半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明是有關(guān)于一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，包含有載體、第一保護(hù)層、第二保護(hù)層及第三保護(hù)層，該第一保護(hù)層的第一表面具有第一抗應(yīng)力區(qū)，該第二保護(hù)層顯露該第一抗應(yīng)力區(qū)，該第二保護(hù)層具有第一側(cè)面及第二側(cè)面，由該第一側(cè)面的第一底邊延伸形成的第一延伸線與由該第二側(cè)面的第二底邊延伸形成的第二延伸線相交形成有第一基點(diǎn)，該第三保護(hù)層具有第三側(cè)面及第四側(cè)面，該第三側(cè)面在該第一表面形成有第一投影線，該第一投影線的延伸線與該第二底邊相交形成有第一交點(diǎn)，該第四側(cè)面在該第一表面形成有第二投影線，該第二投影線的延伸線與該第一底邊相交形成有第二交點(diǎn)，該第一基點(diǎn)、該第一交點(diǎn)與該第二交點(diǎn)所形成的區(qū)域?yàn)樵摰谝豢箲?yīng)力區(qū)。
【專利說明】半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，特別是涉及一種具有抗應(yīng)力區(qū)的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)。其是一種相當(dāng)具有實(shí)用性及進(jìn)步性的新設(shè)計(jì)，適于產(chǎn)業(yè)界廣泛推廣應(yīng)用。

【背景技術(shù)】
[0002]請(qǐng)參閱圖6，為一種現(xiàn)有習(xí)知的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)200，其具有載體210、第一保護(hù)層220、第二保護(hù)層230以及第三保護(hù)層240，由于該第一保護(hù)層220、該第二保護(hù)層230及該第三保護(hù)層240皆為四邊形且該第一保護(hù)層220、該第二保護(hù)層230及該第三保護(hù)層240以層疊方式設(shè)置于該載體210，因此該半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)200的應(yīng)力容易集中于該第一保護(hù)層220與該第二保護(hù)層230重疊角隅處，使得該第一保護(hù)層220與該第二保護(hù)層230重疊角隅處破裂或斷離，進(jìn)而降低該半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)200的良率。
[0003]由此可見，上述現(xiàn)有的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)在結(jié)構(gòu)與使用上，顯然仍存在有不便與缺陷，而亟待加以進(jìn)一步改進(jìn)。為了解決半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)存在的問題，相關(guān)廠商莫不費(fèi)盡心思來謀求解決之道，但長久以來一直未見適用的設(shè)計(jì)被發(fā)展完成，而一般產(chǎn)品又沒有適切的結(jié)構(gòu)能夠解決上述問題，此顯然是相關(guān)業(yè)者急欲解決的問題。
[0004]有鑒于上述現(xiàn)有的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)存在的缺陷，本發(fā)明人基于從事此類產(chǎn)品設(shè)計(jì)制造多年豐富的實(shí)務(wù)經(jīng)驗(yàn)及專業(yè)知識(shí)，并配合學(xué)理的運(yùn)用，積極加以研究創(chuàng)新，以期創(chuàng)設(shè)一種新型結(jié)構(gòu)的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，能夠改進(jìn)一般現(xiàn)有的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，使其更具有實(shí)用性。經(jīng)過不斷的研究、設(shè)計(jì)，并經(jīng)過反復(fù)試作樣品及改進(jìn)后，終于創(chuàng)設(shè)出確具實(shí)用價(jià)值的本發(fā)明。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的目的在于，克服現(xiàn)有的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)存在的缺陷，而提供一種新型結(jié)構(gòu)的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，所要解決的技術(shù)問題是使其借由第一保護(hù)層的第一表面的第一抗應(yīng)力區(qū)，避免應(yīng)力集中于角隅而導(dǎo)致半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)產(chǎn)生破裂或斷離。
