一種對位裝置及對位平臺的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明實(shí)施例提供一種對位裝置及對位平臺，涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，可減小對位過程中基板的破損，提高對位效率。該對位裝置包括：支架臺、與所述支架臺連接的支撐部件、套在所述支撐部件上的對位部件、以及與所述對位部件連接的壓力傳感器。用于對位裝置的制備。
【專利說明】一種對位裝置及對位平臺
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種基板對位裝置及對位平臺。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，在顯示器件的制備流程中，涉及大量對陣列基板、彩膜基板等基板的加工過程，如光刻工藝、貼膜工藝、性能檢測等，為了保證基板加工的精準(zhǔn)性，對基板進(jìn)行相應(yīng)的加工前都需要先對基板進(jìn)行對位。
[0003]在對位過程中，首先將基板放置于對位平臺內(nèi)，通過對位裝置中的驅(qū)動裝置帶動對位部件從基板四邊將可能偏斜的基板往中間推動，為了便于對位部件對基板進(jìn)行對位調(diào)整，需要通過設(shè)置在機(jī)臺表面的吹氣單元向基板進(jìn)行吹氣，以使基板懸浮在機(jī)臺表面，從而減小對位過程中基板受到的摩擦阻力，還可避免基板在移動對位的過程與機(jī)臺表面發(fā)生摩擦產(chǎn)生磨損。
[0004]在實(shí)現(xiàn)上述基板的對位過程中，發(fā)明人發(fā)現(xiàn)現(xiàn)有技術(shù)中至少存在如下問題:
[0005]由于機(jī)臺與基板相對的表面上存在著靜電吸附，當(dāng)吸附力較大時(shí)，基板無法懸浮在機(jī)臺表面，此時(shí)，對位部件與基板接觸后將對基板表面產(chǎn)生較大的擠壓力，容易發(fā)生基板玻璃基材的破損，不僅增加了基板的生產(chǎn)成本，玻璃基材的碎塊還會對機(jī)臺表面產(chǎn)生磨損，對設(shè)備的后期維護(hù)帶來不便。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明的實(shí)施例提供一種對位裝置及對位平臺，可減小對位過程中基板的破損，提高對位效率。
[0007]為達(dá)到上述目的，本發(fā)明的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案:
[0008]一方面，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種對位裝置，用于對支承在機(jī)臺上方的基板進(jìn)行對位，所述對位裝置包括:支架臺、與所述支架臺連接的支撐部件、套在所述支撐部件上的對位部件、以及與所述對位部件連接的壓力傳感器。
[0009]優(yōu)選的，所述壓力傳感器為環(huán)形壓力傳感器；其中，所述環(huán)形壓力傳感器套在所述支撐部件上、且位于所述對位部件遠(yuǎn)離所述支架臺的端面上。
[0010]進(jìn)一步優(yōu)選的，所述對位裝置還包括與所述壓力傳感器相連的報(bào)警單元。
[0011]進(jìn)一步優(yōu)選的，所述對位裝置還包括與所述對位部件相連的驅(qū)動裝置。
[0012]在上述基礎(chǔ)上優(yōu)選的，所述對位部件還包括對位面，所述對位面面向所述基板的側(cè)面；所述對位部件相對所述支架臺可活動，以使所述對位面與所述基板的側(cè)面有接觸。
[0013]可選的，所述支撐部件包括第一支撐桿、第二支撐桿、以及定位件；所述對位部件套在所述第一支撐桿上；其中，所述第一支撐桿遠(yuǎn)離所述對位部件的一端位于所述第二支撐桿內(nèi)，所述定位件用于將所述第一支撐桿固定在所述第二支撐桿內(nèi)的所需位置；或者，所述第二支撐桿靠近所述對位部件的一端位于所述第一支撐桿內(nèi)，所述定位件用于將所述第二支撐桿固定在所述第一支撐桿內(nèi)的所需位置。[0014]可選的，所述支撐部件包括第一支撐桿、第二支撐桿、以及至少一個(gè)墊圈；所述對位部件套在所述第一支撐桿上；其中，所述第一支撐桿遠(yuǎn)離所述對位部件的一端位于所述第二支撐桿內(nèi)，所述墊圈套在所述第一支撐桿上、且所述墊圈位于所述對位部件與所述第二支撐桿之間。
