專利名稱：蝕刻清洗槽的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及蝕刻清洗設(shè)備，尤其涉及一種蝕刻清洗設(shè)備的蝕刻清洗槽。
背景技術(shù)：
蝕刻清洗技術(shù)廣泛應(yīng)用于電子、化學(xué)、機械等多個制造行業(yè)，對于一些精密的行 業(yè)，例如半導(dǎo)體、液晶顯示、太陽能電池行業(yè)，蝕刻清洗效果直接關(guān)系到產(chǎn)品的質(zhì)量和良品 率，顯得尤其重要。對于槽式蝕刻清洗技術(shù)，需要使藥水充分，進(jìn)而使溫度均勻才能使各個 產(chǎn)品的蝕刻清洗程度一致達(dá)到要求，通過泵使藥水自循環(huán)是充分混合的一種有效方法。 目前，槽式蝕刻清洗技術(shù)所廣泛使用的蝕刻清洗槽結(jié)構(gòu)示意如圖1所示，藥水從 蝕刻清洗槽IO溢流到溢流暫存區(qū)13，并在重力的作用下流到暫存槽11中，然后用泵12將 藥水從暫存槽11中抽回蝕刻清洗槽10中，完成藥水自循環(huán)。 在一般情況下，這種槽式循環(huán)結(jié)構(gòu)能滿足蝕刻清洗要求，但是對蝕刻清洗要求很 高的行業(yè)來說，這種方法存在著明顯的缺點需要一個附加暫存槽，占用空間和材料，對于 諸如半導(dǎo)體、液晶顯示、太陽能行業(yè)來說，這種代價都是十分昂貴的。而且，溢流屬于藥水被 動式循環(huán)，不能使藥水循環(huán)充分，泵抽回藥水的流速較快，也會使進(jìn)液口附近的產(chǎn)品蝕刻清 洗程度較大而造成不良，例如硅片蝕刻清洗中，會使進(jìn)液口附近的硅片區(qū)比其它區(qū)域薄，造 成厚度不均的大面積不良。

發(fā)明內(nèi)容鑒于現(xiàn)有技術(shù)中的上述問題，本實用新型的目的在于提供一種蝕刻清洗槽，不需 要暫存槽，同時使藥水混合均勻，流動均勻，改善蝕刻清洗產(chǎn)品的質(zhì)量。
為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供了一種蝕刻清洗槽，包括 —槽體，所述槽體側(cè)壁的上部外設(shè)一圈可存儲藥水的暫存區(qū)，所述暫存區(qū)側(cè)壁比 槽體側(cè)壁高，所述暫存區(qū)側(cè)壁上開設(shè)有進(jìn)液口 ，所述槽體側(cè)壁的下部設(shè)有抽液口 ，所述槽體 底壁上方設(shè)置有鼓泡板，所述鼓泡板上開設(shè)有均與分布的鼓泡孔。 作為優(yōu)選，本實用新型槽體形狀為長方體形或圓柱體形。 本實用新型具有以下有益效果 減少了暫存槽，節(jié)省了空間和材料，同時使藥水循環(huán)流動更均勻，提高了產(chǎn)品蝕刻 清洗效果。

圖1為傳統(tǒng)蝕刻清洗槽循環(huán)示意圖； 圖2為本實用新型的蝕刻清洗槽實施例一的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖3為圖2的正視圖； 圖4為圖2的俯視圖； 圖5為本實用新型的蝕刻清洗槽實施例一的工作示意圖。[0016]
以下結(jié)合附圖詳細(xì)說明本實用新型的蝕刻清洗槽實施例。 實施例一 如圖2至圖4所示，以長方體形槽體為例，包括 —槽體20，所述槽體側(cè)壁21的上部外設(shè)一圈可存儲藥水的暫存區(qū)24，所述暫存 區(qū)24側(cè)壁比槽體側(cè)壁21高，所述暫存區(qū)24的左側(cè)壁241、右側(cè)壁242、前側(cè)壁243、后側(cè)壁 244上分別設(shè)有進(jìn)液口 23，所述槽體側(cè)壁21的左側(cè)壁211、右側(cè)壁212的下部分別設(shè)有抽液 口 22，所述槽體底壁26上方設(shè)置有鼓泡板25，所述鼓泡板25上開設(shè)有均勻分布的鼓泡孔 251。 