[0006]本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問題是采用以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)的。依據(jù)本發(fā)明提出的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，其具有角隅，該半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)包含:載體，其具有載體表面，該載體表面具有保護(hù)層設(shè)置區(qū)及位于該保護(hù)層設(shè)置區(qū)外側(cè)的保護(hù)層顯露區(qū)；第一保護(hù)層，其設(shè)置于該保護(hù)層設(shè)置區(qū)，該第一保護(hù)層具有第一表面，該第一表面具有第一設(shè)置區(qū)、第一抗應(yīng)力區(qū)及位于該第一設(shè)置區(qū)及該第一抗應(yīng)力區(qū)外側(cè)的第一顯露區(qū)，該第一抗應(yīng)力區(qū)位于該角隅；第二保護(hù)層，其設(shè)置于該第一設(shè)置區(qū)，且該第二保護(hù)層顯露該第一抗應(yīng)力區(qū)及該第一顯露區(qū)，該第二保護(hù)層具有第二表面、第一側(cè)面及第二側(cè)面，該第二表面具有第二設(shè)置區(qū)及位于該第二設(shè)置區(qū)外側(cè)的第二顯露區(qū)，該第一側(cè)面具有第一底邊，該第二側(cè)面具有第二底邊，由該第一底邊延伸形成的第一延伸線與由該第二底邊延伸形成的第二延伸線相交形成有第一基點(diǎn)；以及第三保護(hù)層，其設(shè)置于該第二設(shè)置區(qū)，該第三保護(hù)層具有第三側(cè)面及第四側(cè)面，該第三側(cè)面在該第一保護(hù)層的該第一表面形成有第一投影線，該第一投影線的延伸線與該第二側(cè)面的該第二底邊相交形成有第一交點(diǎn)，該第四側(cè)面在該第一保護(hù)層的該第一表面形成有第二投影線，該第二投影線的延伸線與該第一側(cè)面的該第一底邊相交形成有第二交點(diǎn)，該第一基點(diǎn)、該第一交點(diǎn)與該第二交點(diǎn)所形成的區(qū)域?yàn)樵摰谝豢箲?yīng)力區(qū)。
[0007]本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問題還可采用以下技術(shù)措施進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)。
[0008]前述的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，其中該第一延伸線垂直于該第二延伸線。
[0009]前述的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，其中該第二保護(hù)層的該第二表面另具有第二抗應(yīng)力區(qū)，該第二抗應(yīng)力區(qū)位于該第二設(shè)置區(qū)的角隅，且該第二顯露區(qū)位于該第二抗應(yīng)力區(qū)外側(cè)，該第三保護(hù)層顯露該第二抗應(yīng)力區(qū)，該第二抗應(yīng)力區(qū)及該第一抗應(yīng)力區(qū)皆位于該角隅，且該第一抗應(yīng)力區(qū)的面積不小于該第二抗應(yīng)力區(qū)的面積。
[0010]前述的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，其中該第三側(cè)面具有第三底邊且該第三底邊具有第一端點(diǎn)，該第四側(cè)面具有第四底邊且該第四底邊具有第二端點(diǎn)，由該第三底邊延伸形成的第三延伸線與由該第四底邊延伸形成的第四延伸線相交形成有第二基點(diǎn)，該第二基點(diǎn)、該第一端點(diǎn)與該第二端點(diǎn)所形成的區(qū)域?yàn)樵摰诙箲?yīng)力區(qū)。
[0011]前述的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，其中該第二基點(diǎn)與該第一端點(diǎn)具有第一距離，該第二基點(diǎn)與該第二端點(diǎn)具有第二距離，該第一距離等于該第二距離。
[0012]前述的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，其中該第二保護(hù)層另具有連接該第一側(cè)面及該第二側(cè)面的第一導(dǎo)接面，該第一導(dǎo)接面為平面或弧面。
[0013]前述的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，其中該第三保護(hù)層另具有連接該第三側(cè)面與該第四側(cè)面的第二導(dǎo)接面，該第二導(dǎo)接面為平面或弧面。
