蝕刻膏組成物及其應(yīng)用的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及蝕刻膏組成物及其應(yīng)用。一種蝕刻膏組成物，包含：含氟化合物(A)；溶劑(B)，包括芳香醇類溶劑(B-1)、水(B-2)及其他溶劑(B-3)；微粒(C)，選自于聚合物微粒(C-1)、無機(jī)化合物微粒(C-2)，或前述的組合；有機(jī)增稠劑(D)；及酸(E)，選自于有機(jī)酸(E-1)、無機(jī)酸(E-2)，或前述的組合。本發(fā)明另提供一種蝕刻方法，是將前述的蝕刻膏組成物絲網(wǎng)印刷于觸控面板的基板的氧化硅層或氮化硅層上，然后進(jìn)行蝕刻步驟及清洗步驟。該蝕刻膏組成物經(jīng)時(shí)穩(wěn)定性良好，適用于絲網(wǎng)印刷的操作。
【專利說明】
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種蝕刻膏組成物，特別是指一種適用于絲網(wǎng)印刷的蝕刻膏組成物。 蝕刻膏組成物及其應(yīng)用

【背景技術(shù)】
[0002] 觸控面板、薄膜晶體管或太陽能電池的結(jié)構(gòu)中，常通過化學(xué)氣相沉積（Chemical Vapor Deposition,CVD)或濕式化學(xué)涂布等方式，借以形成氧化娃或氮化娃層，在多數(shù)情況 下，作為抗反射層或鈍化層的使用。
[0003] 移除氧化硅或氮化硅層的特定部分的步驟稱為蝕刻，現(xiàn)有技術(shù)包括采用激光支持 蝕刻法（laser-supported etching method),或在光阻形成掩膜圖案后，通過濕式蝕刻法 (wet-chemical method)或干式蝕刻法（dry-etching method)選擇性地進(jìn)行蝕刻。
[0004] 就激光支持蝕刻法來說，雖具有高度精密性，但其逐點(diǎn)逐行地掃描蝕刻圖案的工 作方式需要大量的工作時(shí)間，不利于工業(yè)上量產(chǎn)。干式蝕刻法或濕式蝕刻法，需先使用光阻 制作出掩膜圖案，然后，干式蝕刻法是于真空裝置中予以電漿蝕刻或利用反應(yīng)性氣體在流 動(dòng)反應(yīng)器中蝕刻，制程復(fù)雜且設(shè)備昂貴，而濕式蝕刻法則是以具有蝕刻活性的化學(xué)藥劑浸 泡并蝕刻出圖案，最后將光阻掩膜圖案以溶劑剝除，并于清水沖洗后干燥。
[0005] JP2012-129346公開一種蝕刻劑組成物，特別適用于蝕刻氧化銦系被膜，是由含有 下述成分的水溶液所構(gòu)成：(A) 2-羥基乙磺酸或其鹽依2-羥基乙磺酸換算為5?20wt% ;以 及（B)從氫氟酸、氟化銨、氟化鉀、氟化鈉及氟化鋰所構(gòu)成群組中選擇的至少1種氟化化合 物0. 05?5wt%。但濕式蝕刻法相當(dāng)耗時(shí)且復(fù)雜，所用的化學(xué)原料更具有毒性及高腐蝕性。
[0006] 目前有更高度自動(dòng)化且更高產(chǎn)量的作法，是通過印刷技術(shù)將蝕刻膏轉(zhuǎn)移至待蝕刻 的表面并進(jìn)行蝕刻，不需要進(jìn)行光阻掩膜圖案的制作步驟，例如移印方法、壓印方法、噴墨 印刷方法，或手動(dòng)印刷等。
[0007] 由上述可知，就經(jīng)濟(jì)效益來說，一種適用于印刷技術(shù)且質(zhì)量良好的蝕刻膏組成物， 是有迫切需求的。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0008] 本發(fā)明的第一目的在于提供一種適用于絲網(wǎng)印刷且經(jīng)時(shí)穩(wěn)定性佳的蝕刻膏組成 物。
[0009] 本發(fā)明蝕刻膏組成物，包含：
[0010] 含氟化合物（A);
[0011] 溶劑（B)，包括芳香醇類溶劑（B-1)、水（B-2)及其他溶劑（B-3);
