力。因而，即使在頂起時定位銷127a未與基板109的搬運(yùn)方向上游側(cè)和搬運(yùn)方向下游側(cè)的端緣部抵接，也不易產(chǎn)生基板109在搬運(yùn)方向上的錯位。另外，在步驟S103 S108之間，基板109持續(xù)地被升降輥121或自由輥124接觸支撐著。因此，能夠通過升降輥121或自由輥124與基板109間的靜摩擦，防止基板109在寬度方向上的錯位。另外，在本實(shí)施方式中，利用多個升降銷128a暫時將基板109的寬度方向上的兩端部附近頂起，通過使該升降銷128a下降，使基板109的下表面接近裝夾機(jī)構(gòu)132的吸附保持部132a。由此，使吸附保持部132a的高度位置固定，并且使吸附保持部132a保持基板109的下表面。因此，除去用于使吸附保持部132a升降移動的機(jī)構(gòu)，能夠使裝夾機(jī)構(gòu)132形成為簡單的結(jié)構(gòu)。當(dāng)基板109被一對裝夾機(jī)構(gòu)132保持時，與基板109的搬運(yùn)方向上游側(cè)和搬運(yùn)方向下游側(cè)的端緣部抵接的定位銷127a退避至規(guī)定的退避位置。然后，裝夾機(jī)構(gòu)132沿著導(dǎo)軌132b向搬運(yùn)方向下游側(cè)移動，由此向搬運(yùn)方向下游側(cè)搬運(yùn)基板109?；?09 —邊浮起支撐在上述的入口浮起工作臺125、涂敷工作臺131和出口浮起工作臺151各工作臺上，一邊從入口浮起工作臺125經(jīng)由涂敷工作臺131搬運(yùn)至出口浮起工作臺151。狹縫噴嘴142朝向在涂敷工作臺131上搬運(yùn)的基板109的上表面噴出抗蝕液。由此，在基板109的上表面上涂敷抗蝕液(步驟S109)。此外，在本實(shí)施方式中，在基板109的搬運(yùn)方向下游側(cè)的端部臨近狹縫噴嘴142的下方位置之前，基板109的搬運(yùn)方向上游側(cè)的端部支撐在入口浮起工作臺125上。S卩，在向基板109的上表面涂敷抗蝕液的時刻，基板109整體浮起支撐在入口浮起工作臺125和涂敷工作臺131上。因此，抑制自由輥124的機(jī)械振動傳播至涂敷抗蝕液中的基板109。由此，能夠抑制基板109的上表面的抗蝕液的涂敷不良。涂敷了抗蝕液的基板109被搬運(yùn)到出口浮起工作臺151上后停止。然后，裝夾機(jī)構(gòu)132的吸附保持部132a停止吸引動作，從而解除對基板109的吸附。在解除了吸附后，因?yàn)樵诨?09與彈性吸附體324之間靜摩擦進(jìn)行作用，所以能夠抑制基板109的偏離。當(dāng)解除通過裝夾機(jī)構(gòu)132對基板109的吸附時，多個搬出用銷152從出口浮起工作臺151的上表面突出。由此，向出口浮起工作臺151的上方舉起基板109。然后，移載機(jī)械手103接受支撐在多個搬出用銷152上的基板109，從移載機(jī)械手103向后面工序的裝置4移載基板9。<2-3.變形例 >以上，說明了本發(fā)明的第二實(shí)施方式，但是本發(fā)明不限于上述的實(shí)施方式。上述實(shí)施方式的第一搬運(yùn)部110利用多個輸送輥111搬運(yùn)基板109，但是本發(fā)明的“第一搬運(yùn)部”可以利用其他機(jī)構(gòu)搬運(yùn)基板109。例如，可以一邊將基板109支撐在多個自由輥上，一邊利用其他裝置對基板109施加向搬運(yùn)方向下游側(cè)的推力，來向搬運(yùn)方向下游側(cè)搬運(yùn)基板109。另外，可以一邊將基板109保持在某些的移動構(gòu)件上，一邊與該移動構(gòu)件一起向下游側(cè)搬運(yùn)基板109。另外，在上述實(shí)施方式中，在移載部120中，由升降輥121和入口浮起工作臺125或自由輥124和入口浮起工作臺125支撐基板109的寬度方向上的中央部分，但是基板109的寬度方向上的中央部分可以通過其他支撐方式支撐。例如，基板109的寬度方向上的中央部分可以僅由輥支撐。另外，上述實(shí)施方式的頂起機(jī)構(gòu)128將基板109的寬度方向上的兩端部附近頂起，但是本發(fā)明的“頂起機(jī)構(gòu)”可以頂起基板109的其他部位。例如，也可以頂起基板109的搬運(yùn)方向上的兩端部附近，裝夾機(jī)構(gòu)132進(jìn)入該兩端部附近的下方。另外，在上述實(shí)施方式中，列舉了定位銷127a作為本發(fā)明的“定位構(gòu)件”的一個例子。但是，本發(fā)明的“定位構(gòu)件”只要能夠與基板109抵接進(jìn)行定位即可，可以是具有板狀等其他形狀的構(gòu)件。另外，上述基板處理裝置101是向基板109的上表面涂敷抗蝕液的裝置，但是本發(fā)明的基板處理裝置也可以是向基板涂敷除了抗蝕液以外的處理液的裝置。另外，本發(fā)明的基板處理裝置還可以是進(jìn)行除了涂敷處理以外的處理(清洗處理、干燥處理、熱處理、曝光處理、顯影處理等)的裝置。另外，上述基板處理裝置101以液晶顯示裝置用的玻璃基板109作為處理對象，但是本發(fā)明的基板處理裝可以以半導(dǎo)體晶片、薄膜液晶用柔性基板、光掩模用基板、濾色器用基板、太陽能電池用基板、電子紙用基板等其他基板作為處理對象。