[0014]本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有明顯的優(yōu)點(diǎn)和有益效果。借由上述技術(shù)方案，本發(fā)明半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)可達(dá)到相當(dāng)?shù)募夹g(shù)進(jìn)步性及實(shí)用性，并具有產(chǎn)業(yè)上的廣泛利用價(jià)值，其至少具有下列優(yōu)點(diǎn):
[0015]借由第一保護(hù)層的第一表面上所形成的該第一抗應(yīng)力區(qū)，使得應(yīng)力不易集中于該角隅，防止該半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的該角隅處破裂或斷離。
[0016]上述說明僅是本發(fā)明技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本發(fā)明的技術(shù)手段，而可依照說明書的內(nèi)容予以實(shí)施，并且為了讓本發(fā)明的上述和其他目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更明顯易懂，以下特舉較佳實(shí)施例，并配合附圖，詳細(xì)說明如下。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0017]圖1是本發(fā)明的第一較佳實(shí)施例，一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的分解立體圖。
[0018]圖2是本發(fā)明的第一較佳實(shí)施例，該半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的立體圖。
[0019]圖3是本發(fā)明的第一較佳實(shí)施例，該半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的俯視圖。
[0020]圖4是本發(fā)明的第二較佳實(shí)施例，一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的立體圖。
[0021]圖5是本發(fā)明的第二較佳實(shí)施例，該半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的俯視圖。
[0022]圖6是現(xiàn)有習(xí)知的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的立體圖。

【具體實(shí)施方式】
[0023]為更進(jìn)一步闡述本發(fā)明為達(dá)成預(yù)定發(fā)明目的所采取的技術(shù)手段及功效，以下結(jié)合附圖及較佳實(shí)施例，對(duì)依據(jù)本發(fā)明提出的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，其【具體實(shí)施方式】、結(jié)構(gòu)、特征及其功效，詳細(xì)說明如后。
[0024]請(qǐng)參閱圖1及圖2，其為本發(fā)明的第一較佳實(shí)施例，一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)100具有角隅100a，該半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)100包含有載體110、第一保護(hù)層120、第二保護(hù)層130以及第三保護(hù)層140，該載體110具有載體表面111，該載體表面111具有保護(hù)層設(shè)置區(qū)111a及位于該保護(hù)層設(shè)置區(qū)111a外側(cè)的保護(hù)層顯露區(qū)111b，該第一保護(hù)層120設(shè)置于該保護(hù)層設(shè)置區(qū)111a，該第一保護(hù)層120具有第一表面121,該第一表面121具有第一設(shè)置區(qū)121a、第一抗應(yīng)力區(qū)121b及位于該第一設(shè)置區(qū)121a及該第一抗應(yīng)力區(qū)121b外側(cè)的第一顯露區(qū)121c，該第一抗應(yīng)力區(qū)121b位于該半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)100的該角隅100a，該第二保護(hù)層130設(shè)置于該第一設(shè)置區(qū)121a，且該第二保護(hù)層130顯露該第一抗應(yīng)力區(qū)121b及該第一顯露區(qū)121c，該第二保護(hù)層130具有第二表面131、第一側(cè)面132、第二側(cè)面133及連接該第一側(cè)面132及該第二側(cè)面133的第一導(dǎo)接面134，該第二表面131具有第二設(shè)置區(qū)131a、第二抗應(yīng)力區(qū)131b及位于該第二設(shè)置區(qū)131a及該第二抗應(yīng)力區(qū)131b外側(cè)的第二顯露區(qū)131c，該第二抗應(yīng)力區(qū)131b位于該第二設(shè)置區(qū)131a的角隅，且該第二抗應(yīng)力區(qū)131b及該第一抗應(yīng)力區(qū)121b皆位于該半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)100的該角隅100a，在本實(shí)施例中，該第一抗應(yīng)力區(qū)121b的面積不小于該第二抗應(yīng)力區(qū)131b的面積。