[0012] 微粒（C)，選自于聚合物微粒（C-1)、無機(jī)化合物微粒（C-2)，或前述的組合；
[0013] 有機(jī)增稠劑（D);及
[0014] 酸（E)，選自于有機(jī)酸（E-1)、無機(jī)酸（E-2)，或前述的組合。
[0015] 本發(fā)明蝕刻膏組成物，以該含氟化合物（A)為100重量份計(jì)，該溶劑（B)的用量為 350至2000重量份，該微粒（C)的用量為300至2000重量份，該有機(jī)增稠劑⑶的用量為 10至200重量份，該酸（E)的用量為30至600重量份。
[0016] 本發(fā)明蝕刻膏組成物，以該含氟化合物（A)為100重量份計(jì)，該芳香醇類溶劑 (B-1)的用量為100至500重量份，水（B-2)的用量為50至300重量份，其他溶劑（B-3)的 用量為200至1200重量份。
[0017] 本發(fā)明蝕刻膏組成物，該含氟化合物（A)是至少一種選自于由下列所構(gòu)成群組的 化合物：氟化氫銨、氟化銨、氟化氫鈉、氟化鈉、氟化氫鉀、氟化鉀、氟化鋇，及氟硼酸銨。
[0018] 本發(fā)明蝕刻膏組成物，該芳香醇類溶劑（B-1)是至少一種選自于下列所構(gòu)成群組 的化合物：苯甲醇、（2-羥基苯基）甲醇、（甲氧基苯基）甲醇、（3, 4-二羥基苯基）甲醇、 4_(羥甲基）苯-1，2-二醇、（4-羥基-3-甲氧基苯基）甲醇、（3, 4-二甲氧基苯基）甲 醇、（4_異丙基苯基）甲醇、2-苯乙醇、1-苯乙醇、2-苯基-1-丙醇、對(duì)甲苯基醇、2-(4-羥 基-3-甲氧基苯基）甲烷-1-醇、2-(3, 4-二甲氧基苯基）甲烷-1-醇、3-苯基-丙烷-1-醇、 2-苯基-丙烷-2-醇、肉桂醇、3-(4-羥基-3-甲氧基苯基）丙-2-烯-1-醇、3-(4-羥 基-3, 5-甲氧基苯基）丙-2-烯-1-醇、聯(lián)苯甲醇、三苯甲醇、1，2-聯(lián)苯甲烷-1，2-二醇、 1，1，2, 2-四苯基甲烷-1，2-二醇、苯-1，2-二甲醇、苯-1，3-二甲醇，及苯-1，4-二甲醇。
[0019] 本發(fā)明蝕刻膏組成物，該其他溶劑（B-3)是至少一種選自于由下列所構(gòu)成群組的 溶劑：不具芳香基的醇類溶劑、醚類溶劑、羧酸的酯類溶劑，及酮類溶劑。
[0020] 本發(fā)明蝕刻膏組成物，該聚合物微粒（C-1)是至少一種選自于由下列所構(gòu)成群組 的聚合物：聚乙烯、聚苯乙烯、聚丙烯酸、聚酰胺、聚酰亞胺、聚甲基丙烯酸酯、三聚氰胺、氨 基甲酸酯、苯并鳥嘌呤、酚醛樹脂、聚硅氧烷樹脂、氟化聚合物，微粉化纖維素，及微粉化蠟。
[0021] 本發(fā)明蝕刻膏組成物，該無機(jī)化合物微粒（C-2)是至少一種選自于由下列所構(gòu)成 群組的化合物：氧化鋁、氟化鈣、氧化硼、氧化鈦、氧化鋯、氯化鉀、氯化鎂、氯化鈣，及氯化 鈉。
[0022] 本發(fā)明蝕刻膏組成物，該有機(jī)增稠劑（D)是至少一種選自于由下列所構(gòu)成群組的 化合物：水溶性纖維素醚、多糖及水溶性聚合物。
[0023] 本發(fā)明的另一目的在于提供一種蝕刻方法。
[0024] 本發(fā)明蝕刻方法，包含：
[0025] 提供觸控面板，其包括基板，以及設(shè)置于該基板上的氧化硅層或氮化硅層；
[0026] 將如前所述的蝕刻膏組成物絲網(wǎng)印刷于該氧化硅層或氮化硅層上；
[0027] 進(jìn)行蝕刻步驟；及
[0028] 進(jìn)行清洗步驟。
[0029] 本發(fā)明的有益效果在于：該蝕刻膏組成物，通過含有特定成分及比例的溶劑調(diào)控 其揮發(fā)性和均勻程度，后續(xù)應(yīng)用于絲網(wǎng)印刷時(shí)，粘度經(jīng)時(shí)穩(wěn)定性良好，且不易有塞網(wǎng)的情形 發(fā)生。

【具體實(shí)施方式】