[0015]另一方面，本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種對位平臺，包括機(jī)臺、支承在所述機(jī)臺上方的基板，還包括上述任一項(xiàng)所述的對位裝置；其中，所述對位裝置分別設(shè)置在所述基板的至少兩個(gè)相對的側(cè)面處。
[0016]本發(fā)明實(shí)施例提供了 一種對位裝置及對位平臺，所述對位裝置用于對支承在機(jī)臺上方的基板進(jìn)行對位，所述對位裝置包括:支架臺、與所述支架臺連接的支撐部件、套在所述支撐部件上的對位部件、以及與所述對位部件連接的壓力傳感器。
[0017]當(dāng)基板與機(jī)臺表面由于發(fā)生靜電吸附而無法懸浮起來時(shí)，通過與對位部件相連的壓力傳感器可以實(shí)時(shí)檢測對位部件與基板相接觸面的壓力，避免了對位部件對基板產(chǎn)生過大的擠壓力，減少了基板的玻璃基材由于受到過大擠壓力而產(chǎn)生破損，提高了基板的對位效率。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0018]為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0019]圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種對位裝置的結(jié)構(gòu)示意圖一；
[0020]圖2為圖1所示的對位裝置的俯視結(jié)構(gòu)示意圖一；
[0021]圖3為圖1所示的對位裝置的俯視結(jié)構(gòu)示意圖二 ；
[0022]圖4為通過本發(fā)明實(shí)施例提供的一種對位裝置與基板的對位示意圖一；
[0023]圖5為通過本發(fā)明實(shí)施例提供的一種對位裝置與基板的對位示意圖二 ；
[0024]圖6(a)為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種對位裝置的結(jié)構(gòu)示意圖二 ；
[0025]圖6(b)為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種對位裝置的結(jié)構(gòu)示意圖三；
[0026]圖7為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種對位裝置的結(jié)構(gòu)示意圖四。
[0027]附圖標(biāo)記:
[0028]01-對位裝置；02_機(jī)臺；03_基板；03a_側(cè)面；10-支架臺；20_支撐部件；201_第一支撐桿；202_第二支撐桿；203_定位件；204_墊圈；30-對位部件；30a_端面；30b_對位面；40-(環(huán)形)壓力傳感器。
【具體實(shí)施方式】
[0029]下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0030]本發(fā)明實(shí)施例提供了一種對位裝置01，所述對位裝置01用于對支承在機(jī)臺上方的基板進(jìn)行對位，如圖1所示，所述對位裝置Ol包括:支架臺10、與所述支架臺10連接的支撐部件20、套在所述支撐部件20上的對位部件30、以及與所述對位部件30連接的壓力傳感器40。
[0031]當(dāng)所述基板與所述機(jī)臺表面由于發(fā)生靜電吸附而無法懸浮起來時(shí)，通過與所述對位部件30相連的壓力傳感器40可以實(shí)時(shí)檢測所述對位部件30與所述基板相接觸面的壓力，避免了所述對位部件30對所述基板產(chǎn)生過大的擠壓力，減少了所述基板的玻璃基材由于受到過大擠壓力而產(chǎn)生破損，提高了所述基板的對位效率。
[0032]如圖2和圖3所示，由于所述支撐部件20通常為直桿狀，為了有利于所述壓力傳感器40與所述對位部件30的連接，進(jìn)一步優(yōu)選的，所述壓力傳感器為環(huán)形壓力傳感器40。