權(quán)利要求
1.一種基板處理裝置，具有搬運(yùn)基板的機(jī)構(gòu)，其特征在于，具有: 第一搬運(yùn)部，其從搬運(yùn)方向上游側(cè)將基板搬運(yùn)至規(guī)定位置， 第二搬運(yùn)部，其從所述規(guī)定位置向搬運(yùn)方向下游側(cè)搬運(yùn)基板， 移載部，其在所述規(guī)定位置，將基板從所述第一搬運(yùn)部移載至所述第二搬運(yùn)部； 所述移載部具有頂起機(jī)構(gòu)，該頂起機(jī)構(gòu)在維持基板的一部分被接觸支撐為水平姿勢的狀態(tài)的情況下，頂起基板的其他部分， 所述第二搬運(yùn)部具有一邊從下表面?zhèn)缺３只逡贿呍诎徇\(yùn)方向上移動的保持部， 該基板處理裝置還具有控制部，所述控制部控制所述頂起機(jī)構(gòu)和所述保持部，使得在通過所述頂起機(jī)構(gòu)局部地頂起基板并且使所述保持部進(jìn)入基板的被頂起的部分的下方后，通過解除所述頂起機(jī)構(gòu)的頂起而使基板保持在所述保持部上。
2.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述移載部還具有對基板進(jìn)行水平方向上的定位的定位機(jī)構(gòu)， 所述控制部控制所述定 位機(jī)構(gòu)和所述頂起機(jī)構(gòu)，使得在所述定位機(jī)構(gòu)對基板進(jìn)行定位后，通過所述頂起機(jī)構(gòu)頂起基板。
3.如權(quán)利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述定位機(jī)構(gòu)具有與基板的端緣部抵接的定位構(gòu)件， 所述控制部控制所述頂起機(jī)構(gòu)和所述定位機(jī)構(gòu)，使得在通過所述定位機(jī)構(gòu)進(jìn)行定位后，與基板的所述其他部分抵接的所述定位構(gòu)件從基板退避，然后，通過所述頂起機(jī)構(gòu)頂起基板。
4.如權(quán)利要求1 3中任一項(xiàng)所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述保持部具有: 保持面，其在保持時規(guī)定基板的下表面的高度位置， 彈性吸附體，其能夠在上下方向上伸縮，并且吸附在基板的下表面上； 在所述彈性吸附體吸附在基板上之前，所述彈性吸附體的上端部位于所述保持面的上方， 在所述彈性吸附體吸附在基板上時，所述彈性吸附體的上端部位于與所述保持面相同的高度。
5.如權(quán)利要求1 3中任一項(xiàng)所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述頂起機(jī)構(gòu)將基板的垂直于搬運(yùn)方向的方向上的兩端部附近頂起。
6.一種移載方法，將基板從第一搬運(yùn)部移載至第二搬運(yùn)部，其特征在于，包括: 工序a，一邊維持基板的一部分被接觸支撐為水平姿勢的狀態(tài)，一邊將基板的其他部分頂起； 工序b，在所述工序a后，使保持部進(jìn)入基板的被頂起的部分的下方； 工序C，在所述工序b后，通過解除對基板的頂起，使基板保持在所述保持部上。
7.如權(quán)利要求6所述的移載方法，其特征在于，還具有工序d，所述工序d在所述工序a之前，對基板進(jìn)行水平方向上的定位。
8.如權(quán)利要求7所述的移載方法，其特征在于， 在所述工序d中，使定位構(gòu)件與基板的端緣部抵接， 在所述工序d與所述工序a之間還具有工序e，所述工序e使與基板的所述其他部分抵接的所述定位構(gòu)件從基板退避。
全文摘要
本發(fā)明提供能夠抑制在對基板的支撐方式進(jìn)行轉(zhuǎn)換的轉(zhuǎn)換部中浮起支撐基板的部分在搬運(yùn)方向上的長度并且能夠易于避免升降輥與其他構(gòu)件接觸的基板處理裝置?；逄幚硌b置(l)的轉(zhuǎn)換部(20)具有多個升降輥(21)、多個自由輥(24)和入口浮起工作臺(25)。在轉(zhuǎn)換基板(9)的支撐方式時，基板(9)的搬運(yùn)方向上游側(cè)的一部分從多個升降輥(21)向多個自由輥(24)移載。因此，能夠抑制入口浮起工作臺(25)在搬運(yùn)方向上的長度，并且能夠轉(zhuǎn)換基板(9)的支撐方式。自由輥(24)能夠以簡單的結(jié)構(gòu)可靠地支撐基板(9)，并且能夠配置在狹小的區(qū)域內(nèi)。因而，易于將多個自由輥(24)配置在不與多個升降輥(21)接觸的位置。
文檔編號H01L21/677GK103177991SQ20131008741
公開日2013年6月26日 申請日期2011年2月17日 優(yōu)先權(quán)日2010年3月29日
發(fā)明者高木善則, 辻雅夫 申請人:大日本網(wǎng)屏制造株式會社