[0030] 本發(fā)明蝕刻膏組成物，包含：
[0031] 含氟化合物（A);
[0032] 溶劑（B)，包括芳香醇類溶劑（B-1)、水（B-2)及其他溶劑（B-3);
[0033] 微粒（C)，選自于聚合物微粒（C-1)、無機(jī)化合物微粒（C-2)，或前述的組合；
[0034] 有機(jī)增稠劑（D);及
[0035] 酸（E)，選自于有機(jī)酸（E-1)、無機(jī)酸（E-2)，或前述的組合。
[0036] 該蝕刻膏組成物通過溶劑組成的調(diào)節(jié)，可以控制該蝕刻膏組成物的揮發(fā)性和均勻 程度，后續(xù)應(yīng)用于絲網(wǎng)印刷時(shí)，具有經(jīng)時(shí)穩(wěn)定性佳且不塞網(wǎng)的優(yōu)點(diǎn)。
[0037] 以該含氟化合物（A)為100重量份計(jì)，該溶劑（B)的用量為350至2000重量份， 該微粒（C)的用量為300至2000重量份，該有機(jī)增稠劑⑶的用量為10至200重量份，該 酸（E)的用量為30至600重量份。
[0038] 較佳地，以該含氟化合物（A)為100重量份計(jì)，該溶劑⑶的用量為450至1800 重量份，該微粒（C)的用量為400至1800重量份，該有機(jī)增稠劑（D)的用量為15至180重 量份，該酸（E)的用量為40至550重量份。
[0039] 更佳地，以該含氟化合物（A)為100重量份計(jì)，該溶劑⑶的用量為500至1500 重量份，該微粒（C)的用量為500至1500重量份，該有機(jī)增稠劑（D)的用量為20至150重 量份，該酸（E)的用量為50至500重量份。
[0040] 該芳香醇類溶劑（B-ι)因?yàn)閾]發(fā)性低，能調(diào)節(jié)該蝕刻膏組成物的粘度并減少因溶 劑揮發(fā)所造成的粘度改變；若未使用，則會(huì)有粘度經(jīng)時(shí)穩(wěn)定性不佳以及絲網(wǎng)印刷時(shí)塞網(wǎng)等 問題產(chǎn)生。若未使用水（B-2)，該蝕刻膏組成物于使用時(shí)可能有塞網(wǎng)的問題產(chǎn)生。若未使用 其他溶劑（B-3)，則會(huì)有經(jīng)時(shí)粘度穩(wěn)定性不佳的問題。
[0041] 以該含氟化合物（A)為100重量份計(jì)，該芳香醇類溶劑（B-1)的用量為100至500 重量份，水（B-2)的用量為50至300重量份，其他溶劑（B-3)的用量為200至1200重量份。
[0042] 較佳地，該含氟化合物（A)為100重量份計(jì)，該芳香醇類溶劑（B-1)的用量為150 至450重量份，水（B-2)的用量為60至270重量份，其他溶劑（B-3)的用量為250至1000 重量份。
[0043] 更佳地，以該含氟化合物（A)為100重量份計(jì)，該芳香醇類溶劑（B-1)的用量為 200至400重量份，水（B-2)的用量為70至250重量份，其他溶劑（B-3)的用量為300至 800重量份。
[0044] 該含氟化合物（A)是至少一種選自于由下列所構(gòu)成群組的化合物：氟化氫銨 (Ammonium bifluoride)、氟化銨（Ammonium fluoride)、氟化氫鈉 （Sodium bifluoride) > 氟化鈉 （Sodium fluoride)、氟化氫鉀（Potassium bifluoride)、氟化鉀（Potassium fluoride)、氟化鋇（Barium fluoride)，及氟硼酸銨（Ammonium Fluoborate)。
[0045] 較佳地，該含氟化合物（A)是至少一種選自于由下列所構(gòu)成群組的化合物：氟化 氫銨、氟化氫鈉及氟化鋇。