[0033]其中，所述環(huán)形壓力傳感器40套在所述支撐部件20上、且位于所述對位部件30遠(yuǎn)離所述支架臺10的端面30a上。
[0034]需要說明的是，本領(lǐng)域相關(guān)技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，由于所述環(huán)形壓力傳感器40是套在所述支撐部件20上的，因此，所述環(huán)形壓力傳感器40的內(nèi)環(huán)直徑應(yīng)大于等于所述支撐部件20的直徑、且所述環(huán)形壓力傳感器40的內(nèi)環(huán)截面面積應(yīng)小于所述對位部件30端面30a面積，以使所述環(huán)形壓力傳感器40能夠穩(wěn)定地放置在所述對位部件30所述端面30a上，這里，參考圖2和圖3所示，所述環(huán)形壓力傳感器40的環(huán)形面積可根據(jù)需要靈活調(diào)整，在此不作限定。
[0035]在此基礎(chǔ)上，所述對位裝置01還包括與所述壓力傳感器40相連的報(bào)警單元。
[0036]這樣，當(dāng)所述基板與所述機(jī)臺發(fā)生靜電吸附無法懸浮起來時(shí)，所述對位部件30與所述基板接觸后對所述基板的擠壓力大于設(shè)定的參數(shù)后，所述報(bào)警單元將發(fā)出報(bào)警信息(例如可以是聲音信息的報(bào)警，也可是圖像信息的報(bào)警等)，從而能夠更及時(shí)地避免對位過程中所述基板由于受到擠壓而產(chǎn)生破損。
[0037]此外，所述對位裝置01還可包括與所述對位部件30相連的驅(qū)動裝置。
[0038]這樣，當(dāng)所述對位部件30與所述基板接觸后對所述基板的擠壓力過大時(shí)，可通過與所述對位部件30相連的驅(qū)動裝置驅(qū)動所述對位部件30沿背離所述基板的方向移動略微移動，避免了所述對位部件30對所述基板的繼續(xù)擠壓。
[0039]這里，所述驅(qū)動裝置例如可以是氣缸或電機(jī)等驅(qū)動機(jī)構(gòu)，在此不作限定。當(dāng)然，所述對位裝置01還可包括連接所述對位部件30與所述驅(qū)動裝置的連接桿等結(jié)構(gòu)。
[0040]在上述基礎(chǔ)上，當(dāng)通過設(shè)置在所述機(jī)臺上的吹氣單元向所述基板進(jìn)行吹氣，以使所述基板懸浮在所述機(jī)臺表面時(shí)，為了克服所述機(jī)臺與所述基板之間的靜電吸附，所述機(jī)臺表面向上吹的氣流量通常較大，這就往往會使所述基板漂移到所述對位部件30的上方，使得二者沒有接觸，導(dǎo)致無法正確對位。
[0041]因此,在上述基礎(chǔ)上,所述對位部件30還包括對位面30b，所述對位面30b面向所述基板03的側(cè)面03a ;所述對位部件30相對所述支架臺10可活動，以使所述對位面30b與所述基板03的側(cè)面03a有接觸。
[0042]需要說明的是,本發(fā)明實(shí)施例不對所述對位部件30相對所述支架臺10可活動的方式做限定，例如，如圖4所示，可通過改變所述對位部件30與所述支架臺10之間的垂直高度，即，當(dāng)所述基板03受到所述機(jī)臺02的吹氣過大而漂移到所述對位部件30的上方時(shí)，可通過升高所述對位部件30的位置，以使所述對位部件30與所述基板03的側(cè)面03a有對位接觸。
[0043]或者，如圖5所示，當(dāng)所述基板03漂移到所述對位部件30的上方時(shí)，可更換具有不同對位面30b高度的對位部件30，以保證所述對位面30b與所述基板03的側(cè)面03a有接觸。
[0044]基于此，由于所述對位部件30相對所述支架臺10可活動，當(dāng)通過設(shè)置在所述機(jī)臺02表面的吹氣單元向所述基板03進(jìn)行吹氣，由于氣流過大導(dǎo)致所述基板03漂移到所述對位部件30的上方時(shí)，可以通過活動所述對位部件30，確保所述對位面30b與所述基板03的側(cè)面03a有接觸，從而提高了對位裝置01對所述基板的對位效率，并減小了由于基板的漂移而產(chǎn)生的破損。