[0025]請(qǐng)參閱圖2及圖3，該第一側(cè)面132具有第一底邊132a，該第二側(cè)面133具有第二底邊133a，由該第一底邊132a延伸形成的第一延伸線L1與由該第二底邊133a延伸形成的第二延伸線L2相交形成有第一基點(diǎn)A1，在本實(shí)施例中，該第一延伸線L1垂直于該第二延伸線L2，該第一導(dǎo)接面134為平面。
[0026]請(qǐng)參閱圖1、圖2及圖3，該第三保護(hù)層140設(shè)置于該第二設(shè)置區(qū)131a，且該第三保護(hù)層140顯露該第二抗應(yīng)力區(qū)131b，該第三保護(hù)層140具有第三側(cè)面141、第四側(cè)面142及連接該第三側(cè)面141與該第四側(cè)面142的第二導(dǎo)接面143，該第三側(cè)面141在該第一保護(hù)層120的該第一表面121形成有第一投影線P1，該第一投影線P1的延伸線與該第二側(cè)面133的該第二底邊133a相交形成有第一交點(diǎn)II，該第四側(cè)面142在該第一保護(hù)層120的該第一表面121形成有第二投影線P2，該第二投影線P2的延伸線與該第一側(cè)面132的該第一底邊132a相交形成有第二交點(diǎn)12，該第一基點(diǎn)A1、該第一交點(diǎn)II與該第二交點(diǎn)12所形成的區(qū)域即為該第一抗應(yīng)力區(qū)121b，在本實(shí)施例中，該第二導(dǎo)接面143為平面。
[0027]請(qǐng)?jiān)賲㈤唸D2，該第三側(cè)面141具有第三底邊141a且該第三底邊141a具有第一端點(diǎn)T1，該第四側(cè)面142具有第四底邊142a且該第四底邊142a具有第二端點(diǎn)T2，由該第三底邊141a延伸形成的第三延伸線L3與由該第四底邊142a延伸形成的第四延伸線L4相交形成有第二基點(diǎn)A2，該第二基點(diǎn)A2、該第一端點(diǎn)T1與該第二端點(diǎn)T2所形成的區(qū)域?yàn)樵摰诙箲?yīng)力區(qū)131b，在本實(shí)施中，該第二基點(diǎn)A2與該第一端點(diǎn)T1具有第一距離D1，該第二基點(diǎn)A2與該第二端點(diǎn)T2具有第二距離D2，該第一距離D1等于該第二距離D2。
[0028]本發(fā)明借由該第一延伸線L1與該第二延伸線L2相交形成的該第一基點(diǎn)A1、該第一投影線P1的延伸線與該第二底邊133a相交形成的該第一交點(diǎn)II以及該第二投影線P2的延伸線與該第一底邊132a相交形成的該第二交點(diǎn)12在該第一表面121上形成的該第一抗應(yīng)力區(qū)121b，使得該第一保護(hù)層120、該第二保護(hù)層130以及該第三保護(hù)層140疊設(shè)于該載體110時(shí)所產(chǎn)生的應(yīng)力不會(huì)集中于該角隅100a，防止該半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)100的該角隅100a處破裂或斷離。
[0029]接著，請(qǐng)參閱圖4及圖5，其為本發(fā)明的第二較佳實(shí)施例，其與第一較佳實(shí)施例的差異在于該第一導(dǎo)接面134及該第二導(dǎo)接面143為弧面，當(dāng)該第一導(dǎo)接面134及該第二導(dǎo)接面143為弧面時(shí)，也具有防止該半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)100的應(yīng)力集中于該第二保護(hù)層130與該第一保護(hù)層120交疊的角隅處(鄰近該角隅100a)的功效，因此亦可避免該半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)100由該角隅100a處斷離或破裂。
[0030]上述如此結(jié)構(gòu)構(gòu)成的本發(fā)明半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的技術(shù)創(chuàng)新，對(duì)于現(xiàn)今同行業(yè)的技術(shù)人員來說均具有許多可取之處，而確實(shí)具有技術(shù)進(jìn)步性。