[0046] 該芳香醇類溶劑（B-1)是至少一種選自于下列所構(gòu)成群組的化合物：苯甲 醇、（2-羥基苯基）甲醇、（甲氧基苯基）甲醇、（3, 4-二羥基苯基）甲醇、4_(羥甲基） 苯-1，2-二醇、（4-羥基-3-甲氧基苯基）甲醇、（3, 4-二甲氧基苯基）甲醇、（4-異丙基 苯基）甲醇、2-苯乙醇、1-苯乙醇、2-苯基-1-丙醇、對(duì)甲苯基醇、2-(4-羥基-3-甲氧基苯 基）甲烷-1-醇、2_(3, 4-二甲氧基苯基）甲烷-1-醇、3-苯基-丙烷-1-醇、2-苯基-丙 烷-2-醇、肉桂醇、3-(4-羥基-3-甲氧基苯基）丙-2-烯-1-醇、3-(4-羥基-3, 5-甲氧基 苯基）丙_2_烯-1-醇、聯(lián)苯甲醇、二苯甲醇、1，2-聯(lián)苯甲燒-1，2-二醇、1，1，2, 2-四苯基 甲烷-1，2-二醇、苯-1，2-二甲醇、苯-1，3-二甲醇，及苯-1，4-二甲醇。
[0047] 較佳地，該芳香醇類溶劑（B-1)是至少一種選自于下列所構(gòu)成群組的化合物：苯 甲醇、（2-羥基苯基）甲醇及（4-異丙基苯基）甲醇。
[0048] 該其他溶劑（B-3)是至少一種選自于由下列所構(gòu)成群組的溶劑：不具芳香基的醇 類溶劑、醚類溶劑、羧酸的酯類溶劑，及酮類溶劑。
[0049] 該不具芳香基的醇類溶劑是至少一種選自于由下列所構(gòu)成群組的溶劑：丙三 醇、1,2-丙二醇、1，4_ 丁二醇、1,3-丁二醇、1,5-戊二醇、2-乙基-1-己烯醇、乙二醇、 二乙二醇、二丙二醇、甲醇、乙醇、異丙醇、正丙醇、戊醇、1-十六醇、1，2, 3,4_ 丁四醇、 丙-2-烯-1-醇、2-丙炔-1-醇、3, 7-二甲基庚-2, 6-二烯-1-醇、木糖醇，及甘露醇。
[0050] 該醚類溶劑是至少一種選自于由下列所構(gòu)成群組的溶劑：四氫呋喃、乙二醇單丁 醚、三乙二醇單甲醚、二乙二醇單丁醚、二丙二醇單甲醚、乙二醇單丙醚、乙二醇單甲醚、乙 二醇單乙醚、乙二醇丁醚醋酸酯、乙二醇乙醚醋酸酯、乙二醇甲醚醋酸酯、二乙二醇單甲醚、 二乙二醇單乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、二乙二醇甲乙醚、二丙二醇單乙醚、二 丙二醇二甲醚、二丙二醇二乙醚、二丙二醇甲乙醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚、丙二醇單 丙醚、丙二醇單丁醚、丙二醇甲醚醋酸酯、丙二醇乙醚醋酸酯、丙二醇丙醚醋酸酯、丙二醇丁 醚醋酸酯、丙二醇甲醚丙酸酯、丙二醇乙醚丙酸酯、丙二醇丙醚丙酸酯，及丙二醇丁醚丙酸 酯。
[0051] 該羧酸的酯類溶劑是至少一種選自于由下列所構(gòu)成群組的溶劑：2-(2-正丁氧基 乙氧基）乙酸乙酯、碳酸丙烯酯、丁內(nèi)酯、戊內(nèi)酯、戊內(nèi)酯、乙酸甲酯、乙酸乙 酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、2-羥基丙酸乙酯、2-羥基-2-甲基丙酸甲酯、2-羥基-2-甲基丙 酸乙酯、羥乙酸甲酯、羥乙酸乙酯、羥乙酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸丙酯、乳酸丁酯、3-羥基丙酸 甲酯、3-羥基丙酸乙酯、3-羥基丙酸丙酯、3-羥基丙酸丁酯、2-羥基-3-甲基丁酸甲酯、甲 氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯、乙氧 基乙酸丙酯、乙氧基乙酸丁酯、丙氧基乙酸甲酯、丙氧基乙酸乙酯、丙氧基乙酸丙酯、丙氧基 乙酸丁酯、丁氧基乙酸甲酯、丁氧基乙酸乙酯、丁氧基乙酸丙酯、丁氧基乙酸丁酯、3-甲氧基 丁基乙酸酯、2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸丙酯、2-甲氧基丙酸丁 酯、2-乙氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸丁酯、2- 丁 氧基丙酸甲酯、2- 