[0045]進(jìn)一步的,所述對位部件30相對所述支架臺10可活動，以使所述對位面30b與所述基板03的側(cè)面03a有接觸，可通過例如以下兩種方式實(shí)現(xiàn):
[0046]方式一、所述支撐部件20包括第一支撐桿201、第二支撐桿202、以及定位件203 ；所述對位部件30套在所述第一支撐桿201上。
[0047]其中，所述第一支撐桿201、所述第二支撐桿202、以及所述定位件203之間具有以下兩種可能的相對位置關(guān)系，即:如圖6(a)所示，所述第一支撐桿201遠(yuǎn)離所述對位部件30的一端位于所述第二支撐桿202內(nèi)，所述定位件203用于將所述第一支撐桿201固定在所述第二支撐桿202內(nèi)的所需位置。
[0048]或者，如圖6 (b)所示，所述第二支撐桿202靠近所述對位部件30的一端位于所述第一支撐桿201內(nèi)，所述定位件203用于將所述第二支撐桿202固定在所述第一支撐桿201內(nèi)的所需位置。
[0049]這樣，參考圖4所示，當(dāng)所述基板03漂移到所述對位部件30的上方時(shí)，可以通過調(diào)整所述第一支撐桿201在所述第二支撐桿202內(nèi)的位置，或調(diào)整所述第二支撐桿202在所述第一支撐桿201，以使所述對位部件30相對于所述支架臺10的高度升高，從而保證所述對位部件30的對位面30b與所述基板03的側(cè)面03a有接觸，實(shí)現(xiàn)對所述基板03的對位過程。
[0050]方式二、如圖7所示，所述支撐部件20包括第一支撐桿201、第二支撐桿202、以及至少一個(gè)墊圈204 ;所述對位部件30套在所述第一支撐桿201上。
[0051]其中，所述第一支撐桿201遠(yuǎn)離所述對位部件30的一端位于所述第二支撐桿202內(nèi)，所述墊圈204套在所述第一支撐桿201上、且所述墊圈204位于所述對位部件30與所述第二支撐桿202之間。
[0052]需要說明的是，本領(lǐng)域相關(guān)技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，由于所述墊圈204是套在所述第一支撐桿201上的、其目的是為了將所述對位部件30的高度墊高，因此，所述墊圈204的內(nèi)環(huán)直徑應(yīng)大于等于所述第一支撐桿201的直徑，并且，當(dāng)所述墊圈204的內(nèi)環(huán)直徑大于所述第一支撐桿201的直徑時(shí)，該直徑還應(yīng)滿足小于等于所述第二支撐桿的直徑，以使所述墊圈204能夠穩(wěn)定地放置在所述第二支撐桿202面向所述對位部件30的一側(cè)上。
[0053]這樣，當(dāng)所述基板03漂移到所述對位部件30的上方時(shí)，可以通過在所述對位部件30與所述第二支撐桿202之間設(shè)置至少一個(gè)所述墊圈204，或更換具有不同厚度的所述墊圈204，相當(dāng)于將所述對位部件30相對于所述支架臺10的高度墊高，從而保證所述對位部件30的對位面30b與所述基板03的側(cè)面03a有接觸，實(shí)現(xiàn)對所述基板03的對位過程。[0054]本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種對位平臺，所述對位平臺包括機(jī)臺02、支承在所述機(jī)臺02上方的基板03、還包括上述的所述對位裝置01 ;其中，所述對位裝置01分別設(shè)置在所述基板03的至少兩個(gè)相對的側(cè)面處。
[0055]這里，考慮到所述基板03對位的準(zhǔn)確性，在所述基板03的四個(gè)側(cè)面處應(yīng)至少設(shè)置有一個(gè)所述對位裝置01，且所述對位裝置01相互對稱設(shè)置。
[0056]基于此，通過上述對位裝置01，可避免當(dāng)所述基板03與所述機(jī)臺02發(fā)生靜電吸附無法懸浮起來時(shí)，由于所述對位部件30對所述基板03產(chǎn)生過大的擠壓力，而產(chǎn)生的所述基板03的破損。此外，當(dāng)通過設(shè)置在所述機(jī)臺02表面的吹氣單元向所述基板03進(jìn)行吹氣，由于氣流過大導(dǎo)致所述基板03漂移到所述對位部件30的上方時(shí)，可以通過活動所述對位部件30，能夠確保所述對位面30b與所述基板03的側(cè)面03a有接觸，還可提高了對位裝置01對所述基板的對位效率，進(jìn)一步減小了由于基板的漂移而廣生的破損，并提聞了基板的對位效率。