通過本實施例，藥水循環(huán)由溢流被動循環(huán)變成了底部抽液底部進(jìn)液的主動循環(huán)模 式，如圖5所示本實用新型蝕刻清洗槽實施例工作示意圖，藥水通過泵12從槽體側(cè)壁21的 抽液口 22抽出，回到上部的暫存區(qū)24，當(dāng)液面高過側(cè)壁21的高度后，藥水自動溢流回蝕刻 清洗槽體20，完成循環(huán)，同時通過鼓泡盤25上的鼓泡孔251對藥水均勻鼓泡，促使藥水混合 更加均勻。 本實施例節(jié)省了暫存槽，從而節(jié)省了空間和材料，同時，主動循環(huán)模式使藥水循環(huán) 更加均勻，暫存區(qū)的設(shè)置也解決了藥水進(jìn)液流速可能造成的產(chǎn)品不良狀況，大大提高了蝕 刻清洗效果，特別適合蝕刻清洗要求精度高的行業(yè)使用。 在本實用新型的另一個實施例中，槽體底壁26向中心傾斜，使可能產(chǎn)生的蝕刻清 洗生成物順利沉淀并排除。 在本實用新型的另一個實施例中，槽體側(cè)壁21的頂部開設(shè)為鋸齒狀，使藥水順利 流動回蝕刻清洗槽體。 在本實用新型的另一個實施例中，所述過鼓泡孔251為圓形，產(chǎn)生均勻氣泡使藥 水更加均勻。
權(quán)利要求一種蝕刻清洗槽，其特征在于，包括一槽體，所述槽體側(cè)壁的上部外設(shè)一圈可存儲藥水的暫存區(qū)，所述暫存區(qū)側(cè)壁比槽體側(cè)壁高，所述暫存區(qū)側(cè)壁上開設(shè)有進(jìn)液口，所述槽體側(cè)壁的下部設(shè)有抽液口，所述槽體底壁上方設(shè)置有鼓泡板，所述鼓泡板上開設(shè)有均與分布的鼓泡孔。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的蝕刻清洗槽，其特征在于，所述槽體為長方體形。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的蝕刻清洗槽，其特征在于，所述槽體為圓柱體形。
4. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的蝕刻清洗槽，其特征在于，所述暫存區(qū)的四個側(cè)壁分別開設(shè) 有進(jìn)液口 ，槽體左側(cè)壁和右側(cè)壁的下部分別開設(shè)有抽液口 。
5. 根據(jù)權(quán)利要求l-4任一項所述的蝕刻清洗槽，其特征在于，所述槽體底壁向中心傾斜。
6. 根據(jù)權(quán)利要求l-4任一項所述的蝕刻清洗槽，其特征在于，所述槽體側(cè)壁頂部為鋸 齒狀。
7. 根據(jù)權(quán)利要求l-4任一項所述的蝕刻清洗槽，其特征在于，所述鼓泡孔為圓形。
專利摘要本實用新型公開了一種蝕刻清洗槽，包括一槽體，所述槽體側(cè)壁的上部外設(shè)一圈可存儲藥水的暫存區(qū)，所述暫存區(qū)側(cè)壁比槽體側(cè)壁高，所述暫存區(qū)側(cè)壁上開設(shè)有進(jìn)液口，所述槽體側(cè)壁的下部設(shè)有抽液口，所述槽體底壁上方設(shè)置有鼓泡板，所述鼓泡板上開設(shè)有均與分布的鼓泡孔。通過本實用新型的蝕刻清洗槽，不再需要暫存槽體，節(jié)省空間和材料，而且可以使蝕刻清洗藥水混合更加均勻，進(jìn)而使藥水溫度更加均勻，提高蝕刻產(chǎn)品的蝕刻清洗效果。
文檔編號C23F1/08GK201473591SQ20092018964
公開日2010年5月19日 申請日期2009年7月22日 優(yōu)先權(quán)日2009年7月22日
發(fā)明者王乾旭, 黃娟 申請人:吳東升