丁氧基丙酸甲酯、2- 丁氧基丙酸乙酯、2- 丁氧基丙酸丙酯、2- 丁氧基丙 酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸丙酯、3-甲氧基丙酸丁酯、 3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸丙酯、3-乙氧基丙酸丁酯、3-丙氧 基丙酸甲酯、3-丙氧基丙酸乙酯、3-丙氧基丙酸丙酯、3-丙氧基丙酸丁酯、3-丁氧基丙酸甲 酯、3- 丁氧基丙酸乙酯、3- 丁氧基丙酸丙酯，及3- 丁氧基丙酸丁酯等。
[0052] 該酮類溶劑是至少一種選自于由下列所構(gòu)成群組的溶劑：苯乙酮、甲基-2-己酮、 2_辛酮、4-羥基-4-甲基-2-戊酮、1-甲基-2-吡咯啶酮、甲乙酮、環(huán)己酮、環(huán)庚酮、氮-甲 基吡咯烷酮、2-庚酮、3-庚酮，及二丙酮醇。
[0053] 較佳地，該其他溶劑（B-3)是至少一種選自于由下列所構(gòu)成群組的溶劑：乙二醇、 乙二醇單丁醚，及碳酸丙烯酯。
[0054] 該聚合物微粒（C-1)是至少一種選自于由下列所構(gòu)成群組的聚合物：聚乙烯、聚 苯乙烯、聚丙烯酸、聚酰胺、聚酰亞胺、聚甲基丙烯酸酯、三聚氰胺、氨基甲酸酯、苯并鳥嘌 呤、酚醒樹脂、聚娃氧燒樹脂、氟化聚合物（例如聚四氟乙烯（Poly-tetrafluoroethylene) 或聚偏氟乙烯（Polyvinylidene fluoride))，微粉化纖維素及微粉化錯(cuò)（micronised wax);其中，該聚乙烯的市售商品例如Dupont公司出品的"Coathylene ΗΧ168Γ'。較佳地， 該聚合物微粒（C-1)是聚四氟乙烯、聚乙烯，或酚醛樹脂。
[0055] 較佳地，該無機(jī)化合物微粒（C-2)是至少一種選自于由下列所構(gòu)成群組的化合 物：氧化鋁、氟化鈣、氧化硼、氧化鈦、氧化鋯、氯化鉀、氯化鎂、氯化鈣，及氯化鈉。
[0056] 更佳地，該無機(jī)化合物微粒（C-2)是氟化鈣、氧化鋁，或氧化硼。
[0057] 該聚合物微粒（C-1)的粒徑范圍為10nm至3000nm，較佳地，該聚合物微粒（C-1) 的粒徑范圍為l〇〇nm至2000nm，更佳地，該聚合物微粒（C-1)的粒徑范圍為500nm至 1500nm〇
[0058] 該無機(jī)化合物微粒（C-2)的粒徑范圍為10nm至3000nm，較佳地，該無機(jī)化合物微 粒（C-2)的粒徑范圍為100nm至2000nm，更佳地，該無機(jī)化合物微粒（C-2)的粒徑范圍為 500nm 至 1500nm。
[0059] 上述聚合物微粒（C-1)及該無機(jī)化合物微粒（C-2)有助于提升該蝕刻膏組成物的 蝕刻速率及蝕刻深度。
[0060] 該有機(jī)增稠劑（D)是至少一種選自于由下列所構(gòu)成群組的化合物：水溶性纖維素 醚、多糖及水溶性聚合物。
[0061] 該水溶性纖維素醚選自于：烷基纖維素，例如纖維素、甲基纖維素，或乙基纖維素 等；羥烷基纖維素，例如羥丙基甲基纖維素、羥乙基纖維素，或羥丙基纖維素等；或是羧烷 基纖維素，例如羧甲基纖維素等。
[0062] 該多糖選自于殼聚醣、藻酸、瓜耳膠、黃原膠，或鼠李聚糖膠（Rhamsan Gum)。
[0063] 該水溶性聚合物選自于聚乙烯醇、聚乙烯批咯燒酮（polyvinylpyrrolidone)。
[0064] 較佳地，該有機(jī)增稠劑（D)選自于纖維素、聚乙烯吡咯烷酮，或殼聚醣。
[0065] 該有機(jī)酸（E-1)具有Q至C1(l的直鏈或支鏈烷基，且是至少一種選自于由下列所 構(gòu)成群組的酸：烷基羧酸、羥基羧酸及二羧酸。
[0066] 該有機(jī)酸（E-1)是至少一種選自于由下列所構(gòu)成群組的酸：草酸、甲酸、乙酸、丙 酸、丁酸、戊酸、己酸、庚酸、辛酸、壬酸、癸酸、檸檬酸、一氯乙酸、二氯乙酸、三氯乙酸、三氟 乙酸、及乳酸。較佳地，該有機(jī)酸（E-1)選自于甲酸、乙酸、或乳酸。