[0057]需要說明的是，本發(fā)明實(shí)施例所有附圖是上述對位裝置及對位平臺的簡略的示意圖，只為清楚描述本方案體現(xiàn)了與發(fā)明點(diǎn)相關(guān)的結(jié)構(gòu)，對于其他的與發(fā)明點(diǎn)無關(guān)的結(jié)構(gòu)是現(xiàn)有結(jié)構(gòu)，在附圖中并未體現(xiàn)或只體現(xiàn)部分。
[0058]以上所述，僅為本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本【技術(shù)領(lǐng)域】的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。
【權(quán)利要求】
1.一種對位裝置，用于對支承在機(jī)臺上方的基板進(jìn)行對位，其特征在于，所述對位裝置包括:支架臺、與所述支架臺連接的支撐部件、套在所述支撐部件上的對位部件、以及與所述對位部件連接的壓力傳感器。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的對位裝置，其特征在于，所述壓力傳感器為環(huán)形壓力傳感器； 其中，所述環(huán)形壓力傳感器套在所述支撐部件上、且位于所述對位部件遠(yuǎn)離所述支架臺的端面上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的對位裝置，其特征在于，還包括與所述壓力傳感器相連的報(bào)警單元。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的對位裝置，其特征在于，還包括與所述對位部件相連的驅(qū)動>j-U ρ?α裝直。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4任一項(xiàng)所述的對位裝置，其特征在于，所述對位部件還包括對位面，所述對位面面向所述基板的側(cè)面； 所述對位部件相對所述支架臺可活動，以使所述對位面與所述基板的側(cè)面有接觸。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的對位裝置，其特征在于，所述支撐部件包括第一支撐桿、第二支撐桿、以及定位件； 所述對位部件套在所述第一支撐桿上； 其中，所述第一支撐桿遠(yuǎn)離所述對位部件的一端位于所述第二支撐桿內(nèi)，所述定位件用于將所述第一支撐桿固定在所述第二支撐桿內(nèi)的所需位置；或者， 所述第二支撐桿靠近所述對位部件的一端位于所述第一支撐桿內(nèi)，所述定位件用于將所述第二支撐桿固定在所述第一支撐桿內(nèi)的所需位置。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的對位裝置，其特征在于，所述支撐部件包括第一支撐桿、第二支撐桿、以及至少一個(gè)墊圈； 所述對位部件套在所述第一支撐桿上； 其中，所述第一支撐桿遠(yuǎn)離所述對位部件的一端位于所述第二支撐桿內(nèi)，所述墊圈套在所述第一支撐桿上、且所述墊圈位于所述對位部件與所述第二支撐桿之間。
8.—種對位平臺，包括機(jī)臺、支承在所述機(jī)臺上方的基板、其特征在于，還包括如權(quán)利要求I至7任一項(xiàng)所述的對位裝置； 其中，所述對位裝置分別設(shè)置在所述基板的至少兩個(gè)相對的側(cè)面處。
【文檔編號】H01L21/68GK103985662SQ201410168466
【公開日】2014年8月13日 申請日期:2014年4月24日 優(yōu)先權(quán)日:2014年4月24日
【發(fā)明者】韓星 申請人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 北京京東方顯示技術(shù)有限公司