[0031]以上所述，僅是本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并非對(duì)本發(fā)明作任何形式上的限制，雖然本發(fā)明已以較佳實(shí)施例揭露如上，然而并非用以限定本發(fā)明，任何熟悉本專業(yè)的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明技術(shù)方案范圍內(nèi)，當(dāng)可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容作出些許更動(dòng)或修飾為等同變化的等效實(shí)施例，但凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，其特征在于:其具有角隅，該半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)包含: 載體，其具有載體表面，該載體表面具有保護(hù)層設(shè)置區(qū)及位于該保護(hù)層設(shè)置區(qū)外側(cè)的保護(hù)層顯露區(qū)； 第一保護(hù)層，其設(shè)置于該保護(hù)層設(shè)置區(qū)，該第一保護(hù)層具有第一表面，該第一表面具有第一設(shè)置區(qū)、第一抗應(yīng)力區(qū)及位于該第一設(shè)置區(qū)及該第一抗應(yīng)力區(qū)外側(cè)的第一顯露區(qū)，該第一抗應(yīng)力區(qū)位于該角隅； 第二保護(hù)層，其設(shè)置于該第一設(shè)置區(qū)，且該第二保護(hù)層顯露該第一抗應(yīng)力區(qū)及該第一顯露區(qū)，該第二保護(hù)層具有第二表面、第一側(cè)面及第二側(cè)面，該第二表面具有第二設(shè)置區(qū)及位于該第二設(shè)置區(qū)外側(cè)的第二顯露區(qū)，該第一側(cè)面具有第一底邊，該第二側(cè)面具有第二底邊，由該第一底邊延伸形成的第一延伸線與由該第二底邊延伸形成的第二延伸線相交形成有第一基點(diǎn)；以及 第三保護(hù)層，其設(shè)置于該第二設(shè)置區(qū)，該第三保護(hù)層具有第三側(cè)面及第四側(cè)面，該第三側(cè)面在該第一保護(hù)層的該第一表面形成有第一投影線，該第一投影線的延伸線與該第二側(cè)面的該第二底邊相交形成有第一交點(diǎn)，該第四側(cè)面在該第一保護(hù)層的該第一表面形成有第二投影線，該第二投影線的延伸線與該第一側(cè)面的該第一底邊相交形成有第二交點(diǎn)，該第一基點(diǎn)、該第一交點(diǎn)與該第二交點(diǎn)所形成的區(qū)域?yàn)樵摰谝豢箲?yīng)力區(qū)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，其特征在于:其中該第一延伸線垂直于該第二延伸線。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，其特征在于:其中該第二保護(hù)層的該第二表面另具有第二抗應(yīng)力區(qū)，該第二抗應(yīng)力區(qū)位于該第二設(shè)置區(qū)的角隅，且該第二顯露區(qū)位于該第二抗應(yīng)力區(qū)外側(cè)，該第三保護(hù)層顯露該第二抗應(yīng)力區(qū)，該第二抗應(yīng)力區(qū)及該第一抗應(yīng)力區(qū)皆位于該角隅，且該第一抗應(yīng)力區(qū)的面積不小于該第二抗應(yīng)力區(qū)的面積。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，其特征在于:其中該第三側(cè)面具有第三底邊且該第三底邊具有第一端點(diǎn)，該第四側(cè)面具有第四底邊且該第四底邊具有第二端點(diǎn)，由該第三底邊延伸形成的第三延伸線與由該第四底邊延伸形成的第四延伸線相交形成有第二基點(diǎn)，該第二基點(diǎn)、該第一端點(diǎn)與該第二端點(diǎn)所形成的區(qū)域?yàn)樵摰诙箲?yīng)力區(qū)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，其特征在于:其中該第二基點(diǎn)與該第一端點(diǎn)具有第一距離，該第二基點(diǎn)與該第二端點(diǎn)具有第二距離，該第一距離等于該第二距離。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，其特征在于:其中該第二保護(hù)層另具有連接該第一側(cè)面及該第二側(cè)面的第一導(dǎo)接面，該第一導(dǎo)接面為平面或弧面。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，其特征在于:其中該第三保護(hù)層另具有連接該第三側(cè)面與該第四側(cè)面的第二導(dǎo)接面，該第二導(dǎo)接面為平面或弧面。
【文檔編號(hào)】H01L29/06GK104425564SQ201310425213
【公開日】2015年3月18日 申請(qǐng)日期:2013年9月17日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月10日
【發(fā)明者】謝慶堂, 徐佑銘, 劉明升, 王智平 申請(qǐng)人:頎邦科技股份有限公司