[0067] 該無機(jī)酸（E-2)是至少一種選自于由下列所構(gòu)成群組的酸：氫氯酸、氫溴酸、氫碘 酸、亞磷酸、次磷酸、磷酸、硫酸、亞硫酸、硼酸、偏硼酸，及硝酸。
[0068] 較佳地，該無機(jī)酸（E-2)選自于硝酸、磷酸，或硫酸。
[0069] 該蝕刻膏組成物的粘度范圍為1至500Pa *s，較佳地，該蝕刻膏組成物的粘度范圍 為3至300Pa · s，更佳地，該蝕刻膏組成物的粘度范圍為5至200Pa · s。
[0070] 該蝕刻膏組成物的制備方法是將含氟化合物（A)、溶劑（B)、微粒（C)、有機(jī)增稠劑 (D)及酸（E)彼此混合，攪拌足夠時(shí)間至形成具有觸變性質(zhì)的粘性糊狀物。攪拌可以在15 至35 °C或升溫至合適溫度的情況下進(jìn)行。
[0071] 本發(fā)明蝕刻方法，包含：
[0072] 提供觸控面板，包括基板，以及設(shè)置于該基板上的氧化硅層或氮化硅層；
[0073] 將如前所述的蝕刻膏組成物絲網(wǎng)印刷于該氧化硅層或氮化硅層上；
[0074] 進(jìn)行蝕刻步驟；及
[0075] 進(jìn)行清洗步驟。
[0076] 該基板的材質(zhì)并沒有特別限制，一般的材質(zhì)均可以適用。
[0077] 所謂氧化硅層，除了玻璃或石英的純3102外，也包含所有基于Si02的系統(tǒng)，包含由 Si02離散和/或聯(lián)結(jié)成Si04所構(gòu)成的系統(tǒng)，也可以含有其他組分。由Si02離散和/或聯(lián) 結(jié)成Si0 4所構(gòu)成的系統(tǒng)可例如焦硅酸鹽、雙硅酸鹽、環(huán)硅酸鹽、鏈硅酸鹽、頁硅酸鹽、網(wǎng)硅酸 鹽，該其它組分例如鈣、鈉、鋁、鉛、鋰、鎂、鋇、鉀、硼、鈹、磷、鎵、砷、銻、鑭、鋅、釷、銅、鉻、錳、 鐵、鈷、鎳、鑰、釩、鈦、金、鉬、鈀、銀、鈰、銫、鈮、鉭、鋯、釹、鐠等元素，且所述元素不限于以氧 化物、碳酸鹽、硝酸鹽、磷酸鹽、硫酸鹽和/或鹵化物的形式存在于Si0 2的系統(tǒng)中或作為摻 雜元素。
[0078] 所謂氮化硅層是指結(jié)晶及部分結(jié)晶（通常稱為微晶）系統(tǒng)，包括a_Si3N 4及 β -Si3N4改質(zhì)的Si3N4，及所有結(jié)晶及部分結(jié)晶的SiN x& SiNx:H。除了結(jié)晶的氮化硅還可以 包含其它元素，諸如硼、錯(cuò)、鎵、銦、磷、砷或鋪等。
[0079] 本發(fā)明蝕刻方法并不限于絲網(wǎng)印刷，所屬【技術(shù)領(lǐng)域】具有通常知識(shí)者可以通過已知 的印刷方法，將該蝕刻膏組成物施加到待蝕刻區(qū)域上，例如通過移印方法、壓印方法、噴墨 印刷方法，或手動(dòng)印刷等。
[0080] 絲網(wǎng)印刷通過含有印刷模板的細(xì)目絲網(wǎng)或金屬蝕刻絲網(wǎng)與該基板上氧化硅層或 氮化硅層的接觸，而將該蝕刻膏組成物轉(zhuǎn)移至該基板上氧化硅層或氮化硅層來進(jìn)行該蝕刻 步驟。所用的絲網(wǎng)材質(zhì)并沒有特別限制，通常由塑料或金屬絲制成。
[0081] 于應(yīng)用時(shí)，該蝕刻膏組成物可以施加到整個(gè)區(qū)域，或以合適的方式選擇性地施加 到待蝕刻的氧化硅層或氮化硅層表面上，例如使用已知的印刷方法選擇性地施加到需要蝕 刻的區(qū)域。如果必要的話，可以輸入能量來活化該蝕刻膏組成物，具體作法是將該蝕刻膏組 成物于能量下暴露10秒至15分鐘，較佳地是暴露30秒至2分鐘。該蝕刻膏組成物的蝕刻 溫度范圍為20至500°C，較佳地為25至400°C，更佳地為30至300°C。
[0082] 當(dāng)整個(gè)區(qū)域或在選擇性印刷區(qū)域中的蝕刻完成時(shí)，可以通過進(jìn)一步加熱進(jìn)行摻 雜，或使用溶劑或混合溶劑洗去用過的蝕刻膏組成物，或通過加熱將用過的蝕刻膏組成物 燒除。較佳地，蝕刻完成后以水進(jìn)行清洗。
[0083] 本發(fā)明將就以下實(shí)施例來作進(jìn)一步說明，但應(yīng)了解的是，該實(shí)施例僅為例示說明 用，而不應(yīng)被解釋為本發(fā)明實(shí)施的限制。
[0084] <實(shí)施例1至9及比較例1至6 >
[0085] [實(shí)施例1]
[0086] 在1升的聚丙烯杯中，于15至35°C下，加入100重量份的氟化氫銨（A-1)、100重量 份的（4-異丙基苯基）甲醇（B-l-3)、100重量份的水（B-2)、300重量份的乙二醇（B-3-1) 及30重量份的甲酸（E-1-1)均勻攪拌5分鐘后，在一邊攪拌的同時(shí)加入300重量份的聚四 氟乙烯（C-1-1)，并攪拌5分鐘最后加入10重量份的纖維素（D-1)，于轉(zhuǎn)速500rmp下攪拌 60分鐘，即可制得實(shí)施例1的蝕刻膏組成物。
[0087] [實(shí)施例2至9及比較例1至6]
[0088] 實(shí)施例2至9及比較例1至6是以與實(shí)施例1相同的步驟來制備該蝕刻膏組成物， 不同的地方在于：改變化學(xué)品的種類及其使用量，該化學(xué)品的種類及其使用量如表1及表2 所示。
[0089] <檢測(cè)項(xiàng)目>
[0090] 將實(shí)施例1至9及比較例1至6的蝕刻膏組成物進(jìn)行下列檢測(cè)，并將結(jié)果記錄于 表1及表2。
[0091] 1.粘度經(jīng)時(shí)穩(wěn)定性測(cè)試
[0092] 于25°C下，以粘度機(jī)分別測(cè)量所述蝕刻膏組成物靜置前的粘度，記為μ i，然后將 所述蝕刻膏組成物靜置180分鐘，再分別以粘度機(jī)測(cè)定靜置后的粘度，記為μ 2，并依下列公 式計(jì)算粘度變化率，借以評(píng)價(jià)所述蝕刻膏組成物的粘度經(jīng)時(shí)穩(wěn)定性。
[0093] 粘度變化率=| μ 2 - μ ! | / μ ! X 100%
[0094] 〇：粘度變化率〈10%
[0095] X :粘度變化率彡10%
[0096] 2.塞網(wǎng)測(cè)試
[0097] 將配制好的蝕刻膏組成物，分別使用網(wǎng)印機(jī)（東遠(yuǎn)科技出品，型號(hào)ΑΤ-45ΡΑ)配合 網(wǎng)目數(shù)180目/cm 2的網(wǎng)版于15至35°C下進(jìn)行網(wǎng)印測(cè)試，該網(wǎng)版上具有500 μ m線寬的印刷 圖樣，于重復(fù)五次印刷后，觀察印刷圖樣是否有蝕刻膏殘留的塞網(wǎng)情況發(fā)生。
[0098] 〇：無蝕刻膏殘留 [0099] X :有蝕刻膏殘留 [0100]表 1
[0101]

【權(quán)利要求】
1. 一種蝕刻膏組成物，其特征在于，其包含： 含氟化合物（A); 溶劑（B)，包括芳香醇類溶劑（B-1)、水（B-2)及其他溶劑（B-3); 微粒（C)，選自于聚合物微粒（C-1)、無機(jī)化合物微粒（C-2)，或前述的組合； 有機(jī)增稠劑（D);及 酸（E)，選自于有機(jī)酸（E-1)、無機(jī)酸（E-2)，或前述的組合。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的蝕刻膏組成物，其特征在于，以該含氟化合物（A)為100重量 份計(jì)，該溶劑（B)的用量為350至2000重量份，該微粒（C)的用量為300至2000重量份， 該有機(jī)增稠劑（D)的用量為10至200重量份，該酸（E)的用量為30至600重量份。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的蝕刻膏組成物，其特征在于，以該含氟化合物（A)為100重量 份計(jì)，該芳香醇類溶劑（B-1)的用量為100至500重量份，水（B-2)的用量為50至300重 量份，其他溶劑（B-3)的用量為200至1200重量份。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的蝕刻膏組成物，其特征在于，該含氟化合物（A)是至少一種選 自于由下列所構(gòu)成群組的化合物：氟化氫銨、氟化銨、氟化氫鈉、氟化鈉、氟化氫鉀、氟化鉀、 氟化鋇，及氟硼酸銨。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的蝕刻膏組成物，其特征在于，該芳香醇類溶劑（B-1)是至少 一種選自于下列所構(gòu)成群組的化合物：苯甲醇、（2-羥基苯基）甲醇、（甲氧基苯基）甲醇、 (3, 4-二羥基苯基）甲醇、4-(羥甲基）苯-1，2-二醇、（4-羥基-3-甲氧基苯基）甲醇、 (3, 4-二甲氧基苯基）甲醇、（4-異丙基苯基）甲醇、2-苯乙醇、1-苯乙醇、2-苯基-1-丙 醇、對(duì)甲苯基醇、2-(4-羥基-3-甲氧基苯基）甲烷-1-醇、2-(3, 4-二甲氧基苯基）甲 烷-1-醇、3-苯基-丙烷-1-醇、2-苯基-丙烷-2-醇、肉桂醇、3-(4-羥基-3-甲氧基苯 基）丙-2-烯-1-醇、3- (4-羥基-3, 5-甲氧基苯基）丙-2-烯-1-醇、聯(lián)苯甲醇、三苯甲醇、 1，2_聯(lián)苯甲燒_1，2_二醇、1，1，2, 2_四苯基甲燒_1，2_二醇、苯_1，2_二甲醇、苯_1，3_二 甲醇，及苯-1，4-二甲醇。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的蝕刻膏組成物，其特征在于，該其他溶劑（B-3)是至少一種選 自于由下列所構(gòu)成群組的溶劑：不具芳香基的醇類溶劑、醚類溶劑、羧酸的酯類溶劑，及酮 類溶劑。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的蝕刻膏組成物，其特征在于，該聚合物微粒（C-1)是至少一種 選自于由下列所構(gòu)成群組的聚合物：聚乙烯、聚苯乙烯、聚丙烯酸、聚酰胺、聚酰亞胺、聚甲 基丙烯酸酯、三聚氰胺、氨基甲酸酯、苯并鳥嘌呤、酚醛樹脂、聚硅氧烷樹脂、氟化聚合物，微 粉化纖維素，及微粉化蠟。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的蝕刻膏組成物，其特征在于，該無機(jī)化合物微粒（C-2)是至少 一種選自于由下列所構(gòu)成群組的化合物：氧化鋁、氟化鈣、氧化硼、氧化鈦、氧化鋯、氯化鉀、 氯化鎂、氯化鈣，及氯化鈉。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的蝕刻膏組成物，其特征在于，該有機(jī)增稠劑（D)是至少一種選 自于由下列所構(gòu)成群組的化合物：水溶性纖維素醚、多糖及水溶性聚合物。
10. -種蝕刻方法，其特征在于，其包含： 提供觸控面板，其包括基板，以及設(shè)置于該基板上的氧化硅層或氮化硅層； 將根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)所述的蝕刻膏組成物絲網(wǎng)印刷于該氧化硅層或氮化硅 層上； 進(jìn)行蝕刻步驟；及 進(jìn)行清洗步驟。
【文檔編號(hào)】H01L21/306GK104119921SQ201410157734
【公開日】2014年10月29日 申請(qǐng)日期:2014年4月18日 優(yōu)先權(quán)日:2013年4月29日
【發(fā)明者】劉騏銘, 施俊安 申請(qǐng)人:奇美實(shí)業(yè)股份有限公司